JPH08230091A - 帯電防止フィルム基材およびその帯電防止フィルム基材を含む写真成分 - Google Patents
帯電防止フィルム基材およびその帯電防止フィルム基材を含む写真成分Info
- Publication number
- JPH08230091A JPH08230091A JP8002939A JP293996A JPH08230091A JP H08230091 A JPH08230091 A JP H08230091A JP 8002939 A JP8002939 A JP 8002939A JP 293996 A JP293996 A JP 293996A JP H08230091 A JPH08230091 A JP H08230091A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film substrate
- polymer
- antistatic layer
- ethylenically unsaturated
- antistatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 40
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 16
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 claims abstract description 8
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 32
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 17
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 16
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 7
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 81
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 12
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 12
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 12
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 12
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VTPNYMSKBPZSTF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C=C VTPNYMSKBPZSTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylacrylic acid Chemical compound CCC(=C)C(O)=O WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEBDGRTWECSNNT-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepentanoic acid Chemical compound CCCC(=C)C(O)=O HEBDGRTWECSNNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQIQPLUVLISR-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC(=C)C1=NCCO1 LPIQIQPLUVLISR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVYWNNQGEUXKQX-UHFFFAOYSA-M [Na+].CC(=C)C(O)=O.[O-]S(=O)(=O)C=Cc1ccccc1 Chemical compound [Na+].CC(=C)C(O)=O.[O-]S(=O)(=O)C=Cc1ccccc1 WVYWNNQGEUXKQX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZOQYDQKUBVQLSZ-UHFFFAOYSA-N ethyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;2-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CCOC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CC(=C)C1=NCCO1 ZOQYDQKUBVQLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 229920001480 hydrophilic copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 2
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRVUCYWJQFRCOB-UHFFFAOYSA-N n-butylprop-2-enamide Chemical compound CCCCNC(=O)C=C YRVUCYWJQFRCOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 2
- 238000010944 pre-mature reactiony Methods 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OZSMDXCTZNLHPP-FJOGWHKWSA-M sodium;(z)-but-2-enedioic acid;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].OC(=O)\C=C/C(O)=O.[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 OZSMDXCTZNLHPP-FJOGWHKWSA-M 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- KGIVXDVUVDLNHO-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene;ethyl prop-2-enoate;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound ClC(Cl)=C.CCOC(=O)C=C.OC(=O)CC(=C)C(O)=O KGIVXDVUVDLNHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBQFBEBEBCHTBK-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(C=C)C1=CC=CC=C1 CBQFBEBEBCHTBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMHBJYNKGLNAHQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylphenyl)ethenesulfonic acid Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C=CS(O)(=O)=O JMHBJYNKGLNAHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVYVKSBVZFBBPL-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)NC(=O)C=C MVYVKSBVZFBBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound C=CC1=NCCO1 BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMEVYZZCEGUONQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-5-methyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC1CN=C(C=C)O1 HMEVYZZCEGUONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSSGDAWBDKMCMI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-(2-methylprop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(C)(C)CS(O)(=O)=O VSSGDAWBDKMCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNZQBVPDZWAEB-UHFFFAOYSA-N 2-phenylprop-1-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C(C)C1=CC=CC=C1 OBNZQBVPDZWAEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQTFHSAAODFMHB-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCOC(=O)C=C GQTFHSAAODFMHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGORPXRCWCDZBE-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-3-(2-methylprop-2-enoylamino)butane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(C)(C)CCS(O)(=O)=O QGORPXRCWCDZBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCOC(=O)C=C NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBLQIMSKMPEILU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC1COC(C(C)=C)=N1 MBLQIMSKMPEILU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPRCENGOKJIGQF-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCCOC(=O)C=C OPRCENGOKJIGQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 229940090898 Desensitizer Drugs 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 235000006679 Mentha X verticillata Nutrition 0.000 description 1
- 235000002899 Mentha suaveolens Nutrition 0.000 description 1
- 235000001636 Mentha x rotundifolia Nutrition 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- KAPCRJOPWXUMSQ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis[3-(aziridin-1-yl)propanoyloxymethyl]-3-hydroxypropyl] 3-(aziridin-1-yl)propanoate Chemical compound C1CN1CCC(=O)OCC(COC(=O)CCN1CC1)(CO)COC(=O)CCN1CC1 KAPCRJOPWXUMSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000013036 cure process Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- XGZVPYGIUMLWIE-UHFFFAOYSA-N ethyl hypoiodite Chemical compound CCOI XGZVPYGIUMLWIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- LZIWXMFWIBRDAB-UHFFFAOYSA-N n-(chloromethyl)prop-2-enamide Chemical compound ClCNC(=O)C=C LZIWXMFWIBRDAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000131 polyvinylidene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940006186 sodium polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KFZUDNZQQCWGKF-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfinate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])=O)C=C1 KFZUDNZQQCWGKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical group [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
- G03C1/89—Macromolecular substances therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/02—Polyamines
- C08G73/0233—Polyamines derived from (poly)oxazolines, (poly)oxazines or having pendant acyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/16—Anti-static materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31786—Of polyester [e.g., alkyd, etc.]
- Y10T428/31797—Next to addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31935—Ester, halide or nitrile of addition polymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明により、帯電防止層を用いて提供され
る写真フィルム基材、およびそのフィルム基材を含む感
光性写真成分を提供する。 【解決手段】 本発明は、少なくとも片面に帯電防止層
を被覆したポリマーフィルム基材を含む帯電防止フィル
ム基材であって、該帯電防止層が(1)カルボキシル基を
含有する水溶性、電気伝導性ポリマーおよび(2)オキサ
ゾリン基を含有する水溶性ポリマーの反応生成物を含む
ことを特徴とする帯電防止フィルム基材に関する。
る写真フィルム基材、およびそのフィルム基材を含む感
光性写真成分を提供する。 【解決手段】 本発明は、少なくとも片面に帯電防止層
を被覆したポリマーフィルム基材を含む帯電防止フィル
ム基材であって、該帯電防止層が(1)カルボキシル基を
含有する水溶性、電気伝導性ポリマーおよび(2)オキサ
ゾリン基を含有する水溶性ポリマーの反応生成物を含む
ことを特徴とする帯電防止フィルム基材に関する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止層を用い
て提供される写真フィルム基材、およびそのフィルム基
材を含む感光性写真成分に関する。
て提供される写真フィルム基材、およびそのフィルム基
材を含む感光性写真成分に関する。
【0002】写真層を保持するためのポリマー状フィル
ム基材の使用はよく知られている。特に厳密な物理的特
性を必要とする写真成分は、ポリエステルフィルム基
材、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム基材ま
たはポリエチレンナフタレートフィルム基材を使用す
る。実際、ポリエステルフィルム基材は通常用いられる
セルロースエステルフィルム基材と比較した場合、ほと
んどの使用条件下で、より優れた寸法安定性および耐機
械的応力性を有する。
ム基材の使用はよく知られている。特に厳密な物理的特
性を必要とする写真成分は、ポリエステルフィルム基
材、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム基材ま
たはポリエチレンナフタレートフィルム基材を使用す
る。実際、ポリエステルフィルム基材は通常用いられる
セルロースエステルフィルム基材と比較した場合、ほと
んどの使用条件下で、より優れた寸法安定性および耐機
械的応力性を有する。
【0003】フィルム基材上への静電荷の形成が写真成
分の製造および使用において深刻な問題である。感光性
写真エマルジョンを被覆形成する際に、基材上に蓄積す
る電荷を放電し、光を発生し、これが感光性層上に画像
として記録される。ポリマーフィルム基材上の電荷の蓄
積から生じるその他の欠点は、埃と汚れの付着、被膜欠
陥の発生である。
分の製造および使用において深刻な問題である。感光性
写真エマルジョンを被覆形成する際に、基材上に蓄積す
る電荷を放電し、光を発生し、これが感光性層上に画像
として記録される。ポリマーフィルム基材上の電荷の蓄
積から生じるその他の欠点は、埃と汚れの付着、被膜欠
陥の発生である。
【0004】更に、ポリマーフィルム基材上に被覆形成
された感光性層を有する写真成分は、機械的に巻き付け
られたり巻き付けられていないロールやリール、または
高速で運搬されるシートにて使用される場合には、静電
荷を蓄積し、静電放電によって発生する光を記録する傾
向にある。
された感光性層を有する写真成分は、機械的に巻き付け
られたり巻き付けられていないロールやリール、または
高速で運搬されるシートにて使用される場合には、静電
荷を蓄積し、静電放電によって発生する光を記録する傾
