JPH07253660A - 印刷用ガラス凹版の製造方法 - Google Patents
印刷用ガラス凹版の製造方法Info
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- JPH07253660A JPH07253660A JP4343894A JP4343894A JPH07253660A JP H07253660 A JPH07253660 A JP H07253660A JP 4343894 A JP4343894 A JP 4343894A JP 4343894 A JP4343894 A JP 4343894A JP H07253660 A JPH07253660 A JP H07253660A
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- Japan
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- glass
- film
- etching
- etching mask
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Abstract
(57)【要約】
【目的】平滑なガラス表面に多数の溝状凹部が形成され
たガラス凹版の製造法を提供する。 【構成】ガラス板表面にマスク用クロム膜を被覆し、ク
ロム膜上に所定パターンの感光性レジストを形成し、露
出しているクロム膜をエッチングにより除去し、露出し
たガラス表面をエッチングし凹部を形成し、その後レジ
スト膜とクロム膜を順次除去し、その後凹部とガラス板
表面が交差する稜線を曲率を有するようにエッチングす
る。
たガラス凹版の製造法を提供する。 【構成】ガラス板表面にマスク用クロム膜を被覆し、ク
ロム膜上に所定パターンの感光性レジストを形成し、露
出しているクロム膜をエッチングにより除去し、露出し
たガラス表面をエッチングし凹部を形成し、その後レジ
スト膜とクロム膜を順次除去し、その後凹部とガラス板
表面が交差する稜線を曲率を有するようにエッチングす
る。
Description
【０００１】本発明は、主に液晶ディスプレイ等に使用
するＲＧＢカラーフイルターやブラックマトリクスをイ
ンクの印刷法で作製する際の印刷用版（例えば特開平４
ー２１３４０２号公報、特開平４ー２２１６７４号公
報）として使用されるガラス凹版の製造方法に関するも
のであり、さらに詳しくは、表面が平滑でかつ深い溝の
凹部をもち、かつ凹部の端のエッジ部分が角取りされた
ガラス凹版を低コストで製造する方法に関する。
するＲＧＢカラーフイルターやブラックマトリクスをイ
ンクの印刷法で作製する際の印刷用版（例えば特開平４
ー２１３４０２号公報、特開平４ー２２１６７４号公
報）として使用されるガラス凹版の製造方法に関するも
のであり、さらに詳しくは、表面が平滑でかつ深い溝の
凹部をもち、かつ凹部の端のエッジ部分が角取りされた
ガラス凹版を低コストで製造する方法に関する。
【０００２】従来ガラス基板の微細エッチングには耐Ｈ
Ｆ性のあるクロム（Ｃｒ）等のエッチングマスクとして
の蒸着膜をフオトリソグラフイによりパタニンーグし、
これをエッチング時のマスクとして主にＨＦ系のエッチ
ャントによりエッチングする技術が用いられてきた。こ
れによりフオトマスクの形状に従う微細な溝パターンが
作製でき、またそのエッチング時間を変えることで、溝
深さをある範囲で任意に制御できた。
Ｆ性のあるクロム（Ｃｒ）等のエッチングマスクとして
の蒸着膜をフオトリソグラフイによりパタニンーグし、
これをエッチング時のマスクとして主にＨＦ系のエッチ
ャントによりエッチングする技術が用いられてきた。こ
れによりフオトマスクの形状に従う微細な溝パターンが
作製でき、またそのエッチング時間を変えることで、溝
深さをある範囲で任意に制御できた。
【０００３】また、エッチングマスク用無機質膜を用い
ずに感光製レジストを直接ガラス表面に設けてエッチン
グを行う方法があるが、この方法ではＨＦ系エッチャン
トにフオトレジストが膨潤するという問題があり、この
ためガラス表面が極薄く溶け、れレジストとガラスの密
着性が低下し、解像度がひどく劣化するという問題点が
あった。
ずに感光製レジストを直接ガラス表面に設けてエッチン
グを行う方法があるが、この方法ではＨＦ系エッチャン
トにフオトレジストが膨潤するという問題があり、この
ためガラス表面が極薄く溶け、れレジストとガラスの密
着性が低下し、解像度がひどく劣化するという問題点が
あった。
【０００４】前記従来の技術で述べたように、ガラスの
エッチングマスクにはＣｒ膜に代表される無機質の薄膜
