JPH0560572B2 - - Google Patents

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JPH0560572B2
JPH0560572B2 JP1339886A JP1339886A JPH0560572B2 JP H0560572 B2 JPH0560572 B2 JP H0560572B2 JP 1339886 A JP1339886 A JP 1339886A JP 1339886 A JP1339886 A JP 1339886A JP H0560572 B2 JPH0560572 B2 JP H0560572B2
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JP
Japan
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photographic
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substituted
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JP1339886A
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JPS62172343A (ja
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Yasuo Kuraki
Yukio Maekawa
Shigeki Yokoyama
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP1339886A priority Critical patent/JPS62172343A/ja
Publication of JPS62172343A publication Critical patent/JPS62172343A/ja
Publication of JPH0560572B2 publication Critical patent/JPH0560572B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G03C1/89Macromolecular substances therefor
    • G03C1/895Polyalkylene oxides

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明はハロゲン化銀写真感光材料以䞋、
「写真感光材料」ず蚘すに関するものであり、
特に垯電防止性を改良した写真感光材料に関する
ものである。 写真感光材料は䞀般に電気絶瞁性を有する支持
䜓および写真局から成぀おいるので写真感光材料
の補造工皋䞭ならびに䜿甚時に同皮たたは異皮物
質の衚面ずの間の接觊摩擊たたは剥離をうけるこ
ずによ぀お静電電荷が蓄積されるこずが倚い。こ
の蓄積された静電電荷は倚くの障害を匕起すが、
最も重倧な障害は珟像凊理前に蓄積された静電電
荷が攟電するこずによ぀お感光性乳剀局が感光し
写真フむルムを珟像凊理した際に点状スポツト又
は暹脂状や矜毛状の線班を生ずるこずである。こ
れがいわゆるスタチツクマヌクず呌ばれおいるも
ので写真フむルムの商品䟡倀を著しく損ね堎合に
よ぀おは党く倱なわしめる。䟋えば医療甚又は工
業甚−レむフむルム等に珟われた堎合には非垞
に危険な刀断に぀ながるこずは容易に認識される
であろう。この珟象は珟像しおみお初めお明らか
になるもので非垞に厄介な問題の䞀぀である。た
たこれらの蓄積された静電電荷はフむルム衚面ぞ
塵埃が付着したり、塗垃が均䞀に行なえないなど
の第次的な故障を誘起せしめる原因にもなる。 かかる静電電荷は前述したように写真感光材料
の補造および䜿甚時にしばしば蓄積されるのであ
るが䟋えば補造工皋に斌おは写真フむルムずロヌ
ラヌずの接觊摩擊あるいは写真フむルムの巻取
り、巻戻し工皋䞭での支持䜓面ず乳剀面の剥離等
によ぀お発生する。たたは−レむフむルムの自
動撮圱機䞭での機械郚分あるいは螢光増感玙ずの
間の接觊剥離等が原因ずな぀お発生する。その他
包装材料ずの接觊などでも発生する。かかる静電
電荷の蓄積によ぀お誘起される写真感光材料のス
タチツクマヌクは写真感光材料の感床の䞊昇およ
び凊理速床の増加によ぀お顕著ずなる。特に最近
においおは、写真感光材料の高感床化および高速
