JPH0557867A - 凹版およびその製造方法 - Google Patents
凹版およびその製造方法Info
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- JPH0557867A JPH0557867A JP22151691A JP22151691A JPH0557867A JP H0557867 A JPH0557867 A JP H0557867A JP 22151691 A JP22151691 A JP 22151691A JP 22151691 A JP22151691 A JP 22151691A JP H0557867 A JPH0557867 A JP H0557867A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- intaglio
- pattern
- printing
- plate
- ink
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- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 凹版印刷法で、液晶ディスプレイのカラーフ
ィルタや透明電極等の大面積の微細パターンを形成する
ための凹版および凹版の製造方法を提供することを目的
とする。 【構成】 ＳｉＯ2の組成が８０ｗｔ％以上であるガラ
スに、リアクティブイオンエッチングで凹部を形成す
る。 【効果】 エッジがシャープで開口部が狭く溝の深い凹
部を有する凹版を作製することができる。凹部のエッジ
がシャープであるとインクが凹版から被転写体やブラン
ケットへ転写される際にインクパターンのエッジ部分の
版離れがスムーズに行われ、パターン精度が良くなる。
これにより２５μｍ以下のの微細線幅パターンや２５μ
ｍ以下のスペースを有するパターンが印刷可能となる。
ィルタや透明電極等の大面積の微細パターンを形成する
ための凹版および凹版の製造方法を提供することを目的
とする。 【構成】 ＳｉＯ2の組成が８０ｗｔ％以上であるガラ
スに、リアクティブイオンエッチングで凹部を形成す
る。 【効果】 エッジがシャープで開口部が狭く溝の深い凹
部を有する凹版を作製することができる。凹部のエッジ
がシャープであるとインクが凹版から被転写体やブラン
ケットへ転写される際にインクパターンのエッジ部分の
版離れがスムーズに行われ、パターン精度が良くなる。
これにより２５μｍ以下のの微細線幅パターンや２５μ
ｍ以下のスペースを有するパターンが印刷可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は凹版印刷法で液晶ディス
プレイのカラーフィルターや透明電極などの微細パター
ンの形成を可能にする凹版およびその製造方法に関する
ものである。
プレイのカラーフィルターや透明電極などの微細パター
ンの形成を可能にする凹版およびその製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶用カラーフィルター等のエレ
クトロニクス分野において、パターン精度はフォトリソ
グラフィに劣るが大面積のパターンを低コストで形成で
きる印刷法が注目されている。
クトロニクス分野において、パターン精度はフォトリソ
グラフィに劣るが大面積のパターンを低コストで形成で
きる印刷法が注目されている。
【０００３】印刷法としては凹版印刷法（通称グラビ
ア）、平版印刷法（通称オフセット印刷）、凸版印刷法
（通称活版）および孔版印刷法（通称スクリーン）の４
つが主流である。本発明は厚膜印刷および微細パターン
印刷が可能な凹版印刷の凹版およびその製造方法に関す
るものである。
ア）、平版印刷法（通称オフセット印刷）、凸版印刷法
（通称活版）および孔版印刷法（通称スクリーン）の４
つが主流である。本発明は厚膜印刷および微細パターン
印刷が可能な凹版印刷の凹版およびその製造方法に関す
るものである。
【０００４】一般に凹版印刷においてはクロムメッキさ
れた金属性円筒版（版胴）を用い、この円筒版上に印刷
インクを供給した後、ドクターブレードで版面のインク
を掻き取り除去した後、最後に凹部のインクを直接被印
刷体に転写して印刷する方法もしくは刷版として平面状
の凹版を用い、ブランケットを介して被印刷体にオフセ
ット印刷する方法が用いられる。版として平面状の凹版
を用い、ブランケットを介して被印刷体に印刷する方法
も用いられる版として平面状の凹版を用い、ブランケッ
トを介して被印刷体に印刷する方法も用いられる。例え
ば、嶋田幹也ほか電子情報通信学会ＰＣＭ９０−２４が
ある。
れた金属性円筒版（版胴）を用い、この円筒版上に印刷
インクを供給した後、ドクターブレードで版面のインク
を掻き取り除去した後、最後に凹部のインクを直接被印
刷体に転写して印刷する方法もしくは刷版として平面状
の凹版を用い、ブランケットを介して被印刷体にオフセ
ット印刷する方法が用いられる。版として平面状の凹版
を用い、ブランケットを介して被印刷体に印刷する方法
も用いられる版として平面状の凹版を用い、ブランケッ
トを介して被印刷体に印刷する方法も用いられる。例え
ば、嶋田幹也ほか電子情報通信学会ＰＣＭ９０−２４が
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、平版印
刷や凹版印刷等の印刷法においては設備も簡単で工数も