が用いられてきたが、この膜にはスパッタリングや電子
線蒸着による成膜時に必ず、ある程度の密度で半径０．
１μｍから１０μｍ程度のピンホールと呼ばれる膜の欠
落または密着不良部分を作ってしまう。従ってガラスエ
ッチング時には、図５のように意図したパターン開口部
分以外に、このピンホール部分からエッチャントが序々
に浸入し、本来エッチングマスク用無機質膜で覆い、平
滑な凸面として残すべき部分にアンダーカットによる不
本意な浸食を多数発生させる。この凸面（平滑面）に生
じる浸食穴は実際には溝深さ５μｍ程度以下の浅溝エッ
チング時にはさほど問題とはならないが、５μｍ程度以
上の深溝の形成にはこの浸食穴の大きさは無視できない
ものとなり、特にＲＧＢカラーフイルター印刷時には、
図６のようにこの穴にもインクが充填されてしまい意図
したパターン以外にインクの不良付着が起きて使用でき
ないという問題があった。
エッチングマスクにはＣｒ膜に代表される無機質の薄膜
が用いられてきたが、この膜にはスパッタリングや電子
線蒸着による成膜時に必ず、ある程度の密度で半径０．
１μｍから１０μｍ程度のピンホールと呼ばれる膜の欠
落または密着不良部分を作ってしまう。従ってガラスエ
ッチング時には、図５のように意図したパターン開口部
分以外に、このピンホール部分からエッチャントが序々
に浸入し、本来エッチングマスク用無機質膜で覆い、平
滑な凸面として残すべき部分にアンダーカットによる不
本意な浸食を多数発生させる。この凸面（平滑面）に生
じる浸食穴は実際には溝深さ５μｍ程度以下の浅溝エッ
チング時にはさほど問題とはならないが、５μｍ程度以
上の深溝の形成にはこの浸食穴の大きさは無視できない
ものとなり、特にＲＧＢカラーフイルター印刷時には、
図６のようにこの穴にもインクが充填されてしまい意図
したパターン以外にインクの不良付着が起きて使用でき
ないという問題があった。
【０００５】しかし印刷しようとするカラーフルターの
厚さの要求から、現実に使用する凹版の深さは５μｍ以
上が好ましく、深溝で全表面が平滑なガラス凹版は、従
来の技術では得られず、これを解決する手段が課題とさ
れた。また作製されたカ゛ラス凹版はその凹部と平滑面の交
差する稜線部分が曲率半径で０．１μｍ以下の非常に鋭
角な形状をしており、このナイフ状の形状が原因で、印
刷用インクの溶剤による拭き取り作業において拭き取り
布の引っかかりや発塵などが起き、特にこの発塵は微細
パターンを転写して形成するカラーフイルターに汚れ欠
点として致命的な影響を与えた。従ってこの形状を鈍化
することが望まれていた。
厚さの要求から、現実に使用する凹版の深さは５μｍ以
上が好ましく、深溝で全表面が平滑なガラス凹版は、従
来の技術では得られず、これを解決する手段が課題とさ
れた。また作製されたカ゛ラス凹版はその凹部と平滑面の交
差する稜線部分が曲率半径で０．１μｍ以下の非常に鋭
角な形状をしており、このナイフ状の形状が原因で、印
刷用インクの溶剤による拭き取り作業において拭き取り
布の引っかかりや発塵などが起き、特にこの発塵は微細
パターンを転写して形成するカラーフイルターに汚れ欠
点として致命的な影響を与えた。従ってこの形状を鈍化
することが望まれていた。
【０００６】本発明は、平滑な主表面を有するガラス板
から下記工程Ａ〜Ｆをこの順序で含む印刷用ガラス凹版
の製造方法である。 Ａ．ガラス板表面に厚みが１０ｎｍ〜１μｍのマスク用
無機質膜を成膜する工程、 Ｂ．前記無機質膜上に所定パターンの感光性レジストを
形成する工程、 Ｃ．前記所定パターンに対応して露出した部分の無機質
膜をエッチングにより除去する工程、 Ｄ．露出したガラスをエッチングにより凹部を形成する
工程、 Ｅ．前記レジストのすべてを除去する工程、 Ｆ．前記無機質膜を膜を除去することにより平滑面を露
出させる工程、 Ｇ．前記凹部と前記平滑面が交差する稜線を第２のエッ
チングにより滑らかにする工程。
から下記工程Ａ〜Ｆをこの順序で含む印刷用ガラス凹版
の製造方法である。 Ａ．ガラス板表面に厚みが１０ｎｍ〜１μｍのマスク用
無機質膜を成膜する工程、 Ｂ．前記無機質膜上に所定パターンの感光性レジストを
形成する工程、 Ｃ．前記所定パターンに対応して露出した部分の無機質
膜をエッチングにより除去する工程、 Ｄ．露出したガラスをエッチングにより凹部を形成する
工程、 Ｅ．前記レジストのすべてを除去する工程、 Ｆ．前記無機質膜を膜を除去することにより平滑面を露
出させる工程、 Ｇ．前記凹部と前記平滑面が交差する稜線を第２のエッ
チングにより滑らかにする工程。
【０００７】金属膜エッチングマスクのピンホール部分
からの浸食を避けるため、図２に示すようにエッチング
