JPH0560460B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ジメチルシアナミドの製法に関し、
より詳しくは、エポキシ樹脂用硬化剤、エツチン
グ剤、ポリウレタン樹脂用原料、医薬用中間原料
等として多くの用途が近年期待されている1,
1,3,3−テトラメチルグアニジン製造のため
の中間体等として有用なジメチルシアナミドの製
法に関する。更に詳しくは、ジメチルアミンと青
酸ソーダ(若しくは青酸カリ)とを塩素の存在下
に特定温度及びPH条件下の水溶液中で反応させる
ことを特徴とするジメチルシアナミドの製法に関
する。 〔従来の技術〕 従来、ジメチルシアナミドを実質的に経由する
テトラメチルグアニジンの製法がいくつか知られ
ている。 先ず、特公昭49−48932号公報には、最低2当
量のジメチルアミンを水と非混和性の溶媒中で塩
化シアンと混合し、得られた混合物を反応が終了
するまで加圧下にて130〜180℃の温度に加熱し、
随時1,1,3,3−テトラメチルグアニジンを
塩基との反応によつてその塩酸塩から分離するこ
とを特徴とする1,1,3,3−テトラメチルグ
アニジンまたはその塩酸塩の製造方法 に関して開示されており、該公報の中にはジメチ
ルアミンと塩化シアンの反応によりジメチルシア
ナミドが生成することが記載されている。 しかし、上記提案に於けるジメチルアミンと塩
化シアンの反応は、水と非混和性の溶媒、例えば
ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、シクロヘ
キサンまたは沸点範囲60〜120℃にあるパラフイ
ン系炭化水素等の有機溶媒中で行われることか
ら、作業環境の管理の問題や、反応後の有機溶媒
の回収の問題、更には反応完結に比較的高温を必
要とするため加圧下に反応が行なわれるので、反
応装置上の制約が大きい等多くの問題を有し、こ
のため工業的に広く採用されるに至らなかつた。 本発明の出願人は、上記問題点を改善し工業的
に好適な1,1,3,3−テトラメチルグアニジ
ンの製法につき研究を行ない、先に特許出願を行
なつた(特開昭55−133352号)。 上記の特許出願は、 ハロゲン化シアンとジメチルアミンを溶媒の存
在下で反応させて1,1,3,3−テトラメチル
グアニジン塩を製造する方法において、反応溶媒
に水系溶媒を用いることを特徴とする1,1,
3,3−テトラメチルグアニジン塩の製法 に関するものである。 しかし、上記第2の提案でも、危険性の高いハ
ロゲン化シアンを原料とするため作業・環境衛生
上、排気及び排水処理面等の設備コストが高くな
るという問題がある。 本発明者等は、引き続き該第2の提案の斯る問
題点の改善について鋭意研究を進めた結果、ジメ
チルアミンと青酸ソーダ(若しくは青酸カリ)と
を塩素の存在下に特定温度及びPH条件下の水溶液
中で反応させることにより一挙に高収率で高純度
のジメチルシアナミドが得られるという意外な発
見を行ない本発明を完成した。従来、青酸ソーダ
とハロゲンが水溶液中で反応して定量的にハロゲ
ン化シアンを生成することは公知であるが、同時
に、該ハロゲン化シアンが高PH領域で水酸イオン
により急速にシアン酸イオンに転化する反応及び
ハロゲン化シアンと青酸ソーダ(若しくは青酸カ
リ)との水系反応により急速にポリシアナイドを
生成する反応も知られており、斯るハロゲン化シ
アンの副反応を防ぐために非水溶媒中で行なうの
が一般的であつた。上記の公知事実にもかゝわら
ず、ジメチルアミンと青酸ソーダ(若しくは青酸
カリ)とを塩素の存在下に特定温度及び特定PH条
件下の水溶液中で反応させ、青酸ソーダ(若しく
は青酸カリ)に対して例えば約80%以上好ましく
は約90%以上の高収率、例えば約90重量%以上好
ましくは約95重量%以上の高純度で一挙にジメチ
ルシアナミドを得ることができるということは、
全く予想外のことであつた。 〔発明の目的〕 即ち、本発明の目的は、1,1,3,3−テト
ラメチルグアニジンの中間体等として有用な高純
度のジメチルシアナミドを、作業上、環境衛生上
安全に工業的に製造する方法を提供することにあ
る。 本発明の方法によれば、危険性の高い塩化シア