向にある。
【0005】静電気に関する被害は、写真成分が製造さ
れ、露光され処理される前だけでなく、画像を有する写
真成分を他の感光性媒質と共に使用して画像を再生し拡
大する処理後でも生じる。それゆえ、永久的な帯電防止
保護、即ち写真処理後でもその有効性を持続する帯電防
止保護を備えることが要求される。
れ、露光され処理される前だけでなく、画像を有する写
真成分を他の感光性媒質と共に使用して画像を再生し拡
大する処理後でも生じる。それゆえ、永久的な帯電防止
保護、即ち写真処理後でもその有効性を持続する帯電防
止保護を備えることが要求される。
【0006】写真成分を静電荷の有害な作用から保護す
るいくつかの技術が、提案されている。
るいくつかの技術が、提案されている。
【0007】帯電を抑制するために艶消剤、吸湿材料ま
たは電気伝導性ポリマーが提案されており、それぞれ異
なるメカニズムで働く。しかしながら、艶消剤は曇り、
埃および汚れの問題を生じ、吸湿材料はシートまたはフ
ィルムを互いにまたはその他の表面と粘着し、電気伝導
性ポリマーは写真処理後永久的でないか、または通常の
バインダーで被覆した場合に透明でなくなる。
たは電気伝導性ポリマーが提案されており、それぞれ異
なるメカニズムで働く。しかしながら、艶消剤は曇り、
埃および汚れの問題を生じ、吸湿材料はシートまたはフ
ィルムを互いにまたはその他の表面と粘着し、電気伝導
性ポリマーは写真処理後永久的でないか、または通常の
バインダーで被覆した場合に透明でなくなる。
【0008】米国特許第4,225,665号には、写真成分用
の永久的帯電防止層が開示されている。これらの層は3
種の必須成分:(1)カルボキシル基を有する水溶性、電
気伝導性ポリマー、(2)カルボキシル基を有する疎水性
ポリマーバインダー、および(3)多官能性アジリジン架
橋剤から成る。しかしながら、この組成物は曇った被膜
を提供し、被覆前の成分中に早期反応を起こす。米国特
許第4,701,403号には、これらの早期反応を回避する2
つの異なる層としての成分を被覆する高価な系が開示さ
れている。
の永久的帯電防止層が開示されている。これらの層は3
種の必須成分:(1)カルボキシル基を有する水溶性、電
気伝導性ポリマー、(2)カルボキシル基を有する疎水性
ポリマーバインダー、および(3)多官能性アジリジン架
橋剤から成る。しかしながら、この組成物は曇った被膜
を提供し、被覆前の成分中に早期反応を起こす。米国特
許第4,701,403号には、これらの早期反応を回避する2
つの異なる層としての成分を被覆する高価な系が開示さ
れている。
【0009】米国特許第4,585,730号には、フィルム基
材を有する写真成分、その支持体の片面上のハロゲン化
銀エマルジョン、およびその支持体の裏面上の帯電防止
層が開示されており、その帯電防止層は導電性ポリマー
を含有する補助のゼラチン層で被覆されており、帯電防
止層の帯電防止性は上記の補助層を通して伝導される。
米国特許第4,585,730号に従って補助層で被覆されるの
に有用な帯電防止層が、米国特許第4,225,665号および
同4,701,403号に開示されている。しかしながら、この
2層構造はしばしば、写真処理中に2層間の接着性が低
下する。
材を有する写真成分、その支持体の片面上のハロゲン化
銀エマルジョン、およびその支持体の裏面上の帯電防止
層が開示されており、その帯電防止層は導電性ポリマー
を含有する補助のゼラチン層で被覆されており、帯電防
止層の帯電防止性は上記の補助層を通して伝導される。
米国特許第4,585,730号に従って補助層で被覆されるの
に有用な帯電防止層が、米国特許第4,225,665号および
同4,701,403号に開示されている。しかしながら、この
2層構造はしばしば、写真処理中に2層間の接着性が低
下する。
【0010】ポリマーフィルム基材上に被覆された帯電
防止層が、欧州特許第486,982号および同589,329号に開
示されている。その帯電防止層は、ポリスチレンスルホ
ン酸ナトリウムとマレイン酸のコポリマーの多官能性エ
ポキシド架橋剤との反応生成物を含む。この帯電防止層
は、写真処理中であっても、その上に被覆された写真用
ゼラチン層の良好な接着性を提供する。この帯電防止層
の有する問題は低架橋速度に関し、それは耐水性永久帯
電防止層を得るのに高温での乾燥および硬化の両方を必
要とする。
防止層が、欧州特許第486,982号および同589,329号に開
示されている。その帯電防止層は、ポリスチレンスルホ
ン酸ナトリウムとマレイン酸のコポリマーの多官能性エ
ポキシド架橋剤との反応生成物を含む。この帯電防止層
は、写真処理中であっても、その上に被覆された写真用
ゼラチン層の良好な接着性を提供する。この帯電防止層
の有する問題は低架橋速度に関し、それは耐水性永久帯
電防止層を得るのに高温での乾燥および硬化の両方を必
要とする。
【0011】アリタ(Arita)等の米国特許第5,300,602号
には、水性樹脂用の硬化剤として有用なオキサゾリン基
を含有する水溶性ポリマーが開示されている。
には、水性樹脂用の硬化剤として有用なオキサゾリン基
を含有する水溶性ポリマーが開示されている。
【0012】
【課題を解決するための手段】1つの態様では、本発明
には、少なくとも片面を帯電防止層で被覆したポリマー
フィルム基材を含み、その帯電防止層が(1)カルボキシ
ル基を含有する水溶性、電気伝導性ポリマーおよび(2)
オキサゾリン基を含有する水溶性ポリマーの反応生成物
を含む。
には、少なくとも片面を帯電防止層で被覆したポリマー
フィルム基材を含み、その帯電防止層が(1)カルボキシ
ル基を含有する水溶性、電気伝導性ポリマーおよび(2)
オキサゾリン基を含有する水溶性ポリマーの反応生成物
を含む。
【0013】特殊な態様では、本発明には、ポリマーフ
ィルム基材、そのフィルム基材上のハロゲン化銀エマル
ジョン層、および(1)カルボキシル基を含有する水溶
性、電気伝導性ポリマーおよび(2)オキサゾリン基を含
有する水溶性ポリマーの反応生成物を含む帯電防止層か
ら成る写真成分を含む。この帯電防止層は本質的にその
成分中のどの位置にあってもよく、ハロゲン化銀エマル
ジョン層の裏側のフィルム基材面上の支持体層、片面ま
たは両面被覆写真成分中のフィルム基材およびエマルジ
ョン層の間の下塗(subbing)層、および/またはフィルム
基材および異なる支持体層の間の下塗り層を含む。
ィルム基材、そのフィルム基材上のハロゲン化銀エマル
ジョン層、および(1)カルボキシル基を含有する水溶
性、電気伝導性ポリマーおよび(2)オキサゾリン基を含
有する水溶性ポリマーの反応生成物を含む帯電防止層か
ら成る写真成分を含む。この帯電防止層は本質的にその
成分中のどの位置にあってもよく、ハロゲン化銀エマル
ジョン層の裏側のフィルム基材面上の支持体層、片面ま
たは両面被覆写真成分中のフィルム基材およびエマルジ
ョン層の間の下塗(subbing)層、および/またはフィルム
基材および異なる支持体層の間の下塗り層を含む。
【0014】本発明には、特に画像形成媒質、特にハロ
ゲン化銀写真媒質に有用な帯電防止フィルム基材を含
む。そのフィルム基材には、ポリマー基材、例えばポリ
エステル、および特にポリエチレンテレフタレートまた
はポリエチレンナフタレートを含む。その他の有用なポ
リマー基材には、酢酸セルロース類、ポリオレフィン
類、ポリカーボネート類等を含む。そのフィルム基材
は、その基材の主要面の片面または両面に接着した帯電
防止層を有する。プライマー層または下塗層を、当業者
に公知のように、その基材および帯電防止層の間に用い
てもよい。実際、プライマー層および下塗層は、特に上
記のことに含まれない(例えば、非下塗層)以外は、そ
の基材自体の一部であると考えられている。プライマー
および下塗組成物は当業者に公知であり、塩化ビニリデ
ンのポリマーはしばしば写真成分用に選択されるプライ
マー組成物を構成する。
ゲン化銀写真媒質に有用な帯電防止フィルム基材を含
む。そのフィルム基材には、ポリマー基材、例えばポリ
エステル、および特にポリエチレンテレフタレートまた
はポリエチレンナフタレートを含む。その他の有用なポ
リマー基材には、酢酸セルロース類、ポリオレフィン
類、ポリカーボネート類等を含む。そのフィルム基材
は、その基材の主要面の片面または両面に接着した帯電
防止層を有する。プライマー層または下塗層を、当業者
に公知のように、その基材および帯電防止層の間に用い
てもよい。実際、プライマー層および下塗層は、特に上
記のことに含まれない(例えば、非下塗層)以外は、そ
の基材自体の一部であると考えられている。プライマー
および下塗組成物は当業者に公知であり、塩化ビニリデ
ンのポリマーはしばしば写真成分用に選択されるプライ
マー組成物を構成する。
【0015】本発明の帯電防止層には、(1)カルボキシ
ル基を含有する水溶性、電気伝導性ポリマーおよび(2)
オキサゾリン基を含有する水溶性ポリマーの反応生成物
を含む。
ル基を含有する水溶性、電気伝導性ポリマーおよび(2)
オキサゾリン基を含有する水溶性ポリマーの反応生成物
を含む。
【0016】本発明の帯電防止層の成分(1)は好ましく
は、例えば(a)-SO3M置換エチレン系不飽和モノマー
(式中、MはH+、NH4 +、金属カチオンまたはN(R)4
+(式中、Rは炭素原子1〜4個を有するアルキル基であ
る)である)、および(b)(a):(b)のモル比が1:1〜
5:1であるカルボキシル基を含有するエチレン系不飽
和コモノマー、および要すれば(c)遊離カルボキシル基
を含有しないその他のエチレン系不飽和モノマーから成
るモノマー単位を有する水溶性(室温で例えば、濃度少
なくとも5重量%、好ましくは少なくとも10重量%で水
溶性)電気伝導性親水性コポリマーである。
は、例えば(a)-SO3M置換エチレン系不飽和モノマー
