JPH02305640A - 液体転写用物品及びその製造方法 - Google Patents
液体転写用物品及びその製造方法Info
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- JPH02305640A JPH02305640A JP2111863A JP11186390A JPH02305640A JP H02305640 A JPH02305640 A JP H02305640A JP 2111863 A JP2111863 A JP 2111863A JP 11186390 A JP11186390 A JP 11186390A JP H02305640 A JPH02305640 A JP H02305640A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、例えば グラビア印刷において使用のための
ロールのような正確に計量された量の液体の別の表面へ
の転写に使用される液体転写用物品を製造する方法に関
するものである。本発明はまた、そうした方法おいて製
造された物品にも関係する。液体転写物品は、基材を理
論密度の95%を超える密度を有するセラミック或いは
金属炭化物、金属或いはその混合物でコーティングし、
続いてコーティング表面にレーザ放射ビームを差し向け
て、コーティング表面上に液体を受容する凹部或いはく
ぼみパターンを生成しそして後前記レーザ刻印コーティ
ング表面を6ミクロインチ未満のRa、好ましくは4ミ
クロインチ未満のR。
ロールのような正確に計量された量の液体の別の表面へ
の転写に使用される液体転写用物品を製造する方法に関
するものである。本発明はまた、そうした方法おいて製
造された物品にも関係する。液体転写物品は、基材を理
論密度の95%を超える密度を有するセラミック或いは
金属炭化物、金属或いはその混合物でコーティングし、
続いてコーティング表面にレーザ放射ビームを差し向け
て、コーティング表面上に液体を受容する凹部或いはく
ぼみパターンを生成しそして後前記レーザ刻印コーティ
ング表面を6ミクロインチ未満のRa、好ましくは4ミ
クロインチ未満のR。
の表面粗さまで仕上処理することにより製造される。
(従来技術)
印刷ロールのような液体転写物品は、指定された量の液
体、例えばインキ或いは他の物質をその表面から別の表
面へと移すのに印刷業界で使用される。液体転写物品は
一般に、液体を受容するに適した凹部或いは(ぼみパタ
ーンを有する表面を具備し、このパターンが、別の表面
が液体転写用物品により接触されるときその表面に移さ
れる。
体、例えばインキ或いは他の物質をその表面から別の表
面へと移すのに印刷業界で使用される。液体転写物品は
一般に、液体を受容するに適した凹部或いは(ぼみパタ
ーンを有する表面を具備し、このパターンが、別の表面
が液体転写用物品により接触されるときその表面に移さ
れる。
液体がインキでありそしてインキが液体転写用物品に塗
布されるとき、凹部はインキで充填され、同時に液体転
写用物品の残りの表面即ちランド域における僅かのイン
キは拭いとられる。インキは凹部により定義されるその
パターンにおいてのみ含有されるから、このパターンが
別の表面に転写される。
布されるとき、凹部はインキで充填され、同時に液体転
写用物品の残りの表面即ちランド域における僅かのイン
キは拭いとられる。インキは凹部により定義されるその
パターンにおいてのみ含有されるから、このパターンが
別の表面に転写される。
工業的実施において、液体転写用物品のランド域から僅
かの過剰の液体を除去するのにワイパ或いはドクターブ
レードが使用される。コーティング物品の表面が粗すぎ
ると、インキのような余剰の液体は物品の粗いラウウド
域から完全に除去されず、受取り表面上に過剰のインキ
の転写及び/或いは受取り表面の間違った場所へのイン
キの転写をもたらす、従って、液体転写物品表面は、平
滑でそして液体を受容するに充分明確に画定された凹部
を具備せねばならない。
かの過剰の液体を除去するのにワイパ或いはドクターブ
レードが使用される。コーティング物品の表面が粗すぎ
ると、インキのような余剰の液体は物品の粗いラウウド
域から完全に除去されず、受取り表面上に過剰のインキ
の転写及び/或いは受取り表面の間違った場所へのイン
キの転写をもたらす、従って、液体転写物品表面は、平
滑でそして液体を受容するに充分明確に画定された凹部
を具備せねばならない。
グラビア型ロールは一般に液体転写ロールとして使用さ
れる。グラビア型ロールはまた、アプリケーションロー
ル或いはパターンロールとも呼ばれる。グラビアロール
は、ロール表面の然るべき部分に様々の寸法の凹部を切
削或いは刻印することにより生成される。これら凹部に
液体が充填されそして後液体が受取り表面に転写される
。凹部の直径及び深さは、液体転写容積を制御するよう
変更されつる。受取り表面に転写されるべき液体のパタ
ーンを提供するのは凹部の位置であり、他方凹部を定義
するランド域は僅かでも液体を転写してはならない。ラ
ンド域は、液体が表面に適用されそして液体が凹部を充
満するとき、余剰の液体がロール表面を横切ってドクタ
ーブレードで払拭することにより除去しつるような共通
表面水準である。
れる。グラビア型ロールはまた、アプリケーションロー
ル或いはパターンロールとも呼ばれる。グラビアロール
は、ロール表面の然るべき部分に様々の寸法の凹部を切
削或いは刻印することにより生成される。これら凹部に
液体が充填されそして後液体が受取り表面に転写される
。凹部の直径及び深さは、液体転写容積を制御するよう
変更されつる。受取り表面に転写されるべき液体のパタ
ーンを提供するのは凹部の位置であり、他方凹部を定義
するランド域は僅かでも液体を転写してはならない。ラ
ンド域は、液体が表面に適用されそして液体が凹部を充
満するとき、余剰の液体がロール表面を横切ってドクタ
ーブレードで払拭することにより除去しつるような共通
表面水準である。
凹部の深さ及び寸法が、受取り表面に転写される液体の
量を決定する。凹部の深さ及び寸法並びに表面上での凹
部の位置(パターン)を制御することにより、転写され
るべき液体の容積及び受取り表面に転写される液体の位
置の精密な制御が実現される。加えて、液体は、凹部深
さ及び7寸法を変更することにより異なった印刷密度を
有する予備決定された高精密パターンにおいて受取り表
面に転写されつる。