ンの単離が省略できるので、塩化シアン発生塔及
びこれに付随する排気、排液処理設備を必要とし
ないという利点がある。 また、本発明により得られたジメチルシアナミ
ド水溶液は、ほとんどそのまま、1,1,3,3
−テトラメチルグアニジンの製造に利用し得ると
いう長所もある。 〔発明の構成〕 本発明は、ジメチルアミンと青酸ソーダ(若し
くは青酸カリ)とを塩素の存在下に0〜50℃、PH
7〜11の水溶液中で反応させることを特徴とする
ジメチルシアナミドの製法である。 上記ジメチルアミンの使用量は、青酸ソーダ
(若しくは青酸カリ)1モルに対して約1.5〜約3
モル用いるのが好ましく、約2〜約2.5モル用い
るのが特に好ましい。但し、上記ジメチルアミン
の使用量の中、約半量(モル数)を苛性ソーダ等
の強アルカリで置き換えることも可能である。し
かし、得られるジメチルシアナミドの収率の観点
から、また該ジメチルシアナミドを含む反応液を
そのまゝ該テトラメチルグアニジン等の製造に使
用し得るという利点から、該ジメチルアミンの使
用量は青酸ソーダ(若しくは青酸カリ)1モルに
対し約2モル未満とならないようにするのが好ま
しい。 上記ジメチルアミンの導入方法は特に制限され
るものではないが、例えば青酸ソーダ(若しくは
青酸カリ)とともに、添加用混合水溶液となし、
該混合水溶液を反応系水溶液中に導入するのが良
い。青酸ガスの発生を抑えるため、上記混合水溶
液のPHは、7未満にならないように調節するのが
好ましい。 なお、前記添加用混合水溶液中には、必要に応
じて水溶性の有機溶媒を併用することができ、該
有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルア
ルコール、プロピルアルコール(n−、iso−)、
tert.ブチルアルコール等の炭素原子数1〜4の脂
肪族一価アルコール類:フルフリルアルコール等
のその他の一価アルコール類;エチレングリコー
ル、プロピレングリコール(1,2−,1,3
−)、グリセリン等の炭素原子数1〜4の脂肪族
多価アルコール類;室温で液状のポリエチレング
リコール;エチレングリコ−ルモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル等のエチレ
ングリコールと炭素原子数1〜4の脂肪族一価ア
ルコールとのモノエーテル化物;ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル等のジエチレングリコールと炭素原子数1〜
4の脂肪族一価アルコールとのモノまたはジエー
テル化物;1−グリセリンモノメチルエーテル等
のグリセリンと炭素原子数1〜4の脂肪族一価ア
ルコールとのモノエーテル化物;ジオキサン
(1,3−、1,4−)、テトラヒドロフラン等の
環状エーテル化合物;等を挙げることができる。
上記の有機溶媒はそれぞれ単独で又は2種以上混
合して用いることができる。 塩素を存在させる方法としては、例えば前記反
応槽中に塩素ガスを直接導入する方法を挙げるこ
とができる。この場合、上記塩素ガスを単独で反
応系水溶液中に直接吹き込むこともでき、また、
該塩素ガスを空気、窒素等により適宜希釈して導
入することもできる。塩素の使用量は、青酸ソー
ダ(若しくは青酸カリ)1モルに対して0.8〜2.0
モル用いるのが好ましく、1.0〜1.5モル用いるの
が特に好ましい。 本発明の反応は下記の反応式で表わすことがで
きる。 Baseとして、ジメチルアミンを用いる場合に
は、 となる。 上記反応時の反応系水溶液のPHは、7〜11であ
る。PH7未満では、青酸が発生する場合があり、
PH11を超えると副反応による反応溶液の着色が起
こりがちであり、いずれの場合も得られるジメチ
ルシアナミドの収率が低下する傾向にあり好まし
くない。上記PH条件は、好ましくは7〜10、特に
好ましくは8〜10である。 前記添加用混合水溶液及び/又は塩素の導入
は、前記反応系水溶液のPH条件を逸脱しないよう
に加減しながら行なう。上記の加減する方法とし
て、PHメータに直結した添加量制御装置を用いる
のが好ましい。 前記せる本発明の反応温度は、0〜50℃であ
る。上記反応温度が0℃以下では、反応速度が低
