JPH0560790A - 電気探針の位置補正装置 - Google Patents
電気探針の位置補正装置Info
- Publication number
- JPH0560790A JPH0560790A JP3225980A JP22598091A JPH0560790A JP H0560790 A JPH0560790 A JP H0560790A JP 3225980 A JP3225980 A JP 3225980A JP 22598091 A JP22598091 A JP 22598091A JP H0560790 A JPH0560790 A JP H0560790A
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- Japan
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- electric
- electric probe
- probes
- probe
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電気探針の位置補正を視覚等の間接的な方法
を用いないで直接、電気的な手法で行なう。 【構成】 絶縁物１０２上に一定の形状の導電領域１０
３を持つ被測定基板１０１の導電領域の任意の場所に接
触可能な電気探針１０４，１０５を有し、かつ導電領域
１０３と電気探針１０４または１０５間、もしくは複数
の電気探針１０４と１０５との間の電気的接触が検出可
能な測定系１０６，１０７を有する。
を用いないで直接、電気的な手法で行なう。 【構成】 絶縁物１０２上に一定の形状の導電領域１０
３を持つ被測定基板１０１の導電領域の任意の場所に接
触可能な電気探針１０４，１０５を有し、かつ導電領域
１０３と電気探針１０４または１０５間、もしくは複数
の電気探針１０４と１０５との間の電気的接触が検出可
能な測定系１０６，１０７を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路、液晶
ディスプレイ等の電気特性の検査に用いる電気探針の位
置補正装置に関する。
ディスプレイ等の電気特性の検査に用いる電気探針の位
置補正装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体集積回路、液晶ディスプレ
イ等の電気的特性を測定するための電気探針の位置合わ
せを行なう場合には、視覚的な認識マークを基準にして
被測定基板の座標を補正する方法が一般的であった。
イ等の電気的特性を測定するための電気探針の位置合わ
せを行なう場合には、視覚的な認識マークを基準にして
被測定基板の座標を補正する方法が一般的であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
手法により視覚的な認識マークを用いて電気探針の位置
合わせを行なう場合、電気探針が接触する際にある程度
のオーバードライブを伴って接触することに伴う誤差要
因が含まれていたり、電気探針が、使用しているうちに
経時変化により接触位置が変動したりしてしまうため、
電気探針が実際に接触する座標の位置にはある程度の誤
差が含まれており、それに対してのマージンをもたせる
ために若干大きめの被接触端子を作製しなければならな
かった。従って、高密度に集積した場合や多数の被接触
端子を設けた場合には被接触端子の領域が非常に大きく
なってしまうという問題があった。
手法により視覚的な認識マークを用いて電気探針の位置
合わせを行なう場合、電気探針が接触する際にある程度
のオーバードライブを伴って接触することに伴う誤差要
因が含まれていたり、電気探針が、使用しているうちに
経時変化により接触位置が変動したりしてしまうため、
電気探針が実際に接触する座標の位置にはある程度の誤
差が含まれており、それに対してのマージンをもたせる
ために若干大きめの被接触端子を作製しなければならな
かった。従って、高密度に集積した場合や多数の被接触
端子を設けた場合には被接触端子の領域が非常に大きく
なってしまうという問題があった。
【０００４】そこで本発明の目的は以上のような問題を
解消した電気探針の位置補正装置を提供することにあ
る。
解消した電気探針の位置補正装置を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は絶縁物上の一部に導電領域を有する被測定
物の任意の場所に接触可能な複数の電気探針と、前記導
電領域と前記電気探針との間または前記複数の電気探針
間の電気的接触を検出する検出手段とを有することを特
徴とする。
め、本発明は絶縁物上の一部に導電領域を有する被測定
物の任意の場所に接触可能な複数の電気探針と、前記導
電領域と前記電気探針との間または前記複数の電気探針
間の電気的接触を検出する検出手段とを有することを特
徴とする。
【０００６】
【作用】本実施例によれば電気探針の位置補正を視覚等
の間接的な方法を用いないで直接電気的に行なうことが
できる。
の間接的な方法を用いないで直接電気的に行なうことが
できる。
【０００７】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
【０００８】図１は、本発明による実施例における電気
探針の位置補正装置の構造を示す斜視図である。
探針の位置補正装置の構造を示す斜視図である。
【０００９】被測定基板１０１上の一部に、絶縁材料で
ある二酸化シリコン薄膜１０２、導電材料であるクロム
薄膜１０３がパターニングされて形成されている。第１
の電気探針１０４、第２の電気探針１０５は、被測定基
板の平面方向の任意の方向および直角方向の任意の方向
に移動できる機構を持ち、該機構の移動は両電気探針に
対して同様に行なわれるようになっている。また、両電
気探針は一方が電圧源１０６、もう一方が電流計１０７
に接続されていて、両電気探針間の抵抗が測定可能なよ
うに回路構成されている。
ある二酸化シリコン薄膜１０２、導電材料であるクロム
薄膜１０３がパターニングされて形成されている。第１
の電気探針１０４、第２の電気探針１０５は、被測定基
板の平面方向の任意の方向および直角方向の任意の方向