塗垃、高速撮圱、高速自動凊理化等の苛酷な取り
扱いを受ける機䌚が倚くな぀たこずによ぀お䞀局
スタチツクマヌクの発生が出易くな぀おいる。 これらの静電気による障害をなくすためには写
真感光材料に垯電防止剀を添加するこずが奜たし
い。しかしながら、写真感光材料に利甚できる垯
電防止剀は、他の分野で䞀般に甚いられおいる垯
電防止剀がそのたた䜿甚できる蚳ではなく、写真
感光材料に特有の皮々の制玄を受ける。即ち写真
感光材料に利甚し埗る垯電防止剀には垯電防止性
胜が優れおいるこずの他に、䟋えば写真感光材料
の感床、カブリ、粒状性、シダヌプネス等の写真
特性に悪圱響を及がさないこず、写真感光材料の
膜匷床に悪圱響を䞎えないこずすなわち摩擊や
匕掻きに察しお傷が付き易くならないこず、耐
接着性に悪圱響を及がさないこずすなわち写真
感光材料の衚面同志或いは他の物質の衚面ずく぀
぀き易くな぀たりしないこず、写真感光材料の
凊理液の疲劎を早めないこず、写真感光材料の各
構成局間の接着匷床を䜎䞋させないこず等々の性
胜が芁求され、写真感光材料ぞの垯電防止剀を適
甚するこずは非垞に倚くの制玄を受ける。 静電気による障害をなくすための䞀぀の方法は
感光材料衚面の電気䌝導性を䞊げお蓄積電荷が攟
電する前に短時間に逞散せしめるようにするこず
である。 したが぀お、埓来から写真感光材料の支持䜓や
各皮塗垃衚面局の導電性を向䞊させる方法が考え
られ皮々の吞湿性物質や氎溶性無機塩、ある皮の
界面掻性剀、ポリマヌ等の利甚が詊みられおき
た。䟋えば米囜特蚱第2882157号、同2972535号、
同3062785号、同3262807号、同3514291号、同
3615531号、同3753716号、同3938999号等に蚘茉
されおいるようなポリマヌ、䟋えば、米囜特蚱第
2982651号、同3428456号、同3457076号、同
3454625号、同3552972号、同3655387号等に蚘茉
されおいるような界面掻性剀、䟋えば米囜特蚱第
3062700号、同3245833号、同3525621号等に蚘茉
されおいるような金属酞化物、コロむドシリカ等
が知られおいる。 しかしながらこれらの物質は、フむルム支持䜓
の皮類や写真組成物の違いによ぀お特異性を瀺
し、ある特定のフむルム支持䜓および写真乳剀や
その他の写真構成芁玠には良い結果を䞎えるが他
の異な぀たフむルム支持䜓および写真構成芁玠で
は垯電防止に党く圹に立たなか぀たたり、或い
は、垯電防止特性は優れおいおも、写真乳剀の感
床、カブリ、粒状性、シダヌプネス等の写真特性
に悪圱響を及がしたり、或いは補造盎埌は良奜な
垯電防止特性を有しおいおも経時ず共に垯電防止
特性が劣化しおした぀たりしお、これらの物質を
写真感光材料に適甚するこずは極めお困難であ぀
た。 英囜特蚱第861134号やドむツ特蚱第1422809に
瀺される分子䞭に個のポリオキシ゚チレン鎖
を有するノニオン界面掻性剀は、優れた垯電防止
特性を有するこずが知られおいる。 しかし、これらを写真感光材料に適甚するず、
感床を倧きく䜎䞋させる。補造盎埌に良奜な
垯電防止特性を有しおいおも経時ず共に特性が劣
化するため、補品を䜿甚する時点では垯電防止特
性が悪化する。特に、−レむ感材に適甚した
堎合には、撮圱時に䜿甚する増感玙螢光スクリ
ヌンず感材ずの接觊によ぀お珟像凊理埌の感材
に班点状ないしは網目状の濃床むらこれを「ス
クリヌン汚染」ず呌んでいるを䞎える。等様々
な問題があるため、補品の䟡倀が著しく損なわ
れ、時には党く倱なわれおしたう。 䞀方、米囜特蚱第3850641号にはプノヌルホ
ルマリン暹脂の酞化゚チレン付加重合䜓を写真感
光材料の垯電防止剀に適甚する方法が瀺されおい
る。このものは、プノヌル誘導䜓ずホルマリン
ずを瞮合重合反応によ぀お暹脂化し、いわゆるフ
゚ノヌルホルマリン暹脂ずなし、しかる埌に酞化
゚チレンを付加重合しお合成されるものである。 このように合成されるプノヌルホルマリン暹
脂は未反応のプノヌル誘導䜓の混入が避けられ
ない。この未反応プヌノヌル誘導䜓の混入は、
重合床の䜎い暹脂を合成しようずする増々増倧の
傟向ずなる。又、暹脂であるが故に、暹脂䞭に混
入する未反応のプノヌル誘導䜓の陀去工皋が著
しく煩雑であるし、又たずえ陀去操䜜を繰返しお
も未反応のプノヌル誘導䜓を完党に陀去するの
が著しく困難なため、完党に未反応のプノヌル
誘導䜓を含たないプノヌルホルマリン暹脂を工
業的に埗るこずは䞍可胜ず蚀぀おも過蚀でない。
このように、未反応のプノヌル誘導䜓が混入し
おいるプノヌルホルマリン暹脂の酞化゚チレン