少なく大面積パターンの形成も容易である反面、凹版を
湿式エッチングで製造していたため、開口が狭く、かつ
溝が深い凹部を有する凹版を作製することが困難であっ
た。また、湿式エッチングでは凹部の底が、凹部の端に
近づくとともに浅くなり、凹部の浅い部分に充填された
インクは転写されにくく、転写にばらつきが生じるた
め、微細線幅パターンおよび狭いスペースのパターン形
成が困難であるという課題を有していた。
刷や凹版印刷等の印刷法においては設備も簡単で工数も
少なく大面積パターンの形成も容易である反面、凹版を
湿式エッチングで製造していたため、開口が狭く、かつ
溝が深い凹部を有する凹版を作製することが困難であっ
た。また、湿式エッチングでは凹部の底が、凹部の端に
近づくとともに浅くなり、凹部の浅い部分に充填された
インクは転写されにくく、転写にばらつきが生じるた
め、微細線幅パターンおよび狭いスペースのパターン形
成が困難であるという課題を有していた。
【０００６】本発明は上記課題に鑑み、２５μｍ以下の
微細線幅パターンもしくは２５μｍ以下のスペースを有
するパターンの凹版印刷を行うための凹版およびその製
造方法を提供することを目的とする。
微細線幅パターンもしくは２５μｍ以下のスペースを有
するパターンの凹版印刷を行うための凹版およびその製
造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、石英ガラスやホウケイ酸ガラスなどのＳｉ
Ｏ2の組成が８０ｗｔ％以上であるガラスに、リアクテ
ィブイオンエッチング（以下ＲＩＥと略す）で凹部を形
成した凹版を用いるものである。ＲＩＥは、反応性ガス
を放電・励起し、生成された活性種が基板・薄膜の構成
原子と化学的に反応して気化すること、および生成され
たイオンを陰極降下領域で加速して基板・薄膜に衝突さ
せて原子をたたき出すことにより、基板・薄膜を高精度
にエッチング加工できる。例えば、精密機械ｖｏｌ．５
１，Ｎｏ．７，ｐ２６，１９８５がある。
に本発明は、石英ガラスやホウケイ酸ガラスなどのＳｉ
Ｏ2の組成が８０ｗｔ％以上であるガラスに、リアクテ
ィブイオンエッチング（以下ＲＩＥと略す）で凹部を形
成した凹版を用いるものである。ＲＩＥは、反応性ガス
を放電・励起し、生成された活性種が基板・薄膜の構成
原子と化学的に反応して気化すること、および生成され
たイオンを陰極降下領域で加速して基板・薄膜に衝突さ
せて原子をたたき出すことにより、基板・薄膜を高精度
にエッチング加工できる。例えば、精密機械ｖｏｌ．５
１，Ｎｏ．７，ｐ２６，１９８５がある。
【０００８】
【作用】ＳｉＯ2の組成が８０ｗｔ％以上であるガラス
に、ＲＩＥで凹部を形成することにより、エッジがシャ
ープで開口部が狭く溝の深い凹部を有する凹版を作製す
ることができる。ＳｉＯ2の組成が８０ｗｔ％以上であ
るガラスはＲＩＥによるエッチングレートが高く、エッ
ジのシャープな凹版を簡便に作製することができる。
に、ＲＩＥで凹部を形成することにより、エッジがシャ
ープで開口部が狭く溝の深い凹部を有する凹版を作製す
ることができる。ＳｉＯ2の組成が８０ｗｔ％以上であ
るガラスはＲＩＥによるエッチングレートが高く、エッ
ジのシャープな凹版を簡便に作製することができる。
【０００９】また、凹部のエッジがシャープであるとイ
ンクが凹版から被転写体やブランケットへ転写される際
にインクパターンのエッジ部分の版離れがスムーズに行
われ、パターン精度が良くなり、これにより微細パター
ンの印刷が可能になる。
ンクが凹版から被転写体やブランケットへ転写される際
にインクパターンのエッジ部分の版離れがスムーズに行
われ、パターン精度が良くなり、これにより微細パター
ンの印刷が可能になる。
【００１０】
【実施例】以下に本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。図１は本発明の一実施例における
凹版の断面図である。また、図２は従来の湿式エッチン
グで作製した凹版の凹部の断面図である。
照しながら説明する。図１は本発明の一実施例における
凹版の断面図である。また、図２は従来の湿式エッチン
グで作製した凹版の凹部の断面図である。
【００１１】（実施例１）以下に本発明の第１の実施例
を示す。石英ガラス上に０．５μｍの厚さのＡｌを蒸着
し、さらにこのＡｌ上にフォトレジスト（ヘキストジャ
パン製ＡＺ４６２０Ａ）を塗布する。次に、フォトマス
クを用いて露光する。フォトレジストを現像液で現像し
た後、Ａｌをエッチングしてパターンを形成する。フォ
トレジストとＡｌのパターンを形成した石英ガラスに、
ＣＦ4ガスを用いてＲＩＥを行い線幅２０μｍで深さ１
０μｍのライン状の凹部を形成した。次に、本実施例の
凹版を用いて凹版オフセット印刷を行ったところ２０μ
ｍ線幅のラインが±１.５μｍ以内の精度で印刷できる
ことができた。
を示す。石英ガラス上に０．５μｍの厚さのＡｌを蒸着
し、さらにこのＡｌ上にフォトレジスト（ヘキストジャ
パン製ＡＺ４６２０Ａ）を塗布する。次に、フォトマス
クを用いて露光する。フォトレジストを現像液で現像し
た後、Ａｌをエッチングしてパターンを形成する。フォ
トレジストとＡｌのパターンを形成した石英ガラスに、
ＣＦ4ガスを用いてＲＩＥを行い線幅２０μｍで深さ１
０μｍのライン状の凹部を形成した。次に、本実施例の
凹版を用いて凹版オフセット印刷を行ったところ２０μ
ｍ線幅のラインが±１.５μｍ以内の精度で印刷できる
