JPH05508394A - 新規なcc―1065アナログ - Google Patents

新規なcc―1065アナログ

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JPH05508394A
JPH05508394A JP3508837A JP50883791A JPH05508394A JP H05508394 A JPH05508394 A JP H05508394A JP 3508837 A JP3508837 A JP 3508837A JP 50883791 A JP50883791 A JP 50883791A JP H05508394 A JPH05508394 A JP H05508394A
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hydrogen
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JP3508837A
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アリストフ,ポール・エイドリアン
ケリー,ロバート・チャールズ
ミッチェル,マーク・アレン
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ファルマシア・アンド・アップジョン・カンパニー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 新規なCC−1065アナログ 発明の背景 抗生物質CC−1065、(7bR,8aS)−7−[[1,6−シヒドロー4 −ヒドロキシ−5−メトキシ−7−[(4,5,8,8a−テトラヒドロ−7− メチル−4−オキソシクロプロパ[clピロロ[3,2−eコインドール−2( LH)−イル)カルボニルコニチル[1,2−b:4.3−b’]ジビロール− 3(2)1)−イル]カルボ二Iす1.6−シヒドロー4−ヒドロキシ−5−メ トキシ−ベンゾ[1,2−b:4.3−b“]]ジーロール−32H)−カルボ キサミドは、米国特許第4.169.888号[エル・ジェイ・バンカ(L、  J、Hanka)ら]において、好気性発酵法によって抗生物質CC−1065 を製造し、それらから抗生物質CC−1065を回収する方法と一緒に開示され 、クレームされている。
ジャーナル・オブ・アンチバイオティクス(Journal of Antib iotics)、1985.38.746において、ディー・ジー・マーチン( D、 GlMartin)らは、酢酸がCC−4065のスピロシクロプロピル シクロへキサジェニル(SCPCH)系と交差して付加してフェノール性酢酸生 成物(AAP)、7−[[7−[[1−[(アセチルオキシ)メチル]−1.6 −シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b・4.3−b’l ジビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1,6−シヒドロー4−ヒドロ キシ−5−メトキシベンゾ[1,2−b:4.3−b’コニービロール−3(2 H)−イル]カルボニル]−1,6−シヒドロー4−ヒドロキシ−5−メトキシ −ベンゾ[1,2−b:4.3−b’lジビロール−3(2H)−力ルポキサミ ドを生成することを開示した。AAPはin vitroおよびin vivo で試験され、個々の試験システムに左右される10”〜10’の係数だけCC− 1065はど有効でないことが判明し、したがって、有用な抗腫瘍剤として、ま たはCC−1065アナログに対するプロドラッグとして5CPCH系の付加物 から注意をそらしがちであった。
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ンサイエティ(J 、 Am、 C hew。
Soc、)、103、第18号、1981において、ダブリュ・ライ−レンガ( W。
Wierenga)は、「抗腫瘍剤CC−1065の左側部分の合成J(”5y nthesis ofthe Left−Hand Segment of t he Antftumor Agent CC−1065″)を開示した。
欧州特許出願第0154445号(1985年9月11日に公開された)には、 式EP−IおよびEP−II(欧州特許出願EPO154445の一般式チヤー ド参照)の化合物を含む抗生物質CC−1065の種々のアナログが開示されて いる[ここで、式EP−IIにおけるR8はCHs−1−CH2P h、 CH = CHCHt−1−CHzSCHs、−CH! OCHs、−CH20CH2 CHz OCHs、−CH2C(J、、−CHtCH2Si(R*)sまたはH SPhはフェニル;Rはアルキル(C,〜C3)、フェニルまたはH;R1’は C1〜Csアルキル、フェニルまたは水素、1つの化合物においてRと同一であ る必要はなく;R3はアルキル(C+ ””cs)、フェニルまたはH:XはC L Brもしくは■−またはOS 0IR41+1R4@は01〜C,アルキル 、フェニル、トリル、ブロモフェニル、ニトロフェニルまたはトリフルオロメチ ルである]。(米国特許第4,912.227号も参照)。式EP−IIの〇− 保護化合物は、化学的に安定であり、特定の化学条件下で除去可能なだけである 。しかし、式EP−IIの化合物が〇−説保護されると、それらを環化してEP −Iの化合物を得ることができる。抗生物質CC−1065の他のアナログは、 欧州特許出願第340243A号(1989年11月8日に公開された)に開示 されている。
欧州特許出願第0154445号ニハ、−Co−(CHz)−+ CO−[式中 、nlは2〜12]によって連結されたCPIダイマーおよび連結鎖−C(0) −(−RI 1−)−C(0)−Xマー(−CHzCtlrXt)−4<(0) −(−RI + −)−〇(の−[式中、RI1はCH2C)(!、CH=CH :LはQSNH,R4は1〜4、X7がNHである場合にHCIおよびMel塩 であるコによって連結されたCPIダイマーが開示されている。
現在放棄された1986年12月19日に出願された米国特許出願第944゜6 33号および1988年7月4日に公開された1987年12月11日に出願さ れた国際出願PCT/US87103227号において、−CO−(CHz)− +−〇〇−[式中、nlは2〜12]によって連結されたCP■POドラッグの さらなるダイマーおよび連結鎖−C(0)(−R+ + −)(:(0)−Xt  −(−C1l ICHx−X 7) −4−C(0)−(−Rl 1−)<( の−[式中AR11は CH,CH,、CH=CH:X7は0、NH,R4は1〜4、XrがNHである 場合1:HcJおよびMeI塩である]によって連結されたCPIダイマーが開 示されている。
1986年12月19日に出願された米国特許出願第944,633号および1 989年11月8日に公開された欧州特許出願第340243A号における物質 の種々の口頭およびポスター提示がなされている。
1988年9月12日に出願された米国特許出願第07/243.350号(現 在、放棄された)および1989年8月7日に出願された国際出願P CT/U  S89103329号には2つのCPIサブユニットを有するCC−1065 アナログの種々の口頭およびポスター提示が開示されている。
多くの刊行物において、癌の治療に関する腫瘍関連モノクローナル抗体(Mab )コンジュゲート体およびMab−hキシンコンジュゲート体の使用が開示され ている。例えば、欧州特許出願第87304516.5号(公開番号第7024 7792号)には、ヒドラジド基を含有する抗腫瘍性インドール−ジヒドロイン ドールビンカアルカロイドとアルデヒド基を含有する酸化糖蛋白との反応によっ て形成された免疫グロブリンコンジュゲート体が開示されている。抗体コンジュ ゲート体を開示している他の欧州特許出願としては、EP83400461.6 (公開番号第0088695号)、85401695.3(公開番号第0173 629号、米国特許第4.741.900号も参照)および85401776. 1(公開番号第0175617号)が挙げられる。
本発明は、以下に定義する、新規な合成によって得られた、化学中間体として有 用である式1および■の化合物(一般式チャード参照)を提供するものである。
代表的な式■および■化合物は、標準実験室動物試験において有用な範囲の抗腫 瘍活性を有することが判明した。本発明の化合物は、式1〜15において示され 、かつ実施例において詳述される化学的方法によって得られる。
さらに、CC−1065アナログ(式1および■の化合物)を、標的抗原を発現 するこれらの標的細胞に選択的に送達し、かくして動物またはヒトからこれらの 病気の細胞を選択的に除去する手段として、式1または■の化合物を、直接また は公知の連結基を介して、モノクローナル抗体に連結することができる。さらに 、式1および■の化合物を可溶性ヒトCD4またはヒト免疫ウィルスのgp12 0エンベロープ蛋白に結合する能力を有する可溶性ヒトCD4蛋白断片と結合さ せることができ、かくして、ウィルス感染した細胞を除去することができる。
発明の詳細な説明 さらに詳細には、本発明は、式1または■(式シート参照)の新規な化学化合物 を提供するものである。
式中、 Wは01〜C,アルキル、フェニルまたは水素:Xはアジド、ハロゲン原子、シ アネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート、ホスフェー トニジエステル(0−PO(OR)り、ポスポニkc OPChR)、チオホス *ニル(−0−PSOR)、スルフィニル(−0−5OR)またはスルホニル( −0−So2R)から選択され;DはR15またはR′よ、。
DがR′1.である場合、QはY: DがRI 5である場合、QはY′; Ylt水素、−C(0)R,−C(S)R,−C(0)ORI、−3(0)2R I、−C(0)N R2Rs、−C(S ) N R2Rs、−C(0)NH3 O!R,、−C(0)CHz(OCHxCH2)−70(Cl−Cs7 ル$ル )[:: で、R7はo〜5(好ましくは2もしくは3)ltたは C(OXG Hz)−ac(0)RJ’ら選択さh [:こで、R8はO〜10(好ましくは 2.3または4)、Rbは−○H(またはその金属もしくはアミン塩)、−OR ,(ここで、R,は−CH2C(CHloH)!またはR7゜)、および−N( R,)R,から選択される(ここで、R6は水素または01〜C4アルキル、R −は−C(CHzOH)s、 CH2C(CH20H)!、−CH2C(CHz NHJs、R70、R?+またはRTtから選択され、R9は1または2、 n lo は1〜3)コ 。
Y’ ハC(0)R+o、−C(S ) Rlo、−C(0) OR1o、−8 (0)2R,。、−C(○) N Rl 2 Rl !、−C(S)NR1!R + 3または−C(0)NH3OzR+4から選択され。
ZはC,−Csアルキル、フェニルまたは水素からなる群から選択され;RはC 8〜C2゜アルキル:C!〜C6アルケニル:C2〜C6アルキニル;所望によ り1.2または3個の01〜C4アルキル、01〜C,アルコキシ、710、C 1〜Csアルキルチオ、トリフルオロメチル、02〜C6ジアルキルアミノ、ま たはニトロで置換されていてよいフェニル:所望により1または2個のCl−C 4アルキル、C,−C3アルコキシ、ハロ、トリフルオロメチル、C7〜C6ジ アルキルアミノ、CI−Csアルキルチオまたはニトロで置換されていてよいナ フチルからなる群から選択され。
R1はC1〜C20アルキルあるいは所望により1.2または3個のC,−C, アルキル、01〜C3アルコキシ、ハロ、01〜C3アルキルチオ、トリフルオ ロメチル、02〜C6ジアルキルアミンまたはニトロで置換されていてよいフェ ニルから選択され。