量を決定する。凹部の深さ及び寸法並びに表面上での凹
部の位置(パターン)を制御することにより、転写され
るべき液体の容積及び受取り表面に転写される液体の位
置の精密な制御が実現される。加えて、液体は、凹部深
さ及び7寸法を変更することにより異なった印刷密度を
有する予備決定された高精密パターンにおいて受取り表
面に転写されつる。
代表的に、グラビアロールは、銅の外側層を有する金属
製である。一般に、銅を刻印するのに使用される刻印技
術は、凹部パターンを掘るのに例えばダイアモンドスチ
ルを使用する機械的方法或いは凹部パターンを化学的に
エツチングする光化学的方法である。刻印の完了後、銅
表面は通常クロムめっきされる。この最後の段階は、ロ
ールの刻印された銅表面の摩耗寿命を改善するのに必要
とされる。クロムめっき無しでは、ロールは急速に摩耗
し、そして印刷業界で使用されるインキにより容易に腐
食される。この理由の為、クロムめっき無しでは、銅ロ
ールは許容水準以下の低い寿命しか持たない。
製である。一般に、銅を刻印するのに使用される刻印技
術は、凹部パターンを掘るのに例えばダイアモンドスチ
ルを使用する機械的方法或いは凹部パターンを化学的に
エツチングする光化学的方法である。刻印の完了後、銅
表面は通常クロムめっきされる。この最後の段階は、ロ
ールの刻印された銅表面の摩耗寿命を改善するのに必要
とされる。クロムめっき無しでは、ロールは急速に摩耗
し、そして印刷業界で使用されるインキにより容易に腐
食される。この理由の為、クロムめっき無しでは、銅ロ
ールは許容水準以下の低い寿命しか持たない。
しかしながら、クロムめっきを行なった場合でも50−
ルの寿命は許容しえない程に短いことが多い、これは、
流体の研磨作用とドクターブレードによる払拭(擦過)
作用とによるものである。
ルの寿命は許容しえない程に短いことが多い、これは、
流体の研磨作用とドクターブレードによる払拭(擦過)
作用とによるものである。
多くの用途において、ロールの急速な摩耗は、大きめの
寸法の深さを有する凹部を有する大きめの寸法のロール
を用意することにより対処されてきた。しかし、これら
ロールは、ロールが新しいうちは液体転写が過剰である
という欠点を有した。
寸法の深さを有する凹部を有する大きめの寸法のロール
を用意することにより対処されてきた。しかし、これら
ロールは、ロールが新しいうちは液体転写が過剰である
という欠点を有した。
加えて、ロールが摩耗するにつれ、受取り表面に転写さ
れる液体量は急激に減少し、それにより品質制御問題を
生ぜしめた。クロムめっき銅ロールの急速な摩耗はまた
かなりの休止時間及び保守コストをもたらす。
れる液体量は急激に減少し、それにより品質制御問題を
生ぜしめた。クロムめっき銅ロールの急速な摩耗はまた
かなりの休止時間及び保守コストをもたらす。
極めて長い寿命を与えるようにアニロックスロールとし
てセラミックロールが長年使用されてきた。アニロック
スロールはロールの作用表面全体にわたって一様な容積
の液体を転写する液体転写ロールである。セラミックコ
ーティングロールの刻印は、銅ロールを刻印するために
従来使用されてきた刻印技術では有効にはなしえない、
その結果、セラミックコーティングロールは一般に、レ
ーザ或いは電子ビームのような高エネルギービームを使
用して刻印(穴あけ)されてきた、しかしながら、レー
ザ刻印技術は、元のロール表面の上に火山のクレータの
外観を呈する、再溶融・凝固表面の形成をもたらした。
てセラミックロールが長年使用されてきた。アニロック
スロールはロールの作用表面全体にわたって一様な容積
の液体を転写する液体転写ロールである。セラミックコ
ーティングロールの刻印は、銅ロールを刻印するために
従来使用されてきた刻印技術では有効にはなしえない、
その結果、セラミックコーティングロールは一般に、レ
ーザ或いは電子ビームのような高エネルギービームを使
用して刻印(穴あけ)されてきた、しかしながら、レー
ザ刻印技術は、元のロール表面の上に火山のクレータの
外観を呈する、再溶融・凝固表面の形成をもたらした。
これは、高エネルギービームにより衝突されるに際して
表面から飛ばされた溶融材料の凝固によりもたらされる
。即ち、再凝固材料は、エネルギービームにより蒸発せ
しめられなかったレーザ刻印凹部を取り巻(コーティン
グ材料が再凝固したものである(以下、凝着物と云う)
。
表面から飛ばされた溶融材料の凝固によりもたらされる
。即ち、再凝固材料は、エネルギービームにより蒸発せ
しめられなかったレーザ刻印凹部を取り巻(コーティン
グ材料が再凝固したものである(以下、凝着物と云う)
。
(発明が解決しようとする課題)
凝着物付着表面は、アニロックスロールは全体が刻印さ
れそしてパターンを持たないため、アニロックスロール
の機能に顕著には影響を及ぼさない。しかし、液体転写
パターンが必要とされるグラビア印刷プロセスでは、凝
着物付着表面は顕著な問題をもたらす、グラビアロール
とアニロックスロールとの主たる差は、アニロックスロ
ールは表面全体が刻印されるのに対して、グラビアロー
ルではロールの一部が所定のパターンを形成するよう刻
印されることである。グラビアロールがパターンにより
決定される制御された態様で液体を転写するためには、
液体はドクターブレードにより刻印されていないランド
域から完全に拭い取られねばならない、レーザ刻印セラ
ミックロールの場合には、液体のを僅かに保持するラン
ド域の小孔の存在や凝着物表面部により、ドクターブレ
ードはランド域から液体を完全には除去しえない。
れそしてパターンを持たないため、アニロックスロール
の機能に顕著には影響を及ぼさない。しかし、液体転写
パターンが必要とされるグラビア印刷プロセスでは、凝
着物付着表面は顕著な問題をもたらす、グラビアロール
とアニロックスロールとの主たる差は、アニロックスロ
ールは表面全体が刻印されるのに対して、グラビアロー
ルではロールの一部が所定のパターンを形成するよう刻
印されることである。グラビアロールがパターンにより
決定される制御された態様で液体を転写するためには、
液体はドクターブレードにより刻印されていないランド
域から完全に拭い取られねばならない、レーザ刻印セラ
ミックロールの場合には、液体のを僅かに保持するラン
ド域の小孔の存在や凝着物表面部により、ドクターブレ
ードはランド域から液体を完全には除去しえない。
凝着物表面部は大半の印刷用途に対して排除されねばな