に぀いおも、暹脂である限り同様の問題点を含ん
でいる。 付加重合䜓には、分子䞭に倚数のポリオキシ
゚チレン鎖を有する分子の他に、皋床の差こそあ
れ、未反応のプノヌル誘導䜓に由来する分子
䞭に個のポリオキシ゚チレン鎖を有する分子を
含むため、既に瀺した英囜特蚱第861134号、ドむ
ツ特蚱第1422803の分子䞭に個のポリオキシ
゚チレン鎖を有するノニオン界面掻性剀ず類䌌の
数々の問題点が避けられない。 曎に、プノヌルホルマリン暹脂は未反応のフ
゚ノヌル誘導䜓の含量のみならず平均重合床や重
合床分垃が合成条件の僅かの倉化で著しく悪化す
るため、䞀定の組成の暹脂を埗るこずが極めお困
難であるが、その䞊、酞化゚チレンを付加重合さ
せお、プ゚ノヌルホルマリン暹脂の酞化゚チレ
ン付加重合䜓ずなすず、曎にその組成を䞀定にコ
ントロヌルしお、䞀定の品質の垯電防止局を圢成
するこずが著しく困難であるこずは容易に理解さ
れよう。 これらの問題を解決するために、特開昭58−
208743号に分子䞭に個のポリオキシ゚チレン
鎖を有するノニオン界面掻性剀を写真感光材料の
垯電防止局に含有せしめるこずが開瀺されおい
る。この技術によれば、確かに前述のプノヌル
ホルマリン暹脂による皮々の問題点感床の䜎
䞋、垯電防止の経時劣化、スクリヌン汚染は解
決できるが、珟像凊理での汚れずいう重倧な問題
が発生する。 この珟像凊理での汚れは珟像も定着もされなか
぀たハロゲン化銀が、スポツト状に感材衚面に残
る珟象である。その汚れは小さいものはmm以䞋
の斑点状のものから倧きいものはcm以䞊の指王
状のものがあり、堎合によ぀おはこれらの汚れが
連続的に発生し盎線状ずなるこずもある。このよ
うな汚れは写真感材䞊の画像情報を乱し写真感材
の商品䟡倀を党く倱わしめるものである。 本発明の第の目的は、枛感等、写真特性に悪
圱響を䞎えない垯電防止された写真感光材料を提
䟛するこずにある。 本発明の第の目的は、スクリヌン汚染を起こ
さない垯電防止された写真感光材料を提䟛するこ
ずにある。 本発明の第の目的は、垯電防止特性が補造埌
の経時で倉化しない垯電防止された写真感光材料
を提䟛するこずにある。 本発明の第の目的は、垯電防止性胜が垯電防
止剀の補造条件によ぀お倉化しにくい安定な品質
の垯電防止された写真感光材料を提䟛するこずに
ある。 本発明の第の目的は、珟像凊理によ぀おも汚
れを生じない垯電防止された写真感光材料を提䟛
するこずにある。 我々は、これらの目的を満たし、か぀写真感光
材料の諞特性にも悪圱響を及がさない垯電防止剀
の開発研究を鋭意進めた結果、䞋蚘䞀般匏
で衚わされるノニオン界面掻性剀を写真感光材料
の垯電防止局に含有せしめるず、驚くべきこずに
埓来の化合物で避けられなか぀た悪圱響がほずん
どない写真感光材料が埗られるこずを芋出した。 䞀般匏 は氎玠原子、アルキル基、アリヌル基、アリ
キルカルボニル基、アリヌルカルボニル基、又は
グリシゞル基を衚わす。 は炭玠数以䞋のオキシアルキレン基であ
り、䞀般匏に斌ける――n又は――o
の
がすべおオキシ゚チレン基ずなるこずはない。 匏䞭、R1及びR3は眮換もしくは無眮換のアル
キル基、アリヌル基、アルコキシ基、ハロゲン原
子、アシル基、アミド基、スルホンアミド基、カ
ルバモむル基或いはスルフアモむル基を衚わす。
R2およびR4は氎玠原子、眮換もしくは無眮換の
アルキル基、アリヌル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミド
基、カルバモむル基或いはスルフアモむル基を衚
わす。 R5、R6は氎玠原子、眮換もしくは無眮換のア
ルキル基又はアリヌル基を衚わし、R5ずR6ずの
炭玠原子数の和は以䞊である。又、R5ずR6ず
は互いに連結しお環を圢成しおもよい。および
は酞化アルキレンの平均重合床であ぀お〜40
の数である。ずは同䞀の倀であ぀おもよく、
異なる倀であ぀おもよい。 本発明の奜たしい䟋を以䞋に瀺す。 は、氎玠原子、炭玠数〜のアルキル基
䟋えばメチル、゚チル、ヒドロキシ゚チル、シ
アノ゚チルなど、炭玠数〜のアルキルカル
ボニル基アセチル、クロルアセチル、カルボキ
シメチルカルボニルなど又はグリシゞル基を衚
わす。は奜たしくは、オキシ゚チレン、オキシ
プロピレン、オキシヒドロキシプロピレン、
オキシプニル゚チレンなどが挙げられる。 R1、R2、R3およびR4はメチル基、゚チル基、
−プロピル基、−ブチル基、−アミル基、
−ヘキシル基、−オクチル基、ノニル基、デ
ゞル基、ドデシル基、トリクロロメチル基、トリ
ブロモメチル基、−プニル゚チル基、−フ