下する傾向にあり、また該反応温度が50℃を超え
ると副反応による反応溶液の着色が起こりがちで
あり、いずれの場合も得られるジメチルシアナミ
ドの収率が低下する傾向にあり好ましくない。上
記反応温度は、好ましくは10〜40℃、特に好まし
くは15〜35℃である。 本発明のジメチルシアナミドを含む反応生成物
の水溶液は、該ジメチルシアナミドを単離するこ
となくそのまゝテトラメチルグアニジンの製造に
用いることができる。 ジメチルシアナミドを単離する場合には、例え
ば反応終了後の溶液を(水溶性有機溶媒を使用す
る場合には、該水溶性有機溶媒を減圧蒸留等によ
り除去してから)、非水溶性の有機溶媒を用いて
抽出する方法等が採用できる。上記非水溶性の有
機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、
クロロホルム、トリクロロエチレン、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素及びハロゲン化炭素;石
油エーテル、石油ベンジン等の石油系溶媒;ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエー
テル類;酢酸エチル等のエステル類;メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン
類;等が挙げられ、それぞれ単独又は2種以上混
合して用いることができる。 なお、前記ジメチルシアナミド抽出後の水溶液
及び前記テトラメチルグアニジン製造の場合の排
液は、例えば苛性ソーダ等によりPH約10以上に保
持しながら塩素ガスと接触させることにより、微
量残存する可能性のある青酸イオンを容易に且つ
完全に分解し、無毒化することができる。 〔本発明の効果〕 かくして本発明によれば、ジメチルアミンと青
酸ソーダ(若しくは青酸カリ)とを塩素の存在下
に水溶液中で反応させることにより、工業的に極
めて容易に且つ安全に高純度のジメチルシアナミ
ドを製造することができ、該ジメチルシアナミド
を含む反応溶液は必要に応じてそのまゝテトラメ
チルグアニジンの製造に使用することができる。 〔実施例〕 以下、実施例及び比較例により本発明を更に具
体的に説明する。 実施例 1 攪拌機、温度計、PHメータ、液体導入管及びガ
ス導入管を付けた反応槽に約30mlの脱イオン水を
入れておき、一方、約80mlの脱イオン水に約50重
量%ジメチルアミン水溶液約198g(約2.2モル)
を加えた後約96重量%青酸ソーダ約51g(約1モ
ル)を攪拌溶解した添加用混合水溶液を作成し、
反応系水溶液を攪拌しながら該混合水溶液を液体
導入管より約2時間半かけて反応系中に逐次添加
した。同時に、反応系水溶液のPHが平均約8.5で
あり、且つ該PHが約8〜約9の範囲内を逸脱しな
い様にPHメーターに直結した制御装置を用いて制
御しながらガス導入管より塩素ガスを導入した。
塩素ガスの導入合計量は、約24.6Nl(約1.1モル)
である。なお反応槽は、反応液の温度が約30℃を
保持するように温度調整した。 反応終了後、反応液を合計約500mlのトリクロ
ロエチレンを用いて抽出し、抽出液を減圧蒸留し
てほゞ無色透明のジメチルシアナミドを得た。該
ジメチルシアナミドの沸点は36mmHg減圧下で70
〜72℃であり、青酸ソーダに基ずく収率は98.8
%、またガスクロマトグラフイー法(以下GC法
と略称する)による純度は99.5重量%であつた。 実施例 2〜4 実施例1と同様の反応槽を用い、また反応系水
溶液のPH/温度がそれぞれ約9.5/約20℃、約
9.5/約30℃、約85/約20℃を保持するように留
意しながら添加用混合水溶液及び塩素ガスを逐次
添加する以外は実施例1と同様にジメチルシアナ
ミドの合成を行なつた。青酸ソーダに基ずく収率
及びGC法による純度は第1表に示す。 比較例 1〜2 実施例1と同様の反応槽を用い、また反応系水
溶液のPH/温度がそれぞれ約9.5/約60℃、約
12/約20℃を保持するように添加混合水溶液及び
塩素ガスを逐次添加する以外は実施例1と同様に
ジメチルシアナミドの合成を行なつた。得られた
反応液は濃褐色に着色していた。なお、青酸ソー