らないが、ランド域の小孔の存在も液体をランド域に捕
捉しそして受取り表面に転写するから重要な問題である
。この問題は特に隣り合う凹部及びパターン間の遷移帯
域で顕著である。そこでは、液体が本来汚してはならな
いランド壇上に付着する傾向がある。
らないが、ランド域の小孔の存在も液体をランド域に捕
捉しそして受取り表面に転写するから重要な問題である
。この問題は特に隣り合う凹部及びパターン間の遷移帯
域で顕著である。そこでは、液体が本来汚してはならな
いランド壇上に付着する傾向がある。
本発明の課題は、液体を容易に且つ効率的に拭い取るこ
との出来るランド域と適当な受取り表面に転写すること
の出来る調量された量の液体を保持するための複数の凹
部を具備する、印刷ロールのような、低気孔度でそして
高密度のセラミック金属炭化物、金属或いはその混合物
のコーティングを有するレーザ刻印液体転写物品を開発
することである。
との出来るランド域と適当な受取り表面に転写すること
の出来る調量された量の液体を保持するための複数の凹
部を具備する、印刷ロールのような、低気孔度でそして
高密度のセラミック金属炭化物、金属或いはその混合物
のコーティングを有するレーザ刻印液体転写物品を開発
することである。
本発明の別の課題は、低気孔度でそして高密度のセラミ
ック、金属炭化物、金属或いはその混合物のコーティン
グレーザ刻印液体転写物品を製造する有利な方法開発す
ることである。
ック、金属炭化物、金属或いはその混合物のコーティン
グレーザ刻印液体転写物品を製造する有利な方法開発す
ることである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、セラミック、金属炭化物、金属或いはその混
合物から成る群から選択される材料でコーティングされ
た液体転写物品に関係する。液体転写物品のコーティン
グ表面は、液体を受容するに適しそし゛Cパターンを定
義する複数のレーザ刻印凹部を含む第1部分と、少なく
とも 800HV o、 s *好ましくは1000H
VO,sの表面硬さと、95%理論密度を超える、好ま
しくは97%理論密度を超える密度と、約6ミクロイン
チ未満のR6、好ましくは約4ミクロインチ未満のRa
の表面粗さとを有するランド域を構成する第2部分とを
具備する。本明細書で使用するものとしての「Ra1」
とは、ANSI方法846.1(1978)によりミク
ロインチ単位で測定した平均表面粗さである。この測定
システムでは数が大きい程表面は粗くなる。
合物から成る群から選択される材料でコーティングされ
た液体転写物品に関係する。液体転写物品のコーティン
グ表面は、液体を受容するに適しそし゛Cパターンを定
義する複数のレーザ刻印凹部を含む第1部分と、少なく
とも 800HV o、 s *好ましくは1000H
VO,sの表面硬さと、95%理論密度を超える、好ま
しくは97%理論密度を超える密度と、約6ミクロイン
チ未満のR6、好ましくは約4ミクロインチ未満のRa
の表面粗さとを有するランド域を構成する第2部分とを
具備する。本明細書で使用するものとしての「Ra1」
とは、ANSI方法846.1(1978)によりミク
ロインチ単位で測定した平均表面粗さである。この測定
システムでは数が大きい程表面は粗くなる。
これら特性を有するランド域は表面気孔をほとんど乃至
全黙示さずそして表面に接触した液体が従来型式のドク
ターブレードを使用して容易に且つ効率的に拭い取られ
ることを可能ならしめる。
全黙示さずそして表面に接触した液体が従来型式のドク
ターブレードを使用して容易に且つ効率的に拭い取られ
ることを可能ならしめる。
従って、インキのような液体が液体転写物品の表面に付
着されるとき、液体は凹部に流入しそしてそこに留まり
、同時に僅かの過剰の液体はランド域の表面から拭い取
ることが出来る。これは、液体転写物品がグラビアロー
ルであるとき、凹部内のインキは適当な表面に転写され
、同時にロールのランド域に接触した表面部はインキ汚
れを完全に含まなくなる。
着されるとき、液体は凹部に流入しそしてそこに留まり
、同時に僅かの過剰の液体はランド域の表面から拭い取
ることが出来る。これは、液体転写物品がグラビアロー
ルであるとき、凹部内のインキは適当な表面に転写され
、同時にロールのランド域に接触した表面部はインキ汚
れを完全に含まなくなる。
本発明の別の様相は、液体を転写するのに使用される液
体転写物品を製造する方法に関係し、この方法は、 (a)物品をセラミック、金属炭化物、金属或いはその
混合物から成る群から選択される材料の少なくとも一つ
の層でコーティングして、該コーティング層の表面が少
なくとも95%理論密度の密度を有するものとなす段階
と、 (b)該コーティング表面をエネルギービームで刻印し
て、表面の第1部分に凹部のパターンをそしてエネルギ
ービームにより接触されなかった第2表面部分にランド
域を創成する段階と、(C)前記エネルギービームによ
り凹部の周囲に形成された僅かの凝着材料を除去しそし
て6ミクロイン千未満のRa,好ましくは4ミクロイン
チ未満のRaを有するランド域表面を与えるよう、前記
レーザ刻印コーティング表面を処理する段階と を包含する。
体転写物品を製造する方法に関係し、この方法は、 (a)物品をセラミック、金属炭化物、金属或いはその
混合物から成る群から選択される材料の少なくとも一つ
の層でコーティングして、該コーティング層の表面が少
なくとも95%理論密度の密度を有するものとなす段階
と、 (b)該コーティング表面をエネルギービームで刻印し
て、表面の第1部分に凹部のパターンをそしてエネルギ
ービームにより接触されなかった第2表面部分にランド
域を創成する段階と、(C)前記エネルギービームによ
り凹部の周囲に形成された僅かの凝着材料を除去しそし
て6ミクロイン千未満のRa,好ましくは4ミクロイン
チ未満のRaを有するランド域表面を与えるよう、前記
レーザ刻印コーティング表面を処理する段階と を包含する。
一般に、コーティングそしてシーラント(使用されるの
なら)の被覆適用後、表面は、従来からの研磨技術によ
り、ロール表面としての所望の寸法及び誤差にまでそし
てレーザ処理に対して一様な表面を提供するために20
ミクロインチ以下のR,、好ましくは10ミクロインチ
Raの粗さまで仕上げられる。レーザ刻印後、凝着域は
レーザ刻印前のコーティング物品の元の表面高さまで或
いはそれ以下に仕上げられそしてランド域は6ミクロイ
