JPH0556500B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、感光性樹脂に選択的な露光処理を施
すためのホトマスクに関する。したがつて本発明
は写真製版技術の分野において利用される。

従来の技術 感光性樹脂を用いてオフセツト印刷又は凸版印
刷等の刷版やプリント基板の回路形成に使用され
るレジストパターンを写真製版法により得るに
は、通常は、感光性樹脂の上に選択的に透明部と
不透明部とを形成して成る原画フイルムを重ねて
真空密着したのち、その上から活性光線を照射
し、次いで現像処理を行うという操作が施され
る。この写真製版法によつて、解像性の高い、原
画フイルムに忠実なものを得るためには、感光性
樹脂と原画フイルムとを完全に真空密着できるか
否かが重要となる。なぜならば、感光性樹脂と原
画フイルムとが完全に密着されていないと、露光
処理時に焼きボケを生じ、結果として解像性を低
下させてしまうからである。

従来の写真製版法では、原画フイルムは感光性
樹脂上に直接真空密着後露光処理される。その感
光性樹脂表面は、多少の粘着性を有し、かつ平滑
なため原画フイルムとの真空密着では、均一で完
全な密着はできなかつた。このような問題を改善
するために、感光性樹脂表面を微多孔化すること
によつて原板フイルムとの真空密着性を向上させ
る方法が提案されている（特公昭50−31488号公
報）。しかしながら、この方法では真空密着性は
改良されるが、微多孔化処理したフイルムまたは
シートを感光性樹脂表面に当てがい、圧接するこ
とによつ感光性樹脂表面に微多孔を転写するた
め、複雑な工程を必要とする。

一方、原画フイルムを直接感光性樹脂表面に密
着するために、原画フイルムは損傷を受け、複数
回にわたる使用ができないという問題があつた。

ところで、近年、感光性樹脂表面に保護シート
を有し、その保護シートを介して露光処理が行わ
れる感光性樹脂が、特に、プリント基板回路の製
造分野において多く使用されるようになつてい
る。これは、プリント基板回路に対する集積度及
び信頼性の要求の高まりに対応したものである。
この感光性樹脂は、一般に、ポリエチレンテレフ
タレートフイルムとポリオレフインフイルムの間
に感光性樹脂がサンドイツチ状にラミネートされ
たもので、ポリエチレンテレフタレートフイルム
は、感光性樹脂の保護シートとして感光度の安定
性を確保し、かつ外部からの物理的な影響から感
光性樹脂を保護する作用を有し、露光処理をする
時には、この保護シートを介して活性光線の照射
が行われる。この露光処理では原画フイルムと保
護シートを真空密着しなければならないが、とも
に平滑な表面を有するために、均一な密着を得る
ことができず、露光処理時に焼きボケを生じやす
く、また活性光線は原画フイルムと保護シートを
通つて感光層に照射されるため原画フイルムと保
護シートとの間に密着不良が生じると、解像性の
低下に大きく影響してしまうという問題点があ
る。

発明が解決しようとする問題点 本発明者らは、どのような感光性樹脂を使用し
た場合においても、その露光処理において、簡単
に感光性樹脂と原画フイルムとを、均一にかつ完
全に真空密着させうる方法の提供を目的として、
鋭意研究を行つた結果、本発明を完成した。

問題点を解決するための手段 本発明は、選択的に透明部と不透明部とを形成
した原画フイルムの画像面に保護フイルムを積層
してなるホストマスクにおいて、保護フイルムの
一つの面を微多孔化処理し、他の平滑面を画像面
側として積層したことを特徴とするホトマスクで
ある。

本発明の詳細を以下に説明する。

（原画フイルム） 本発明で使用される原画フイルムは、支持体に
感光乳剤を塗布し、乾燥したのちに、選択的露光
処理により、感光乳剤に潜像を生じさせ、そして
現像処理により光があたつたハロゲン化銀を金属
銀に還元することによつて選択的に透明部と不透
明部をなし画像面を形成したものである。特に好
ましい原画フイルムは、写真製版法において多用
されているリスフイルムである。

支持体としては、例えば、ポリスチレンフイル
ム、ポリカーボネートフイルム、ポリエステルフ
イルム、ポリエチレンフイルムなどが使用され
る。感光乳剤は、ゼラチンコロイドと硝酸銀、ハ
ロゲン化合物及び水から成るものである。

（保護フイルム） 本発明で使用される保護フイルムの素材として
は、光学的に均質であり無色透明で、膜厚が均一
であるとともに化学的に安定であることが要求さ
れる。そのような特性をもつ素材の具体例として
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリカーボネートなどを挙げ
ることができる。また、保護フイルムの膜厚とし
ては３〜30μmが好ましい。

上記の原画フイルムの感光乳剤面には、微多孔
化処理した表面を有する保護フイルムが積層され
る。感光乳剤面に積層される保護フイルムの面
は、微多孔化されていない面が使用される。