ダに基ずく収率及びGC法による純度は第1表に
示す。 【表】
より詳しくは、エポキシ樹脂用硬化剤、エツチン
グ剤、ポリウレタン樹脂用原料、医薬用中間原料
等として多くの用途が近年期待されている1,
1,3,3−テトラメチルグアニジン製造のため
の中間体等として有用なジメチルシアナミドの製
法に関する。更に詳しくは、ジメチルアミンと青
酸ソーダ(若しくは青酸カリ)とを塩素の存在下
に特定温度及びPH条件下の水溶液中で反応させる
ことを特徴とするジメチルシアナミドの製法に関
する。 〔従来の技術〕 従来、ジメチルシアナミドを実質的に経由する
テトラメチルグアニジンの製法がいくつか知られ
ている。 先ず、特公昭49−48932号公報には、最低2当
量のジメチルアミンを水と非混和性の溶媒中で塩
化シアンと混合し、得られた混合物を反応が終了
するまで加圧下にて130〜180℃の温度に加熱し、
随時1,1,3,3−テトラメチルグアニジンを
塩基との反応によつてその塩酸塩から分離するこ
とを特徴とする1,1,3,3−テトラメチルグ
アニジンまたはその塩酸塩の製造方法 に関して開示されており、該公報の中にはジメチ
ルアミンと塩化シアンの反応によりジメチルシア
ナミドが生成することが記載されている。 しかし、上記提案に於けるジメチルアミンと塩
化シアンの反応は、水と非混和性の溶媒、例えば
ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、シクロヘ
キサンまたは沸点範囲60〜120℃にあるパラフイ
ン系炭化水素等の有機溶媒中で行われることか
ら、作業環境の管理の問題や、反応後の有機溶媒
の回収の問題、更には反応完結に比較的高温を必
要とするため加圧下に反応が行なわれるので、反
応装置上の制約が大きい等多くの問題を有し、こ
のため工業的に広く採用されるに至らなかつた。 本発明の出願人は、上記問題点を改善し工業的
に好適な1,1,3,3−テトラメチルグアニジ
ンの製法につき研究を行ない、先に特許出願を行
なつた(特開昭55−133352号)。 上記の特許出願は、 ハロゲン化シアンとジメチルアミンを溶媒の存
在下で反応させて1,1,3,3−テトラメチル
グアニジン塩を製造する方法において、反応溶媒
に水系溶媒を用いることを特徴とする1,1,
3,3−テトラメチルグアニジン塩の製法 に関するものである。 しかし、上記第2の提案でも、危険性の高いハ
ロゲン化シアンを原料とするため作業・環境衛生
上、排気及び排水処理面等の設備コストが高くな
るという問題がある。 本発明者等は、引き続き該第2の提案の斯る問
題点の改善について鋭意研究を進めた結果、ジメ
チルアミンと青酸ソーダ(若しくは青酸カリ)と
を塩素の存在下に特定温度及びPH条件下の水溶液
中で反応させることにより一挙に高収率で高純度
のジメチルシアナミドが得られるという意外な発
見を行ない本発明を完成した。従来、青酸ソーダ
とハロゲンが水溶液中で反応して定量的にハロゲ
ン化シアンを生成することは公知であるが、同時
に、該ハロゲン化シアンが高PH領域で水酸イオン
により急速にシアン酸イオンに転化する反応及び
ハロゲン化シアンと青酸ソーダ(若しくは青酸カ
リ)との水系反応により急速にポリシアナイドを
生成する反応も知られており、斯るハロゲン化シ
アンの副反応を防ぐために非水溶媒中で行なうの
が一般的であつた。上記の公知事実にもかゝわら
ず、ジメチルアミンと青酸ソーダ(若しくは青酸
カリ)とを塩素の存在下に特定温度及び特定PH条
件下の水溶液中で反応させ、青酸ソーダ(若しく
は青酸カリ)に対して例えば約80%以上好ましく
は約90%以上の高収率、例えば約90重量%以上好
ましくは約95重量%以上の高純度で一挙にジメチ
ルシアナミドを得ることができるということは、
全く予想外のことであつた。 〔発明の目的〕 即ち、本発明の目的は、1,1,3,3−テト
ラメチルグアニジンの中間体等として有用な高純
度のジメチルシアナミドを、作業上、環境衛生上
安全に工業的に製造する方法を提供することにあ
る。 本発明の方法によれば、危険性の高い塩化シア
ンの単離が省略できるので、塩化シアン発生塔及
びこれに付随する排気、排液処理設備を必要とし
ないという利点がある。 また、本発明により得られたジメチルシアナミ