ことができた。
【００１２】ＲＩＥのマスクとしてはＡｌとフォトレジ
ストを積層して用いたが、マスクに用いる材料としては
エッチングされるガラスとの選択比がとれるものであれ
ばよく、Ｃｒ、Ａｌ2Ｏ3、ＷＳｉなどをマスクとして用
いてもよい。また、１０μｍ以上の深さの凹部を形成す
るためには、前記の積層したＡｌとフォトレジストのマ
スクを用いてＲＩＥを行う際に、フォトレジストがＲＩ
Ｅにより除去され、Ａｌが表面に露出した時点でＲＩＥ
を一旦中断し、露出したＡｌ表面に再びフォトレジスト
を塗布し、石英ガラス側から石英ガラス上のＡｌをフォ
トマスクとしてフォトレジストを露光し、フォトレジス
トを現像液で現像した後、再びＲＩＥを行う。このフォ
トレジスト形成とＲＩＥを繰り返すことにより１０μｍ
以上の深さの凹部を形成することもできる。また、ＲＩ
Ｅに用いるガスはＣＦ4以外に、ＣＨＦ3ガスやＣＨＦ3
とＯ2とＨｅの混合ガスなどを用いてもよい。
ストを積層して用いたが、マスクに用いる材料としては
エッチングされるガラスとの選択比がとれるものであれ
ばよく、Ｃｒ、Ａｌ2Ｏ3、ＷＳｉなどをマスクとして用
いてもよい。また、１０μｍ以上の深さの凹部を形成す
るためには、前記の積層したＡｌとフォトレジストのマ
スクを用いてＲＩＥを行う際に、フォトレジストがＲＩ
Ｅにより除去され、Ａｌが表面に露出した時点でＲＩＥ
を一旦中断し、露出したＡｌ表面に再びフォトレジスト
を塗布し、石英ガラス側から石英ガラス上のＡｌをフォ
トマスクとしてフォトレジストを露光し、フォトレジス
トを現像液で現像した後、再びＲＩＥを行う。このフォ
トレジスト形成とＲＩＥを繰り返すことにより１０μｍ
以上の深さの凹部を形成することもできる。また、ＲＩ
Ｅに用いるガスはＣＦ4以外に、ＣＨＦ3ガスやＣＨＦ3
とＯ2とＨｅの混合ガスなどを用いてもよい。
【００１３】（実施例２）以下に本発明の第２の実施例
を示す。実施例１と同様の方法で、石英ガラス上にレジ
ストを形成し、ＲＩＥで３６０μｍピッチで３４０μｍ
線幅のストライプパターンの凹部を１０μｍの深さでを
形成した。次に、本実施例の凹版を用いて凹版オフセッ
ト印刷を行ったところ３４０μｍ線幅のラインをライン
間のスペース２０μｍを確保して、±１.５μｍ以内の
精度で印刷できることができた。
を示す。実施例１と同様の方法で、石英ガラス上にレジ
ストを形成し、ＲＩＥで３６０μｍピッチで３４０μｍ
線幅のストライプパターンの凹部を１０μｍの深さでを
形成した。次に、本実施例の凹版を用いて凹版オフセッ
ト印刷を行ったところ３４０μｍ線幅のラインをライン
間のスペース２０μｍを確保して、±１.５μｍ以内の
精度で印刷できることができた。
【００１４】（比較例）（表１）に各種ガラス材料のＳ
ｉＯ2の組成とＲＩＥを行なった際のエッチングレート
の相対値を示す。ＳｉＯ2の組成が８０ｗｔ％未満のソ
ーダライムガラスや低アルカリガラスではエッチングレ
ートが遅く、凹版を作製するための材料としては適して
いなかった。
ｉＯ2の組成とＲＩＥを行なった際のエッチングレート
の相対値を示す。ＳｉＯ2の組成が８０ｗｔ％未満のソ
ーダライムガラスや低アルカリガラスではエッチングレ
ートが遅く、凹版を作製するための材料としては適して
いなかった。
【００１５】
【表１】
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明はＳｉＯ2の組成が
８０ｗｔ％以上であるガラスに、ＲＩＥで凹部を形成す
ることにより、エッジがシャープで開口部が狭く溝の深
い凹部を有する凹版を作製することができる。凹部のエ
ッジがシャープであるとインクが凹版から被転写体やブ
ランケットへ転写される際にインクパターンのエッジ部
分の版離れがスムーズに行われ、パターン精度が良くな
る。これにより２５μｍ以下の微細線幅パターンや２５
μｍ以下のスペースを有するパターンが印刷可能とな
る。
８０ｗｔ％以上であるガラスに、ＲＩＥで凹部を形成す
ることにより、エッジがシャープで開口部が狭く溝の深
い凹部を有する凹版を作製することができる。凹部のエ
ッジがシャープであるとインクが凹版から被転写体やブ
ランケットへ転写される際にインクパターンのエッジ部
分の版離れがスムーズに行われ、パターン精度が良くな
る。これにより２５μｍ以下の微細線幅パターンや２５
μｍ以下のスペースを有するパターンが印刷可能とな
る。
【図１】本発明の実施例における凹版の凹部の断面図。
【図２】従来の湿式エッチングで作製した凹版の凹部の
断面図。
断面図。
１ 凹版 ２ 凹部
Claims (2)
- 【請求項１】ＳｉＯ2の組成が８０ｗｔ％以上であるガ
ラスからなることを特徴とする凹版。 - 【請求項２】リアクティブイオンエッチングにより、請
求項１記載のガラスに凹部を形成することを特徴とする
凹版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3221516A JP2502852B2 (ja) | 1991-09-02 | 1991-09-02 | 凹版およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3221516A JP2502852B2 (ja) | 1991-09-02 | 1991-09-02 | 凹版およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0557867A true JPH0557867A (ja) | 1993-03-09 |