マスク膜のパターニング時に使用したレジスト膜を剥離
せず残留させたまま、ガラス用エッチャントに基板を浸
漬することでガラスのエッチングを行う。このレジスト
膜はエッチングマスク用無機質膜をパターニングする際
の耐腐食膜であり、従ってエッチングマスク膜のパター
ニング後はエッチングマスクパターンと同一のパターン
でエッチングマスク上に残留している。
からの浸食を避けるため、図２に示すようにエッチング
マスク膜のパターニング時に使用したレジスト膜を剥離
せず残留させたまま、ガラス用エッチャントに基板を浸
漬することでガラスのエッチングを行う。このレジスト
膜はエッチングマスク用無機質膜をパターニングする際
の耐腐食膜であり、従ってエッチングマスク膜のパター
ニング後はエッチングマスクパターンと同一のパターン
でエッチングマスク上に残留している。
【０００８】また図３に示したように、凹部と平滑面の
交差するエッジ゛部（稜線）の形状が曲率半径で０．５
μｍ以上の形状を有したガラス凹版を作製するために、
前記のガラスのエッチングを行った後に、レジスト及び
マスク用無機質膜を順次剥離し、ガラス表面を露出させ
た後、再びガラスのエッチングを短時間行い、エッジ部
の鈍化加工を行うことにより丸みを有したガラス凹版が
作製できる。この再エッチング時に使用するエッチャン
トは、前記の凹面作製時に使用したエッチャントと同じ
ものがプロセスの容易性の点で好ましいが、他組成の等
方的ガラスのエッチャントでも良い。またその形成する
曲率半径は、１．０μｍ以上が好ましく、さらに実用的
には４．０μｍ程度が必要十分な値である。
交差するエッジ゛部（稜線）の形状が曲率半径で０．５
μｍ以上の形状を有したガラス凹版を作製するために、
前記のガラスのエッチングを行った後に、レジスト及び
マスク用無機質膜を順次剥離し、ガラス表面を露出させ
た後、再びガラスのエッチングを短時間行い、エッジ部
の鈍化加工を行うことにより丸みを有したガラス凹版が
作製できる。この再エッチング時に使用するエッチャン
トは、前記の凹面作製時に使用したエッチャントと同じ
ものがプロセスの容易性の点で好ましいが、他組成の等
方的ガラスのエッチャントでも良い。またその形成する
曲率半径は、１．０μｍ以上が好ましく、さらに実用的
には４．０μｍ程度が必要十分な値である。
【０００９】また前記エッチングマスク用無機質膜のパ
ターニングに用いるレジストは、通常フオトリソグラフ
イ用のフオトレジストが好ましいが、部分印刷による樹
脂膜等でも良く、またガラスのエッチャントにある程度
耐性があり、かつ任意の微細パターンを描画可能な膜で
あれば特に限定しない。
ターニングに用いるレジストは、通常フオトリソグラフ
イ用のフオトレジストが好ましいが、部分印刷による樹
脂膜等でも良く、またガラスのエッチャントにある程度
耐性があり、かつ任意の微細パターンを描画可能な膜で
あれば特に限定しない。
【００１０】また前記エッチングマスク用無機質膜の材
料はＣｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、やこれら金属の合
金、これら金属の窒化物や酸化物等、ガラスのエッチン
グに対してマスクキング能を有する膜であれば特に限定
されない。これらのマスク膜は先述のピンホールを通常
持っている。本発明において、経済的に優れた一例とし
ては、フオトレジスト／Ｃｒ膜／ソーダライムシリカ組
成のガラス基板を積層したものをＨＦ系のガラス用エッ
チャントでエッチングする方法である。
料はＣｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、やこれら金属の合
金、これら金属の窒化物や酸化物等、ガラスのエッチン
グに対してマスクキング能を有する膜であれば特に限定
されない。これらのマスク膜は先述のピンホールを通常
持っている。本発明において、経済的に優れた一例とし
ては、フオトレジスト／Ｃｒ膜／ソーダライムシリカ組
成のガラス基板を積層したものをＨＦ系のガラス用エッ
チャントでエッチングする方法である。
【作用】エッチングマスク用無機質膜の上にレジスト膜
を残留させたままの状態で、ガラスをエッチングすると
レジストの開口部のガラス表面はエッチングされるが、
エッチングマスク膜の表面にはエチャントは到達せず、
従ってエッチングマスク膜のピンホール部分でのガラス
エッチャントによる不良浸食は発生しない。これにより
図４に示す平滑な凸面を保ったまま５μｍ以上の深溝微
細エッチングが可能となる。このレジストは、もともと
エッチングマスク用無機質膜のパターニングに用いた耐
腐食膜であり、その位置を変えずに次工程に使用できる