ド水溶液は、ほとんどそのまま、1,1,3,3
−テトラメチルグアニジンの製造に利用し得ると
いう長所もある。 〔発明の構成〕 本発明は、ジメチルアミンと青酸ソーダ(若し
くは青酸カリ)とを塩素の存在下に0〜50℃、PH
7〜11の水溶液中で反応させることを特徴とする
ジメチルシアナミドの製法である。 上記ジメチルアミンの使用量は、青酸ソーダ
(若しくは青酸カリ)1モルに対して約1.5〜約3
モル用いるのが好ましく、約2〜約2.5モル用い
るのが特に好ましい。但し、上記ジメチルアミン
の使用量の中、約半量(モル数)を苛性ソーダ等
の強アルカリで置き換えることも可能である。し
かし、得られるジメチルシアナミドの収率の観点
から、また該ジメチルシアナミドを含む反応液を
そのまゝ該テトラメチルグアニジン等の製造に使
用し得るという利点から、該ジメチルアミンの使
用量は青酸ソーダ(若しくは青酸カリ)1モルに
対し約2モル未満とならないようにするのが好ま
しい。 上記ジメチルアミンの導入方法は特に制限され
るものではないが、例えば青酸ソーダ(若しくは
青酸カリ)とともに、添加用混合水溶液となし、
該混合水溶液を反応系水溶液中に導入するのが良
い。青酸ガスの発生を抑えるため、上記混合水溶
液のPHは、7未満にならないように調節するのが
好ましい。 なお、前記添加用混合水溶液中には、必要に応
じて水溶性の有機溶媒を併用することができ、該
有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルア
ルコール、プロピルアルコール(n−、iso−)、
tert.ブチルアルコール等の炭素原子数1〜4の脂
肪族一価アルコール類:フルフリルアルコール等
のその他の一価アルコール類;エチレングリコー
ル、プロピレングリコール(1,2−,1,3
−)、グリセリン等の炭素原子数1〜4の脂肪族
多価アルコール類;室温で液状のポリエチレング
リコール;エチレングリコ−ルモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル等のエチレ
ングリコールと炭素原子数1〜4の脂肪族一価ア
ルコールとのモノエーテル化物;ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル等のジエチレングリコールと炭素原子数1〜
4の脂肪族一価アルコールとのモノまたはジエー
テル化物;1−グリセリンモノメチルエーテル等
のグリセリンと炭素原子数1〜4の脂肪族一価ア
ルコールとのモノエーテル化物;ジオキサン
(1,3−、1,4−)、テトラヒドロフラン等の
環状エーテル化合物;等を挙げることができる。
上記の有機溶媒はそれぞれ単独で又は2種以上混
合して用いることができる。 塩素を存在させる方法としては、例えば前記反
応槽中に塩素ガスを直接導入する方法を挙げるこ
とができる。この場合、上記塩素ガスを単独で反
応系水溶液中に直接吹き込むこともでき、また、
該塩素ガスを空気、窒素等により適宜希釈して導
入することもできる。塩素の使用量は、青酸ソー
ダ(若しくは青酸カリ)1モルに対して0.8〜2.0
モル用いるのが好ましく、1.0〜1.5モル用いるの
が特に好ましい。 本発明の反応は下記の反応式で表わすことがで
きる。 Baseとして、ジメチルアミンを用いる場合に
は、 となる。 上記反応時の反応系水溶液のPHは、7〜11であ
る。PH7未満では、青酸が発生する場合があり、
PH11を超えると副反応による反応溶液の着色が起
こりがちであり、いずれの場合も得られるジメチ
ルシアナミドの収率が低下する傾向にあり好まし
くない。上記PH条件は、好ましくは7〜10、特に
好ましくは8〜10である。 前記添加用混合水溶液及び/又は塩素の導入
は、前記反応系水溶液のPH条件を逸脱しないよう
に加減しながら行なう。上記の加減する方法とし
て、PHメータに直結した添加量制御装置を用いる
のが好ましい。 前記せる本発明の反応温度は、0〜50℃であ
る。上記反応温度が0℃以下では、反応速度が低
下する傾向にあり、また該反応温度が50℃を超え
ると副反応による反応溶液の着色が起こりがちで
あり、いずれの場合も得られるジメチルシアナミ