| JP2502852B2 JP2502852B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=16767942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3221516A Expired - Lifetime JP2502852B2 (ja) | 1991-09-02 | 1991-09-02 | 凹版およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2502852B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002066251A3 (en) * | 2001-02-23 | 2002-12-05 | Koninkl Philips Electronics Nv | Printing plates |
| DE102008038693A1 (de) | 2007-08-20 | 2009-04-16 | Geomatec Co., Ltd., Yokohama-shi | Tiefdruckplatte und Verfahren zu deren Herstellung |
| DE102005052509B4 (de) * | 2004-11-04 | 2010-09-16 | Lg Display Co., Ltd. | Verfahren zum Herstellen einer Druckplatte |
| JP2014130267A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Think Laboratory Co Ltd | グラビアシリンダー及びその製造方法 |
| KR101418976B1 (ko) * | 2012-07-27 | 2014-07-11 | 이엘케이 주식회사 | 패드 인쇄법을 위한 미세 요철 패턴 구조을 구비하는 원판 및 이의 제조 방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02305640A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-19 | Union Carbide Coatings Service Technol Corp | 液体転写用物品及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-09-02 JP JP3221516A patent/JP2502852B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02305640A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-19 | Union Carbide Coatings Service Technol Corp | 液体転写用物品及びその製造方法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002066251A3 (en) * | 2001-02-23 | 2002-12-05 | Koninkl Philips Electronics Nv | Printing plates |
| US6703313B2 (en) | 2001-02-23 | 2004-03-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Printing plates |
| DE102005052509B4 (de) * | 2004-11-04 | 2010-09-16 | Lg Display Co., Ltd. | Verfahren zum Herstellen einer Druckplatte |
| US7914691B2 (en) | 2004-11-04 | 2011-03-29 | Lg Display Co., Ltd. | Printing plate and method for fabricating the same |
| DE102008038693A1 (de) | 2007-08-20 | 2009-04-16 | Geomatec Co., Ltd., Yokohama-shi | Tiefdruckplatte und Verfahren zu deren Herstellung |
| KR101418976B1 (ko) * | 2012-07-27 | 2014-07-11 | 이엘케이 주식회사 | 패드 인쇄법을 위한 미세 요철 패턴 구조을 구비하는 원판 및 이의 제조 방법 |
| JP2014130267A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Think Laboratory Co Ltd | グラビアシリンダー及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2502852B2 (ja) | 1996-05-29 |
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