いわゆるセルフアライメント的性格を持つ。ガラス表面
が露出した基板を再度短時間でエッチイングすると、ウ
エットエッチングの等方的浸食性により、鋭角のガラス
のエッジ部分が浸食され、曲率半径を持った形状に加工
される。
を残留させたままの状態で、ガラスをエッチングすると
レジストの開口部のガラス表面はエッチングされるが、
エッチングマスク膜の表面にはエチャントは到達せず、
従ってエッチングマスク膜のピンホール部分でのガラス
エッチャントによる不良浸食は発生しない。これにより
図４に示す平滑な凸面を保ったまま５μｍ以上の深溝微
細エッチングが可能となる。このレジストは、もともと
エッチングマスク用無機質膜のパターニングに用いた耐
腐食膜であり、その位置を変えずに次工程に使用できる
いわゆるセルフアライメント的性格を持つ。ガラス表面
が露出した基板を再度短時間でエッチイングすると、ウ
エットエッチングの等方的浸食性により、鋭角のガラス
のエッジ部分が浸食され、曲率半径を持った形状に加工
される。
【００１１】以下、本発明を実施例を用いて説明する。 実施例１ 縦４００ｍｍ横４００ｍｍ厚さ２ｍｍの大きさのソーダ
ライムシリカ組成のガラス基板１を洗浄した後、その表
面にスパッタ成膜により膜厚１００ｎｍのクロム金属の
エッチングマスク膜２を被覆した。さらにその上にポジ
型フオトレジスト樹脂溶液をスピンコートで１μｍの膜
厚に成膜し、レジスト膜３を得た。次にこれをオーブン
で乾燥し、エッチングマスク用無機質膜２のパターニン
グのための所定のフオトマスクを通して紫外線露光し、
現像液にてレジストを現像した。
ライムシリカ組成のガラス基板１を洗浄した後、その表
面にスパッタ成膜により膜厚１００ｎｍのクロム金属の
エッチングマスク膜２を被覆した。さらにその上にポジ
型フオトレジスト樹脂溶液をスピンコートで１μｍの膜
厚に成膜し、レジスト膜３を得た。次にこれをオーブン
で乾燥し、エッチングマスク用無機質膜２のパターニン
グのための所定のフオトマスクを通して紫外線露光し、
現像液にてレジストを現像した。
【００１２】その後硝酸セリウムアンモニウム溶液のＣ
ｒ用エッチャントにてＣｒ膜のエッチングを行い、所定
のパターンのエッチングマスク膜２を得た。次に、ここ
で使用したレジスト膜を残したままの状態で、ＨＦを主
成分とするソーダライムシリカ組成のガラス用エッチャ
ントにガラス基板を浸漬し、レジスト及びエッチングマ
スク膜の開口部のガラス表面を深さ１２μｍでエッチン
グした。その後残っているレジスト膜３を剥離液にて剥
離し、次にエッチングマスク膜２を硝酸セリウムアンモ
ニウム溶液にて溶解剥離し、さらに再度ＨＦ系エッチャ
ントにガラス基板を浸漬してエッジ部の鈍化を行い、溝
幅７０μｍ、溝間隔２０μｍ、溝深さ１２μｍ、エッジ
部の曲率半径４μｍの凹凸を持った平滑部が不良浸食の
ない印刷用ガラス凹版を得た。上記実施例のプロセスを
図１に示す。
ｒ用エッチャントにてＣｒ膜のエッチングを行い、所定
のパターンのエッチングマスク膜２を得た。次に、ここ
で使用したレジスト膜を残したままの状態で、ＨＦを主
成分とするソーダライムシリカ組成のガラス用エッチャ
ントにガラス基板を浸漬し、レジスト及びエッチングマ
スク膜の開口部のガラス表面を深さ１２μｍでエッチン
グした。その後残っているレジスト膜３を剥離液にて剥
離し、次にエッチングマスク膜２を硝酸セリウムアンモ
ニウム溶液にて溶解剥離し、さらに再度ＨＦ系エッチャ
ントにガラス基板を浸漬してエッジ部の鈍化を行い、溝
幅７０μｍ、溝間隔２０μｍ、溝深さ１２μｍ、エッジ
部の曲率半径４μｍの凹凸を持った平滑部が不良浸食の
ない印刷用ガラス凹版を得た。上記実施例のプロセスを
図１に示す。
【００１３】本発明によれば、平滑な表面を有し不良浸
食の全く無い溝深さ５μｍ以上の深溝をもち、かつ凹部
側面と平滑部の境界の稜線部分の形状が鈍化したガラス
凹版の製造が可能となる。得られるガラス凹版を用いる
に際して、インクの拭き取り布等の発塵は生じにくくな
る。
食の全く無い溝深さ５μｍ以上の深溝をもち、かつ凹部
側面と平滑部の境界の稜線部分の形状が鈍化したガラス
凹版の製造が可能となる。得られるガラス凹版を用いる
に際して、インクの拭き取り布等の発塵は生じにくくな
る。
【図１】図１は本発明の実施例１の工程を模式的に示し
た図である。
た図である。
【図２】図２は、本発明の平滑部の不良侵食発生の防止
を説明する図である。
を説明する図である。
【図３】図３は、本発明のガラス凹版の特性を説明する
ための図である。
ための図である。
【図４】図４は、従来の方法により得られるガラス凹版
の断面特性を示す図である。
の断面特性を示す図である。
【図５】図５は、従来の方法により得られるガラス凹版
の上面から見た図である。
の上面から見た図である。
Claims (2)
- 【請求項１】平滑な主表面を有するガラス板から下記工
程Ａ〜Ｆをこの順序で含む印刷用ガラス凹版の製造方
法。 Ａ．ガラス板表面に厚みが１０ｎｍ〜１μｍのマスク用
無機質膜を被覆する工程、 Ｂ．前記無機質膜上に所定パターンの感光性レジストを
形成する工程、 Ｃ．前記所定パターンに対応して露出した無機質膜をエ
ッチングにより除去する工程、 Ｄ．前記エッチングにより露出したガラス表面をエッチ
ングにより凹部を形成する工程、 Ｅ．前記感光性レジストを除去する工程、 Ｆ．前記無機質膜を除去することにより平滑面を露出さ
せる工程、 Ｇ．前記凹部と前記平滑面が交差する稜線を第２のエッ
チングにより滑らかにする工程。 - 【請求項２】前記凹部の深さを５μｍ以上とし、前記稜
線の曲率半径を０．５μｍ以上とする請求項１に記載の
印刷用ガラス凹版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4343894A JPH07253660A (ja) | 1994-03-15 | 1994-03-15 | 印刷用ガラス凹版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4343894A JPH07253660A (ja) | 1994-03-15 | 1994-03-15 | 印刷用ガラス凹版の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07253660A true JPH07253660A (ja) | 1995-10-03 |
Family
ID=12663711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4343894A Pending JPH07253660A (ja) | 1994-03-15 | 1994-03-15 | 印刷用ガラス凹版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07253660A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007069553A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 凹版の製造方法および印刷方法 |
| KR100763170B1 (ko) * | 2001-10-04 | 2007-10-08 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 인쇄장비 및 이를 이용한 인쇄방법 |
| KR100798315B1 (ko) * | 2001-12-29 | 2008-01-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시장치의 기판 구조 및 그 제조방법 |
| KR100825312B1 (ko) * | 2001-10-30 | 2008-04-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치용 인쇄 장비의 구조 |
-
1994
- 1994-03-15 JP JP4343894A patent/JPH07253660A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100763170B1 (ko) * | 2001-10-04 | 2007-10-08 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 인쇄장비 및 이를 이용한 인쇄방법 |
| KR100825312B1 (ko) * | 2001-10-30 | 2008-04-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치용 인쇄 장비의 구조 |
| KR100798315B1 (ko) * | 2001-12-29 | 2008-01-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시장치의 기판 구조 및 그 제조방법 |
| JP2007069553A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 凹版の製造方法および印刷方法 |
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