ドの収率が低下する傾向にあり好ましくない。上
記反応温度は、好ましくは10〜40℃、特に好まし
くは15〜35℃である。 本発明のジメチルシアナミドを含む反応生成物
の水溶液は、該ジメチルシアナミドを単離するこ
となくそのまゝテトラメチルグアニジンの製造に
用いることができる。 ジメチルシアナミドを単離する場合には、例え
ば反応終了後の溶液を(水溶性有機溶媒を使用す
る場合には、該水溶性有機溶媒を減圧蒸留等によ
り除去してから)、非水溶性の有機溶媒を用いて
抽出する方法等が採用できる。上記非水溶性の有
機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、
クロロホルム、トリクロロエチレン、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素及びハロゲン化炭素;石
油エーテル、石油ベンジン等の石油系溶媒;ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエー
テル類;酢酸エチル等のエステル類;メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン
類;等が挙げられ、それぞれ単独又は2種以上混
合して用いることができる。 なお、前記ジメチルシアナミド抽出後の水溶液
及び前記テトラメチルグアニジン製造の場合の排
液は、例えば苛性ソーダ等によりPH約10以上に保
持しながら塩素ガスと接触させることにより、微
量残存する可能性のある青酸イオンを容易に且つ
完全に分解し、無毒化することができる。 〔本発明の効果〕 かくして本発明によれば、ジメチルアミンと青
酸ソーダ(若しくは青酸カリ)とを塩素の存在下
に水溶液中で反応させることにより、工業的に極
めて容易に且つ安全に高純度のジメチルシアナミ
ドを製造することができ、該ジメチルシアナミド
を含む反応溶液は必要に応じてそのまゝテトラメ
チルグアニジンの製造に使用することができる。 〔実施例〕 以下、実施例及び比較例により本発明を更に具
体的に説明する。 実施例 1 攪拌機、温度計、PHメータ、液体導入管及びガ
ス導入管を付けた反応槽に約30mlの脱イオン水を
入れておき、一方、約80mlの脱イオン水に約50重
量%ジメチルアミン水溶液約198g(約2.2モル)
を加えた後約96重量%青酸ソーダ約51g(約1モ
ル)を攪拌溶解した添加用混合水溶液を作成し、
反応系水溶液を攪拌しながら該混合水溶液を液体
導入管より約2時間半かけて反応系中に逐次添加
した。同時に、反応系水溶液のPHが平均約8.5で
あり、且つ該PHが約8〜約9の範囲内を逸脱しな
い様にPHメーターに直結した制御装置を用いて制
御しながらガス導入管より塩素ガスを導入した。
塩素ガスの導入合計量は、約24.6Nl(約1.1モル)
である。なお反応槽は、反応液の温度が約30℃を
保持するように温度調整した。 反応終了後、反応液を合計約500mlのトリクロ
ロエチレンを用いて抽出し、抽出液を減圧蒸留し
てほゞ無色透明のジメチルシアナミドを得た。該
ジメチルシアナミドの沸点は36mmHg減圧下で70
〜72℃であり、青酸ソーダに基ずく収率は98.8
%、またガスクロマトグラフイー法(以下GC法
と略称する)による純度は99.5重量%であつた。 実施例 2〜4 実施例1と同様の反応槽を用い、また反応系水
溶液のPH/温度がそれぞれ約9.5/約20℃、約
9.5/約30℃、約85/約20℃を保持するように留
意しながら添加用混合水溶液及び塩素ガスを逐次
添加する以外は実施例1と同様にジメチルシアナ
ミドの合成を行なつた。青酸ソーダに基ずく収率
及びGC法による純度は第1表に示す。 比較例 1〜2 実施例1と同様の反応槽を用い、また反応系水
溶液のPH/温度がそれぞれ約9.5/約60℃、約
12/約20℃を保持するように添加混合水溶液及び
塩素ガスを逐次添加する以外は実施例1と同様に
ジメチルシアナミドの合成を行なつた。得られた
反応液は濃褐色に着色していた。なお、青酸ソー
ダに基ずく収率及びGC法による純度は第1表に
示す。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ジメチルアミンと青酸ソーダ(若しくは青酸