R1およびR8は同一または異なっていてよく、水素、Cl−C20アルキル、 あるいは所望により1.2または3個の01〜C4アルキル、01〜C3アルコ キシ、ハロ、C1〜C,アルキルチオ、トリフルオロメチル、02〜C6ジアル キルアミンまたはニトロで置換されていてよいフェニルから選択され:ただし、 R1およびR3は共にフェニルまたは置換フェニルであり得ず:R4は01〜C 1゜アルキル;所望により1.2または3個のC2〜c4アルキル、01〜C3 アルコキノ、ハロ、C,−C,アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2〜C6 ジアルキルアミンまたはニトロで1換されていてよいフェニル:所望により1ま たは2個のC1〜C4アルキル、CI−Csアルコキシ、ハロ、トリフルオロメ チル、C2〜C6ジアルキルアミン、C,−C,アルキルチオまたはニトロで置 換されていてよいナフチルから選択され:R,o、R,3およびRI4は同一ま たは異なっていてよく、−(CI−C211アルキルXCHz)−Rsoまたは −(所望により1または2個のC,〜C4アルキル、C,−C3アルコキシ、ハ ロ、C,−C,アルキルチオ、トリフルオロメチル、02〜C6ジアルキルアミ ノまたはニトロで置換されていてよいフェニルXCH2)。R3゜から選択され ; nはO〜10; R5゜は (i)−CO2H; (u、) CH2NH2: (ffi) −3H: (tv) −C(RsoXRs+)−3H[ここで、R6゜およびR61は同一 または異なりでいてよ(、C1〜C,アルキルまたはH〕:(v)−NHC(0 )−(CHz)−+ C(RsoXRa+)−3H[ここで、LaおよびR81 は上記に定義されており、nlはO〜5]。
(vi) −C(0)NHNHt (ヒドラジド);(vi) −NHNHz  (ヒドラジノ):(vi) CH20H(ヒドロキシメチル):(iX) NH C(S)NH2(チオウレイド):(X) −CH,NHC(0)NHt:(x i) −NHC(S)NHNHz:(工ii) −C(○) CH2X I [ ここで、X、はハロゲン]:(xffi)−CH2X((ハaメチル)にこで、 X、はハロゲンコ;(xrv)−CHO(アルデヒド); (xv) (xvf) (xvi)−C(RsoXRa+)C(0)NHNHz にこで、Raoおよび R61は同一または興なっていてよく、C1〜C4アルキルまたはH]:(x4 ) −0(CHt)−+C(RaaXRs+)C(0)NHNHt[ここで、R ao。
R□およびnlは上記に定義されている]:(I匡)−N(RszXCHt)− +C(Rs。)(Rs + ) C(0) N HN H!にこで、R6゜、R IIIおよびR62は独立して01〜c4アルキルまたはHから選択され、nl はO〜5]; (XX) −0(CH2)−zc(Lee)(Rs+)C(0)NHNHz [ ここで、R2は1〜5コ 。
(X x i ) −NHR,、: (xxii)−C(0)NHNHRs、;(x x ff1) N HN HR s +[ココテ、Rs+はBOC(t−114ンfyルボニル)、FMOC(9 −フルオレニルメチルオキシカルボニル)、TFA(トリフルオロアセテート) アミド)、ALLOC(アルオキシカルボニル)、CBZ (ベンゾキンカルボ ニル)、またはTR0C(1−リクロロエトキシカルボニル)のようなアミン保 護基]: (xx’rr)−NHC(=NH)NH2(グアナシニル)二または(xxv)  −B−M ’(CHz)−sRsz [ここで、R3はo〜5であり;R□は 上記(群(f)〜Cxx汁)だけ)のR6゜と同一]からなる群から選択され; BIiニスfk[−QC(0)−tたは−C(0)O−]まタハアミド[−NH C(0)−または−C(0)NH−]結合: Mは親和性ペプチド、炭水化物、または本発明の特定の性質の具体例(例えば、 化学的、光化孝的、または酵素的切断性:本発明のさらなる治療剤の多数の部位 結合のための分校形成;治療剤と抗体との間に最適な間隔をとること)に与える 他の有機基として以下に定義され;血清補体によるリンカ−の切断のため、Mは 第3表から選択することができ: 第3表において、(a、 a)は天然アミノ酸を表しくかつ同一または異なって いてよい)、R4は0〜5; RI2は水素、Cl−C2゜アルキル、あるいは所望により1.2または3個の 01〜C4アルキル ルオロメチル%C,〜C,ジアルキルアミノまたはニトロで置換されていてよい フェニルから選択され; R1,は 式(a)c式中、X8は一〇−、−S−、−NH−、X,は一CH−またはN  : x,att−o−、−S−、−NH−;XHlt CH−*たlt−N−; Xsは同一または異ナッテイテヨ<、HloCH,、No2、NHc(o)cH ,、OH, ハa、CI−C47/14ル、CI〜C3アルコキシ、C. 〜C .CmジアルキルアミノはNHC(0)CaHs:XgはH,OCHs、No! 、N H C (0 ) C H 3、OH,ハロ、cl−c4アルキル、Cl −C37/Iz:I!−シ、C2〜C.ジアルキル7 ミ/*たftNHC(0 )CsHs]:式(b)[式中、Xs,Xs,Lは上記で定義された意味を有す る]:式(C)〔式中、X,、Xs、X.、X.は上記で定義された意味を有す るコからなる群から選択されるカルボニルアリール基:R’ 11は 式(d)[式中、X8は一〇−、−S−、−NH−;Reは一CH−またはN; X.0は一〇−、−S−、−NH−;Xl.は−C)I−または−N−:X。
+*同一*りは異ナッテイテヨ<、H,OCH3、NO2、NHC(0)CHJ 、OH,ハロ、C1〜C4アルキル、C I− C 3アルコキシ、C2〜C, ジアルキル7 ミ/:JたltNHC(0)CaHs:XgはH,OCHs、N O□、NHC(0)CHs、OH, ハロ、C1〜C4アルキル、C.−CSア ルコキン、C!〜C1ジアルキルアミノまたはNHC(0)CaHs: nおよ びR,。は上記で定義された意味を有する]: 式(e)[式中、X8は一〇−、−S−、 NH :Lは一CH−またはN.X ,、はーO−、−S−、−NJ(− ; X++は一CH−または−N−:xs はH,OCH,、NO,、N H C (0 ) C H s、OH,ハロ、C  I’= C 4アルキル、CI−C,アルコキシ、Cx〜Cs’)7 ルキに 7 ミ/ ま7’:はNHC(0)CsHs;X.はH,OCHs、Not、N HC(0)CHs、OH,ハロ、C1〜C4アルキル、C,〜C,CSアルコキ ン,〜C6ジアルキルアミノまたはNHC(0)CeHs: nおよびR,。は 上記で定義された意味を有する]:式(f)[式中、Xs、XI、XI、nおよ びR,。は上記で定義された意味を有するコニ 式(g)[式中、Xs,X,、X,、X,、nおよびRIIIは上記で定義され た意味を有するコニ 式(h)[式中、Xs、X.、X,、X,、nおよびR,。は上記で定義された 意味を有するコ からなる群から選択されるカルボニルアリール基である。
(式a〜hは一般式シートに記載されている。)Wは好ましくはメチルである。
Xは好ましくはハロゲンであり、より好ましくはクロロまたはブロモである。
Zは好ましくは水素である。
RNは好ましくは式aa(一般式シート)[式中、XIおよびX.は水素であり 、XIOは一〇−または一NH−],あるいは独立してNO2、ハロゲン、OH ,Cl〜C8アルコキシまたはCz−Cmジアルキルアミノから選択されるXs および/またはXIで所望により置換されていてよい前記式aaのいずれかであ る。
R′1,は好ましくは式dd,dddまたはdddcl(一般式シート)[式中 、X。
およびXsは水素]、あるいは独立してNO,、N H X (0 ) C C  H s、ハロケン、C1〜C4アルキル、CI””’Csアルコキシまたは0 2〜C,ジアルキルアミノから選択されるXsおよび/またはXsで所望により 置換されていてよい前記式dd。
dddまたはddddのいずれかである。
(CH2)、R50は好ましくは−(CHJ−+−C(RsoXRs+)C(0 )NHNH2ニーNHC(0)−(CHり。2 − C ( R s。XRa+ )SH;または−(CHz)−tc(Rso)(Rs+)SHである[ここで、 RsoおよびR11は独立してメチルまたはHSmは1〜3であり、R2は0〜 3]。
Qは好ましくはYである。
Yは好ましくは水素、3.6.9−トリオキサデカノイル、N−[2−ヒドロキ シ−1.1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル]グルタルアミル、7−グルタル アミル−ナフタレン−1.3−ジスルホン酸塩、−C(0)R,−C(0)OR ,、−So2R,または−C(0)NRlRsである[ここで、R,R,および R2は所望により1、2または3個のハロゲン、NO□、01〜C4アルキル、 cl〜Csアルコキシ、01〜C3チオアルキル、トリフルオロメチルまたは0 2〜C6ジアルキルアミノで置換されていてよいフェニル]。
Xsは好ましくは水素、NO2、ハロ(最も好ましくはクロロ)、メチル、エチ ル、メトキシ、エトキシ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ またはジブチルアミノである。
X9は好ましくは一CH−である。
X、は好ましくは−NH−である。
X11は好ましくは−CH−である。
XIOは好ましくは−NH−または一〇−である。
ハロゲン原子(ハロ)は臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子またはフッ素原子であ る。
01〜Cooアルキルの例はメチル、エチル、プロピル、ブチルなどであり、そ れらの異性体形を含む。01〜C,アルコキシの例はメトキシ、エトキシ、プロ ポキシおよびそれらの異性体形である。C!〜C−ジアルキルアミノの例はジメ チルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジプロピルアミノおよびエ チルプロピルアミノである。
式シートの式IおよびHの化合物は式シートに示される番号付はシステムの誘導 体(B+およびBz)として命名することができる。このような化合物は、1, 2゜3.6−チトラヒドロー3−Rs−8W 5−Y−ベンゾ[1,2−b:4 .3−b’]ジビロール−1−[Z−CH(X)]−構造を含むであろう。
式1および■の化合物はラセミ混合体として記載されており、該ラセミ混合体か ら分割することができるか、および/または天然の出発物質または中間体、すな わち1(S)−配置から製造することができる式IaおよびIlaの天然異性体 を含む。
本発明の式1および■の化合物の例としては、以下のものが挙げられる。