ンチR,、好ましくは4ミクロインチRa以下の粗さを
与えるよう仕上げられる。厳密さの少ない用途では、僅
かの凝着物付着領域は容認されつる。
なら)の被覆適用後、表面は、従来からの研磨技術によ
り、ロール表面としての所望の寸法及び誤差にまでそし
てレーザ処理に対して一様な表面を提供するために20
ミクロインチ以下のR,、好ましくは10ミクロインチ
Raの粗さまで仕上げられる。レーザ刻印後、凝着域は
レーザ刻印前のコーティング物品の元の表面高さまで或
いはそれ以下に仕上げられそしてランド域は6ミクロイ
ンチR,、好ましくは4ミクロインチRa以下の粗さを
与えるよう仕上げられる。厳密さの少ない用途では、僅
かの凝着物付着領域は容認されつる。
上述したように、凝着領域は、エネルギービームにより
蒸発されず、再凝固した、コーティング材料がレーザ刻
印凹部な取り巻いて融着したものである。凝着材料は元
のコーティングとはかなり異なりつることが見出された
。一般に、凝着材料は元の材料より高密度でありそして
低気孔質である。多相コーティングにおいて、凝着材料
は代表的に、単−相であるように思われる。ランド域の
表面上方の凝着材料の除去は、ドクターブレードがラン
ド域に残存する僅かの液体を除去することを可能ならし
めるために必要とされる。これは、誤った場所において
受取り表面に所望されざる液体が転写されるのを防止す
る。
蒸発されず、再凝固した、コーティング材料がレーザ刻
印凹部な取り巻いて融着したものである。凝着材料は元
のコーティングとはかなり異なりつることが見出された
。一般に、凝着材料は元の材料より高密度でありそして
低気孔質である。多相コーティングにおいて、凝着材料
は代表的に、単−相であるように思われる。ランド域の
表面上方の凝着材料の除去は、ドクターブレードがラン
ド域に残存する僅かの液体を除去することを可能ならし
めるために必要とされる。これは、誤った場所において
受取り表面に所望されざる液体が転写されるのを防止す
る。
好ましくは、前述した段階(a)の後、次の段階が追加
される: (a゛)コーティング物品をシーラントで目止め、即ち
シールする段階。
される: (a゛)コーティング物品をシーラントで目止め、即ち
シールする段階。
適当なシーラントは、本件出願人から販売されているU
CARa00シーラントのようなエポキシシーラントで
ある。UCARlooは、DGEBRを含有する熱硬化
性エポキシ樹脂に対するユニオンカーバイド社の商品名
である。シーラントはコーティングプロセス中発現しつ
る微小な孔を有効に塞ぎ、従ってコーティング物品の使
用中遭遇する水及びアルカリ溶液に対する耐性を与えそ
して同時にコーティング物品の取扱い中遭遇する恐れの
ある汚染に対する防止作用を提供する。
CARa00シーラントのようなエポキシシーラントで
ある。UCARlooは、DGEBRを含有する熱硬化
性エポキシ樹脂に対するユニオンカーバイド社の商品名
である。シーラントはコーティングプロセス中発現しつ
る微小な孔を有効に塞ぎ、従ってコーティング物品の使
用中遭遇する水及びアルカリ溶液に対する耐性を与えそ
して同時にコーティング物品の取扱い中遭遇する恐れの
ある汚染に対する防止作用を提供する。
(発明の詳細な説明)
耐火酸化物或いは金属炭化物コーティングのような任意
の適当なセラミック或いは金属或いはその混合物コーテ
ィングがロールの表面に被覆されつる。例えば、炭化タ
ングステン−コバルト、炭化タングステン−ニッケル、
炭化タングステン−コバルト・クロム、炭化タングステ
ン−クロム、炭化タングステン−ニッケル・クロム、ク
ロム−ニッケル、酸化アルミニウム、炭化クロム−ニッ
ケル・クロム、炭化クロム−コバルト・クロム、タング
ステン−炭化チタン−ニッケル、コバルト合金、酸化物
分散コバルト合金、アルミナ−チタニア、銅基合金、ク
ロム基合金、酸化クロム、酸化クロム+酸化アルミニウ
ム、酸化チタン、チタン+酸化アルミニウム、鉄基合金
、酸化物分散鉄基合金、ニッケル及びニッケル基合金そ
の他が使用されつる。好ましくは、酸化クロム(Crt
(L)、酸化アルミニウム(Alias)及び酸化珪素
並びにその混合物がコーティング材料として使用され、
酸化クロムが最も好ましい。
の適当なセラミック或いは金属或いはその混合物コーテ
ィングがロールの表面に被覆されつる。例えば、炭化タ
ングステン−コバルト、炭化タングステン−ニッケル、
炭化タングステン−コバルト・クロム、炭化タングステ
ン−クロム、炭化タングステン−ニッケル・クロム、ク
ロム−ニッケル、酸化アルミニウム、炭化クロム−ニッ
ケル・クロム、炭化クロム−コバルト・クロム、タング
ステン−炭化チタン−ニッケル、コバルト合金、酸化物
分散コバルト合金、アルミナ−チタニア、銅基合金、ク
ロム基合金、酸化クロム、酸化クロム+酸化アルミニウ
ム、酸化チタン、チタン+酸化アルミニウム、鉄基合金
、酸化物分散鉄基合金、ニッケル及びニッケル基合金そ
の他が使用されつる。好ましくは、酸化クロム(Crt
(L)、酸化アルミニウム(Alias)及び酸化珪素
並びにその混合物がコーティング材料として使用され、
酸化クロムが最も好ましい。
これら金属、セラミックス(酸化物)、金属炭化物及び
その混合物は、2つの周知の方法、即ち爆発銃(det
onation gun)法(D−続演とも呼ばれる)
及びプラズマコーティング法のいずれかによりロールの
金属表面に被覆される。爆発銃法は。
その混合物は、2つの周知の方法、即ち爆発銃(det
onation gun)法(D−続演とも呼ばれる)
及びプラズマコーティング法のいずれかによりロールの
金属表面に被覆される。爆発銃法は。
周知でありそして米国特許第2.714,563.4゜
173.685;及び4,519.840号に詳しく記
載される。基材をコーティングするための従来からのプ
ラズマ技術は、米国特許第3.016.447: 3.
914.573 、3,958.097 、4,173
.685;及び4,519.840号に記載される。プ
ラズマ法或いは爆発銃法いずれかにより被覆されるコー
ティングの厚さは、0.5〜100ミルの範囲をとりそ
して粗さはプロセス、即ちD−銃或いはプラズマ、コー
ティング材料の種類、コーティング厚さに依存して約5
0〜t oooミクロインチRaの範囲にある。
173.685;及び4,519.840号に詳しく記
載される。基材をコーティングするための従来からのプ
ラズマ技術は、米国特許第3.016.447: 3.
914.573 、3,958.097 、4,173
.685;及び4,519.840号に記載される。プ
ラズマ法或いは爆発銃法いずれかにより被覆されるコー
ティングの厚さは、0.5〜100ミルの範囲をとりそ
して粗さはプロセス、即ちD−銃或いはプラズマ、コー
ティング材料の種類、コーティング厚さに依存して約5
0〜t oooミクロインチRaの範囲にある。
上述したように、ロール上のコーティングは好ましくは
、例えばユニオンカーバイド社から市販入手されるUC
ARa00エポキシのようなエポキシシーラントに代表
される適当な孔目止め材で処理されうる。この処理は、
水分或いは他の種腐食性物質がコーティングを通して浸
透するのを防止して、ロールの下側構造部に付着しそし
て劣化するのを防止するべく孔を塞ぐ。
、例えばユニオンカーバイド社から市販入手されるUC
ARa00エポキシのようなエポキシシーラントに代表
される適当な孔目止め材で処理されうる。この処理は、
水分或いは他の種腐食性物質がコーティングを通して浸
透するのを防止して、ロールの下側構造部に付着しそし
て劣化するのを防止するべく孔を塞ぐ。
コーティングされたロールは、20ミクロインチ以下の
粗さまで表面仕上された後、コーティング材料表面にレ
ーザ形成凹部により定義される適当なパターンを創出す
るためにCO2レーザを使用してレーザ刻印される。
粗さまで表面仕上された後、コーティング材料表面にレ
ーザ形成凹部により定義される適当なパターンを創出す
るためにCO2レーザを使用してレーザ刻印される。
転写されるべき液体の容積は、各凹部の容積(深さ及び
直径)並びに単位面積当りの凹部の数により制御される
。レーザ形成凹部の深さは、数ミクロン以下から120
〜140ミクロン或いはもっと大きい範囲までとりつる
。もちろん、各凹部の平均直径は、単位長さ当りのレー
ザ形成凹部のパターンと数により制御される。好ましく
は、物品の表面の帯域は、2つの部分に分割される。
直径)並びに単位面積当りの凹部の数により制御される
。レーザ形成凹部の深さは、数ミクロン以下から120
〜140ミクロン或いはもっと大きい範囲までとりつる
。もちろん、各凹部の平均直径は、単位長さ当りのレー
ザ形成凹部のパターンと数により制御される。好ましく
は、物品の表面の帯域は、2つの部分に分割される。
第1の部分は、方形パターン、30度パターン或いは4
5度パターンのような一様なパターンにおける凹部を含
み、単位インチ長さ当りのレーザ刻印凹部の数は代表的
に80〜550の範囲でありそして残りの第2部分は凹
部を含まない(ランド域)。ランド埴土での凝着物の存
在は、ドクターブレードがランド埴土の僅かの液体を除
去するべ゛く表面を横切って移動されるに際してランド
域の凹部のない部分へのインキ汚染をもたらす。凹部間
で平滑なランド域を生成するべく凝着物質を除去するこ
とにより、この問題は回避される。
5度パターンのような一様なパターンにおける凹部を含
み、単位インチ長さ当りのレーザ刻印凹部の数は代表的
に80〜550の範囲でありそして残りの第2部分は凹
部を含まない(ランド域)。ランド埴土での凝着物の存
在は、ドクターブレードがランド埴土の僅かの液体を除
去するべ゛く表面を横切って移動されるに際してランド
域の凹部のない部分へのインキ汚染をもたらす。凹部間
で平滑なランド域を生成するべく凝着物質を除去するこ
とにより、この問題は回避される。
広く様々のレーザ機械が、コーティングに凹部を形成す
るのに使用されつる。一般に、10〜300ミクロ秒の
期間に0.0001〜0.4ジユール/レーザパルスの
ビーム或いはパルス放射を発生することの出来るレーザ
が使用されつる。レーザパルスは所望される特定の凹部
パターンに依存して30〜2000ミクロ抄の間隔とさ
れつる。
るのに使用されつる。一般に、10〜300ミクロ秒の
期間に0.0001〜0.4ジユール/レーザパルスの
ビーム或いはパルス放射を発生することの出来るレーザ
が使用されつる。レーザパルスは所望される特定の凹部
パターンに依存して30〜2000ミクロ抄の間隔とさ
れつる。
もっと高い或いは低いエネルギー及び期間の値が使用出
来そして斯界で容易に得られる他のレーザ刻印技術が本
発明において使用されつる。レーザ刻印後、表面粗さは
代表的に、2o〜toooミクロインチRaの範囲であ
り、そして凹部は10〜300ミクロン直径及び5〜2
50ミクロン深さ範囲である。
来そして斯界で容易に得られる他のレーザ刻印技術が本
発明において使用されつる。レーザ刻印後、表面粗さは
代表的に、2o〜toooミクロインチRaの範囲であ
り、そして凹部は10〜300ミクロン直径及び5〜2
50ミクロン深さ範囲である。
ロールのような液体転写物品のレーザ処理後、コーティ
ングされた表面は、例えばr Carbideand
Tool Journa月3月/4月り1988)にお
いて掲載されたr Roll Superfinish
ing withCoated AbrasivesJ
に記載されるようなミクロ仕上げ(超仕上げとも呼ばれ
ろ)を使用して約6ミクロインチ未満に仕上げられる。
ングされた表面は、例えばr Carbideand
Tool Journa月3月/4月り1988)にお
いて掲載されたr Roll Superfinish
ing withCoated AbrasivesJ
に記載されるようなミクロ仕上げ(超仕上げとも呼ばれ
ろ)を使用して約6ミクロインチ未満に仕上げられる。
ミクロ仕上げ技術は、刻印されたロールの全長にわたっ
て予想可能な一貫した表面仕上げを与えそしてドクター
ブレードによってすべての所望されざる液体がランド域
から有効に除去されつるよう凝着物の存在しない表面を
提供する。
て予想可能な一貫した表面仕上げを与えそしてドクター
ブレードによってすべての所望されざる液体がランド域
から有効に除去されつるよう凝着物の存在しない表面を
提供する。
第1及び2図は、鋼製基材4とセラミックス製表面コー
ティング6を有する従来からのシリンダロール2を示す
、コーティングされた表面の一部は従来からのレーザ刻
印処理による場合に見出される複数の凹部8を備えるも
のとして示される。
ティング6を有する従来からのシリンダロール2を示す
、コーティングされた表面の一部は従来からのレーザ刻
印処理による場合に見出される複数の凹部8を備えるも
のとして示される。
詳しくは、コーティングされた表面はそこに適当なパタ
ーンの凹部8を生成するべ(レーザを使用してレーザ刻
印され、その場合各凹部は受取り表面に転写されるべき
液体量を受容するよう予備選択された容積を有する。実
際上は、凹部の数は図示したよりも著しく多くそして人
間の目では識別出来ない程群集している。レーザ刻印凹
部の深さは、数ミクロン乃至それ以下から200ミクロ
ン乃至それ以上にも及んで変化しつる。第1及び2図に
示されるように、レーザ刻印は凹部8の形成と同時に各
凹部8の周囲に形成される新たな凝着域lOをもたらす
。凝着部は小さな火山クレータの様相を有しそしてコー
ティング表面がレーザがらの高エネルギービームにより
衝突されるときコーティング層表面から放出された溶融
コーティング材料の凝固により生じる。
ーンの凹部8を生成するべ(レーザを使用してレーザ刻
印され、その場合各凹部は受取り表面に転写されるべき
液体量を受容するよう予備選択された容積を有する。実
際上は、凹部の数は図示したよりも著しく多くそして人
間の目では識別出来ない程群集している。レーザ刻印凹
部の深さは、数ミクロン乃至それ以下から200ミクロ
ン乃至それ以上にも及んで変化しつる。第1及び2図に
示されるように、レーザ刻印は凹部8の形成と同時に各
凹部8の周囲に形成される新たな凝着域lOをもたらす
。凝着部は小さな火山クレータの様相を有しそしてコー
ティング表面がレーザがらの高エネルギービームにより
衝突されるときコーティング層表面から放出された溶融
コーティング材料の凝固により生じる。
液体転写物品のコーティング表面のレーザ処理後、コー
ティング表面は先に述べたようなミクロ仕上技術を使用
して約6ミクロインチ未満のRaの粗さにまで仕上げら
れる。ミクロ仕上技術はコーティング表面全長にわたっ
て予想可能な、−貫した表面仕上を提供しモして各凹部
周囲の凝着域を有効に排除する。第3及び4図は、仕上
処理が完了した後の第1図のロールを示し、ここでは凝
着域lOが除去されて平滑な表面が提供されている。ロ
ール2の長手軸線14に平行なロール表面の平面に含ま
れる帯域として定義される表面域12はランド域と呼ば
れる。先に述べたように、隣り合う凹部間の帯域を含む
ランド域が適正な密度を持たず、表面が所望されざる小
孔を持つと、ドクターブレードはランド域から液体をう
まく完全に除去しえない、ランド域に残存する僅かの液
体が所望されない汚れとして受取り表面に転写されまた
受取り表面の誤った場所に転写される。
ティング表面は先に述べたようなミクロ仕上技術を使用
して約6ミクロインチ未満のRaの粗さにまで仕上げら
れる。ミクロ仕上技術はコーティング表面全長にわたっ
て予想可能な、−貫した表面仕上を提供しモして各凹部
周囲の凝着域を有効に排除する。第3及び4図は、仕上
処理が完了した後の第1図のロールを示し、ここでは凝
着域lOが除去されて平滑な表面が提供されている。ロ
ール2の長手軸線14に平行なロール表面の平面に含ま
れる帯域として定義される表面域12はランド域と呼ば
れる。先に述べたように、隣り合う凹部間の帯域を含む
ランド域が適正な密度を持たず、表面が所望されざる小
孔を持つと、ドクターブレードはランド域から液体をう
まく完全に除去しえない、ランド域に残存する僅かの液
体が所望されない汚れとして受取り表面に転写されまた
受取り表面の誤った場所に転写される。
本発明に従えば、ランド域は理論値の95%を超える密
度と、約6ミクロインチ未満のR5、好ましくは約4ミ
クロインチ未満のRaの表面粗さを有する。これら特性
を有するランド域を使用すると、ランド域に含まれる僅
かの液体はドクターブレードにより容易に且つ有効に除
去されつるので、受取り表面に転写される液体は凹部8
内に含まれる液体のみとなる。これは液体が受取り表面
の誤った場所に転写されないことを保証しまた受取り表
面上のインキ汚れを防止する。
度と、約6ミクロインチ未満のR5、好ましくは約4ミ
クロインチ未満のRaの表面粗さを有する。これら特性
を有するランド域を使用すると、ランド域に含まれる僅
かの液体はドクターブレードにより容易に且つ有効に除
去されつるので、受取り表面に転写される液体は凹部8
内に含まれる液体のみとなる。これは液体が受取り表面
の誤った場所に転写されないことを保証しまた受取り表
面上のインキ汚れを防止する。
レーザ刻印コーティングロールをミクロ仕上するための
代表的手段は、ロール表面を横切ってフィルム裏打ちダ
イアモンドテープを連続的に移動することである。テー
プ速度及び粒度は望まれる凝着物除去速度に対して設定
され、そして代表的にテープ移動速度は3〜4インチ/
分(8〜10cm/分)の範囲である。研磨テープがロ
ールに沿って移動されるに際して、ロールもまた50〜
100 rpmの回転速度で回転せしめられる。研磨テ
ープは、ロールの表面に特定の粗さ水準が得られるよう
に従来手段によりロールに押し付けそして制御するよう
にすることも出来る。ロールにおけるR、粗さは所望の
値に達するまで連続的に測定されつる。
代表的手段は、ロール表面を横切ってフィルム裏打ちダ
イアモンドテープを連続的に移動することである。テー
プ速度及び粒度は望まれる凝着物除去速度に対して設定
され、そして代表的にテープ移動速度は3〜4インチ/
分(8〜10cm/分)の範囲である。研磨テープがロ
ールに沿って移動されるに際して、ロールもまた50〜
100 rpmの回転速度で回転せしめられる。研磨テ
ープは、ロールの表面に特定の粗さ水準が得られるよう
に従来手段によりロールに押し付けそして制御するよう
にすることも出来る。ロールにおけるR、粗さは所望の
値に達するまで連続的に測定されつる。
転写される代表的液体はインキであるが、液体接着剤の
ような他の適当な液体も使用出来る。
ような他の適当な液体も使用出来る。
仕上プロセス全体中、コーティングロール表面における
凹部の所望の液体転写容積が達成されるように刻印域の
凹部の容積を絶えず測定することを可能とする精密な技
術を使用することが推奨される。液体転写容積を測定す
るための好ましい方法は、表面に既知容積のインキを塗
布しそしてなるだけ多くの凹部を完全に充填するように
表面全体にインキを広げることである。インキ刷り(印
刷)がロールのインキ付き部分においてためされそして
受取り表面上での像即ちインキプロットの面積が正確に
測定される。ロールに付着したインキの既知容積を転写
像の測定面積で割り、その商がロールの容積容量である
。インキの1ミクロリツトルは109(ミクロン)3
であるから、インキ容積がミクロリットル単位でそして
面積がインチ2単位であるなら、単位は109ミクロン
3/インチ” (BGM/1n2)である。
凹部の所望の液体転写容積が達成されるように刻印域の
凹部の容積を絶えず測定することを可能とする精密な技
術を使用することが推奨される。液体転写容積を測定す
るための好ましい方法は、表面に既知容積のインキを塗
布しそしてなるだけ多くの凹部を完全に充填するように
表面全体にインキを広げることである。インキ刷り(印
刷)がロールのインキ付き部分においてためされそして
受取り表面上での像即ちインキプロットの面積が正確に
測定される。ロールに付着したインキの既知容積を転写
像の測定面積で割り、その商がロールの容積容量である
。インキの1ミクロリツトルは109(ミクロン)3
であるから、インキ容積がミクロリットル単位でそして
面積がインチ2単位であるなら、単位は109ミクロン
3/インチ” (BGM/1n2)である。
(実施例及び比較例)
以下の例において、転写容積を次のようにして測定した
。
。
1、ピペットを使用して水溶性インキの25ミクロリツ
トルのサンプルを吸い上げる。
トルのサンプルを吸い上げる。
2、ロールの表面にインキを徐々に押し出すことにより
ロールの表面上にインキを落す。ロールは測定される表
面を上にむけてロール軸線を水平にして整列する。約3
74インチの距離にわたってインキを左右に振り分けな
がらピペットを約45度の角度に保持しつつロールの周
囲にそれを進行する。
ロールの表面上にインキを落す。ロールは測定される表
面を上にむけてロール軸線を水平にして整列する。約3
74インチの距離にわたってインキを左右に振り分けな
がらピペットを約45度の角度に保持しつつロールの周
囲にそれを進行する。
3、ドクターブレードをロール軸線に直交する方向にお
いてロール周囲表面を横切ってゆつ(りとそして安定し
て通過させることによりインキを広げる。ドクターブレ
ードはそれがインキ付着物の大部分と接触するようにイ
ンキ付着と同じ方向に通される。
いてロール周囲表面を横切ってゆつ(りとそして安定し
て通過させることによりインキを広げる。ドクターブレ
ードはそれがインキ付着物の大部分と接触するようにイ
ンキ付着と同じ方向に通される。
4、ロール表面におけるインキ像が転写紙をインキ付き
領域上に載せることにより紙に転写される。ずつを防止
するよう紙を密着状態に保持しながら、紙の裏面をこす
ってインキをロールの凹部から受取り表面に転写する。
領域上に載せることにより紙に転写される。ずつを防止
するよう紙を密着状態に保持しながら、紙の裏面をこす
ってインキをロールの凹部から受取り表面に転写する。
目標は既知インキ量により充填された刻印部のの像をう
ることであるから、凹部内のインキのすべてを転写する
ことは必要でない。紙が取り除かれそしてロール表面は
ステンレス鋼製清掃ブラシを使用して蒸留水で速やかに
浄化される。像の縁辺がフェザ−エツジ状を有している
なら、乾燥時にフェルトチップブラックベンで、輪郭線
の外縁が最大像密度点と像が消失する点との中間になる
ようにして、像を輪郭どる。
ることであるから、凹部内のインキのすべてを転写する
ことは必要でない。紙が取り除かれそしてロール表面は
ステンレス鋼製清掃ブラシを使用して蒸留水で速やかに
浄化される。像の縁辺がフェザ−エツジ状を有している
なら、乾燥時にフェルトチップブラックベンで、輪郭線
の外縁が最大像密度点と像が消失する点との中間になる
ようにして、像を輪郭どる。
5.像の面積を標準的技術を使用してブラニメータで像
の輪郭をトレースすることにより測定する。別様には、
約0,2インチのますめを有する転写紙を使用して手作
業で面積を計算するか或いはコンピュータスキャニング
技術を使用することも出来る。
の輪郭をトレースすることにより測定する。別様には、
約0,2インチのますめを有する転写紙を使用して手作
業で面積を計算するか或いはコンピュータスキャニング
技術を使用することも出来る。
例工
6.5インチ直径×24インチ長さのシリンダ作用表面
を有するロールをプラズマ溶射プロセスにより酸化クロ
ム(Crabj)でコーティングした。
を有するロールをプラズマ溶射プロセスにより酸化クロ
ム(Crabj)でコーティングした。
コーティングの表面は18R,の仕上げ粗さまで研磨し
た。作用表面をCO2パルスレーザでレーザ刻印した0
表面を一様なレーザ凹部パターンを有する第1部分とレ
ーザー凹部を有しない第2部分(ランド域)の2つの部
分にわけて、表面全体にわたってレーザ凹部パターンを
形成した。レーザ凹部パターンは凹部パターン形成部分
のみレーザが作動するようにレーザ設備をプログラム化
することにより形成した。
た。作用表面をCO2パルスレーザでレーザ刻印した0
表面を一様なレーザ凹部パターンを有する第1部分とレ
ーザー凹部を有しない第2部分(ランド域)の2つの部
分にわけて、表面全体にわたってレーザ凹部パターンを
形成した。レーザ凹部パターンは凹部パターン形成部分
のみレーザが作動するようにレーザ設備をプログラム化
することにより形成した。
レーザにより凹部形成後、ロール表面を約4インチ巾の
テープにダイヤモンド粒子を付着した研磨テープを使用
してミクロ仕上した。研磨テープを圧力を適用しながら
ロール上を移動した。ロールは研磨テープをロール表面
を横切って9回の往復パスを行なうことにより仕上げた
。表Aには、粒度(研磨粒子のミクロン単位での平均寸
法)及びロールに台板を圧接する圧力(ロール表面にテ
ープを押し付けるのに使用した1、5インチ直径のシリ
ンダの空気圧力を測定)を示す。
テープにダイヤモンド粒子を付着した研磨テープを使用
してミクロ仕上した。研磨テープを圧力を適用しながら
ロール上を移動した。ロールは研磨テープをロール表面
を横切って9回の往復パスを行なうことにより仕上げた
。表Aには、粒度(研磨粒子のミクロン単位での平均寸
法)及びロールに台板を圧接する圧力(ロール表面にテ
ープを押し付けるのに使用した1、5インチ直径のシリ
ンダの空気圧力を測定)を示す。
表A
8 15 40 5 19.510
9 30 4 19.012 6
30 3 19.014 3
20 3 18.516 3 15
3 18.5第2番目のバス毎にRa及びイン
キ容積試験を行ないそして所望の粗さが得られるまで次
の2段階を繰り返した。その後、ロールをインキを受取
り表面に転写するのに使用した。転写されたインキは凹
部内に受容されていたインキのみでありそしてランド域
に相当する受取り表面上の帯域はインキ汚れ或いは所望
されざるインキ付着の兆候を示さなかった。
9 30 4 19.012 6
30 3 19.014 3
20 3 18.516 3 15
3 18.5第2番目のバス毎にRa及びイン
キ容積試験を行ないそして所望の粗さが得られるまで次
の2段階を繰り返した。その後、ロールをインキを受取
り表面に転写するのに使用した。転写されたインキは凹
部内に受容されていたインキのみでありそしてランド域
に相当する受取り表面上の帯域はインキ汚れ或いは所望
されざるインキ付着の兆候を示さなかった。
表面をアミクロインチRa或いはもっと高い粗さく6回
より少ないバス)に仕上げたサンプルロールを、各ロー
ルの表面をドクターブレードがきれいに拭い取ることが
出来るかどうかを見るために試験した。各ロールの表面
粗さがアミクロインチより高いサンプルのすべてにおい
て、ドクターブレードは誤った位置において受取り表面
に転写される所望されざるインキを残した。各ロールが
5ミクロインチR,以下(7回以上のパス)の粗さに表
面を仕上げられた他のサンプルロールにおいては、ドク
ターブレードは各ロールの表面をきれいに払拭出来たの
で、受取り表面に誤った位置においてインキは転写され
なかった。
より少ないバス)に仕上げたサンプルロールを、各ロー
ルの表面をドクターブレードがきれいに拭い取ることが
出来るかどうかを見るために試験した。各ロールの表面
粗さがアミクロインチより高いサンプルのすべてにおい
て、ドクターブレードは誤った位置において受取り表面
に転写される所望されざるインキを残した。各ロールが
5ミクロインチR,以下(7回以上のパス)の粗さに表
面を仕上げられた他のサンプルロールにおいては、ドク
ターブレードは各ロールの表面をきれいに払拭出来たの
で、受取り表面に誤った位置においてインキは転写され
なかった。
液体媒体としてラテックス接着剤を使用する場合には、
表面粗さは、大半の用途において、表面がドクターブレ
ードにより拭われた後表面に所望されざる接着剤が残存
しないように4ミクロインチRa以下に仕上げられるべ
きである。
表面粗さは、大半の用途において、表面がドクターブレ
ードにより拭われた後表面に所望されざる接着剤が残存
しないように4ミクロインチRa以下に仕上げられるべ
きである。
(発明の効果)
液体を容易に且つ効率的に拭い取ることの出来るランド
域と適当な受取り表面に転写することの出来る調量され
た量の液体を保持するための複数の凹部を具備する、印
刷ロールのような、妖気孔度でそして高密度のセラミッ
ク等コーティングレーザ刻印液体転写物品を提供し、液
体転写の信頼性を向上する。
域と適当な受取り表面に転写することの出来る調量され
た量の液体を保持するための複数の凹部を具備する、印
刷ロールのような、妖気孔度でそして高密度のセラミッ
ク等コーティングレーザ刻印液体転写物品を提供し、液
体転写の信頼性を向上する。
本発明の好ましい具体例について説明したが、本発明の
範囲内で当業者は多くの変更をなしうることを銘記され
たい。
範囲内で当業者は多くの変更をなしうることを銘記され
たい。
第1図は、ロール表面のレーザ刻印パターンを示すロー
ルの側面図である。 第2図は、第1図の2−2線に沿うロールの断面図であ
る。 第3図は、凝着部を除去した後のロールの側面図である
。 第4図は、第3図の4−44mに沿うロールの断面図で
ある。 2:ロール 4:基材 ゛6:表面コーティング 8:凹部 lO:凝着物 12:ランド域
ルの側面図である。 第2図は、第1図の2−2線に沿うロールの断面図であ
る。 第3図は、凝着部を除去した後のロールの側面図である
。 第4図は、第3図の4−44mに沿うロールの断面図で
ある。 2:ロール 4:基材 ゛6:表面コーティング 8:凹部 lO:凝着物 12:ランド域
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)セラミック、金属炭化物、金属及びその混合物から
成る群から選択される材料でコーティングされた液体転
写物品であって、コーティング表面が液体を受容するに
適しそしてパターンを定義する複数のレーザ刻印凹部を
含む第1部分と、95%理論密度を超える密度と、約6
ミクロインチ未満のR_aの表面粗さを有するランド域
を構成する第2部分とを具備することを特徴とする液体
転写物品。 2)表面粗さが4ミクロインチ未満のR_aである特許
請求の範囲第1項記載の液体転写物品。 3)コーティング材料が酸化クロム、酸化アルミニウム
、酸化珪素及びその混合物を含む群から選択される特許
請求の範囲第1項記載の液体転写物品。 4)物品が酸化クロムでコーティングされた鋼製である
特許請求の範囲第1項記載の液体転写物品。 5)ランド域の密度が97%理論密度をを超える特許請
求の範囲第2、3、或いは4項記載の液体転写物品。 6)物品がシリンダ状ロールである特許請求の範囲第2
、3、或いは4項記載の液体転写物品。 7)物品がシリンダ状グラビアロールである特許請求の
範囲第2、3、或いは4項記載の液体転写物品。 8)液体を転写するのに使用される液体転写物品を製造
する方法であって、 (a)物品をセラミック、金属炭化物、金属及びその混
合物から成る群から選択される材料の少なくとも一つの
層でコーティングして、該コーティング層の表面が少な
くとも95%理論密度の密度を有するものとなす段階と
、 (b)該コーティング表面をエネルギービームで刻印し
て、表面の第1部分に凹部のパターンをそしてエネルギ
ービームにより接触されなかった第2表面部分にランド
域を創成する段階と、 (c)前記エネルギービームにより凹部の周囲に形成さ
れた僅かの凝着材料を除去しそして6ミクロインチ未満
のR_aを有するランド域表面を与えるよう、前記レー
ザ刻印コーティング表面を処理する段階と を包含する液体転写物品製造方法。 9)段階(a)の後、(a′)コーティング表面を20
ミクロインチR_a未満の粗さを得るよう処理する段階
を含む特許請求の範囲第8項記載の方法。 10)段階(a)の後、(a′)コーティング表面を1
0ミクロインチR_a未満の粗さを得るよう処理する段
階を含む特許請求の範囲第8項記載の方法。 11)段階(a)の後、(a′)コーティング物品をシ
ーラントでシールする段階を含む特許請求の範囲第8項
記載の方法。 12)段階(a′)の後、(a″)コーティング表面を
20ミクロインチR_a未満の粗さを得るよう処理する
段階を含む特許請求の範囲第11項記載の方法。 13)段階(c)において、ランド域の粗さが約4ミク
ロインチR_a未満である特許請求の範囲第12項記載
の方法。 14)段階(a)において、コーティング材料が酸化ク
ロム、酸化アルミニウム、酸化珪素及びその混合物を含
む群から選択される特許請求の範囲第8項或いは13項
記載の方法。 15)段階(a)において、物品が酸化クロムでコーテ
ィングされた鋼製である特許請求の範囲第8項或いは1
3項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US346573 | 1989-05-02 | ||
US07/346,573 US5093180A (en) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | Liquid transfer articles and method for producing them |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02305640A true JPH02305640A (ja) | 1990-12-19 |
JPH0780285B2 JPH0780285B2 (ja) | 1995-08-30 |
Family
ID=23360047
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2111863A Expired - Fee Related JPH0780285B2 (ja) | 1989-05-02 | 1990-05-01 | 液体転写用物品及びその製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5093180A (ja) |
EP (1) | EP0396114B1 (ja) |
JP (1) | JPH0780285B2 (ja) |
KR (1) | KR940005642B1 (ja) |
AU (1) | AU621745B2 (ja) |
CA (1) | CA2015807C (ja) |
DE (1) | DE69010562T2 (ja) |
ES (1) | ES2056291T3 (ja) |
FI (1) | FI902141A0 (ja) |
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JP2009090504A (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-30 | Panasonic Corp | 印刷用凹版およびその製造方法 |
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