゚ニル−−プロピル基等、炭玠数〜20の眮換
又は無眮換のアルキル基、プニル基、−クロ
ロプニル基等の眮換又は無眮換のアリヌル基、
−OR7ここにR7は炭玠数〜20の眮換又は無眮
換のアルキル基又はアリヌル基を衚わす。以䞋同
じで衚わされる眮換又は無眮換のアルコキシ
基、塩玠原子、臭玠原子等のハロゲン原子、−
COR7で衚わされるアシル基、−NR8COR7ここ
にR8は氎玠原子又は炭玠数〜20のアルキル基
を衚わす。以䞋同じで衚わされるアミド基、−
NR8SO2R7で衚わされるスルホンアミド基、
【匏】で衚わされるカルバモむル基、或 いは
【匏】で衚わされるスルフアモむル 基であり、又、R2、R4は氎玠原子であ぀おもよ
い。これらのうち、R1およびR3は、アルキル基
又はハロゲン原子が奜たしく、特にR1はかさ高
い−ブチル基、−アミル基、−オクチル基
等の玚アルキル基が特に奜たしい。R2および
R4は氎玠原子が奜たしい。すなわち、−
ゞ眮換プノヌルから合成される䞀般匏の
化合物が特に奜たしい。R5、R6は氎玠原子、メ
チル基、゚チル基、−プロピル基、−プロピ
ル基、−ヘプチル基、−゚チルアミル基、
−りシデシル基、トリクロロプニル基、トリブ
ロモメチル基等の眮換もしくは無眮換のアルキル
基、プニル基、ナフチル基、−クロロプニ
ル基、−メトキシプニル基、−ニトロプ
ニル基等の眮換もしくは無眮換のアリヌル基であ
り、R5ずR6ずの炭玠原子数の和は以䞊である。
又、R5ずR6は互いに連結しお環を圢成しおもよ
い。この環は、䟋えばシクロヘキサン環である。
これらのうち、R5、R6は氎玠原子、炭玠数〜
のアルキル基、プニル基が奜たしい。 およびはオキシルアキレン単䜍の平均重合
床であ぀お〜40の数を衚わし、〜30の数が特
に奜たしい。ずは同䞀の倀であ぀おもよく、
異なる倀であ぀おもよい。 本発明の化合物はビスプノヌルに酞化アルキ
レンを付加重合させるこずによ぀お埗るこずがで
きる。 その合成法に぀いおは、前蚘特開昭58−208743
号、同60−80848号に蚘茉されおいる方法により
容易に合成できる。 䞀般匏で衚わされる本発明のノニオン界
面掻性剀の具䜓䟋を以䞋に瀺す。 化合物䟋         合成䟋 −化合物䟋の合成− 還流冷华噚、撹拌噚、枩床蚈を装着した200ml
䞉ツ口フラスコに特開昭58−28743号合成䟋に
埓぀お合成した同特蚱化合物䟋平均分子量
1416.942.50.03モル、氎酞化カリりム0.34
ミリモルおよびゞ゚チレングリコヌルゞ
メチル゚ヌテル5.2を加え、撹拌しながら130〜
150℃に加熱した。系が均䞀にな぀たのち、グリ
シドヌル8.90.12モルを時間30分で滎䞋
した。滎䞋埌曎に時間30分加熱撹拌した。冷华
し、メタノヌル200mlを加えお溶解し、IN塩酞
mlを加えお䞭和し、脱色炭で脱色した過埌、枛
圧留去し、酢酞゚チルで200mlを加えお再溶解し、
塩を別埌、再び枛圧留去しお淡黄色ワツクス状
の化合物X39.7を埗た。 䞀般匏で衚わされる劂き本発明のノニオ
ン界面掻性剀は、䜿甚する写真感光材料の皮類、
圢態又は塗垃方匏等によりその䜿甚量は異なる
が、䞀般にはその䜿甚量は写真感光材料のm2圓
り〜2000mgでよく、特に〜500mgが奜たしい。 䞀般匏で衚わされる劂き本発明のノニオ
ン界面掻性剀を写真感光材料の局䞭に適甚する方
法は、氎或いはメタノヌル、゚タノヌル、アセト
ン等の有機溶剀又は氎ず前蚘有機溶媒の混合溶媒
に溶解したのち、支持䜓䞊の感光性乳剀局、非感
光性の補助局䟋えば、バツキング局、ハレヌシ
ペン防止局、䞭間局、保護局等䞭に含有せしめ
るか又は支持䜓の衚面に噎霧、塗垃あるいは、該
溶液䞭に浞挬しお也燥すればよい。この際、本発
明のノニオン界面掻性剀を二皮以䞊混合しおもよ
い。 又、れラチン、ポリビニルアルコヌル、セルロ
ヌスアセテヌト、セルロヌスアセテヌトフタレヌ
ト、ポリビニルホルマヌル、ポリビニルブチラヌ
ル等のバむンダヌず共に甚いお垯電防止局ずしお
もよい。 本発明の䞀般匏で瀺されるノニオン界面
掻性剀を含有する局或いは他の局に別の垯電防止
剀を䜵甚するこずもでき、こうするこずによ぀お
曎に奜たしい垯電防止効果を埗るこずもできる。
このような垯電防止剀には、䟋えば米囜特蚱第
2882157号、同2972535号、同3062785号、同
3262807号、同3514291号、同3615531号、同
3753716号、同3938999号、同4070189号、同
4147550号、独囜特蚱第2800466号、特開昭48−
91165号、同48−94433号、同49−46733号、同50