(S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’コンビロール−3(2 H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル ]−2−ベンゾフラン−5−カルボン酸=フェニルメチルエステル(化合物番号 1):(S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル”)−1,6−シヒドロ ー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール −3(2H)−イル]カルボニル]−LH−インドール−5−イルコアミノ]カ ルボニル]−2−ベンゾフラン−5−カルボン酸(化合物番号2); (S)−2−[[[2−[(4,5,8,8a−テトラヒドロ−7−メチル−4 −オキソシクロプロパー[c]ビロール[:3.2−e]インドール−2(IH )−イル)カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニノリ ー2−ベンゾフラン−5−カルボン酸(化合物番号3): (S)−2−[[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5− ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジピロール−3( 2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニ ル]−1H−インドール−5−イルゴー力ルバミド酸=1.1−ジメチルエチル エステル(化合物番号4): (S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー8−メチル −5−[[[[4−[[[(1,1−ジメチルエチル)オキシコ力ルポニル]ア ミノメチル]フェニル]アミノ]カルボニル]オキシ]ベンゾ[1,2−b:4 .3−b’]−ジピロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドー ル−5−イル]−2−ベンゾフランカルボキサミド(化合物番号5); 5−[(2−)kfyブトプロピオニル)アミン]−N−[2−(4,5,8, 8a−テトラヒドロ−7−メチル−4−オキソシクロプロパー[C]ピロロ[3 ,2−e]インドール−2(LH)−イル)−1H−インドール−5−イルゴー 1H−インドールー2−カルボキサミド(化合物番号8):(S)−N−[2− [[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー8−メチル−5−[[[[4− [[(フェニルメチル)オキシ]カルボニル]フェニル]アミノ]カルボニルコ オキシ]ベンゾ[1,2−b二4.3−b’〕ジビロール−3(2H)−2−イ ル]カルボニル]−LH−インドール−5−イル]−2−ベンゾフランカルボキ サミド(化合物番号10); (S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジピロール−3(2 H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル ]−5−[[2−[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシコ力ルポニル]ヒドラ ジノ]カルボニル]−1H−インドール(化合物番号11A); (S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−6:4.3−b’]ジビロール−3(2 H)−イル]カルボニル]−LH−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル ]−5−(ヒドラジノカルボニル)−LH−インドール・−塩酸塩(化合物番号 11B);(S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー 8−メチル−5−[[[[4−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ コカルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]フェニル]アミノコカルボニル]オキ シ]ベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール−3(2H)−イル]カル ボニルニーIH−インドール−5−イル]−2−ベンゾフランカルボキサミド( 化合物番号12);(S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)=1.6−シ ヒドロー8−メチル−5−[[[[4−[[[2−[[(1,1−ジメチルエチ ル)オキシ〕カルボニル]ヒドラジノコカルボニル]エチルコフェニル]アミノ 〕カルボニル]オキシ]ベンゾ[1,2−b:4.3−b′〕ジピロール−3( 2H)−イルコカルポニルニー1H−インドール−5−イルコーク−ベンゾフラ ンカルボキサミド(化合物番号13):(S)−N−[2−[[1−(クロロメ チル)−1,6−シヒドロー8−メチル−5−[[[[4−[2−[(ヒドラジ ノカルボニル)エチル]フェニル]アミノ〕カルボニルコオキシコベンゾ[1, 2−b:4.3−b’]ジビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1,H −インドール−5−イルコーク−ベンゾフランカルボキサミド・−塩酸塩(化合 物番号14): (S)−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール−3(2H) −イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イルコアミノ]カルボニル]− 5−[2−[[2−[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒド ラジ列カルボニル]エチル]−2−ベンゾフラン(化合物番号15): (S)−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジピロール−3(2H) −イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル−5 −[2−(ヒドラジノカルボニル)エチルツー2−ベンゾフラン・−塩酸塩(化 合物番号16);(7bR)−N−[2−[[4,g、8.8a−テトラヒドロ −7−メチル−4−オキソシクロプロパ[C]ピロロ[3,2−e]インドール −2(IH)−イルーカルボニル]−1H−インドール−5−イルコアミノ力ル ポニルコ−5−[2−[[2−[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ]力ルポニ ルコヒドラジノ]カルボニル]エチル−2−ベンゾフラン(化合物番号17): (S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’lジビロール−3(2H) −イル]カルボニル]−IH−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]− 5−[2−[:[2−[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニルコヒ ドラジノ]カルボニル]エチル−2−ベンゾフラン=3.6.9−トリオキサデ カン酸エステル(化合物番号18):(S)−[[[−2[[1−(クロロメチ ル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4 .3−b’コシビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール −5−イル]アミノ〕カルボニル]−5−[2−(ヒドラジノ)カルボニル]エ チルー2−ベンゾフラン=3.6.9− トリオキサデカン酸エステル(化合物 番号19); (S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジピロール−3(2H) −イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]− 5−[2−[[2−[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒド ラジノ]カルボニルコニチル]−2−ベンゾフランニブルタル酸モノエステル( 化合物番号20):N−[2−ヒドロキシ−1,1−ビス(ヒドロキシメチル) エチル]グルタルアミド酸の(S)−C[[−2[[1−(クロロメチル)−1 ,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b ’]ジビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ ル]アミノ]カルボニル]−5−[2−[[2=[[(1,1−ジメチルエチル )オキシ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチルコ−2−ベンゾフラン エステル(化合物番号21);N−[2−ヒドロキシ−1,1−ビス(ヒドロキ シメチル)エチル]グルタルアミド酸の(S)−[[[−2[[i−(クロロメ チル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b: 4.3−b’lジビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドー ル−5−イル]アミノ]カルボニル]Ls−c2−cヒドラジノ)カルボニル] エチルー2−ベンゾフランエステル(化合物番号22);7−アミノ−ナフタレ ン−1,3−ジスルホン酸・ジナトリウム塩の(S)−[[[−2[[1−(ク ロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2 −b:4.3−b’]ジビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−イ ンドール−5−イル]アミノコカルボニル]−5−[2−[[2−[[(1,1 −ジメチルエチル)オキシ]カルボニルコヒドラジノ]カルボニル]エチルコ− 2−ベンゾフランニブルタル酸モノエステルモノアミド(化合物番号23):お よび7−アミノ−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸・ジナトリウム塩の(S) −[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ− 8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−blジビロールー3(2H)−イル] カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]−5−[2 −(ヒドラジノ)カルボニル]エチルー2−ベンゾフラン=グルタル酸モノエス テルモノアミド(化合物番号24)。
本発明の具体例は、Wがメチル:Zが水素;Xがハロゲン(最も好ましくは塩素 原子) 、 QカY’、Y’カーC(0)Rho、−5ChR+s、−C(0)  N Rl 2 R1g カラ選択され:R+oおよびRI3が−(所望により 1または2個のC4〜C,アルキル、C,−C,アルコキン、ハロ、c、−Cs アルキルチオ、トリフルオロメチル、C亡C,ジアルキルアミンまたはニトロで 置換されていてよいフェニルXCH2)−R5゜から選択され、ここで、nは0 .1または2、R50は−CO2H、−CH2N H2、−5H,−C(Rv。
XRa+)SH。
−N HC(0) (CHz ) −+ C(Rs。XRg+)−SH,−C( 0)NHNH2、CHz OH、−C(Ra o ) (Rs 1) C(0)  N HN H!、N(RazXCHz)−+C(RsaXRst)C(0)N HNHz、0(CHz)−zc(Rao)(Rsl)C(0)NHNHt;ここ で、nlは1〜3;R2は0〜2:Rso%R@1およびR62は同一または異 なっていてよく、H,メチルまたはエチル:Ruは水素: R13が(aaX一般式チャードを参照)、ココテ、x+oは−NH−または− O−:X、およびXsは同一または異なっていてよく、水素、0CHs、No2 、NHC(0)CH,、ハロ、C1〜C4アルキル、CI−Cs 7 /L7  :l + シまたはC2〜C6ジアルキルアミノである式1の化合物である。
本発明の好ましい具体例は、Wがメチル:Zが水素;Xがハロゲン(最も好まし くは塩素原子);QがYo、Yoが−C(0)Rho、−9OzR+o−−C( 0)N Rl !RIsカラR択すtL ; RH。オヨURr sが=(所望 により1または2個の01〜C4アルキル、C,−C,アルコキシ、ハロ、01 〜C,アルキルチオ、トリフルオロメチル、C!〜C,ジアルキルアミノまたは ニトロで置換されていてよいフェニル)(CHz)、Rsoから選択され、ここ で、nは0,1または2、R3゜はCO! H、CH2N H!、−3H,−C (RsaXRst)SH。
−NHC(0)−(CHz)−+−C(RsoXRu)−5H,C(0)NHN Ht、−CH,0H1−CCRe。)(R* 、) C(0) N HNHz、 −N(Rs2XGHz)−+C(Rs。)(Ra l) C(0) N HN  Hz、0 (CH2) −! C(Rs * ) (Rs + ) C(0)  N HN Ht ;ここで、nlは1〜3:R2は0〜2 ; Ram、 Rs lおよびRHは同一または異なっていてよく、H1メチルまたはエチル:RII は水素: RIIが(aaX一般式チャード参照)、ここで、X1llは−NH−または一 〇−:X、およびXsは水素である式1の化合物である。