(式中、MはH+、NH4 +、金属カチオンまたはN(R)4
+(式中、Rは炭素原子1〜4個を有するアルキル基であ
る)である)、および(b)(a):(b)のモル比が1:1〜
5:1であるカルボキシル基を含有するエチレン系不飽
和コモノマー、および要すれば(c)遊離カルボキシル基
を含有しないその他のエチレン系不飽和モノマーから成
るモノマー単位を有する水溶性(室温で例えば、濃度少
なくとも5重量%、好ましくは少なくとも10重量%で水
溶性)電気伝導性親水性コポリマーである。
【0017】本発明の帯電防止層の成分(2)は好ましく
は、(a')2-オキサゾリン置換エチレン系不飽和モノマ
ー、および(b')アクリルおよびメタクリル誘導コモノマ
ー、および要すれば(c')エチレン系不飽和コモノマーか
ら成るモノマー単位を有する水溶性(室温で例えば、濃
度少なくとも5重量%、好ましくは少なくとも10重量%
で水溶性)親水性コポリマーである。
は、(a')2-オキサゾリン置換エチレン系不飽和モノマ
ー、および(b')アクリルおよびメタクリル誘導コモノマ
ー、および要すれば(c')エチレン系不飽和コモノマーか
ら成るモノマー単位を有する水溶性(室温で例えば、濃
度少なくとも5重量%、好ましくは少なくとも10重量%
で水溶性)親水性コポリマーである。
【0018】成分(1)では、電気伝導性モノマー(a)から
誘導された単位の量により、帯電防止保護に対する必要
量を、モノマー(b)から誘導された単位のカルボキシル
基によって架橋され得るのに十分なコポリマーの釣り合
いをとる。例えば、モノマー(a)は、スチレンスルホン
酸、ビニルトルエンスルホン酸、α-メチル-スチレンス
ルホン酸、2-エチルスチレンスルホン酸、3-アクリロイ
ルオキシプロパン-1-スルホン酸、3-メタクリロイルオ
キシプロパン-1-スルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチ
ルプロパン-スルホン酸、3-メタクリロイルオキシプロ
パン-1-メチル-1-スルホン酸、アクリロイルオキメタン
-スルホン酸、4-アクリロイルオキシブタン-1-スルホン
酸、2-アクリロイルオキシエタン-1-スルホン酸、2-ア
クリルアミドプロパン-1-スルホン酸、2-メタクリルア
ミド-2-メチルプロパン-1-スルホン酸、3-メタクリルア
ミド-3-メチルブタン-1-スルホン酸またはそれらのアル
カリ金属塩、好ましくはNaまたはK、またはアンモニ
ウム塩であってよい。モノマー(b)は、マレイン酸、ア
クリル酸、2-ブテン酸であってよい。モノマー(c)は、
要すれば、本発明のポリマーの電気伝導性、水溶性およ
び架橋性に悪影響を与えないように選択すべきである。
モノマー(c)の例には、エチレン系モノマー(例えば、
イソプレン、1,3-ブタジエン、塩化ビニル、エチレン、
プロパン)、スチレン系モノマー(例えば、スチレン、
ビニルトルエン、α-メチル-スチレン、2-エチル-スチ
レン、1-ビニルナフタレン)、2-アルケン酸エステル
(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、α-エチルアク
リル酸、α-プロピルアクリル酸、2-ブテン酸のメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、およびヘキシルエステ
ル)、アクリルアミドモノマー(例えば、アクリルアミ
ド、N-メチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリ
ルアミド、N-ブチルアクリルアミド、N-クロロメチル
-アクリルアミド)および酢酸ビニルがある。
誘導された単位の量により、帯電防止保護に対する必要
量を、モノマー(b)から誘導された単位のカルボキシル
基によって架橋され得るのに十分なコポリマーの釣り合
いをとる。例えば、モノマー(a)は、スチレンスルホン
酸、ビニルトルエンスルホン酸、α-メチル-スチレンス
ルホン酸、2-エチルスチレンスルホン酸、3-アクリロイ
ルオキシプロパン-1-スルホン酸、3-メタクリロイルオ
キシプロパン-1-スルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチ
ルプロパン-スルホン酸、3-メタクリロイルオキシプロ
パン-1-メチル-1-スルホン酸、アクリロイルオキメタン
-スルホン酸、4-アクリロイルオキシブタン-1-スルホン
酸、2-アクリロイルオキシエタン-1-スルホン酸、2-ア
クリルアミドプロパン-1-スルホン酸、2-メタクリルア
ミド-2-メチルプロパン-1-スルホン酸、3-メタクリルア
ミド-3-メチルブタン-1-スルホン酸またはそれらのアル
カリ金属塩、好ましくはNaまたはK、またはアンモニ
ウム塩であってよい。モノマー(b)は、マレイン酸、ア
クリル酸、2-ブテン酸であってよい。モノマー(c)は、
要すれば、本発明のポリマーの電気伝導性、水溶性およ
び架橋性に悪影響を与えないように選択すべきである。
モノマー(c)の例には、エチレン系モノマー(例えば、
イソプレン、1,3-ブタジエン、塩化ビニル、エチレン、
プロパン)、スチレン系モノマー(例えば、スチレン、
ビニルトルエン、α-メチル-スチレン、2-エチル-スチ
レン、1-ビニルナフタレン)、2-アルケン酸エステル
(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、α-エチルアク
リル酸、α-プロピルアクリル酸、2-ブテン酸のメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、およびヘキシルエステ
ル)、アクリルアミドモノマー(例えば、アクリルアミ
ド、N-メチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリ
ルアミド、N-ブチルアクリルアミド、N-クロロメチル
-アクリルアミド)および酢酸ビニルがある。
【0019】より好ましくは、成分(1)は、カルボキシ
ル基を含有するスチレンスルホン酸およびエチレン系不
飽和コモノマーのコポリマーである。最も好ましくは、
成分(1)は、重量平均分子量5,000〜50,000を有する(そ
れぞれ)モル比2:1〜4:1のスチレンスルホン酸ナト
リウムおよびマレイン酸のコポリマーである。その分子
量は、GPC(ゲル浸透クロマトグラフィー)測定によ
り決定される重量平均分子量(Mw)で表される。
ル基を含有するスチレンスルホン酸およびエチレン系不
飽和コモノマーのコポリマーである。最も好ましくは、
成分(1)は、重量平均分子量5,000〜50,000を有する(そ
れぞれ)モル比2:1〜4:1のスチレンスルホン酸ナト
リウムおよびマレイン酸のコポリマーである。その分子
量は、GPC(ゲル浸透クロマトグラフィー)測定によ
り決定される重量平均分子量(Mw)で表される。
【0020】成分(1)の例には、ポリ(スチレンスルホン
酸ナトリウム-マレイン酸)、ポリ(スチレンスルホン酸
ナトリウム-メタクリル酸)、ポリ(スチレンスルホン酸
ナトリウム-アクリル酸ブチル-メタクリル酸)、ポリ(ナ
トリウム-2-アクリルアミド-2-メチル-プロパンスルホ
ン酸-マレイン酸)等がある。これらの成分(1)は市販品
を購入しても、モノマーを当業者に公知のように共重合
することにより合成してもよい。
酸ナトリウム-マレイン酸)、ポリ(スチレンスルホン酸
ナトリウム-メタクリル酸)、ポリ(スチレンスルホン酸
ナトリウム-アクリル酸ブチル-メタクリル酸)、ポリ(ナ
トリウム-2-アクリルアミド-2-メチル-プロパンスルホ
ン酸-マレイン酸)等がある。これらの成分(1)は市販品
を購入しても、モノマーを当業者に公知のように共重合
することにより合成してもよい。
【0021】成分(2)なかでは、モノマー(a')は例え
ば、2-ビニル-2-オキサゾリン、2-ビニル-4-メチル-2-
オキサゾリン、2-ビニル-5-メチル-2-オキサゾリン、2-
イソプロペニル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-4-
メチル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-5-メチル-2
-オキサゾリンであってよい。1種のモノマーまたは2
種以上の異なるモノマーの組合せを用いてもよい。好ま
しいモノマーは、その工業有効性により2-イソプロペニ
ル-2-オキサゾリンである。コモノマー(b')は、それが2
-オキサゾリン基と反応する基を有さないような種類に
特に限定されず、かつ(b')はモノマー(a')を共重合し得
る。モノマー(b')の特定例には、アクリル酸、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、メタクリル酸、メチルメタクリレート等がある。ア
クリル酸の多価アルコール類またはフェノール類とのエ
ステルは、得られるコポリマーの水溶性を向上するのに
特に有用である。そのようなエステル類の例には、メト
キシポリエチレングリコールアクリレート、2-ヒドロキ
シエチルアクリレート、ポリエチレングリコールおよび
アクリル酸のモノエステルがある。モノマー(c')は要す
れば、本発明のポリマーの電気伝導性、水溶性および架
橋性に悪影響を与えないように選択すべきである。モノ
マー(c')の例には、エチレン系モノマー(例えば、イソ
プレン、1,3-ブタジエン、塩化ビニル、エチレン、プロ
パン)、スチレン系モノマー(例えば、スチレン、ビニ
ルトルエン、α-メチル-スチレン、2-エチル-スチレ
ン、1-ビニルナフタレン)、2-アルケン酸エステル(例
えば、アクリル酸、メタクリル酸、α-エチルアクリル