−54672号、同50−94053号、同52−129520号等に
蚘茉されおいるような重合䜓、䟋えば米囜特蚱第
2982651号、同3428456号、同3457076号、同
3454625号、同3552972号、同3655387号、特開昭
53−84712号、同57−146248号、同56−43636号、
同59−191034号、同60−76741号、英囜特蚱第
1259398号、同1417915号等に蚘茉されおいるよう
な界面掻性剀、䟋えば米囜特蚱第3062700号、同
3245833号、同3525621号等に蚘茉されおいるよう
な金属酞化物、コロむドシリカ等や硫酞バリりム
ストロンチりム、ポリメタクリル酞メチル、メタ
クリル酞メチル−メタクリル酞共重合䜓、コロむ
ドシリカ又は粉末シリカ等から成るいわゆるマツ
ト剀を挙げるこずができる。 又、゚チレングリコヌル、プロピレングリコヌ
ル、−トリメチロヌルプロパン等、特
開昭54−89626に瀺されるようなポリオヌル化合
物を、本発明の䞀般匏で瀺されるノニオン
界面掻性剀を含有する局或いは他の局に添加する
こずができ、こうするこずによ぀おも、曎に奜た
しい垯電防止効果を埗るこずができる。 又、有機、無機塩䟋えば、アルカリ金属塩、
アルカリ土類塩、重金属塩、アンモニりム塩、ハ
ロゲン塩、硫酞塩、リン酞塩、硝酞塩、過塩玠酞
塩、ロダン塩などを䜵甚するこずもできる。 本発明のノニオン界面掻性剀を含む局ずしお
は、乳剀局、及び乳剀局ず同じ偎の䞋塗り局、䞭
間局、衚面保護局、オヌバヌコヌト局、乳剀局ず
反察偎のバツク局等が挙げられる。この内特に、
衚面保護局、オヌバヌコヌト局及びバツク局等の
最衚面局が奜たしい。 本発明のノニオン界面掻性剀を適甚し埗る支持
䜓には、䟋えば、ポリ゚チレンのようなポリオレ
フむン、ポリスチレン、セルロヌストリアセテヌ
トのようなセルロヌス誘導䜓、ポリ゚チレンテレ
フタレヌトのようなセルロヌス゚ステル等のフむ
ルム又はバラむタ玙、合成玙又は玙等の䞡面をこ
れらのポリマヌフむルムで被膜したシヌトからな
る支持䜓及びその類䌌物等が含たれる。 本発明に甚いる支持䜓には、アンチハレヌシペ
ン局を蚭けるこずもできる。この目的のたぐには
カヌボンブラツクあるいは各皮の染料、䟋えば、
オキ゜ヌル染料、アゟ染料、アリヌリテン染料、
スチリル染料、アントラキノン染料、メロシアニ
ン染料及びトリ又はゞアリルメタン染料等が
あげられる。カヌボンブラツク染料のバむンダヌ
ずしおは、セルロヌスアセテヌトゞ又はモノ、
ポリビニルアルコヌル、ポリビニルブチラヌル、
ボリビニルアセタヌル、ポリビニルホルマヌル、
ポリメタクリル酞゚ステル、ポリアクリル酞゚ス
テル、ポリスチレン、スチレン無氎マむレン酞
共重合䜓、ポリ酢酞ビニル、酢酞ビニル無氎マ
レむン酞共重合䜓、メチルビニル゚ヌテル無氎
マむレン酞共重合䜓、ポリ塩化ビニリデン、及び
それらの誘導䜓を甚いるこずができる。 本発明に係る感光材料ずしおは、通垞の癜黒ハ
ロゲン化銀感光材料䟋えば、撮圱甚癜黒感材、
−ray甚癜黒感材、印刷甚癜黒感材、等、通
垞の倚局カラヌ感光材料、䟋えば、カラヌリバ
ヌサルフむルム、カラヌネガテむブフむルム、カ
ラヌポゞテむブフむルム、等、皮々の感光材料
を挙げるこずができる。ずくに、高枩迅速凊理甚
ハロゲン化銀感光材料、高感床ハロゲン化銀感光
材料に効果が倧きい。 本発明の写真感光材料に甚いられる写真乳剀䞭
のハロゲン化銀粒子は、立方䜓、八面䜓のような
芏則的regularな結晶䜓を有するものでもよ
く、たた球䜓、板状などのような倉則的
irregularな結晶圢をも぀もの、あるいはこれ
らの結晶圢の耇合圢をも぀ものでもよい。曎には
リサヌチ・デむスクロヌゞダヌ225å·»No.22534、20
〜58頁1983・に蚘茉された平板粒子であ぀
おもよい。皮々の結晶圢の粒子の混合から成぀お
もよい。 たた、本発明に甚いられる乳剀は米囜特蚱
2996382、同3397987、同3705858に蚘茉の劂く、
感光性ハロゲン化銀乳剀ず内郚のかぶ぀たハロゲ
ン化銀乳剀の混合乳剀もしくは別局に䜵甚したも
のであ぀おもよい。ここで、特願昭59−170588に
蚘茉されたメルカプト化合物を曎に䜵甚するずカ
ブリの抑制、経時保存性の改良などの点で奜たし
い。 本発明に甚いられる写真乳剀は、ピヌ・グラフ
キデスP.Glafkides著「シミヌ・゚・フむゞ
ヌク・フオトグラフむヌクChimie et Physque
Photographique」ポヌル・モンテルPaul
Montel瀟刊、1967幎、ゞヌ・゚フ・デナフむン
G.F.Duffin著「フオトグラフむク・゚マルゞ
ペン・ケミストリ−Photographic Emulsion
Chemistry」ザ フオヌカルプレス The
Focal Press 瀟刊、1966幎、ノむ・゚ル・ツ
゚リクマンらV.L.Zulikman etal著「メむキ
ング・アンド・コヌテむング・フオトグラフむ
ク・゚マルゞペンMaking and Coating
Photographic Emulsion」フオヌカル・プレ
ス The Focal Press瀟刊、1964幎などに蚘茉
された方法を甚いお調補するこずができる。 本発明のハロゲン化銀乳剀局には、必芁により
染料を甚いるこずができる。䟋えば
RESEARCHDISCLOSURE176å·» Item17643
項に蚘茉されたものを甚いるこずができる。た
た、珟像銀の色調を改良するために特開昭60−
127663に蚘茉された劂きのマれンタ染料を甚いお
もよい。 以䞋に、本発明にかかるハロゲン化銀感光材料
の写真局に぀いお簡単に蚘茉する。 写真局のバむンダヌずしおはれラチン、カれむ
ンなどの蛋癜質カルボキシメチルセルロヌス、
ヒドロキシ゚チルセルロヌス等のセルロヌス化合
物デキストラン、寒倩、アルギン酞゜ヌダ、で
んぷん誘導䜓等の糖誘導䜓合成芪氎性コロむド
䟋えばポリビニルアルコヌル、ポリ−−ビニル
ピロリドン、ポリアクリル酞共重合䜓、ポリアク
リルアミドたたはこれらの誘導䜓および郚分加氎
分解物等を䜵甚するこずも出来る。 ここに蚀うれラチンはいわゆる石灰凊理れラチ
ン、酞凊理れラチンおよび酵玠凊理れラチンを指
す。 れラチンの䞀郚たたは党郚を合成高分子物質で
眮きかえるこずができるほか、いわゆるれラチン
誘導䜓すなわち分子䞭に含たれる官胜基ずしおの
アミノ基、むミノ基、ヒドロキシ基たたはカルボ
キシル基をそれらず反応しうる基を個持぀た詊
薬で凊理、改質したもの、あるいは高分子物質の
分子鎖を結合させたグラフトポリマヌで眮きかえ
お䜿甚しおもよい。 本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剀局、
衚面保護局などに甚いられるハロゲン化銀の皮
類、補法、化孊増感法、カブリ防止剀、安定剀、
硬膜剀、垯電防止剀、可塑剀、最滑剀、塗垃助
剀、マツト剀、増癜剀、分光増感色玠、染料、カ
ラヌカツプラヌ等に぀いおは特に制限はなく、䟋
えばプロダクラむセンシング誌Product
Licensing92å·»107〜110頁1971幎12月及び
リサヌチ・デむスクロヌゞダヌ誌Research D.
closure176å·»22〜31頁1978幎12月同238å·»
44〜46頁1984幎の蚘茉を参考にするこずが出
来る。 特に、カブリ防止剀、安定剀ずしおは、−ヒ
ドロキシ−−メチル−3a−テト
ラザむンデン−−メチル−ベンゟチアゟヌル、
−プニル−−メルカプトテトラゟヌル、ニ
トロン及びその塩䟋えば、サリチル酞塩、硝酞
塩などをはじめ倚くの耇玠環化合物、含氎銀化
合物、メルカプト化合物、金属塩類、䟋えば塩化
パラゞりム及びそのナトリりム塩、ブロムパラゞ
りム及びそのアンモニりム塩など極めお倚くの化
合物を、硬膜剀ずしおはムコクロル酞、ムコブロ
ム酞、ムコプノキシクロル酞、ムコプノキシ
ブロム酞、ホルムアルデヒド、ゞメチロヌル尿
玠、トリメチロヌルメラミン、グリオキザヌル、
モノメチルグリオキザヌル、−ゞヒドロキ
シ−−ゞオキサン、−ゞヒドロキシ
−−メチル−−ゞオキサン、サクシンア
ルデヒド、−ゞメトキシテトラヒドロフラ
ン、グルタルアルデヒドの劂きアルデヒド系化合
物ゞビニルスルホン、メチレンビスマレむミ
ド、−アセチル−−ゞアクリロむル−ヘ
キサヒドロ−−トリアゞン、−トリ
アクリロむル−ヘキサヒドロ−−トリアゞン、
−トリビニルスルホニル−ヘキサヒド
ロ−−トリアゞンビスビニルスルホニルメチ
ル゚ヌテル、−ビスビニルスルホニル
メチルプロパノヌル−、ビスα−ビニルス
ルホニルアセトアミド゚タンの劂き掻性ビニル
系化合物−ゞクロロ−−ヒドロキシ−
−トリアゞン・ナトリりム塩、−ゞクロ
ロ−−メトキシ−−トリアゞン、−ゞ
クロロ−−−スルホアニリノ−−トリア
ゞン・ナトリりム塩、−ゞクロロ−−
−スルポチルアミノ−−トリアゞン、
N′−ビス−クロロ゚チルカルバミル
ピペラゞンの劂き掻性ハロゲン系化合物ビス
−゚ポキシプロピルメチルプロピルア
ンモニりム・−トル゚ンスルホン酞塩、
−ビス2′3′−゚ポキシプロピルオキシブタ
ン、−トリグリシゞルむ゜シアヌレヌ
ト、−ゞグリシゞル−−γ−アセトキ
シ−β−オキシプロピルむ゜シアヌレヌトの劂
き゚ポキシ系化合物−トリ゚チレン
むミノ−−トリアゞン、−ヘキサメチレ
ン−N′−ビス゚チレン尿玠、ビス−β−゚
チレンむミノ゚チルチオ゚ヌテルの劂き゚チレン
むミン系化合物−ゞメタンスルホンオ
キシ゚タン、−ゞメタンスルホンオキ
シブタン、−ゞメタンスルホンオキ
シペンタンの劂きメタンスルホン酞゚ステル系
化合物さらに、カルボゞむミド系化合物む゜
オキサゟヌル系化合物及びクロム明バンの劂き
無機系化合物を挙げるこずが出来る。 本発明の写真構成局には、公知の界面掻性剀を
曎に添加しおもよい。䜿甚しうる、界面掻性剀ず
しおはサポニン等の倩然界面掻性剀、グリセリン
系、グリシドヌル系などのノニオン界面掻性剀、
高玚アルキルアミン類、第玚アンモニりム塩
類、ピリゞンその他の耇玠環類、ホスホニりムた
たはスルホニりム類等のカチオン界面掻性剀カ
ルボン酞、スルホン酞、リン酞、硫酞゚ステル、
リン酞゚ステル等の酞性基を含むアニオン界面掻
性剀、アミノ酞類、アミノスルホン酞類、アミノ
アルコヌルの硫酞たたはリン酞゚ステル類等の䞡
性界面掻性剀を挙げるこずができる。又、含フツ
玠界面掻性剀を䜵甚するこずも出来る。 又、本発明の写真感光材料は、写真構成局䞭に
米囜特蚱第3411911号、同3411912号、特公昭45−
5331号、特願昭60−182949号等に蚘茉のアルキル
アクリレヌト系ラテツクスを含むこずが出来る。 以䞋に実斜䟋を挙げお本発明を䟋蚌するが、本
発明はこれに限定されるものではない。 実斜䟋 (1) 詊料の調補 䞋塗りを斜した厚さ180Όのポリ゚チレンテ
レフタレヌトフむルム支持䜓の䞊に、䞋蚘組成
のハロゲン化銀乳剀局を塗垃し、曎にその䞊に
䞋蚘組成の保護局を塗垃し也燥しお癜黒ハロゲ
ン化銀感光材料を調補した。保護局には本発明
のノニオン界面掻性剀又は比范甚ノニオン界面
掻性剀を添加した。 乳剀局 厚さ玄5ÎŒ 組成及び塗垃量 れラチン 2.5m2 劖臭化銀劖化銀1.5モル m2 −プニル−−メルカプトテトラゟヌル
25mgm2 塩化パラゞりムのナトリりム塩 0.5mgm2 ニトロン mgm2 保護局 厚さ玄1ÎŒ 組成及び塗垃量 れラチン m2 −ビスビニルスルホニル−プロパノ
ヌル− 1.2100バむンダヌ ゜ゞりム−オクチルプノキシ゚トキシ゚ト
キシ゚チルスルホナヌト 100mgm2 本発明のノニオン界面掻性剀又は比范甚ノニオ
ン界面掻性剀 45mgm2 (2) 垯電防止胜の刀定法 垯電防止胜は衚面抵抗率及びスタチツクマヌク
の発生の枬定によ぀お決めた。衚面抵抗率は詊
料の詊隓片を電極間隔0.14cm、長さ10cmの真鍮補
電極詊隓片ず接する郚分はステンレス䜿甚に
挟み、歊田理研補絶瞁蚈TR8651型で分倀を枬
定する。スタチツクマヌク発生詊隓は、ゎムシ
ヌト䞊に未露光感光材料の垯電防止剀を含む衚面
を䞋向きにしお、䞊からゎムロヌラで圧着埌、剥
離するこずによりスタチツクマヌクを発生させる
方法によ぀た。 各枬定条件は、衚面抵抗率は、25℃、25RH
で枬定し、スタチツクマヌク発生詊隓は、25℃、
25RHで行う。なお、詊料の詊隓片の調湿は前
蚘条件で䞀昌倜行な぀た。 スタチツクマヌクの発生の皋床を評䟡するため
に、各サンプルを次の組成の珟像液を甚いお20℃
で分間珟像した。 珟像液組成 −メチル−−アミノプノヌル硫酞塩  無氎亜硫酞゜ヌダ 60 ハむドロキノン 10 炭酞゜ヌダ氎塩 53 臭化カリ 25 氎を加えおずする。 スタチツクマヌクの評䟡は次の段階の芏準に
埓぀た。 スタチツクマヌクの発生が認められない。 スタチツクマヌクが少し発生する。 スタチツクマヌクが盞圓発生する。 スタチツクマヌクが著しく発生する。 スタチツクマヌクが党面に発生する。 (3) 経時劣化詊隓法 前蚘詊料及び癜色の䞊質玙を25℃、70RH
で時間調湿したのち、詊料のそれぞれ枚で
乳剀局偎の衚面が䞊質玙の䞡面に接觊するよう
に䞊質玙を挟み、これらをポリ゚チレンラミネ
ヌト袋に入れお密封した。これらの詊料に50
重cm2の加重をかけお25℃で時間経時した。
その埌、前蚘垯電防止胜刀定法に埓぀お垯電防
止胜を枬定し、経時前ず比范した。 (4) 写真特性詊隓法 前蚘詊料を富士フむルム瀟補フむルタヌSP
−14を通したタングステンランプ光で露光した
のち、䞋蚘組成の珟像液で珟像35℃、30秒
し、定着、氎掗凊理をしお写真特性を調べた。 珟像液組成 æž© æ°Ž 800ml テトラポリリン酞ナトリりム 2.0 無氎亜硫酞ナトリりム 50 ハむドロキノン 10 炭酞ナトリりム氎塩 40 −プニル−−ピラゟリドン 0.3 臭化カリりム 2.0 氎を加えお党䜓を 1000ml (5) スクリヌン汚染床の枬定 詊料片及び倧日本塗料補スクリヌンLT−
を30℃、80RHにお日調湿し、同䞀条件䞋
でLT−を䜿甚したカセツテに詊料片を1000
枚通した埌線撮圱を行ない濃床ムラの出具合
を調べた。 スクリヌン汚染床の評䟡は次の段階の芏準
に埓぀た。 濃床ムラの発生が認められない。 濃床ムラが少し発生する。 濃床ムラが盞圓発生する。 濃床ムラが著しく発生する。 以䞊(2)〜(5)の各詊隓経結果を第衚に瀺す。 (6) 凊理汚れ詊隓方法 乳剀局および衚面保護局を塗垃した詊料を
30.5cm×25.4cm角に裁断した。珟像凊理埌の光
孊濃床が1.3になるように均䞀露光したのち、
富士写真フむルム補自動珟像凊理機RH珟像
济富士写真フむルムRD−、35℃、定着济
富士写真フむルムFuji−、35℃、氎掗济の
济よりな぀おいるで連続的に100枚珟像凊
理した。 珟像凊理埌各フむルム䞊にあらわれたスポツ
ト状の脱銀䞍良郚の有無に぀いお評䟡を次の
段階で行な぀た。 脱銀䞍良郚の発生が認められない 脱銀䞍良郚の発生が少し認められる 脱銀䞍良郚の発生が盞圓数認められる 脱銀䞍良郚の発生が著しく倚数認められ
る
【衚】 比范化合物An−C12H25O―CH2CH2O―10H 英囜特蚱第861134号 比范化合物 比范化合物 米囜特蚱第3850641号化合物− 比范化合物 特開昭58−208743号 第䞀衚から明らかな劂く、本発明のノニオン化
合物を含有する写真感光材料の衚面抵抗率は十分
に䜎く、スタチツクマヌクが認められない䞊に、
写真感床がほずんど䜎䞋せず、スクリヌン汚染性
も良奜である。又、この良奜な垯電防止性胜が経
時によ぀おもほずんど倉化しおいない。そしお凊
理時の汚れを党く発生せず良奜な画質が埗られ
た。 䞀方、分子䞭に個のポリオキシ゚チレン鎖
を有する比范化合物およびは、経時前は良奜
な垯電防止性胜を瀺しおいるが、経時によ぀おこ
の性胜が劣化し、又、写真感床、スクリヌン汚染
性凊理時の汚れを悪化させおいるこずが認められ
る。 又、プノヌルホルマリン暹脂の酞化゚チレン
付加重合䜓である比范化合物も、垯電防止性胜
の著しい経時劣化、写真感床の䜎䞋、スクリヌン
汚染性、凊理時の汚れの悪化が避けられない。 曎に、分子䞭に個のポリオキシ゚チレン鎖
を有する比范化合物も、垯電防止性胜の経時劣
化、写真感床の䜎䞋、スクリヌン汚染性の悪化は
芋られないが凊理時の汚れが発生する。 本発明の化合物は、埓来の酞化゚チレン付加重
合䜓では到底達成し埗ない良奜な性胜を瀺すこず
が分る。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  䞀般匏で衚わされるノニオン界面掻性
    剀を含有するこずを特城ずするハロゲン化銀写真
    感光材料 䞀般匏 は氎玠原子、アルキル基、アリヌル基、アリ
    キルカルボニル基、アリヌルカルボニル基、又は
    グリシゞル基を衚わす。 は炭玠数以䞋のオキシアルキレン基であ
    り、䞀般匏に斌ける――n又は――o
    の
    がすべおオキシ゚チレン基ずなるこずはない。 匏䞭、R1及びR3は眮換もしくは無眮換のアル
    キル基、アリヌル基、アルコキシ基、ハロゲン原
    子、アシル基、アミド基、スルホンアミド基、カ
    ルバモむル基或いはスルフアモむル基を衚わす。
    R2およびR4は氎玠原子、眮換もしくは無眮換の
    アルキル基、アリヌル基、アルコキシ基、ハロゲ
    ン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミド
    基、カルバモむル基或いはスルフアモむル基を衚
    ろす。R5、R6は氎玠原子、眮換もしくは無眮換
    のアルキル基又はアリヌル基を衚わし、R5ずR6
    ずの炭玠原子数の和は以䞊である。又R5ずR6
    ずは互いに連結しお環を圢成しおもよい。およ
    びは、酞化アルキレンの平均重合床であ぀お
    〜40の数である。ずは同䞀の倀であ぀おもよ
    く、異なる倀であ぀おもよい。
JP1339886A 1986-01-24 1986-01-24 ハロゲン化銀写真感光材料 Granted JPS62172343A (ja)

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