は塩素原子):QがYo、Y’ カC(0)Rho、−3o、R,。、−C(0 )NR+zRuから選択され; RhoおよびRl 3が−(所望により1また は2個の01〜C,アルキル、Cl−Csアルコキシ、ハロ、C8〜C,アルキ ルチす、トリフルオロメチル、C1〜C,ジアルキルアミノまたはニトロで置換 されていてよいフェニル)(CH2)−R1゜から選択され、ここで、nは0. 1または2、R50はN−ヒドロキシスフシミジルまたはマレイミド;RI2は 水素:RNが(aa)(一般式チャード参照)、ここで、X、Oは−NH−また は−〇−:X、およびX、は同一または異なっていてよく、水素、OCH3、N  Ox、NHC(0)CHs、ハロ、C3〜C4アルキル、01〜C,アルコキ シまたは02〜C・ジアルキルアミノである式1の化合物である。
本発明の別の具体例は、Wがメチル;Zが水素;Xが/10ゲン:QがY’、Y ’が一〇 (0)N Rr t R1s −C(0) R1o、−3O,R,。
、−C(0)NR,、R,、から選択され;RBが水素、R1゜およびR1,が −(所望により1または2個のC1〜C4アルキル%C1〜C,アルコキシ、) 10、cl〜CIアルキルチオ、トリフルオロメチル、c1〜C1シアルキノげ ミノまたはニトロで置換されていてよいフェニルXCHり。R6゜から選択され 、ここで、nは0または1;Rseは−B M−(CHz)−sRsz、R52 は−NHt、−C(0) N HN Hz、−COIHまたは一5H;Rhoが (a a)(一般式チャード参照)、ここで、Xl。は−NH−または−O;X sおよびX、は同一または異なっていてよく、水素、0CHsSNo!、NHC (0)CH3、ハロ、CI−C4アルキル、C8〜C,アルコキシまたはC亡C 6ジアルキルアミノである式1の化合物である。
本発明の別の具体例は、Wがメチル;Zが水素:Xがハロゲン(最も好ましくは 塩素原子):QがY、’#<水素、−C(0)R,−5O2R,、−C(0)N R,R。
から選択され:R1が水素、RおよびR1およびR2が(同一または異なってい てよく)所望により1〜3個の01〜C,アルキル、C1〜C3アルコキシ、/ A口、01〜C3アルキルチオ、トリフルオロメチル%C2〜C6ジアルキルア ミノまたはニトロで置換されていてもよいフェニルから選択され;R’+sが( d d)、(d d d)、(cl d d d)、(e e)または(e e  e)から選択され、ここで、nは0〜6;Xl01t−NH−または−〇−: XsおよびXsは独立して、H,OH,NO!、N HC(0) CHs、ハロ 、C1〜C4アルキル、01〜C3アルコキシまたは02〜C6ジアルキルアミ ノ:R5゜は1)N−ヒドロキシスフシミジルまたはマレイミジル、fi)−B  M (CHz)−sRszにこで、R62は、 NH!、−C(0)NHNH 2、−COtH*たlt SH]; あるいはff1)COzH。
CHxNHt、−SH,−C(RsaXRst)SH−−NHC(0)(CHz )−+−C(RsaXRst)−SH,−C(0)NHNHt、−CH!OH, −C(RsaXRst)C(0)NHNHz、−N(RazXCHt)−+C( RnXRs+)C(0)−NHNHz、−0(CHx)−tc(R1oXRa+ )C(0)NHNHzから選択され;ここで、nlは1〜3;R2は0〜2:R 6゜、RHおよびR6□は同一または異なっていてよく、H1メチルまたはエチ ルである式1の化合物である。
本発明の別の好ましい具体例は、Wがメチル:Zが水素;Xが/10ゲン(最も 好ましくは塩素原子):QがYであり、Yが水素、−C(0)R,5ChR+、 −C(0)NR,R,から選択され:R3が水素、RおよびR,およびR鵞が( 同一または異な9ていてよく)所望により1〜3個の01〜C4アルキル、C, 〜Csアルコキシ、ハロ、Cl−Csアルキルチオ、トリフルオロメチル、C! 〜C−ジアルキルアミノまたはニトロで置換されていてよいフェニルから選択さ れ:R’rsが(d d)、(ddd)、(d d d d)、(e e)また は(e e e)から選択され、ここで、nはO〜6;X+aは−NH−または −o−であり、X、およびX、は共に水素:Rsoは1)N−ヒドロキシスフシ ミジルまたはマレイミジル、it)−B−M−(CHz)uRszにこで、Rs zは−NH1、−C(0)NHNH2、−COIHまたは−SH];あるいはU −CO2H、−CH! N H2、−3H。
−C(R8゜XRa+)SH,NHC(0)−(CHz)−+−C(RsaXR st)−SH。
−C(0)NHNHz、−CH20H,−C(Rsa)(Ra I)C(0)N HNHt、−N(RgzXCHJ−+C(Re。)(RII)C(0)−NHN Ht、−O(CH! )−t C(Rs o )(R* l) C(0) N  HN H2から選択され;ここで、nlは1〜3、R2はO〜2、RaIIX  RIIおよびR62は同一または異なっていてよく、H1メチルまたはエチルで ある式1の化合物である。
本発明の別の具体例は、Wがメチル:Zが水素:R’+5が(dd)、(ddd )、(d、ddd)、(e e)または(e e e)から選択され、ここで、 nはO〜6 ;Loは−NH−または−O−;X、およびX、は独立してH,O H,No、、NHC(0)CHI、ハ01C8〜C4アルキル、CI−Cs ア ルコキシまたはC2〜C・ジアルキルアミノ;R8゜は好ましくは一〇〇nH, CH20H1、−SH。
−C(Rs。XRs+)SHl NHC(0)−(CHz)−+−C(Rg。X Ra+) SH。
−C(0)NHNHI、−CH20H1C(RsaXRs+)NHNHz、−N (R4!XCHt)−tC(RioXRu)C(0)−NHNHt、0(CHz )−tc(R,oXRg+)C(○)NHNH2;ここで、nlは1〜3:R2 は0〜2:R6゜、R6,およびR62は同一または異なっていてよく、H,メ チルまたはエチルである式■の化合物である。
本発明の好ましい具体例は、Wがメチル:Zが水素、R’、、が(d d)、( d d d)、(d、ddd)、(e e)または(e e e)から選択され 、ここで、nは0〜6;XIoは−NH−または−O−,X、およびX、は共に 水素;Rseは好ましくは−CO2H。
−CH2NH2、−3H,−C(R1゜XR51)SH。
−NHC(0)−(CHt)−+ C(RgoXRs+)−8H,−C(0)N HNHt、CHx OH、C(Rs 6 )(Ri + ) C(0) N H N H!、−N(RazXCHz)、tC(Ra。) (Ra I) C(0)  N HN H2、−’0(CHり、2C(0)NHNHIから選択され;ここ で、nlは1〜3;R2は0〜2:R6゜、RoおよびRa1は同一または異な っていてよく、H1メチルまたはエチルである式■の化合物である。
本発明の別の具体例は、Wがメチル:Zが水素:R’lsが(dd)であり:X l。
は−NH−または−o−; XSおよびX、は独立してH,OH,No□、NH C(0)CHs、ハロ、C1〜C4アルキル、01〜C,アルコキシまたは02 〜C6ジアルキルアミノ、R,0は好ましくは−Co2H,−CH!NH2、− 8H。
−C(R,。XRa+)SHl−NHC(○) (CHl)7+ C(Rs。X Ra+) 5H1−C(0)NHNHI、−CH20H1−C(R,。)(Rs  I)C(0)NHNH2、−N(R6□XCH,)、□C(R,。)(Rs  1)C(0)−NHNHz、−〇(CHz)−zc(RsoXRu)C(0)N HNH2から選択され:ここで、nlは1〜3:R2は0〜2;R6゜、Rat およびR12は同一または異なっていてよく、H1メチルまたはエチルである式 ■の化合物である。
本発明の好ましい具体例は、Wがメチル:Zが水素;R’15が(dd)であり 、ここで、nは0〜6;X1oは−NH−または一〇−;X、およびX6は共に 水素:R56は好ましくはf)−CO2H1−CH2N H2、−SH,−C( RsaXRa+)SH。
−NHC(0)(CH2)−+−C(Rs。)(Rat)SHl−C(0)NH NHx、−CHzOH,−C(RaaXRs+)C(0)NHNH:、−N(R azXCHz)−tC(Rs。)(R6□)C(0)−NHNHI、−0(CH z)−tc(RaoXRe+)C(○)NHNH2にこで、nlは1〜3;R2 は0〜2:R6゜、R□およびR8,は同一または異なっていてよく、H、メチ ルまたはエチルコニあるいは1f)N−ヒドロキシスフシミジルまたはマレイミ ドである式■の化合物である。
本発明の別の具体例は、Yが水素、−C(0)R,C(S)R,C(0)OR+ 1−3(○)、R1、−C(0)NR2R3、−C(S)NR1R4、−C(0 )NHSO2R4、−C(0)CHz(OCHzCIh)、tO(C+ 〜c、 フルキル)〔ココテ、R7は0〜5(好ましくは2または3)]、または−〇( ○XGHz)−sC(0)R−[ここで、R8は0〜10(好ましくは2.3ま たは4)、R1は−○H(またはその金属もしくはアミン塩)、−0R1(ここ で、R3は−CHIC(CHIOH)!またはR70)および−N(R,)R, (ここで、R6は水素または01〜C4アルキル、R1は−C(CHIOH)3 、− CHt C(CHl0H)s、 −CH,C(CIhNH,)3、 RH I、R7□またはR?2から選択され、R9は1または2、nloは1〜3)か ら選択されるコから選択される式1の化合物である。
好ましい化合物の例としては、Yが3.6.9−トリオキサデカノイル、N−[ 2−ヒドロキシ−1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル]グルタルアミルま たは7−グルタルアミル−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸塩である比較的水 溶性の式1の化合物が挙げられる。例えば化合物18.19および21〜24を 参照。
式1および]の化合物は、適当なスピロシクロプロピルシクロへキサジェニル・ アナログ(式■)をy’−x試薬またはH−Xと反応させ、次いで、Y−X“( ここで、X゛は活性遊離基、例えば、ハライド、アジド、スルボネートなどであ る)でアシル化することによって容易に調製される。塩化メチレン、テトラヒド ロフラン(THF)、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF%DMFA)、ジ メチルアセトアミド(DMA)、ピリジン、ジオキサン、N−メチルピロリドン などのような不活性溶媒中に出発スピロシクロプロピルシクロへキサジェニル・ アナログ(式■)を溶解する。得られた溶液を試薬Y’−Xで処理し、薄層クロ マトグラフィー(TLC)が反応終了を示すまで該溶液を室温で撹拌する(通常 、反応性)10ゲン化アンルについて数分間であるが、弱酸またはアシル化剤に ついては数時間または数日間が必要である。非常に反応性の試薬については、温 度は一20℃またはそれ以下まで低下してよく、比較的非反応性のアデント(a ddents)については、該温度は、溶媒によって80℃またはそれ以上に上 昇してよい)。該反応が終了した後、該溶液を適当な溶媒(塩化メチレン、酢酸 エチル、エーテル、THF(食塩水と一緒に)など)で希釈する。有機層を、重 炭酸ナトリウムまたはカリウムのような中塩基で抽出し、水で洗浄し、無水硫酸 マグネシウムまたは無水硫酸ナトリウムのような適当な乾燥剤によって乾燥する 。該乾燥剤を濾過し、該溶媒を蒸発させ、所望の生成物を得る。これは、そのま ま使用されるか、あるいは当業者によく知られた方法によって結晶化またはクロ マトグラフィーによって精製してよい。
実施例1 (S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b・4.3−b’lジビロール−3(2 H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル〕アミノ]カルボニル ]−2−ベンゾフラン=5−カルボン酸=フェニルメチルエステル(化合物番号 1)の製造工程A、ベンゾフラン−2,5−ジカルボン酸=ビス−(フェニルメ チル)エステル(式B1一般式チヤード)の製造 窒素下、室温(〜25℃)で、ジメチルアセトアミド20諺!中でベンゾフラン −2,5−ジカルボン酸(式A・一般式チャード)2.48g(12ミリモル) を撹拌する。これに、ベンジルアルコール1.29m1(12ミリモル)、ジメ チルアミノピリジン170+cwおよび1−エチル−3−(3−ジメチルアミノ プロピル)カルボジイミド2.49gを添加する。該反応を24時間反応させて おいた後、TLCは若干の残存出発物質、若干のビスエステルがあるが大部分が モノエステル−モノ酸であることを示す。
該反応混合物を酢酸エチル−水量で分配する。層を分離し、水層を酢酸エチルで 再抽出する。有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空下で蒸発させる 。
該粗製生成物を酢酸エチルに再溶解し、シリカゲル40g上、真空下で該溶液を 蒸発させる。これをシリカゲルカラム4009の上部に添加し、15に酢酸エチ ル、83%ヘキサン、2%酢酸で溶離する。40Chlの前分別物を収集し、次 いで、50dずつの両分を収集する。所望のビスベンジルエステルは両分24〜 43において溶出される。これらの画分を蒸発させると、ベンゾフラン−2,5 −ジカルボン酸=ビスベンジルエステル308ggが得られる。
TLCニジリカゲル=Uv可視化:15%酢酸エチル、85%ヘキサン、2%酢 酸;R+Q、54゜ 質量分析・各々、387および3851:M+HおよびM、279および91に 他のフラグメントイオン。
NMR(CDCI!、TMS)65.39(s、2H); 5.43(s、2H ): 7.30−7.53(m、l0H); 7.57−7.69(d+s、2 H): 8.16−8.25(dd、IH);8.45および8.46(d、  IH)。
25%酢酸エチル、73%ヘキサン、2%酢酸で溶離を続ける。両分56−20 8(1,53e)を蒸発させて、ベンゾフラン−2,5−ジカルボン酸=2−フ ェニルメチルエステルを単離する。
TLCニジリカゲル:UV可視化、15%酢酸エチル、85%ヘキサン、2%酢 酸;R,0,36゜ NMR(CDClsSTMS):δ2.7−3.2(b s、 IH) : 5 .45(s、 2H) ;7.3−7.5(m、3H); 7.5−7.6(m 、2H); 7.75および7.78(d。
IH);7.85(d、IH):8.17−8.23(dd、IH)+8.53 (d、IH)。
上記ベンゾフラン−2,5−ジカルボン酸=2−フェニルメチルエステルを工程 Aのエステル化条件に再度従わせて、ベンゾフラン−2,5−ジカルボン酸=ビ スフェニルメチルエステルを収率80%で得る。
工程B:ベンゾフランー2.5−ジカルボン酸=5−フェニルメチルエステル( 式C1一般式チヤード)の製造 窒素下、室温(〜25℃)で、THF20菖J−DMF5xA中でビスベンジル エステル(工程A;式B)1.11g(2,87ミリモル)を撹拌しつつ溶解す る。これにIN NaOHの2.5mlバッチ2つを添加し、TLCによって該 反応を追跡して、該反応がモノエステル段階で停止することを確認する。
45分の反応時間の後、IN HCI 6寓1を添加する。該反応を酢酸エチル −食塩水間で分配する。層を分離し、水層を酢酸エチルで再抽出する。有機層を 合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、最後に高真空を使用して蒸発させる。
粗製生成物をシリカゲル10g上に塗布し、シリカゲル100g上でクロマトグ ラフィーに付す。30%酢酸エチル−2%酢酸−68%ヘキサン70Chl、次 いで40%酢酸エチル−2%酢酸−58%ヘキサン800m7によって溶離する 。
20m1の画分を回収し、TLCによって分析する。画分28〜54中に生成物 が酢酸: R,0,08゜ 質量分析−296,278,251,189,91に主要なイオン。
NMR(ds−アセトン、TMS)二δ5.42(s、2H); 7.3−7. 5(m。
3H)+7.5−7.6(m、2H)+7.75および7.78(d、 I H ) ; 7.8(d。
IH)+8.19〜8.25(d d、 IH) ; 8.54(d、 IH) 。
工程C:式Eのアミドの製造(一般式チャード)暗所で、窒素下、室温で(〜2 5℃)で、DMF 1xi中で式りのアミン(一般式チャード)40諺9(0, 13ミリモル)を撹拌する。この溶液に酸(式C)39菖9(0,13ミリモル )および1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド27 19を添加する。該反応は二相状態で出発するが、17時間の反応時間の間に全 て溶解する。
所定の反応時間の後、反応混合物を酢酸エチル−水量で分配する。層を分離し、 水層を酢酸エチルで再抽出する。有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、 真空下で蒸発させる。
粗製生成物をシリカゲル1g上に塗布し、シリカゲル9g上でクロマトグラフィ ーに付す。該カラムを以下の量の酢酸エチル−ヘキサン:3O−70C80,l >、40−60(40m1)、50−50(60−1)、6O−40(20薦l )、7O−30(20菖り、8O−20(2(bl)、9O−10(20富りお よび純粋な酢酸エチル100m1で溶離し、生成物が不溶性によって引きずり出 される。2Klずつの画分を収集し、TLCによってそれらを分析する。画分2 6〜110中に生成物が見つけられ、これを合わせ、真空下で蒸発させて、固体 68m+9(収率89%)を得る。
質量分析:585.587.589にM+H:279.91に他の主なイオン。
TLCニジリカゲル、UV可視化:30%酢酸エチル−70%ヘキサン:R1・ 0.59 NMR(da−DMSO,TMS)+65.19(s、2H); 5.41(s 、2H);7.3−7.6(m、7H); 7.66−7.74(d、LH); 7.83−7.90(d。
LH)+ 7.90(s、IH)+8.10−8.17(d、IH):8.23 (s、IH):8.54(s、LH): 10.65(s、IH); 12.1 7(s、IH)。
工WDニトリクロロエチルエステル(式E1工程C)の加水分解窒素下、60℃ で、酢酸101Z中でトリクロロエチルエステル(式E1一般式チヤード)50 ++v(0,085ミリモル)を撹拌する。この部分的に溶解した混合物に亜鉛 75m9を添加する。数分後、固体のほとんどが溶解し、次いで、新しい固体が 形成する。該反応を60℃で1時間反応させておき、次いで、室温(〜25℃) に冷却し、DMFで希釈し、濾過する。該固体をDMFで洗浄し、濾液を合わせ 、洗浄し、高真空下で蒸発させる。
上記粗製止成物をシリカゲル500u上に塗布し、シリカゲル5g上でクロマト グラフィーに付す。該カラムを10%DMF−90%トルエンー2%酢酸30m 1および20−80−2の同一溶媒50m1で溶離する。2mlの画分を回収し 、TLCによってそれらを分析する。両分12〜30は主生成物(弐F、一般式 チャード)を含有しており、これを合わせ、真空下でM発させる。これから固体 25叩(収率67%)を得る。
質量分析=477にM十Na:455にM+H:279に他の主要なイオン。
TLCニジリカゲル:UV可視化; 1096D1096D% トルエン−2% 酢酸:R,:0.16゜ NMR:dl−DMSO,TMS :δ5.41(s、2H);7.10(s、 IH)ニア、 3−7.7(m、 7H) : 7.85および7.88(d、 LH)ニア、89(s、LH):8.12および8.15(d、IH); 8. 17(s、IH);8.54(s、IH); 10゜58(s、IH); 11 .77(s、IH); 12.6−13.1(bs、LH)。
工程E:(S)−2−[[[[2−[[x−(クロロメチル)−1,6−シヒド ロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’)ジピロー ル−3(2H)−イル〕スルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ] 力ルボニルコ2−ベンゾフラン−5−カルボン酸=フェニルメチルエステル(化 合物番号1)の製造暗所で、窒素下、室温(〜25’C)で1時間、酢酸エチル 2mlおよびHC4ガスで飽和されて酢酸エチル3Ml中で(S)−1−(クロ ロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2b :4.3−b’]ジピロール−3(2H)−カルボン酸=1.1−ジメチルエス テル(BOCクロロフェノール)56菖g(0,17ミリモル)を撹拌する。3 0%酢酸エチル−70%ヘキサン中シリカゲルTLCは、出発物質のスポットの 全てが原点の1つのスポットに置き換えられることを示す。次いで、真空下、溶 媒を蒸発させ、次いで、残留物に塩化メチレンを添加し、これを真空下で再度蒸 発させる。
得られた固体残留物をジメチルアセトアミドl 、 5 菖1に溶解する。この 溶液に、酸(式F)77u(0,17ミリモル)および1−エチル−3−(3− ジメチルアミノプロピル)−カルボジイミド(EDC)3219(0,17ミリ モル)を添加する。該溶液を1時間反応させておき、その後、さらに酸20冨9 およびさらにEDC8諺9を添加する。該反応をさらに3時間反応させる。
反応混合物を食塩水−酢酸エチル−THF&Iで分配する。層を分離し、水層を 酢酸エチルで再抽出する。有機層を合わせて、硫酸ナトリウムによって乾燥させ 、蒸発させる。
粗製生成物をシリカゲル1g上に塗布し、シリカゲル10g上でクロマトグラフ ィーに付す。該カラムを10%DMF−90%トルエン〜20%DMF−80% トルエンの勾配液によって溶離する。211Jずつの両分を回収し、TLCによ ってそれらを分析する。画分30〜43中に生成物が見つけられ、これらを合わ せ、高真空下で蒸発させて、黄色固体84吋(収率74%)を得る。
TLCニジuh’fh:UV可視化:10%DMF−90%)/L47;RF: 0.30 UV(MeOH):295nm(35,670):340r+m(24,900 )質量分析=673.675にM+H:672.674にM:437.279. 237.236.199.187に他の主要なイオン。
NMR: da DMSO,TMS :δ2.36(s、 3H) ; 3.5 −3.67(t。
IH): 3.83−3.95(d、 IH): 3.95−4.07(t、  LH) : 4.47−4゜59(d、IH): 4.59−4.74(t、I H): 5.41(s、2H); 7.06(s。
IH);7.16(s、LH)+7.32−7.75(m、8H); 7.86 および7,89(d、LH);7.90(s、IH);8.12および8.15 (d、 IH) ; 8.22(s。
IH): 8.54(s、LH): 9.82(s、LH)+ 10.61(s 、IH)+10.75(s、IH): 11.73(s、IH)。
実施例2 (S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’)ジピロール−3(2 H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル ]−2−ベンゾフラン−5−カルボン酸(化合物番号2)の製造暗所で、室温( 〜25℃)で、THF O,3xl−MeOH0,1ml中で(S)−2−[[ [[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8− メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジピロール−3(2H)−イル]カ ルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノコカルボニル]−2−ベンゾ フラン−5−カルボン酸=フェニルメチルエステル(化合物番号1)ICbg( 0,015ミリモル)を撹拌する。この溶液に、炭素上10%パラジウム10菖 9およびギ酸アンモニウム8咥を添加する。TLCが反応の終了を示した後、該 混合物を50℃に15分間加熱する。
該反応を室温(〜25℃)に冷却し、酢酸エチル、IN HCJl菖l−水25 gA1゜間で分配する。層を分離し、水層を酢酸エチルで再抽出する。有機層を 合わせ、硫酸ナトリウムによって乾燥させ、真空下で蒸発させ、(S)−2−[ [[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8 −メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール−3(2H)−イル] カルボニル]−1H−インドール=5−イルコアミノ]カルボニルニー2−ベン ゾフラン−5−カルボン酸8哩(収率89%)を得る。
NMR(da DMSO,TMS):δ2.36(s、3H)+3.53−3. 67(m。
LH); 3.86−3.97(d、IH); 3.97−4.09(t、IH ); 4.48−4゜60(d、IH)+4.60−4.75(t、LH);7 .05(s、IH);7.15(s。
IH);7.44−7.54(s、LH)+ 7.56−7.64(d、IH) ;f7.65(b s、 IH) : 7.78−7.87(d、 LH) :  7.90(s、 IH) ; 8.05−8.13(d、LH); 8.21 (s、LH); 8.48(s、IH); 9.83(s、LH)+ 1059 (s、LH)+10.75(s、IH): 11.71(s、IH);12.6 −13.3(bs、IH)。
UV(MeOH):340rm(21,860);294ni(32,360) 質量分析:583.585にM+H:582.584にM、347.237.2 36に他のイオン。
TLCニジリカゲル;Uv可視化;20%DMF−80%トルエンー2%酢酸; (S)−2−[[[2−[(4,5,8,8a−テトラヒトo−7−7!チル− 4−オキソシクロプロパ[C]ビロール[3,2−e]インドール−2(IH) −イル)−カルボニルクー1H−インドール−5−イルコアミノ]カルボニル] −2−ベンゾフラン−5−カルボン酸(化合物番号3)の製造 暗所で、窒素下、室温(〜25℃)で30分間、アセトニトリル2.4xl、ト リエチルアミン1,2冨l、水1.2xI中で(S)−2−[[[2−[[1− (クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1 ,2−b:4.3−b’1ジビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H −インドール−5−イル]アミノ]カルポニルニー2−ベンゾフラン−5−カル ボン酸(化合物番号2)61菖9(0,01ミリモル)を撹拌し、完全な溶液を 得る。
反応混合物を酢酸エチル−水量で分配する。有機層を硫酸ナトリウムによって乾 燥させ、蒸発させる。上記抽出によって不適当な物質が回収される。かくして、 水層をpH3リン酸塩緩衝液で酸性化し、酢酸エチルおよび新しく蒸留されたT HFの50−50混合物で2回抽出する。有機層を硫酸ナトリウムによって乾燥 させ、第1酢酸エチル抽出物と合わせ、真空下で蒸発させる。これにより、生成 物(化合物番号3)53mg(収率93%)が得られる。
TLCニジ’)h’fh;UV?T視化: 20%DMF−80%l’ルエ:/ −2%酢酸:R,:0.37゜ NMR(da−DMSOSTMS):δ1.42−1.52(m、IH):1. 995−205(、LH); 2.05(s、3H); 3.15−3.30( m、IH): 4.45−4゜55(d、IH); 4.56−4.67(dd 、IH): 6.77(s、IH):6.94(s。
IH) + 7.27(s、 LH) ; 7.48−7.58(d、 LH)  ; 7.64−7.75(d。
LH)+ 7.84−7.92(d、’lH); 7゜93(s、 IH) ;  8.10−8.20(d。
iH); 8.28(s、IH); 8.52(S、IH)+10.64(S、 IH): 11.60(s、IH): 11.89(s、IH)。
UV(MeOH):356nm(19670); 309nm(26,230) 。
質量分析・5471:M+H; 347.201に他のイオン。
MCIを添加すると583にM+HC7+)Iが得られる。
実施例4 (S)−2−[[[r2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5− ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b・4.3−b’lジビロール−3( 2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニ ル]−1H−インドール−5−イルツー力ルバミン酸=1.1−ジメチルエチル エステル(化合物番号4)の製造 工程A1式H(一般式チャード)の製造暗所で、窒素下、室温(〜25℃)で、 新たに蒸留したTHF 5x/中でアミン(弐Gニ一般式チャート)0.59( 2,45ミリモル)を撹拌する。これに、BOC−ON 610n(2,45ミ ’17モ/lz)オヨヒト’JLチAt7ミン350μl(2,45ミリモル) を添加する。室温(〜25℃)で3日後、TLCによって、該反応が実質的に終 了したことが判明する。
次いで、該反応を酢酸エチル、食塩水間で分配する。層を分離し、水層を酢酸エ チルで再抽出する。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下で蒸発さ せる。
粗製生成物をシリカゲル109上に塗布し、シリカゲル909上でクロマトグラ フィーに付す。該カラムを10%酢酸エチル−90%ヘキサン〜25%酢酸エチ ル−75%ヘキサンの勾配液によって溶離する。15m/の画分を回収し、TL Cによってそれらを分析する。両分55〜119中に生成物が見つけられ、これ を合わせ、真空下で蒸発させ、固体(式H)617xp(収率83%)を得る。
TLCニジリカゲル;U■可視化:30%酢酸エチル−70%ヘキサン;R「: 0.63゜ 質量分析=304.248.202.158.130.102.57に主要なイ オン。
NMR(CDCi’s、TMS):61.38−1.47(t、 3H);1. 53(s、 9H);4、35−4.45(q、2H);6.50(s、LH) ; 7.13−7.16(d、IH)ニア、 18−7.24(dd、 LH) ;7.30−7.38(d、 IH) ; 7.79(s、 IH)+8、85 (b s、 LH)。
工程B:エチルエステル(式H)の加水分解窒素下、室温(〜25℃)で、ピリ ジンIChi−MeOH10冨l−水10+1−IN NaOH5菖1中でエチ ルエステル(工程A1式H)617s+g(2,03ミリモル)を撹拌し、完全 な溶液を得る。該反応をTLCによって追跡し、20時間後に完了したことが判 明する。
次いで、該反応をIN HCI 5xlで処理し、真空下で蒸発させる。残留物 を酢酸エチル−水−IN HCl3z1間で分配する。層を分離し、水層を酢酸 エチルで再抽出する。有機層を合わせ、硫酸ナトリウムにより乾燥し、真空下で 蒸発させる。これにより固体(式J)62Cbg(収率100%)を得る。
TLCニジリカゲル:Uv可視化=30%酢酸エチル−70%ヘキサン−2%酢 酸:R1:0.20゜ 質量分析=276.220.202.176.158.130に主要なイオン。
NMR(da−DMSO,TMS):δ1.50(s、9H)+7.13−7. 17(d。
IH); 7.37−7.49(m、2H); 7.97(s、LH); 8. 3Hbs、LH);10、77(b s、 LH)。
工程C:エチルエステル(アミド)(式L1一般式チヤード)の製造 暗所で、 窒素下、室温(〜25℃)で、酸(工程B:式J1一般式チヤード)620真9 (2,03ミリモル)を乾燥DMF 4xlと一緒に撹拌し、完全な溶液を得る 。これに、アミン415uC2,03ミリモル)および1−エチル−3−(3− ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド390−9を添加する。5日後、反応 混合物を酢酸エチル−水量で分配する。層を分離し、水層を酢酸エチルで再抽出 する。有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下で蒸発させる。
粗製生成物をシリカゲル109上に塗布し、シリカゲル909上でクロマトグラ フィーに付す。該カラムを10%DMF−90%トルエンで溶離する。20*I の画分を回収し、TLCによってそれらを分析する。画分24−53は生成物を 含有しており、これらを合わせ、真空下で蒸発させる。これにより固体(式L) 890哩(収率95%)を得る。
TLC: シ’)fyゲル:UV’i5T視化; 10%DMF−90%トルエ ン;R,:0.45゜ 質量分析 539.463.462.407.406.259.204.203 .159.158.57に主要なイオン。
NMR(ds−DMSO,TMS):δ1.3−1.4(t、3H): 1.4 9(s。
9H); 4.3−4.4(Q、2H): 7.16(s、LH); 7.20 −7.27(d。
IH); 7.28−7.38(rn、2H): 7.4−7.5(d、IH) ; 7.55−7.64(d、LH); 7.80(s、IH); 8.14( s、LH); 9.17(s、IH)+ 10゜13(s、LH); 11.5 8(s、IH);11.89(s、IH)。
工程D:ニチルエステル(式L)の加水分解暗所で、窒素下、室温(〜25℃) で、ピリジン10w1 IN NaOHSml中でエチルエステル(工程C1式 L)890−g(1,92ミリモル)を撹拌し、完全な溶液を得る。該反応をT LCによって追跡し、20時間後、出発物質がないことが示される。
この時点で、iN HCl 3sc/を添加し、混合物を真空下で蒸発させる。
残留物を食塩水−IN HCl 5m1−新しく蒸留したTHF−酢酸エチル間 で分配する。層を分離し、水層を酢酸エチルで再抽出する。有機層を合わせて、 硫酸ナトリウムにより乾燥させ、真空下で蒸発させる。
粗製生成物をシリカゲル10g上に塗布し、シリカゲル70g上でクロマトグラ フィーに付す。該カラムを2o%DMF−80%トルエンー2%酢酸500xf で溶11tL、次イテ、30−70−2および4o−60−2の同一溶媒300 xjT溶離する。10C1+j!の前分別物を回収し、次いで、15Klずつの 画分を収集する。
該画分をTLCによって分析し、画分30−52中に生成物が見つけられる。こ れらを合わ也真空下で蒸発させ、(式M)93019(収率100%)を得る。
質量分析=435.434.379.378.361.177.176.159 .158.57に主要なイオン。
TLC・シリカゲル;Uv可視化;2o%DMF−80%トルエンー2%酢酸; R++0.35゜ NMR(da DMSO,TMS):δ1.49(s、9H); 7.08(s 、IH);7.18−7.27(d、IH)ニア、27−7.38(m、2H) ;7.3g−7,46(d、LH); 7.5−7.6(d、IH); 7.8 0(s、IH); 7.95(s、LH); 8゜12(s、IH); 9.1 6(s、IH); 10.10(s、IH): 11.58(s、LH);11 .73(s、LH)。
工程E :(S)−2−If:[2−[[1−(クロロメチル)−1,S−ジヒ ドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b :4.3−b’コシピ ロール−3(2H)−イル〕カルボニル]−18−インドール−5−イル]アミ ノ]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−力ルバミン酸=1.1−ジ メチルエチルエステル(化合物番号4)の製造 暗所で、窒素下、室温(〜25℃)で、酢酸エチル4*1−HCIガスで飽和さ れた酢酸エチル5ml中で(S)−1−Cクロロメチル)−1,6−シヒドロー 5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2b:4.3−b’]ジピ。−ルー3 (2H)−カルボン1IF=1.1−ジ/?ルエステル(BO(りo07エ/− ル)120m9(0,36ミリモル)を撹拌する。TLCは、この時、出発物質 の全てが反応したことを示す。
溶媒を真空下で蒸発させる。残留物に塩化メチレンを添加し、該混合物を真空下 で再蒸発させる。残留物をジメチルアセトアミド4mlに溶解する。
暗所で、窒素下、室温(〜25℃)で、DMA溶液1.7m1C0,15ミリモ ル)を撹拌し、酸(工程D:式M)65@9(0,15ミリモル)および1−エ チル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(EDC)28諺y で処理する。45分後、さらに酸16119およびEDC7119を添加する。
さらに3時間後、反応混合物を酢酸エチル−T)(F−食塩水間で分配する。層 を分離し、水層をTHF−酢酸エチルで再抽出する。有機層を合わせ、硫酸ナト リウムで乾燥させ、真空下で蒸発させる。
粗製生成物をシリカゲル19上に塗布し、シリカゲル10g上でクロマトグラフ ィーに付す。該カラムを10%DMF−90%トルエン〜20%DMF−80% トルエンの勾配液によって溶離する。2tlずつの画分を回収し、TLCによっ てそれらを分析する。両分16〜30中に生成物が見つけられ、これらを合わせ 、真空下で蒸発させ、固体92mg(収率94%)を得る。
UV(MeOH): 298nm(35,920):340n+++(30,0 40)。
TLC: シIJ 力’fk;UV可視化; 10%DMF−90% トルxン ;R,:0.21゜ NMR(d、−DMSOlTMS):δ1゜50(s、9H):2.0g(s、 3H);3.54−3.66(t、IH):3.85−3.95(d、IH): 3.98−4.09ct、IH); 4.5−4.6(d、IH): 4.6− 4.74(t、LH): 7.06(s。
LH);7.15(s、 LH)+7.20−7.29(d、 IH) ; 7 .3−7.4(m、 2H);7’、 45−7.53(d、IH);7.53 −7.60(d、IH); 7.67(bs、IH)ニア、83(s、IH):  7.95(s、IH); 8.23(s、IH): 9.17(s、 IH) :9.8Hs、IH): 10.15(s、IH); 10.74(s、IH) ; 11.63(s。
LH)+11.69(s、IH)。
質量分析:653.655にM+H:652.654にM、729.597.3 61.237.236.159.57に他の主要なイオン。
実施例5 (S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー8−メチル −5−[[[[4−[r[(1,1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル〕ア ミノメチルコフェニルコアミノコ力ルポニル]オキシ]ベンゾ[1,2−b:4 .3−b”]−ジジクロール−32H)−イル]カルボニル]−1H−インドー ル−5−イル〕−2−ベンゾフランカルボキンアミド(化合物番号5)の製造 工程A:式N(一般式チャード)の製造暗所で、窒素下、室温(〜25℃)で、 新たに蒸留したTHF 14m1中でp−二トロベンジルアミン・塩酸!1.0 9(5,3ミリモル)を撹拌する。これにトリエチルアミン1.31mA’およ びBOC−ON 1.32gを添加する。これにより、24時間の間に完全には 溶解しない混合物が得られ、そこで、さらにTHF15++fを添加する。さら に24時間撹拌した後、反応は、まだ、溶解しない。
この時点で、反応混合物を酢酸エチル−食塩水間で分配する。層を分離し、水層 を酢酸エチルで再抽出する。有機層を合わせ、硫酸ナトリウムにより乾燥し、真 空下で蒸発させる。
粗製生成物を100gシリカゲル上でクロマトグラフィーに付し、20%酢酸エ チル−80%へキサンで溶離する。15xlずつの画分を収集し、TLCによっ てそれらを分析する。以下の両分を合わせて、真空下で蒸発させる。
両分33〜44、所望の生成物および副生酸物両分45〜67、所望の生成物。
混合した画分を分離させるための別のTLCシステム・10%アセトン−90% ヘキサン(悪);トルエン(悪):塩化メチレン(悪);10%酢酸エチル−9 0%トルエン(同様)。
画分33〜44を100gのシリカゲル60上でフラッシュクロマトグラフィー に付し、10%酢酸エチル−90%トルエンで溶離する。100mj!の前分別 物を収集し、次いで、20xj!ずつの画分を収集する。TLC分析は、画分1 8〜23が混合生成物であり、画分24〜42が純粋な生成物であることを示し 、後者を上記の純粋な生成物と合わせる。混合した画分を同一カラム上で再度ク ロマトグラフイーに付し、両分21〜42中に純粋な生成物が見つけられる。こ れらを上記の純粋な生成物と合わせ、合計1.28g(収率95%)を得る。
TLCニジリカゲル:UV可視化;10%酢酸エチル−90%ヘキサン、R,: 0.10゜ 質量分析:252.237.197.196.179.57に主要なイオン。
NMRCCDC13,TMS):δ1.50(s、 9H) : 4.35−4 .48(d。
2H);5.01(bs、LH)ニア、43および7.46(d、2H);8. 18および8.21(d、2H)。
工程31式O(一般式チャード)の製造新たに蒸留したTHF 5g上および無 水エタノール15mハこニトロ化合物(工程A・式P)500mv(1,98ミ リモル)を溶解する。該溶液を酸化白金75票9で処理し、加圧下、室温(〜2 5℃)で2時間、水素添加する。
反応混合物を濾過し、触媒をさらに新たに蒸留したTHFで洗浄する。濾液およ び洗液を合わせ、真空下で蒸発させ、固体を収率100%で得る。
TLCニジリカゲル:UV可視化、20%酢酸エチル−80%ヘキサン:R1: 0628゜ 質量分析・222.165.121.106.77.57に主要なイオン。
NMR(CDC1x、TMS) δ1.45(s、9H) ; 3.5−3.8 (b s、 2H);4.13−4.20(d、2H)+4.70−4.85( bs、IH):6.60−6.65(d、2H);7.03−7.10(d、2 H)。
工程C:(S)−N〜[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー8 −メチル−5[[[[4,[[[(1、1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニ ル]アミノメチルコフェニルコアミノ]カルボニル]オキシ]ベンゾ[1,2− b:4.3−b’]−ジビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−イ ンドール−5−イルコル2−ペンゾフランカルボキサミド(化合物番号5)の製 造窒素下、室温(〜25℃)で、トルエン中20%ホスゲン(1,93M、96 5ミリモル)5g上を撹拌する。これに、酢酸エチル141に溶解したアミン( 工程B・式0)47mg(0,21ミリモル)を1分間かけて滴下する。1時間 の反応時間後、溶媒を真空下で蒸発させる。
蓋素下、室温(〜25℃)で、得られた残留物を新たに蒸留したTHF lxj !と一緒に撹拌する。これに、新たに蒸留したTHF 1vslに溶解した(S )−N−[2=[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ −8−メチルベンゾ[1,2−b二4,3−b’]ジビロール−3(2H)−イ ルコカルボニル]−1H−インドール−5−イルコーク−ベンゾフランカルボキ サミド(米国特許第4.912.227号参照:本明細書中に引用記載する)5 7mg(0,105ミリモル)を添加し、次いで、該イソシアネート−尿素混合 物にトリエチルアミン14μlを1分間滴下する。反応を65℃に3時間加熱し 、反応をTLCによって追跡する。さらにトリエチルアミン10μlを添加し、 さらに2時間加熱し続ける。次いで、反応を一晩、室温(〜25℃)に冷却し、 次いで、65℃でさらに2時間加熱する。
この時点で、反応を室温(〜25℃)に冷却し、濾過し、固体をTHFで洗浄す る。濾液および洗液を合わせ、真空下で蒸発させる。蒸発からの粗製残留物をシ リカゲル1g上に塗布し、シリカゲル9g上でクロマトグラフィーに付す。該カ ラムを40%アセトン−60%ヘキサンで溶離し、次いで、50−50の同一溶 媒で溶離する。2g上ずつの画分を収集し、TLCによってそれらを分析する。
以下の画分を合わせ、蒸発させる: 画分35−42、所望の生成物、29票9画分29−34および43−56、所 望の生成物+不純物混合した両分を、10%DMF−90%トルエンで溶離する 以外は上記のように再度クロマトグラフィー処理する。画分20〜35中に生成 物(化合物番号5)が見つけられ、28籾を得る。これにより、合計収量571 9または(S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5 −ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b“コシビロール−3 (2H)−イル]カルボニル〕−IH−インドール−5−イルコル2−ペンゾフ ランカルボキサミドに基づく69%を得る。
TLCニジリカゲル:UV可視化:50%アセトン−50%ヘキサン;R,・0 .49゜ UV(MeOH): 320nm(31,490);292nm(40,150 )。
質量分析、787.789にM; 687.670.538.303.236. 200.199.187.145.106.57に他の主要なイオン。
NMR(cl@DMSO,TMS):δ1.40(s、 9H) ; 2.42 (s、 3H) ; 3゜70−3.82(t、LH);3.95−3.15( m、3H);4.13−4.24(t。
LH)+4.59−4.68(d、IH):4.70−4.84(t、IH)ニ ア、17−7.25(m、4H); 7.30−7.44(m、2H)ニア、4 4−7.57(m、4H)ニア、57−7.66(d、IH): 7.73−7 .78(d、IH); 7.79(s、IH);7.81−7.87(d、IH ): 7.91(bs、IH); 8.23(s、LH); 10.33(s、 IH); 10.50(s、IH)+ 11.22(s、IH); 11.74 (s、IH)。
実施例6 弐P(一般式チャード)の製造 窒素下、室温(〜25℃)で、ピリジン2Qml中で塩化p−ニトロベンゾイル 185y(IOミリモル)を撹拌する。次いで、該溶液にベンジルアルコール1 ,089を添加し、得られた溶液を約65時間反応させておく。
この時点で水を添加し、白色固体の沈殿物を得る。該固体(式P)を濾過により 回収し、水で洗浄し、真空下で乾燥させ、生成物1.799(収率70%)を得 る。
TLCニジリカゲル、UV可視化:20%酢酸エチル−80%ヘキサン:R2・ 075゜ NMR(CD CAs、TMS):65.41(s、2H)4.31−7.50 (m。
5H): 8.20−8.34(m、4H)。
UV(EtOH): 217nm(9,780): 259nm(13,850 )。
IR(マル)−1713,1523,2925,716,1282,2953, 745,1348,2855,1123,695,2869,1104,132 3,1381,1455,870,1605,1299,851,1363,9 54,3114,787,1023cm−’に主要なピーク。
質量分析 257.150,91に主なイオン。
式P(実施例6)500藁9(1,94ミリモル)をTHF 5mj−95%エ タノール15zlに溶解する。これに、酸化白金751gを添加し、加圧下、室 温(〜25℃)で80分間、該混合物を水素添加する。TLCは、出発物質はな いが2つのより大きい極性の生成物を示し、展開溶媒中に存在する酸によっての み原点が除去される。