酸、α-プロピルアクリル酸、2-ブテン酸のメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、およびヘキシルエステル)、
アクリルアミドモノマー(例えば、アクリルアミド、N
-メチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミ
ド、N-ブチルアクリルアミド、N-クロロメチルアクリ
ルアミド)および酢酸ビニルがある。
ば、2-ビニル-2-オキサゾリン、2-ビニル-4-メチル-2-
オキサゾリン、2-ビニル-5-メチル-2-オキサゾリン、2-
イソプロペニル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-4-
メチル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-5-メチル-2
-オキサゾリンであってよい。1種のモノマーまたは2
種以上の異なるモノマーの組合せを用いてもよい。好ま
しいモノマーは、その工業有効性により2-イソプロペニ
ル-2-オキサゾリンである。コモノマー(b')は、それが2
-オキサゾリン基と反応する基を有さないような種類に
特に限定されず、かつ(b')はモノマー(a')を共重合し得
る。モノマー(b')の特定例には、アクリル酸、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、メタクリル酸、メチルメタクリレート等がある。ア
クリル酸の多価アルコール類またはフェノール類とのエ
ステルは、得られるコポリマーの水溶性を向上するのに
特に有用である。そのようなエステル類の例には、メト
キシポリエチレングリコールアクリレート、2-ヒドロキ
シエチルアクリレート、ポリエチレングリコールおよび
アクリル酸のモノエステルがある。モノマー(c')は要す
れば、本発明のポリマーの電気伝導性、水溶性および架
橋性に悪影響を与えないように選択すべきである。モノ
マー(c')の例には、エチレン系モノマー(例えば、イソ
プレン、1,3-ブタジエン、塩化ビニル、エチレン、プロ
パン)、スチレン系モノマー(例えば、スチレン、ビニ
ルトルエン、α-メチル-スチレン、2-エチル-スチレ
ン、1-ビニルナフタレン)、2-アルケン酸エステル(例
えば、アクリル酸、メタクリル酸、α-エチルアクリル
酸、α-プロピルアクリル酸、2-ブテン酸のメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、およびヘキシルエステル)、
アクリルアミドモノマー(例えば、アクリルアミド、N
-メチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミ
ド、N-ブチルアクリルアミド、N-クロロメチルアクリ
ルアミド)および酢酸ビニルがある。
【0022】成分(2)の例には、ポリ(2-イソプロペニル
-2-オキサゾリン-エチルアクリレート)、ポリ(2-イソプ
ロペニル-2-オキサゾリン-エチルアクリレート-メタク
リル酸)、ポリ(2-イソプロペニル-2-オキサゾリン-エチ
ルアクリレート)、ポリ(2-イソプロペニル-2-オキサゾ
リン-エチルアクリレート-メチルメタクリレート等)が
ある。より好ましくは、成分(2)は、2-アルキレン-2-オ
キサゾリンおよびアクリル酸またはメタクリル酸エステ
ルのコポリマーである。最も好ましくは、成分(2)は、2
-アルキレン-2-オキサゾリン、エチルアクリレートおよ
びメチルメタクリレートのコポリマーである。これらの
成分(2)は市販品を購入しても、モノマーを当業者に公
知のように共重合することにより合成してもよい。成分
(2)の特定の記載が、アリタ(Arita)等の米国特許第5,30
0,602号に開示されている。
-2-オキサゾリン-エチルアクリレート)、ポリ(2-イソプ
ロペニル-2-オキサゾリン-エチルアクリレート-メタク
リル酸)、ポリ(2-イソプロペニル-2-オキサゾリン-エチ
ルアクリレート)、ポリ(2-イソプロペニル-2-オキサゾ
リン-エチルアクリレート-メチルメタクリレート等)が
ある。より好ましくは、成分(2)は、2-アルキレン-2-オ
キサゾリンおよびアクリル酸またはメタクリル酸エステ
ルのコポリマーである。最も好ましくは、成分(2)は、2
-アルキレン-2-オキサゾリン、エチルアクリレートおよ
びメチルメタクリレートのコポリマーである。これらの
成分(2)は市販品を購入しても、モノマーを当業者に公
知のように共重合することにより合成してもよい。成分
(2)の特定の記載が、アリタ(Arita)等の米国特許第5,30
0,602号に開示されている。
【0023】そのポリマー基材上を被覆される前に、成
分(1)および(2)を水溶液に溶解する。その水性組成物中
の成分(1)および(2)の重量比は、50:1〜1:1、好まし
くは30:1〜1:1、より好ましくは10:1〜2:1の範囲
である。成分(1)および(2)を含有する水性被覆組成物
は、如何なる好適なポリマー写真用基材上に被覆されて
もよいが、好ましい基材は樹脂層または樹脂およびゼラ
チン層で下塗りされたポリエチレンテレフタレートまた
はポリエチレンナフタレートフィルムである。帯電防止
被膜は通常、最終乾燥重量を基礎とした被覆重量0.01〜
1g/m2で得られる。通常被覆重量が低いほど不適当な帯
電防止保護が得られ、通常被覆重量が高いほど透明性の
低い層が得られる。その被覆は常套の被覆技術、例えば
エアーナイフ被覆、クラビア被覆、ドクターロール被覆
により行ってもよい。また、本発明の帯電防止層は、成
分(1)および(2)の組合せの帯電防止性に悪影響を与えな
いその他の添加剤、例えば艶消剤、滑剤、表面活性剤、
染料および曇り低減剤を含有してもよい。バインダーの
存在は必要ないが、限定量(例えば、成分(1)の重量を
基礎として20重量%以下、好ましくは10重量%以下)の
バインダー、例えばゼラチンを成分(1)および(2)を含有
する被覆組成物に加えて、帯電防止層の被膜品質を改善
してもよい。
分(1)および(2)を水溶液に溶解する。その水性組成物中
の成分(1)および(2)の重量比は、50:1〜1:1、好まし
くは30:1〜1:1、より好ましくは10:1〜2:1の範囲
である。成分(1)および(2)を含有する水性被覆組成物
は、如何なる好適なポリマー写真用基材上に被覆されて
もよいが、好ましい基材は樹脂層または樹脂およびゼラ
チン層で下塗りされたポリエチレンテレフタレートまた
はポリエチレンナフタレートフィルムである。帯電防止
被膜は通常、最終乾燥重量を基礎とした被覆重量0.01〜
1g/m2で得られる。通常被覆重量が低いほど不適当な帯
電防止保護が得られ、通常被覆重量が高いほど透明性の
低い層が得られる。その被覆は常套の被覆技術、例えば
エアーナイフ被覆、クラビア被覆、ドクターロール被覆
により行ってもよい。また、本発明の帯電防止層は、成
分(1)および(2)の組合せの帯電防止性に悪影響を与えな
いその他の添加剤、例えば艶消剤、滑剤、表面活性剤、
染料および曇り低減剤を含有してもよい。バインダーの
存在は必要ないが、限定量(例えば、成分(1)の重量を
基礎として20重量%以下、好ましくは10重量%以下)の
バインダー、例えばゼラチンを成分(1)および(2)を含有
する被覆組成物に加えて、帯電防止層の被膜品質を改善
してもよい。
【0024】(1)および(2)の反応は、ポリマー基材上へ
の成分(1)および(2)の被覆および乾燥により行われる。
乾燥および/または成分の反応(硬化)を促進して永久
帯電防止層を形成するのに加熱を用いてもよい。好まし
い範囲は50〜160℃であるが、気温20〜200℃が乾燥−硬
化工程には有用である。最も好ましい範囲は50〜80℃で
ある。また、触媒を用いて反応速度を上昇してもよい。
の成分(1)および(2)の被覆および乾燥により行われる。
乾燥および/または成分の反応(硬化)を促進して永久
帯電防止層を形成するのに加熱を用いてもよい。好まし
い範囲は50〜160℃であるが、気温20〜200℃が乾燥−硬
化工程には有用である。最も好ましい範囲は50〜80℃で
ある。また、触媒を用いて反応速度を上昇してもよい。
【0025】(1)および(2)の反応生成物は、層内に3次
元結合を有する架橋生成物である。その架橋の助けによ
り永久帯電防止層を提供し、それは耐水性を有し、成分
(1)内の低分子量材料が帯電防止層から滲み出さないよ
うにする。架橋による帯電防止層の内部構造への絞り(t
ightening)作用によって、滲み出しを減じるか、または
その他の写真層および/または水性処理液内に排除す
る。本発明に有用な画像形成成分は、グラフィックアー
ト、プリント、医療および情報システムの分野の画像形
成用の公知の如何なる成分であってもよい。ハロゲン化
銀、光熱写真用、感光性ポリマー、ジアゾ、および小泡
性(vesicular)画像形成系を、好ましいハロゲン化銀系
と共に用いてもよい。
元結合を有する架橋生成物である。その架橋の助けによ
り永久帯電防止層を提供し、それは耐水性を有し、成分
(1)内の低分子量材料が帯電防止層から滲み出さないよ
うにする。架橋による帯電防止層の内部構造への絞り(t
ightening)作用によって、滲み出しを減じるか、または
その他の写真層および/または水性処理液内に排除す
る。本発明に有用な画像形成成分は、グラフィックアー
ト、プリント、医療および情報システムの分野の画像形
成用の公知の如何なる成分であってもよい。ハロゲン化
銀、光熱写真用、感光性ポリマー、ジアゾ、および小泡
性(vesicular)画像形成系を、好ましいハロゲン化銀系
と共に用いてもよい。
【0026】本発明の典型的画像形成成分構造には、 1.片面に帯電防止層を有し、その裏面に感光性の層ま
たは複数層、好ましくは感光性ハロゲン化銀エマルジョ
ン層または複数層を有するフィルム基材(この構造中に