（微多孔化処理） 保護フイルムの表面の微多孔化処理としては、
例えば次のような方法が適用される。

(1) フイルムの表面をアルカリ又は酸で処理して
表面をあらす方法。

(2) フイルムに微粒子を噴射して、表面をあらす
方法。

(3) フイルムの表面に無機物粉末を散布して一様
に被覆した後、ニツプローラ間で圧延し、その
後に粉末を取り除くことによつて表面をあらす
方法。

(4) フイルムの表面に無機物粉末を混合させたウ
レタン樹脂などをコーテイングする方法。

このようにして得られる表面粗さは、処理程度
により任意に選べるが、本発明の目的のためには
平均粗さRaが0.01〜1.0μm、好ましくは0.1〜
0.4μmが適当である。

また、微多孔化処理は、透明な保護フイルムを
不透明にするが、この不透明化の度合としては、
微多孔化処理を施す前の保護フイルムの活性光線
の透過率を100％とした場合、微多孔化処理によ
るその透過率の低下を10％以内にするのが好まし
い。透過率の低下を10％より大きくしてしまう
と、露光処理における活性光線の照射時間がムダ
に長くなり、また、微多孔化面での活性光線の散
乱光が感光性樹脂中に入射して解像性を悪くする
ため好ましくない。

（積層する方法） 原画フイルムと保護フイルムの積層法としては
熱圧着法、接着法などで行われるが、原画フイル
ムの感光乳剤に悪影響を与えないことが必要であ
る。好ましい積層法は、透明なゼラチン系接着剤
を使用して積層させる方法である。

（使用例） 以上のようにして得られたホトマスクの使用方
法の一例を以下に示す。

上層より保護シート、感光性樹脂及び支持体と
から構成される感光性樹脂積層体を使用し、その
支持体をはがしながら、整面された銅張り積層板
にラミネータを用いて感光性樹脂を保護シートと
ともに加熱、加圧しながらラミネートする。次い
で、本発明のホトマスクを微多孔化処理を施した
面を下にして、保護シート上に真空密着させたの
ち、活性光線をホトマスクの上から照射する。次
いでホトマスク及び保護シートをはがしたのち、
現像処理を行うことによつて銅張り積層板上にレ
ジストパターンが形成される。

上例では、保護シートを介して活性光線の照射
が施される、いわゆるドライフイルムを使用した
プリント基板回路の製造時の使用例を示したが、
本発明のホトマスクは平滑な感光性樹脂に直接的
に真空密着して露光処理が施される印刷用の感光
性樹脂版にも有効に使用できる。

実施例 飽和ポリエステルであるバイロン200（東洋紡績社
製） 100重量部 イソシアナート系の架橋剤であるコロネートＬ
（日本ポリウレタン社製） １重量部 シリカ系無機物粉末であるラジオライト700（昭和
化学工業社製） 10重量部 シクロヘキサノン 200重量部 上記から成る微多孔化処理用組成物を、6μm厚
の片面がコロナ放電処理されたポリエステルフイ
ルムのコロナ放電未処理面にバーコーターで乾燥
膜厚が2μmとなるように塗布したのち、80℃で５
分間乾燥することによつて平均粗さRa＝0.2μm
の微多孔化処理表面層を形成した。その後、前記
フイルムのコロナ放電処理面にアクリル系樹脂で
あるアロンタツクＳ−1605（東亜合成化学工業社
製）100重量部と、コロネートＬ（日本ポリウレタ
ン社製）１重量部から成る粘着性組成物をバーコ
ーターにて乾燥膜厚2μmとなるように塗布、乾燥
して粘着層を形成した。そして、リスフイルムの
感光乳剤面に、上記粘着層を当接して、リスフイ
ルムとポリエステルフイルムとをラミネーター
で、常温で1.5Kg／cm²の圧力のもとに1.2m／min.
の速度でラミネートすることによつてホトマスク
を作成した。ポリエチレンテレフタレートフイル
ムを介して露光処理が施されるアクリル系感光性
樹脂積層体であるオーデイル（東京応化工業社
製）のポリエチレンテレフタレートフイルム面に
上記のホトマスクの微多孔化処理表面層を下にし
て真空密着させたところ、ムラのない均一な密着
ができた。次いでHMW−201B型露光機（オー
ク製作所社製）により露光したのち、ホトマスク
及びポリエチレンテレフタレートフイルムを除去
し、液温30℃の濃度1.5重量％炭酸ナトリウム水
溶液によりスプレー現像したところ、焼きボケの
全くない、原画に忠実な像が形成された。

発明の効果 本発明のホトマスクは、感光性樹脂との真空密
着において、均一にかつ完全に密着させることが
でき、露光処理時の焼きボケがなく、解像性を悪
くすることがない。

また、本発明のホトマスクは、極めて簡単な方
法により、あらゆる感光性樹脂のホトマスクとし
て有効に使用でき、従来の写真製版法における真
空密着性の問題点を解決したものである。

さらに、本発明のホトマスクは、原画フイルム
の感光乳剤面が微多孔化処理した表面を有する保
護フイルムによりカバーされているため、感光乳
剤面は損傷を受けにくく、ホトマスクとして、長
く使用することができるという効果をも有する。

【図面の簡単な説明】

図１は本発明によるホストマスクの一実施例の
横断面図である。図中の１は保護フイルム、２は
原画フイルムを示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 選択的に透明部と不透明部とを形成した原画
   フイルムの画像面に保護フイルムを積層してなる
   ホストマスクにおいて、保護フイルムの一つの面
   を微多孔化処理し、他の平滑面を画像面側として
   積層したことを特徴とするホトマスク。