カリ)とを塩素の存在下に0〜50℃、PH7〜11の
水溶液中で反応させることを特徴とするジメチル
シアナミドの製法。 2 上記ジメチルアミンと青酸ソーダ(若しくは
青酸カリ)とを混合水溶液として導入することを
特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の製法。 3 上記混合水溶液及び/又は塩素ガスを、反応
系水溶液のPHが7〜11の範囲を逸脱しないように
制御して導入することを特徴とする特許請求の範
囲第2項に記載の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12059285A JPS61280463A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | ジメチルシアナミドの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12059285A JPS61280463A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | ジメチルシアナミドの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61280463A JPS61280463A (ja) | 1986-12-11 |
JPH0560460B2 true JPH0560460B2 (ja) | 1993-09-02 |
Family
ID=14790078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12059285A Granted JPS61280463A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | ジメチルシアナミドの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61280463A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4573006B2 (ja) * | 1999-07-29 | 2010-11-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ジメチルシアナミド及び1,1,3,3−テトラメチルグアニジンの製造方法 |
DE60005613T2 (de) | 1999-07-29 | 2004-08-12 | Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. | Verfahren zur Herstellung von Dimethylcyanamid |
CN1304368C (zh) * | 2004-10-12 | 2007-03-14 | 山东新华万博化工有限公司 | 生产四甲基胍的改进工艺 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60120593A (ja) * | 1983-12-02 | 1985-06-28 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミック基板の端子構造 |
-
1985
- 1985-06-05 JP JP12059285A patent/JPS61280463A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60120593A (ja) * | 1983-12-02 | 1985-06-28 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミック基板の端子構造 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61280463A (ja) | 1986-12-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |