JPH0557177A - 固定層反応槽 - Google Patents
固定層反応槽Info
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- JPH0557177A JPH0557177A JP24256491A JP24256491A JPH0557177A JP H0557177 A JPH0557177 A JP H0557177A JP 24256491 A JP24256491 A JP 24256491A JP 24256491 A JP24256491 A JP 24256491A JP H0557177 A JPH0557177 A JP H0557177A
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 固定層反応槽に関し、処理しようとする粉粒
体を炉床へ供給する際、ガス分散板上に一方に偏った姿
に粉粒体が堆積されるのを防止して回転翼による粉粒体
層の平坦化を容易ならしめると共に反応ガスの偏流等を
防止する。 【構成】 槽本体の頂部に開口されている供給口から供
給される粉粒体を胴部内周壁近傍へ分散流下せしめる分
配装置及前記粉粒体の供給により炉床に形成される粉粒
体層を平坦化する回転翼を装着。
体を炉床へ供給する際、ガス分散板上に一方に偏った姿
に粉粒体が堆積されるのを防止して回転翼による粉粒体
層の平坦化を容易ならしめると共に反応ガスの偏流等を
防止する。 【構成】 槽本体の頂部に開口されている供給口から供
給される粉粒体を胴部内周壁近傍へ分散流下せしめる分
配装置及前記粉粒体の供給により炉床に形成される粉粒
体層を平坦化する回転翼を装着。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、粉粒体の還元処理等に
用いるに好適な固定層（又は固定床）反応槽に関するも
のである。
用いるに好適な固定層（又は固定床）反応槽に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】周知の如く、粉粒体の還元や酸化処理等
は、一般に固定層（又は固定床）方式により行われてい
るが、係る粉粒体の炉床への供給は、図２において示さ
れているように、槽本体１の頂部に開口されている供給
口２から投入されて行われる。その為、前記粉粒体が、
ガス分散板３上に図示のように一方に偏った姿に堆積さ
れ、このような堆積姿のままで処理すると、ガス供給口
４から圧力室５を経て炉床へ供給される反応ガスに偏流
が生じ、これでは良好な処理が困難である。そこで、駆
動装置６で回転される軸７に装着された回転翼８により
粉粒体層９を平坦化した上で処理を行っていた。
は、一般に固定層（又は固定床）方式により行われてい
るが、係る粉粒体の炉床への供給は、図２において示さ
れているように、槽本体１の頂部に開口されている供給
口２から投入されて行われる。その為、前記粉粒体が、
ガス分散板３上に図示のように一方に偏った姿に堆積さ
れ、このような堆積姿のままで処理すると、ガス供給口
４から圧力室５を経て炉床へ供給される反応ガスに偏流
が生じ、これでは良好な処理が困難である。そこで、駆
動装置６で回転される軸７に装着された回転翼８により
粉粒体層９を平坦化した上で処理を行っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、係る回転翼８
による粉粒体層９の平坦化を行っても、反応ガスの偏流
防止等が十分でなく、この点の一層の改善が必要とされ
ていた。
による粉粒体層９の平坦化を行っても、反応ガスの偏流
防止等が十分でなく、この点の一層の改善が必要とされ
ていた。
【０００４】本発明は、このようなことに着目し、これ
を解決すべく鋭意検討の結果、処理しようとする粉粒体
を炉床へ供給するに際し、粉粒体を反応槽本体の胴部内
周壁近傍へ分散流下させることが反応ガスの偏流防止等
に好適であると共に、これに加えて、落下衝撃による粉
粒体の微細化や粒度分布の偏り等を防止することがより
一段と効果的であること見出したのである。
を解決すべく鋭意検討の結果、処理しようとする粉粒体
を炉床へ供給するに際し、粉粒体を反応槽本体の胴部内
周壁近傍へ分散流下させることが反応ガスの偏流防止等
に好適であると共に、これに加えて、落下衝撃による粉
粒体の微細化や粒度分布の偏り等を防止することがより
一段と効果的であること見出したのである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明に係る
固定層反応槽は、槽本体内を上下に区分するように前記
槽本体内に装着されたガス分散板上に形成される粉粒体
層を平坦化する回転翼を装着した固定層反応槽におい
て、前記槽本体の頂部に開口されている供給口から供給
される前記粉粒体を胴部内周壁近傍へ分散流下せしめる
分配装置を備えたことを特徴とし、また、他の固定層反
応槽は、分配装置を、回転翼が装着されている軸と同心
状に装着された陣笠状体と、下端開口部内に前記陣笠状
体の頂部を突出させて粉粒体流出口を形成するように装
着された筒状体と、供給口側一端が供給口に導かれると
共に出口側他端が前記筒状体の側部に開口された粉粒体
供給管と、供給口側一端が槽本体の頂部若しくは胴部に
開口されると共に出口側他端が前記粉粒体供給管の出口
側一端に開口された分級防止用ガス供給管とで構成した
ことを特徴とするとするものである。
固定層反応槽は、槽本体内を上下に区分するように前記
槽本体内に装着されたガス分散板上に形成される粉粒体
層を平坦化する回転翼を装着した固定層反応槽におい
て、前記槽本体の頂部に開口されている供給口から供給
される前記粉粒体を胴部内周壁近傍へ分散流下せしめる
分配装置を備えたことを特徴とし、また、他の固定層反
応槽は、分配装置を、回転翼が装着されている軸と同心
状に装着された陣笠状体と、下端開口部内に前記陣笠状
体の頂部を突出させて粉粒体流出口を形成するように装
着された筒状体と、供給口側一端が供給口に導かれると
共に出口側他端が前記筒状体の側部に開口された粉粒体
供給管と、供給口側一端が槽本体の頂部若しくは胴部に
開口されると共に出口側他端が前記粉粒体供給管の出口
側一端に開口された分級防止用ガス供給管とで構成した
ことを特徴とするとするものである。
【０００６】
【実施例】以下、本発明に係る一実施例について図面に
基いて述べると、図１において、槽本体１は密閉容器状
体に設けられ、その内方にガス分散板３を装着して下方
に圧力室５を形成していると共に上方に、排気口１０を
開口した処理室１１を形成している。なお、圧力室５に
はガス供給口４が開口され、また、ガス分散板３の中心
部には、処理した粉粒体を槽本体１外へ取り出す排出弁
１２が装着されている。
基いて述べると、図１において、槽本体１は密閉容器状
体に設けられ、その内方にガス分散板３を装着して下方
に圧力室５を形成していると共に上方に、排気口１０を
開口した処理室１１を形成している。なお、圧力室５に
はガス供給口４が開口され、また、ガス分散板３の中心
部には、処理した粉粒体を槽本体１外へ取り出す排出弁
１２が装着されている。
【０００７】一方、処理室１１には、ガス分散板３上に
形成される粉粒体層を平坦化する為の回転翼８、及び分
配装置１２が装着されている。なお、回転翼８は、棒状
体で構成され、槽本体１の頂部に装着されている駆動装
置６により回転される軸７に装着されている。また、分
配装置１２は、軸７に固着された陣笠状体１３と、下端
開口部内に陣笠状体１３の頂部を突出させて粉粒体流出
口１４を形成するように装着された筒状体１５と、供給
口側一端１６が槽本体１の頂部に開口されている供給口
２に導かれると共に出口側他端１７が筒状体１５の側部
に開口された粉粒体供給管１８と、供給口側一端１９が
槽本体１の頂部に開口されると共に出口側他端２０が粉
粒体供給管１８の出口側一端１７に開口された分級防止
用ガス供給管２１とで構成されている。
形成される粉粒体層を平坦化する為の回転翼８、及び分
配装置１２が装着されている。なお、回転翼８は、棒状
体で構成され、槽本体１の頂部に装着されている駆動装
置６により回転される軸７に装着されている。また、分
配装置１２は、軸７に固着された陣笠状体１３と、下端
開口部内に陣笠状体１３の頂部を突出させて粉粒体流出
口１４を形成するように装着された筒状体１５と、供給
口側一端１６が槽本体１の頂部に開口されている供給口
２に導かれると共に出口側他端１７が筒状体１５の側部
に開口された粉粒体供給管１８と、供給口側一端１９が
槽本体１の頂部に開口されると共に出口側他端２０が粉
粒体供給管１８の出口側一端１７に開口された分級防止
用ガス供給管２１とで構成されている。
【０００８】而して、本反応槽によると、回転翼８を停
止させた状態において、分級防止用ガス供給管２１の供
給口側一端１９から所定ガスを供給し、次いで、粉粒体
供給管１８の供給口側一端１６から処理しようとする粉
粒体を供給すると、この粉粒体は、粉粒体供給管１８の
出口側他端１７部分において分級防止用ガス供給管２１
の出口側他端２０から吹き出されるガスによって攪拌状
態にされる。
止させた状態において、分級防止用ガス供給管２１の供
給口側一端１９から所定ガスを供給し、次いで、粉粒体
供給管１８の供給口側一端１６から処理しようとする粉
粒体を供給すると、この粉粒体は、粉粒体供給管１８の
出口側他端１７部分において分級防止用ガス供給管２１
の出口側他端２０から吹き出されるガスによって攪拌状
態にされる。
【０００９】その為、供給口側一端１６から流下する粉
粒体が出口側他端１７部分に達する間に、重量や大きさ
等の諸条件の相違に基いて分級されても、これを再び均
質にすることができ、従って、粉粒体流出口１４から炉
床へ均質状態に分散、すなわち、細い粉粒体が部分的に
偏った状態等に分散されるのを防止することができ、ま
た、その際、粉粒体流出口１４から流出する粉粒体を、
陣笠状体１３により胴部内周壁近傍へ３６０度（全方
向）に分散流下せしめて分配することができるから、従
来の反応槽において発生していたような、一方に偏った
姿に堆積（図２参照）されてしまうといった問題を解消
することができ、従って、炉床への所定量の供給後、回
転翼８を介して容易に平坦化することができる。
粒体が出口側他端１７部分に達する間に、重量や大きさ
等の諸条件の相違に基いて分級されても、これを再び均
質にすることができ、従って、粉粒体流出口１４から炉
床へ均質状態に分散、すなわち、細い粉粒体が部分的に
偏った状態等に分散されるのを防止することができ、ま
た、その際、粉粒体流出口１４から流出する粉粒体を、
陣笠状体１３により胴部内周壁近傍へ３６０度（全方
向）に分散流下せしめて分配することができるから、従
来の反応槽において発生していたような、一方に偏った
姿に堆積（図２参照）されてしまうといった問題を解消
することができ、従って、炉床への所定量の供給後、回
転翼８を介して容易に平坦化することができる。
【００１０】更に、粉粒体供給管１８の供給口側一端１
６から供給された粉粒体を、筒状体１５内に一時的に滞
留させる状態に、その一定量を粉粒体流出口１４から流
出させることができるから、落下衝撃による粉粒体の微
細化や粒度分布の偏り等も防止することができ、従っ
て、密度が均一な粉粒体層９を形成することができるの
で、処理に際して反応ガスの偏流を防止し得て良好に処
理することができる。
６から供給された粉粒体を、筒状体１５内に一時的に滞
留させる状態に、その一定量を粉粒体流出口１４から流
出させることができるから、落下衝撃による粉粒体の微
細化や粒度分布の偏り等も防止することができ、従っ
て、密度が均一な粉粒体層９を形成することができるの
で、処理に際して反応ガスの偏流を防止し得て良好に処
理することができる。
【００１１】なお、分級防止用ガス供給管２からのガス
供給は、炉床へ所定量の粉粒体を供給し得た時点で停止
されるが、分配装置１２は、粉粒体がその流路に残存し
得ない構造に設けられているから、粉粒体供給量の全量
が炉床へ分散される。万一、残存しても、陣笠状体１３
が回転翼８と一緒に回転されるので、残存量を炉床へ分
散することができる。
供給は、炉床へ所定量の粉粒体を供給し得た時点で停止
されるが、分配装置１２は、粉粒体がその流路に残存し
得ない構造に設けられているから、粉粒体供給量の全量
が炉床へ分散される。万一、残存しても、陣笠状体１３
が回転翼８と一緒に回転されるので、残存量を炉床へ分
散することができる。
【００１２】処理中、ガス供給口４から反応ガスが供給
されるが、この供給は回転翼８による平坦化を終えた後
に開始される。反応ガスは、酸化、還元等その処理目的
に応じて所定の反応ガスが選択され、かつ加熱を必要と
する場合には所定温度に加熱されて供給される。分級防
止用ガスも所定のものが適宜に選択される。なお、反応
ガスは、炉床の粉粒体を流動化させないで固定層（又は
固定床）状態に保つように所定に供給され、かつ所定に
処理し得た粉粒体は、排出弁１２を開口させて槽外へ取
り出すことができる。
されるが、この供給は回転翼８による平坦化を終えた後
に開始される。反応ガスは、酸化、還元等その処理目的
に応じて所定の反応ガスが選択され、かつ加熱を必要と
する場合には所定温度に加熱されて供給される。分級防
止用ガスも所定のものが適宜に選択される。なお、反応
ガスは、炉床の粉粒体を流動化させないで固定層（又は
固定床）状態に保つように所定に供給され、かつ所定に
処理し得た粉粒体は、排出弁１２を開口させて槽外へ取
り出すことができる。
【００１３】以上、本発明に係る一実施例について述べ
たが、本発明においては、陣笠状体１３は、軸７に上下
動し得るように装着して粉粒体流出口１４の大きさを調
整し得るようにするのが好ましく、回転翼８も同様に装
着して平坦化する位置を調整し得るようにするのが好ま
しい。なお、陣笠状体１３を軸７に装着しないで、槽本
体１に装着してもよい。また、分級防止用ガス供給管２
１についても、これの供給口側一端１９を槽本体１の胴
部に開口させてもよい。
たが、本発明においては、陣笠状体１３は、軸７に上下
動し得るように装着して粉粒体流出口１４の大きさを調
整し得るようにするのが好ましく、回転翼８も同様に装
着して平坦化する位置を調整し得るようにするのが好ま
しい。なお、陣笠状体１３を軸７に装着しないで、槽本
体１に装着してもよい。また、分級防止用ガス供給管２
１についても、これの供給口側一端１９を槽本体１の胴
部に開口させてもよい。
【００１４】
【発明の効果】上述の如く、本発明によると、処理しよ
うとする粉粒体を、落下衝撃による粉粒体の微細化や粒
度分布の偏り等を防止しながら、炉床へ供給することが
できて処理に際して反応ガスの偏流を防止し得て良好に
処理することができる固定層（又は固定床）反応槽を得
ることができる。
うとする粉粒体を、落下衝撃による粉粒体の微細化や粒
度分布の偏り等を防止しながら、炉床へ供給することが
できて処理に際して反応ガスの偏流を防止し得て良好に
処理することができる固定層（又は固定床）反応槽を得
ることができる。
【図１】本発明に係る固定層反応槽の一実施例を示す正
面図である。
面図である。
【図２】従来の固定層反応槽の正面図である。
１ 槽本体 ２ 供給口 ３ ガス分散板 ４ ガス供給口 ７ 軸 ８ 回転翼 ９ 粉粒体層 １２ 分配装置 １３ 陣笠状体 １４ 粉粒体流出口 １５ 筒状体 １６ 粉粒体供給管の供給口側一端 １７ 粉粒体供給管の出口側他端 １８ 粉粒体供給管 １９ 分級防止用ガス供給管の供給口側一端 ２０ 分級防止用ガス供給管の出口側他端 ２１ 分級防止用ガス供給管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中尾 満 滋賀県大津市園山１丁目１番１号東レエン ジニアリング株式会社内 (72)発明者 川島 久幸 滋賀県大津市園山１丁目１番１号東レエン ジニアリング株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 槽本体内を上下に区分するように前記槽
本体内に装着されたガス分散板上に形成される粉粒体層
を平坦化する回転翼を装着した固定層反応槽において、
前記槽本体の頂部に開口されている供給口から供給され
る前記粉粒体を胴部内周壁近傍へ分散流下せしめる分配
装置を備えたことを特徴とする固定層反応槽。 - 【請求項２】 分配装置を、回転翼が装着されている軸
と同心状に装着された陣笠状体と、下端開口部内に前記
陣笠状体の頂部を突出させて粉粒体流出口を形成するよ
うに装着された筒状体と、供給口側一端が供給口に導か
れると共に出口側他端が前記筒状体の側部に開口された
粉粒体供給管と、供給口側一端が槽本体の頂部若しくは
胴部に開口されると共に出口側他端が前記粉粒体供給管
の出口側一端に開口された分級防止用ガス供給管とで構
成したことを特徴とする請求項１に記載の固定層反応
槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3242564A JP2535269B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 固定層反応槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3242564A JP2535269B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 固定層反応槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0557177A true JPH0557177A (ja) | 1993-03-09 |
| JP2535269B2 JP2535269B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=17090963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3242564A Expired - Lifetime JP2535269B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 固定層反応槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2535269B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009125601A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-11 | Daikin Ind Ltd | 粉粒体処理装置、および粉粒体処理システム |
| JP2009125602A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-11 | Daikin Ind Ltd | 粉粒体処理装置、および粉粒体処理システム |
| WO2009144482A1 (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | Catalyst Handling Research & Engineering Limited | Levelling system |
| US8157899B2 (en) | 2007-11-19 | 2012-04-17 | Daikin Industries, Ltd. | Particulate material processing apparatus and particulate material processing system |
| JP2016147228A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | ソフタード工業株式会社 | 触媒充填装置および触媒充填方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS602098A (ja) * | 1983-06-15 | 1985-01-08 | Fuji Electric Co Ltd | 軸発電装置の出力制御方式 |
-
1991
- 1991-08-27 JP JP3242564A patent/JP2535269B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS602098A (ja) * | 1983-06-15 | 1985-01-08 | Fuji Electric Co Ltd | 軸発電装置の出力制御方式 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009125601A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-11 | Daikin Ind Ltd | 粉粒体処理装置、および粉粒体処理システム |
| JP2009125602A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-11 | Daikin Ind Ltd | 粉粒体処理装置、および粉粒体処理システム |
| US8157899B2 (en) | 2007-11-19 | 2012-04-17 | Daikin Industries, Ltd. | Particulate material processing apparatus and particulate material processing system |
| WO2009144482A1 (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | Catalyst Handling Research & Engineering Limited | Levelling system |
| US8920099B2 (en) | 2008-05-30 | 2014-12-30 | Catalyst Handling Research And Engineering Limited | Levelling system |
| JP2016147228A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | ソフタード工業株式会社 | 触媒充填装置および触媒充填方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2535269B2 (ja) | 1996-09-18 |
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