に移動できる機構を持ち、該機構の移動は両電気探針に
対して同様に行なわれるようになっている。また、両電
気探針は一方が電圧源１０６、もう一方が電流計１０７
に接続されていて、両電気探針間の抵抗が測定可能なよ
うに回路構成されている。
【００１０】図２（ａ）〜（ｄ）は、図１の電気探針の
位置補正装置を用いた場合の位置補正手順を示す図であ
る。
位置補正装置を用いた場合の位置補正手順を示す図であ
る。
【００１１】図２（ａ）は、第１の電気探針の先端２０
１、第２の電気探針の先端２０２をパターニングされた
クロム薄膜２０３の近傍に設置した状態から、図面の右
方向に少しずつずらしながらＡからＢの区間を走査しつ
つ、両電気探針間の抵抗を測定することで、両電気探針
とクロム薄膜２０３のパターンの横方向のずれが検知さ
れることを示す図である。
１、第２の電気探針の先端２０２をパターニングされた
クロム薄膜２０３の近傍に設置した状態から、図面の右
方向に少しずつずらしながらＡからＢの区間を走査しつ
つ、両電気探針間の抵抗を測定することで、両電気探針
とクロム薄膜２０３のパターンの横方向のずれが検知さ
れることを示す図である。
【００１２】図２（ｂ）は、図２（ａ）の操作により、
走査位置にしたがって両電気探針間の抵抗値がどの様に
変化するかの一例を示す図である。抵抗値が無限大から
０になる点２０４、抵抗値が０から無限大になる点２０
５の中間の位置２０６が、両電気探針の横方向の位置が
被測定基板の位置とちょうど合致した点である。
走査位置にしたがって両電気探針間の抵抗値がどの様に
変化するかの一例を示す図である。抵抗値が無限大から
０になる点２０４、抵抗値が０から無限大になる点２０
５の中間の位置２０６が、両電気探針の横方向の位置が
被測定基板の位置とちょうど合致した点である。
【００１３】図２（ｃ）は、第１の電気探針の先端２０
１、第２の電気探針の先端２０２をパターニングされた
クロム薄膜２０３の近傍に設置した状態から、図面の下
方向に少しずつずらしながらＣからＤの区間を走査しつ
つ、両電気探針間の抵抗を測定することで、両電気探針
とクロム薄膜２０３のパターンの縦方向のずれが検知さ
れることを示す図である。
１、第２の電気探針の先端２０２をパターニングされた
クロム薄膜２０３の近傍に設置した状態から、図面の下
方向に少しずつずらしながらＣからＤの区間を走査しつ
つ、両電気探針間の抵抗を測定することで、両電気探針
とクロム薄膜２０３のパターンの縦方向のずれが検知さ
れることを示す図である。
【００１４】図２（ｄ）は、図２（ｃ）の操作により、
走査位置にしたがって両電気探針間の抵抗値がどのよう
に変化するかの一例を示す図である。抵抗値が無限大か
ら０になる点２０７、抵抗値が０から無限大になる点２
０８の中間の位置２０９が、両電気探針の縦方向の位置
が被測定基板の位置とちょうど合致した点である。
走査位置にしたがって両電気探針間の抵抗値がどのよう
に変化するかの一例を示す図である。抵抗値が無限大か
ら０になる点２０７、抵抗値が０から無限大になる点２
０８の中間の位置２０９が、両電気探針の縦方向の位置
が被測定基板の位置とちょうど合致した点である。
【００１５】基本的には、上記の手順に従えば、電気探
針と被測定基板の位置合わせが行えるが、二分法等の手
順を使えば、さらに高速かつ高精度に位置合わせを行な
うことも可能である。
針と被測定基板の位置合わせが行えるが、二分法等の手
順を使えば、さらに高速かつ高精度に位置合わせを行な
うことも可能である。
【００１６】また、多数の電気探針を一直線上に並べた
形状のものでは、該電気探針のパターンとの平行ずれを
検知することも可能である。
形状のものでは、該電気探針のパターンとの平行ずれを
検知することも可能である。
【００１７】また、本実施例では、２本の電気探針間の
抵抗を計ることにより電気探針と被測定基板上の位置合
わせを行なったが、各電気探針と被測定基板上の導電体
の間の抵抗を測定することでもまったく同様の効果が得
られる。
抵抗を計ることにより電気探針と被測定基板上の位置合
わせを行なったが、各電気探針と被測定基板上の導電体
の間の抵抗を測定することでもまったく同様の効果が得
られる。
【００１８】なお、本発明による実施例では、導電材料
としてクロムを、絶縁材料として二酸化シリコンを用い
たが、他の材料を用いても同様な効果が得られるのは明
らかであり、それらも本発明の範疇に属する。例えば、
導電材料としては、インジウムとスズの酸化物の混合物
であるＩＴＯや導電性のある単結晶、多結晶シリコン、
金属一般が、絶縁材料としては五酸化タンタルや有機樹
脂等が使用可能である。ただ、実際の適用にあたって
は、電気探針の先端材料より硬度の高い材料を用いる方
が、再度の位置合わせの際の再現性、粉塵の発生等の面
から有利である。
としてクロムを、絶縁材料として二酸化シリコンを用い
たが、他の材料を用いても同様な効果が得られるのは明
らかであり、それらも本発明の範疇に属する。例えば、
導電材料としては、インジウムとスズの酸化物の混合物
であるＩＴＯや導電性のある単結晶、多結晶シリコン、
金属一般が、絶縁材料としては五酸化タンタルや有機樹
脂等が使用可能である。ただ、実際の適用にあたって
は、電気探針の先端材料より硬度の高い材料を用いる方
が、再度の位置合わせの際の再現性、粉塵の発生等の面
から有利である。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、実
際に電気探針が接触する場所を高精度に位置決めするこ
とが可能になり、従来の位置補正機構を持たない測定器
では不可能だった非常に小さな被接触端子への接触が可
能になった。そのため、従来よりも高密度に集積され
た、多数の被接触端子を設置することが可能になった。
際に電気探針が接触する場所を高精度に位置決めするこ
とが可能になり、従来の位置補正機構を持たない測定器
では不可能だった非常に小さな被接触端子への接触が可
能になった。そのため、従来よりも高密度に集積され
た、多数の被接触端子を設置することが可能になった。
【図１】本発明の実施例にかかる電気探針の位置補正装
置の構造を示す斜視図である。