は、帯電防止層上に補助層が存在してもしなくてもよ
い。補助層の例には、ゼラチン保護層支持体およびゼラ
チン帯電防止層支持体を含む。); 2.片面に帯電防止層を有し、その帯電防止層上に、帯
電防止層と同一面に接着した少なくとも1層の感光性層
を有するフィルム基材; 3.ポリマー基材の両面に帯電防止層を有し、その帯電
防止層上に、フィルム基材の片面または両面に少なくと
も1層の感光性層を有するフィルム基材;を含む。
たは複数層、好ましくは感光性ハロゲン化銀エマルジョ
ン層または複数層を有するフィルム基材(この構造中に
は、帯電防止層上に補助層が存在してもしなくてもよ
い。補助層の例には、ゼラチン保護層支持体およびゼラ
チン帯電防止層支持体を含む。); 2.片面に帯電防止層を有し、その帯電防止層上に、帯
電防止層と同一面に接着した少なくとも1層の感光性層
を有するフィルム基材; 3.ポリマー基材の両面に帯電防止層を有し、その帯電
防止層上に、フィルム基材の片面または両面に少なくと
も1層の感光性層を有するフィルム基材;を含む。
【0027】本発明に適用可能なハロゲン化銀写真成分
には、白黒写真およびカラー写真成分を含む。
には、白黒写真およびカラー写真成分を含む。
【0028】本発明に用いられるハロゲン化銀は、塩化
銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化臭化銀、塩化ヨウ化銀、臭
化ヨウ化銀および塩化ヨウ化臭化銀のいずれであっても
よい。
銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化臭化銀、塩化ヨウ化銀、臭
化ヨウ化銀および塩化ヨウ化臭化銀のいずれであっても
よい。
【0029】写真成分中のハロゲン化銀粒子は、エピタ
キシャル生長、または球状または不規則結晶構造を有す
るまたは有さない等軸晶構造、例えば立方晶、八面体
晶、および四面体晶を有する等軸粒子、または結晶欠
陥、例えば双晶面を有する粒子、または平板状粒子、ま
たはそれらの組合せまたは混合物であってもよい。
キシャル生長、または球状または不規則結晶構造を有す
るまたは有さない等軸晶構造、例えば立方晶、八面体
晶、および四面体晶を有する等軸粒子、または結晶欠
陥、例えば双晶面を有する粒子、または平板状粒子、ま
たはそれらの組合せまたは混合物であってもよい。
【0030】写真成分に用いられるバインダーまたは保
護コロイドとして、ゼラチンが便利に用いられるが、そ
の他の親水性コロイド、例えばゼラチン代用品、コロジ
オン、アラビアゴム、セルロースエステル誘導体、例え
ばカルボキシレート化セルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロースのアルキルエス
テル、合成樹脂、例えば米国特許第2,949,442号に開示
の両性コポリマー、ポリビニルアルコール、および当業
者に公知のその他のものを用いてもよい。
護コロイドとして、ゼラチンが便利に用いられるが、そ
の他の親水性コロイド、例えばゼラチン代用品、コロジ
オン、アラビアゴム、セルロースエステル誘導体、例え
ばカルボキシレート化セルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロースのアルキルエス
テル、合成樹脂、例えば米国特許第2,949,442号に開示
の両性コポリマー、ポリビニルアルコール、および当業
者に公知のその他のものを用いてもよい。
【0031】本発明の帯電防止層に用いる写真成分は放
射線感応性ハロゲン化銀エマルジョン層、即ち可視光線
または赤外線感応性ハロゲン化銀エマルジョンを有す
る。そのハロゲン化銀エマルジョンは要すれば、通常所
望の感光度特性を得るのに用いられる分光増感剤により
増感されてもよい。
射線感応性ハロゲン化銀エマルジョン層、即ち可視光線
または赤外線感応性ハロゲン化銀エマルジョンを有す
る。そのハロゲン化銀エマルジョンは要すれば、通常所
望の感光度特性を得るのに用いられる分光増感剤により
増感されてもよい。
【0032】そのような成分の製造方法、それらを放射
線に対して増感する手段、添加剤、例えば化学増感剤、
かぶり防止剤および安定剤、減感剤、増白剤、カプラ
ー、硬膜剤、被覆助剤、可塑剤、滑剤、艶消剤、高沸点
有機溶剤、現像促進化合物、帯電防止剤、ステイン防止
剤等の使用が例えば、リサーチ・ディスクロージャー(Re
search Disclosure)176巻、17643項、1979年12月、第I
〜XIV章に開示されている。
線に対して増感する手段、添加剤、例えば化学増感剤、
かぶり防止剤および安定剤、減感剤、増白剤、カプラ
ー、硬膜剤、被覆助剤、可塑剤、滑剤、艶消剤、高沸点
有機溶剤、現像促進化合物、帯電防止剤、ステイン防止
剤等の使用が例えば、リサーチ・ディスクロージャー(Re
search Disclosure)176巻、17643項、1979年12月、第I
〜XIV章に開示されている。
【0033】以下の実施例は、更に発明を説明し、その
技術分野では通常の使用される方法および測定から得ら
れるいくつかの実験データを報告する。表面抵抗測定は
以下の方法(各フィルム試料を21℃および25%R.H.の容
器内で24時間保持して、電気抵抗をヒューレット-パッ
カード・ハイ・レジスタンス・メーター(Hewlett-PackardH
igh Resistance Meter)4329A型により測定する)により
行われる。また、以下の実施例は4種の接着性値を報告
し:第1は乾燥接着性値であり、写真処理前のハロゲン
化銀エマルジョン層および補助ゼラチン層の帯電防止支
持体への接着性を表し;第2および第3接着性値は湿潤
接着性値であり、写真処理(現像剤および定着剤)中の
上記層の帯電防止支持体への接着性を表し;第4接着性
値は乾燥接着性値であり、写真処理後の上記層の帯電防
止支持体への接着性を表す。特に乾燥接着性は、フィル
ム試料を引裂き、そのフィルムの裂け線に沿って3Mス
コッチ(ScotchTM)ブランド5959プレッシャー・センシテ
ィブ・テープ(Pressure Sensitive Tape)を貼付し、急に
そのテープをフィルムから剥がすことにより測定され;
層の接着性を学術的(scholastic)方法に従って評価し、
それにより全層が基材から剥離する場合に値2で表し、
基材から剥離する部分がない場合に値10で表し、中間の
場合を中間値で表した。湿潤接着性は、処理浴から取り
出してすぐのフィルム上に鉛筆芯を用いていくつかの線
をひいて星印を描くことにより、およびその線を指で擦
ることにより測定した。また、この場合、層の接着性は
学術的方法に従って、層が全体的に基材から剥離された
場合に値2で表し、剥離する部分がない場合に値10で表
し、中間の場合を中間値で表した。
技術分野では通常の使用される方法および測定から得ら
れるいくつかの実験データを報告する。表面抵抗測定は
以下の方法(各フィルム試料を21℃および25%R.H.の容
器内で24時間保持して、電気抵抗をヒューレット-パッ
カード・ハイ・レジスタンス・メーター(Hewlett-PackardH
igh Resistance Meter)4329A型により測定する)により
行われる。また、以下の実施例は4種の接着性値を報告
し:第1は乾燥接着性値であり、写真処理前のハロゲン
化銀エマルジョン層および補助ゼラチン層の帯電防止支
持体への接着性を表し;第2および第3接着性値は湿潤
接着性値であり、写真処理(現像剤および定着剤)中の
上記層の帯電防止支持体への接着性を表し;第4接着性
値は乾燥接着性値であり、写真処理後の上記層の帯電防
止支持体への接着性を表す。特に乾燥接着性は、フィル
ム試料を引裂き、そのフィルムの裂け線に沿って3Mス
コッチ(ScotchTM)ブランド5959プレッシャー・センシテ
ィブ・テープ(Pressure Sensitive Tape)を貼付し、急に
そのテープをフィルムから剥がすことにより測定され;
層の接着性を学術的(scholastic)方法に従って評価し、
それにより全層が基材から剥離する場合に値2で表し、
基材から剥離する部分がない場合に値10で表し、中間の
場合を中間値で表した。湿潤接着性は、処理浴から取り
出してすぐのフィルム上に鉛筆芯を用いていくつかの線
をひいて星印を描くことにより、およびその線を指で擦
ることにより測定した。また、この場合、層の接着性は
学術的方法に従って、層が全体的に基材から剥離された
場合に値2で表し、剥離する部分がない場合に値10で表
し、中間の場合を中間値で表した。
【0034】
(実施例1)以下の下塗組成物を調製し、2本ロール被
覆技術により両面をポリ(塩化ビニリデン-エチルアクリ
レート-イタコン酸)を用いて樹脂下塗りしたポリエチレ
ンテレフタレート青色フィルム基材(PET)上に被覆し、
続いて60℃5分間垂直に乾燥した。以下の表1に示した
成分量はグラムで表した。
覆技術により両面をポリ(塩化ビニリデン-エチルアクリ
レート-イタコン酸)を用いて樹脂下塗りしたポリエチレ
ンテレフタレート青色フィルム基材(PET)上に被覆し、
続いて60℃5分間垂直に乾燥した。以下の表1に示した
成分量はグラムで表した。
【表1】 SSMA :スチレンスルホン酸ナトリウム-マレイン酸(3:
1モル比)コポリマー(Mw=16,700) IPO :2-イソプロペニル-2-オキサゾリン-エチルアクリ
レート-メチルメタクリレートターポリマー EGDGE:エチレングリコール-ジグリシジルエーテルコポ
リマー50重量% FC-127TM:3M社製のフルオロ表面活性剤の商品名 AZIRIDINE:ペンタエリトリトール-トリ-{β-(N-アジ
リジニル)プロピオネート}
1モル比)コポリマー(Mw=16,700) IPO :2-イソプロペニル-2-オキサゾリン-エチルアクリ
レート-メチルメタクリレートターポリマー EGDGE:エチレングリコール-ジグリシジルエーテルコポ
リマー50重量% FC-127TM:3M社製のフルオロ表面活性剤の商品名 AZIRIDINE:ペンタエリトリトール-トリ-{β-(N-アジ
リジニル)プロピオネート}
【0035】(実施例2)シアニン染料を用いて緑色光
に対して光学的に増感し、p-トルエンチオスルホン酸ナ
トリウム、p-トルエンスルフィン酸ナトリウムおよびベ
ンゾチアゾールヨードエチレートで化学増感した(平均
直径:厚さの比約6.5:1を有する)平板状粒子臭化銀エ
マルジョンを実施例1のフィルム基材1〜4の両面に面
毎に銀被覆面積2.2g/m2およびゼラチン被覆面積1.6g/m2
で被覆した。面毎にゼラチン1.1g/m 2を含む非脱イオン
ゼラチン保護スーパーコート(supercoat)を各被膜に適
用した(フィルムA〜D)。シート状のフィルムA〜D
を、一対のT8 3Mトリマチック(TrimaticTM)スクリー
ンを用いて75KvのX線照射により露光し、35℃で27秒間
現像し、硬膜剤を含有しない定着液を用いて30℃で27秒
間定着し、35℃で22秒間水洗し、35℃で22秒間乾燥する
ことによって、3Mトリマチック(TrimaticTM)XP515自
動処理装置により処理した。フィルムA〜Dの帯電防止
性および接着性評価を以下の表2にまとめて示した。前
記フィルムの処理に用いたすぐに使用できる現像および
定着浴組成物を、以下の表3および表4に示した。
に対して光学的に増感し、p-トルエンチオスルホン酸ナ
トリウム、p-トルエンスルフィン酸ナトリウムおよびベ
ンゾチアゾールヨードエチレートで化学増感した(平均
直径:厚さの比約6.5:1を有する)平板状粒子臭化銀エ
マルジョンを実施例1のフィルム基材1〜4の両面に面
毎に銀被覆面積2.2g/m2およびゼラチン被覆面積1.6g/m2
で被覆した。面毎にゼラチン1.1g/m 2を含む非脱イオン
ゼラチン保護スーパーコート(supercoat)を各被膜に適
用した(フィルムA〜D)。シート状のフィルムA〜D
を、一対のT8 3Mトリマチック(TrimaticTM)スクリー
ンを用いて75KvのX線照射により露光し、35℃で27秒間
現像し、硬膜剤を含有しない定着液を用いて30℃で27秒
間定着し、35℃で22秒間水洗し、35℃で22秒間乾燥する
ことによって、3Mトリマチック(TrimaticTM)XP515自
動処理装置により処理した。フィルムA〜Dの帯電防止
性および接着性評価を以下の表2にまとめて示した。前
記フィルムの処理に用いたすぐに使用できる現像および
定着浴組成物を、以下の表3および表4に示した。
【表2】
【0036】
【表3】表3 現像液 水 700 g Na2S2O5 40 g KOH 35%(w/w) 107 g K2CO3 13.25 g CH3COOH 7.5 g エチレングリコール 10 g ジエチレングリコール 5 g EDTA.4Na 1.5 g BUDEX 5103.2Na 40%(w/w) 7.5 g 硼酸 1.7 g 5-メチル-ベンゾトリアゾール 0.08 g 5-ニトロ-インダゾール 0.107g ヒドロキノン 20 g フェニドン 1.45 g 臭化ナトリウム 5 g 水を加えて1リットルとする20℃でのpH 10.35
【0037】
【表4】表4 定着液 (NH4)2S2O3 60%(w/w) 242 g Na2SO3 8.12g NH4OH 25%(w/w) 15 g CH3COOH 20 g KI 0.05g 水を加えて1リットルとする20℃でのpH 5.0/5.2
【0038】(実施例3)実施例2の同様のフィルムA
〜Dを異なる温度で異なる時間状態調整して、それらの
エージング安定性を評価した。4種のフィルムの状態調
整後、実施例2に記載のように露光し、現像した。以下
の表5には、かぶり(Dmin)の結果をまとめて示した。
〜Dを異なる温度で異なる時間状態調整して、それらの
エージング安定性を評価した。4種のフィルムの状態調
整後、実施例2に記載のように露光し、現像した。以下
の表5には、かぶり(Dmin)の結果をまとめて示した。
【表5】
【0039】表5のデータにより、特に高負荷エージン
グ条件下での、本発明のフィルムAおよびBの改善され
た安定性を示した。
グ条件下での、本発明のフィルムAおよびBの改善され
た安定性を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レンゾ・トルテローロ イタリア、イ−17016フェラーニア(サヴ ォーナ)(番地の表示なし) スリーエ ム・イタリア・リチェルシェ・ソシエタ・ ペル・アチオニ内 (72)発明者 ジョルジオ・スパッツァパン イタリア、イ−17016フェラーニア(サヴ ォーナ)(番地の表示なし) スリーエ ム・イタリア・リチェルシェ・ソシエタ・ ペル・アチオニ内 (72)発明者 スーンクン・エス・カン アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター(番 地の表示なし)
Claims (10)
- 【請求項1】 少なくとも片面に帯電防止層を被覆した
ポリマーフィルム基材を含む帯電防止フィルム基材であ
って、該帯電防止層が(1)カルボキシル基を含有する水
溶性、電気伝導性ポリマーおよび(2)オキサゾリン基を
含有する水溶性ポリマーの反応生成物を含むことを特徴
とする帯電防止フィルム基材。 - 【請求項2】 該ポリマー(1)が: (a)-SO3M置換エチレン系不飽和モノマー(式中、M
はH+、NH4 +、金属カチオンまたはN(R)4 +(式中、R
は炭素原子1〜4個を有するアルキル基である)であ
る)、および(b)(a):(b)のモル比が1:1〜5:1で
あるカルボキシル基を含有するエチレン系不飽和コモノ
マー、および要すれば(c)遊離カルボキシル基を含有し
ないその他のエチレン系不飽和モノマーから成る請求項
1記載のポリマーフィルム基材。 - 【請求項3】 該ポリマー(2)が: (a')2-オキサゾリン置換エチレン系不飽和モノマー、お
よび(b')アクリルおよびメタクリル誘導コモノマー、お
よび要すれば(c')エチレン系不飽和コモノマーから成る
請求項1記載のポリマーフィルム基材。 - 【請求項4】 該帯電防止層が被覆重量0.01〜1g/m2を
有する請求項1記載のフィルム基材。 - 【請求項5】 成分(1)および(2)の重量比が50:1〜
1:1の範囲である請求項1記載のフィルム基材。 - 【請求項6】 ポリマーフィルム基材の少なくとも片面
に帯電防止層を被覆したポリマーフィルム基材を被覆し
たハロゲン化銀エマルジョン層を含む写真フィルムであ
って、該帯電防止層が(1)カルボキシル基を含有する水
溶性、電気伝導性ポリマーおよび(2)オキサゾリン基を
含有する水溶性ポリマーの反応生成物を含むことを特徴
とする写真フィルム。 - 【請求項7】 該ポリマー(1)が: (a)-SO3M置換エチレン系不飽和モノマー(式中、M
はH+、NH4 +、金属カチオンまたはN(R)4 +(式中、R
は炭素原子1〜4個を有するアルキル基である)であ
る)、および(b)(a):(b)のモル比が1:1〜5:1で
あるカルボキシル基を含有するエチレン系不飽和コモノ
マー、および要すれば(c)遊離カルボキシル基を含有し
ないその他のエチレン系不飽和モノマーから成る請求項
6記載の写真フィルム。 - 【請求項8】 該ポリマー(2)が: (a')2-オキサゾリン置換エチレン系不飽和モノマー、お
よび(b')アクリルおよびメタクリル誘導コモノマー、お
よび要すれば(c')エチレン系不飽和コモノマーから成る
請求項6記載の写真フィルム。 - 【請求項9】 該帯電防止層が被覆重量0.01〜1g/m2を
有する請求項6記載の写真成分。 - 【請求項10】 成分(1)および(2)の重量比が50:1〜
1:1の範囲である請求項6記載の写真成分。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT95100346-6 | 1995-01-12 | ||
EP95100346A EP0722116A1 (en) | 1995-01-12 | 1995-01-12 | Antistatic film bases and photographic elements comprising said antistatic film bases |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08230091A true JPH08230091A (ja) | 1996-09-10 |
Family
ID=8218899
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8002939A Pending JPH08230091A (ja) | 1995-01-12 | 1996-01-11 | 帯電防止フィルム基材およびその帯電防止フィルム基材を含む写真成分 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5604083A (ja) |
EP (1) | EP0722116A1 (ja) |
JP (1) | JPH08230091A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6316175B1 (en) * | 1999-02-22 | 2001-11-13 | Agfa-Gevaert | Light-sensitive silver halide radiographic film material having satisfactory antistatic properties during handling |