置の構造を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施例にかかる電気探針の位置補正装
置を用いた場合の位置補正手順を示す図である。
置を用いた場合の位置補正手順を示す図である。
１０１ 被測定基板 １０２ 二酸化シリコン薄膜 １０３ クロム薄膜 １０４ 第１の電気探針 １０５ 第２の電気探針 １０６ 電圧源 １０７ 電流計 ２０１ 第１の電気探針の先端 ２０２ 第２の電気探針の先端 ２０３ クロム薄膜 ２０４ 抵抗値が無限大から０になる点 ２０５ 抵抗値が０から無限大になる点 ２０６ 抵抗値が無限大から０になる点２０４と抵抗値
が０から無限大になる点２０５の中間の位置 ２０７ 抵抗値が無限大から０になる点 ２０８ 抵抗値が０から無限大になる点 ２０９ 抵抗値が無限大から０になる点２０７と抵抗値
が０から無限大になる点２０８の中間の位置
が０から無限大になる点２０５の中間の位置 ２０７ 抵抗値が無限大から０になる点 ２０８ 抵抗値が０から無限大になる点 ２０９ 抵抗値が無限大から０になる点２０７と抵抗値
が０から無限大になる点２０８の中間の位置
Claims (2)
- 【請求項１】 絶縁物上の一部に導電領域を有する被測
定物の任意の場所に接触可能な複数の電気探針と、前記
導電領域と前記電気探針との間または前記複数の電気探
針間の電気的接触を検出する検出手段とを有することを
特徴とする電気探針の位置補正装置。 - 【請求項２】 前記電気探針の先端に用いる材料は、前
記絶縁物および前記導電領域の材料より硬度が低いこと
を特徴とする請求項１に記載の電気探針の位置補正装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3225980A JPH0560790A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 電気探針の位置補正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3225980A JPH0560790A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 電気探針の位置補正装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0560790A true JPH0560790A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=16837908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3225980A Pending JPH0560790A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 電気探針の位置補正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0560790A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013135195A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体装置 |
| CN111312134A (zh) * | 2020-04-02 | 2020-06-19 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板的检测设备 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57143839A (en) * | 1981-02-28 | 1982-09-06 | Toshiba Corp | Probing needle of semiconductor wafer |
| JPS63250145A (ja) * | 1987-04-06 | 1988-10-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | プロ−ブ装置 |
| JPH02137350A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-25 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
-
1991
- 1991-09-05 JP JP3225980A patent/JPH0560790A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57143839A (en) * | 1981-02-28 | 1982-09-06 | Toshiba Corp | Probing needle of semiconductor wafer |
| JPS63250145A (ja) * | 1987-04-06 | 1988-10-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | プロ−ブ装置 |
| JPH02137350A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-25 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013135195A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体装置 |
| CN111312134A (zh) * | 2020-04-02 | 2020-06-19 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板的检测设备 |
| CN111312134B (zh) * | 2020-04-02 | 2024-03-08 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板的检测设备 |
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