TW200420633A (en) * | 2003-03-25 | 2004-10-16 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | Antistatic layered polyester film |
US7041365B2 (en) * | 2003-05-12 | 2006-05-09 | 3M Innovative Properties Company | Static dissipative optical construction |
MX2015007841A (es) * | 2012-12-17 | 2016-03-04 | Basf Se | Sistemas de filtración y membranas con flujo intensificado y método para su preparación. |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1261261B (de) * | 1966-09-23 | 1968-02-15 | Huels Chemische Werke Ag | Waermehaertbare UEberzugsmittel |
DE2439551C2 (de) * | 1974-08-17 | 1985-11-21 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Härtung photographischer Schichten |
US4225665A (en) * | 1978-12-20 | 1980-09-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photographic element in which the antistatic layer is interlinked in the base |
US4474923A (en) * | 1983-06-14 | 1984-10-02 | The Dow Chemical Company | Self-curable latex compositions |
DE3663369D1 (en) * | 1985-01-16 | 1989-06-22 | Du Pont | Improved two-layer process for applying antistatic compositions to polyester supports |
US4585730A (en) * | 1985-01-16 | 1986-04-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Antistatic backing layer with auxiliary layer for a silver halide element |
IT1251742B (it) * | 1990-11-22 | 1995-05-23 | Minnesota Mining & Mfg | Supporti antistatici ed elementi fotografici comprendenti detti supporti antistatici. |
JP3191978B2 (ja) * | 1992-04-22 | 2001-07-23 | 株式会社日本触媒 | 水性樹脂組成物 |
US5300602A (en) * | 1992-03-30 | 1994-04-05 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for producing water-soluble polymer and water-soluble polymer |
US5457081A (en) * | 1992-05-15 | 1995-10-10 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Thermal transfer image receiving sheet |
IT1255402B (it) * | 1992-07-02 | 1995-10-31 | Struttura radiografica con ridotto cross-over a guisa di immagine e trattabilita' rapidissima | |
IT1255378B (it) * | 1992-09-25 | 1995-10-31 | Alberto Valsecchi | Supporti antistatici e elementi fotografici comprendenti detti supporti antistatici |
US5294662A (en) * | 1993-04-15 | 1994-03-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aqueous fluorochemical compositions and coatings therefrom |
EP0631178A1 (en) * | 1993-06-22 | 1994-12-28 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Permanent antistatic coating composition |
-
1995
- 1995-01-12 EP EP95100346A patent/EP0722116A1/en not_active Withdrawn
- 1995-12-05 US US08/568,732 patent/US5604083A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-01-11 JP JP8002939A patent/JPH08230091A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5604083A (en) | 1997-02-18 |
EP0722116A1 (en) | 1996-07-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5709985A (en) | Photographic element comprising antistatic layer | |
JPH1124205A (ja) | 架橋した弾性艶消ビーズを含む画像形成要素用の裏打ち層 | |
US4168166A (en) | Photographic processing composition comprising borate | |
JPH08230091A (ja) | 帯電防止フィルム基材およびその帯電防止フィルム基材を含む写真成分 | |
US5126405A (en) | Cross-linked conductive polymers and antistat coatings employing the same | |
US5484693A (en) | Photographic elements comprising antistatic film bases | |
JPH07159929A (ja) | 改良された帯電防止特性を有するハロゲン化銀写真材料 | |
JPH08319361A (ja) | 帯電防止フィルム基材およびその帯電防止フィルム基材を含む写真成分 | |
JPH04274233A (ja) | 帯電防止フィルムベースおよび該帯電防止フィルムベースからなる写真材料 | |
JPH0225843A (ja) | 高コントラスト写真記録材料 | |
EP0191491A2 (en) | Silver halide photographic material | |
US3549375A (en) | Antistatic photographic film | |
US2976147A (en) | Photographic stripping film | |
GB2183353A (en) | A silver salt diffusion transfer photographic element | |
JPS62173459A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
US3533793A (en) | Process for preparing photographic elements | |
JP3204794B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0120734B2 (ja) | ||
JPS5843729B2 (ja) | ハロゲンカギンシヤシンカンコウザイリヨウノ タイデンボウシホウホウ | |
JPH095967A (ja) | 色素転染用ブランクおよびマトリックスフィルム並びにその露光方法 | |
US5238706A (en) | Antistatic film bases and their process of manufacturing | |
JP3296856B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH01210947A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS63223639A (ja) | 帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH03263034A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 |