触媒を濾去し、T)(Fで洗浄する。濾液および洗液を合わせ、真空下で蒸発さ せる。粗製生成物をシリカゲル5g上で塗布し、シリカゲル50g上でクロマト グラフィーに付す。該カラムを、低い極性の生成物がなくなるまで、30%酢酸 エチル−70%ヘキサンで溶離する。次いで、溶媒を40%酢酸エチル−60% ヘキサン−2%酢酸に切り換える。15Nlずつの画分を収集し、TLCによっ てそれらを分析する。以下の画分を合わせて真空下で蒸発させる。
画分11〜17、所望の生成物287−9(収率65%)画分33〜47、副生 成物140菖g(収率53%)TLCおよびNMRデータは、副生成物がベンジ ルエステルの水添分解によるp−アミノ安息香酸であることを示す。
水素添加時間を20分まで短縮しても、なお、出発物質の全てがなくなり、過剰 水素添加され、所望の生成物の収車が69であること%を示す。
TLCンリカゲル、UV可視化;20%酢酸エチル−80%ヘキサン:R1:0 .27 NMR(CD C1s、TMS):δ4.06(s、 2H) : 5.31( s、2H) ; 6.6−6.7(d、2H)+ 7.3−7.6(m、:1i H)+ 7.85−7.94(d、2H)。
IR(マル): 1282.1171.3361.1687.3457.160 1.1633.1118.2926.1311.1381.2954.1317 .1519.730.2855.772.1437.2868.1572.69 4、703.847.1453.3225cm−’に主要なピーク。
UV(EtOH):215nm(12,400);223nm(9,000); 296nm(21,660)。
実施例8 5−4(2−メルカプトプロピオニル)アミン]−N−[2−(4,5,8,8 a−テトラヒドロ−7−メチル−4−オキソシクロプロパ[C]ピロロ[3,2 −e3インドール−2((I H)−イル)−1H−インドール−5−イルクー 1H−インドールー2−カルボキサミド(化合物番号8)の製造暗所で、トリフ ルオロ酢酸100μlに(S)−2−[[[[2−[[1−(クロロメチル)− 1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3− b’]ジビロール−3(2H)−イルコカルボニルニーIH−インドール−5− イル]アミノ]カルボニル〕−IH−インドール−5−イルコカルバミン酸=1 .1−ジメチルエステル(化合物番号4、実施例4)219(0,003ミリモ ル)を溶解する。
5分後、TLCは、出発物質の全てが反応したことを示す。30分の反応時間の 後、窒素流下、該試料を蒸発させる。ダウエックス(Do冒ex) 2− X  8陰イオン交換樹脂(50−100メツシユ、塩化物型、第4級アンモニウムス チレン型、3,2meg/乾燥フレーム容量)19を、IN HCI 10w1 と混合し、濾過し、流出水のpHが6になるまで、脱イオン水で洗浄する。この 混合物にDMF 10mfを添加し、よく混合する。得られた混合物を5分間放 置し、次いで、真空下、濾過によって溶媒を除去する。樹脂を小さいカラム中に 入れる。
上記工程による蒸発残留物をDMA200μ!に溶解し、樹脂に適用し、DMF 5+grで溶離して、生成物(化合物JJ)を得る。
TLC逆相C18,80%DMF−20%水、UV可視化、出発物質および生成 物のR,は各々0.39および0,73である。
NMR(DMSO,TMS): δ2.50(s、3H); 3.54−3.6 5(t。
LH):3.86−3.94(d、IH); 3.96−4.08(t、LH) ;4.47−458(d、IH):4.59−4.73(t、IH)ニア、06 (s、IH)+7.111−723(、2H) : 7.43−7.53(m、 2H): 7.53−7.70 (m、4H): 8゜21(s、IH);9. 80(s、LH);9.76−9.98(bs、2H); 10.30(s、I H); 10.74(s、IH)+ 11.70(s、LH); 12.07( s、IH)。
工程B:チオアセテートアナログの製造暗所で、窒素下、撹拌しつつ、DMA2 00μ!に(S)−5−アミノ−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1 ,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b ’]ジビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ ルコアミノ]カルボニル]−1H−インドール(化合物JJ、工程A) 010 43ミリモルを溶解する。これに、S−アセチル−チオ乳酸[ヒエミシェ・ベリ クチ(Chem、 B er、 )、1966.99.1523.1528コ  7履9(0,047ミリモミル)およびEDC1019(0,053ミリモル) を添加する。
混合物を18時間反応させておき、さらにEDC3uを添加する。反応をさらに 5時間撹拌する。
次いで、反応混合物をシリカゲル50019上に塗布し、シリカゲル5富9上で クロマトグラフィーに付し、20%DMF−80%トルエンで溶離し、固体17 19を得る。NMRによるとこれは生成物および出発酸の1 : 1ffi合物 であると思われる。
不純な生成物を逆相C18シリカゲル1,5g上でクロマトグラフィーに付し、 70%DMF−30%水で溶離し、生成物8mgを得る。
生成物のNMRおよびHPLCは、アセトニトリル−水−トリエチルアミンによ る処理により増加し、かつ364n11に新しいUVピークの存在を示す不純物 (12%)を示し、該不純物はクロマトグラフィーの間に形成されるシクロプロ ピル化合物である。
TLC:Uv可視化1!相c18シ’Jfyゲル、75%DMF−25%水、R f:0.44:通常のシリカゲル、20%DMF−80%トルエン、R,0,3 8゜HPLC:アルテックス・ウルトラシェアー(Altex Ultrash ere)、1.5xi/分、295nm、55%アセトニトリル−45%水−〇  1%TFA; 95%より多い量まで添加すると、以下の維持時間および割合 (%):3.49分、12.4%:6.38分、87.6%の2つの主要なピー ク。
UV(MeOH) : 324m5(35,047)。
質量分析 683.685にM+H+705.682.669.647.447 .405.187に他のイオン。
工程C:工程Bのチオアセテートの加水分解およびシクロプロピルH1wi鎖暗 所で、窒素下、室温(RT)で、アセトニトリル−水−トリエチルアミン中で工 程Bの試料を撹拌する。窒素で浄化した酢酸エチル−水で該反応混合物を希釈し 、窒素下に全てを維持しつつ、層を分離し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、 蒸発させ、5−((2−メルカプトプロピオニル)アミノ]−N−12−(4, 5,8゜8a−テトラヒドロ−7−メチル−4−オキソシクロプロパ[C]ピロ ロ[3,2−e]インドール−2((LH)−イル)−1H−インドール−5− イルニーIH−インドールー2−カルボキサミド(化合物番号8)を得る。
UVニアセトニトリル−水−トリエチルアミン;318nm、28.410 + 364n+i;22.860゜ 実施例10 (S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー8−メチル −5−[[[T 4− [[(フェニルメチル)オキシコ力ルボニル]フェニル ]アミノ]カルボニル]オキシ]ベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロー ル−3(2H)−2−イル]カルボニル]−1H〜インドール−5−イルツー2 −ベンゾフランカルボキサミド(化合物番号10)の製造 窒素下、室温(〜25℃)で、ホスゲンの溶液(トルエン中20%、1.93M 。
965ミリモル)5xiを撹拌する。これに、EtOAc 1xiに溶解した式 S (一般式チャード)の化合物48u(0,21ミリモル)をシリンジからゆ っくりと添加する。まず、若干の固体が形成され、これは1時間の反応時間の間 に溶解する。
次いで、該反応を真空下で、最後には高真空下で蒸発させる。
窒素下、室温(〜25℃)で、新しく蒸留したTHF lxl中で該残留物を撹 拌する。これに、新しく蒸留したTHF l菖!およびトリエチルアミン14μ lに入れた(S)−N−[2−C[1−(クロロメチツリー1.6−シヒドロー 5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾD、2−b:4.3−b’]ジビロール−3 (2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イルツー2−ベンゾフ ランカルボキサミド(米国特許第4.912.227号参照、チャートIV)5 7冨g(0,105ミリモル)をシリンジからゆっくりと添加する。反応混合物 を65℃に2.5時間加熱すると、TLCは反応が終了したことを示す。
該反応混合物を室温(〜25℃)に冷却し、シリカゲル1g上に塗布し、シリカ ゲル9g上でクロマトグラフィーに付す。40%アセトン−60%ヘキサン〜5 0%アセトンー50%ヘキサンの勾配液で溶離する。2Jずつの画分を収集し、 TLCによって分析する。画分17−45中に生成物が見つけられ、これを合わ せ、蒸発させて、(S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒ ドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b’]ジビロ ール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イルツー2− ベンゾフランカルボキサミド(米国特許第4.912,227号参照、チャート ■)68菖g(収率82%)を得る。
TLC:UV可視化;シリカゲル:40%アセトン−60%ヘキサン:Rf:0 .42゜ UV(MeOH):285nm(46,740):sh 325nm(30,Z oo)。
NMR(ds DMSOlTMS):δ2.43(s、IH);3.70−3. 83(t。
lH) : 3.95−4.07(d、 IH): 4.15−4.27(t、  IH)+ 4.62−4゜71(d、IH): 4.72−4.84(t、  IH); 5.35(s、2H)+ 7.21(s。
LH); 7.23(s、IH): 7.33−7.57(m、8H): 7. 63,7.66(d。
IH); 7.70−7.78(m、3H); 7.80(s、IH): 7. 83.7.85(d。
IH); 7.98(bs、18);8.01(s、LH)+ 8.04(s、 1)():8.28(s、LH): 10.52(s、IH)+ 10.83( s、LH); 11.29(s、 IH);11、77(s、 LH)。
質量分析、794.792.684.538.303.237.236.199 .187.145.91に主要なイオン。
実施例11A 工程A:ヒドラジドの製造 窒素下、RTで、乾燥DMF 5d中で不純な酸(式T、一般式チヤード)20 0−9(0,86ミリモル)を撹拌する。該溶液にEDC165119(0,8 6ミリモル)およびt−ブチル=カルバザー)114u(0,86ミリモル)を 添加して完全な溶液を得る。
24時間後、反応混合物を酢酸エチル−水量で分配する。層を分離し、水層を酢 酸エチル再抽出する。有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空下で蒸 発させる。残留物をシリカゲル3g上に塗布し、シリカゲル30g上でクロマト グラフィーに付し、40%酢酸エチル−60%ヘキサンで溶離し、次いで50% 酢酸エチル−50%ヘキサンで溶離する。5zlずつの画分を収集し、TLCに よってそれらを分析する。両分49〜84中に不純な生成物が見つけられ、これ を合わせ、蒸発させる。この物質をシリカゲル5g上で3回、再クロマトグラフ ィーに付し、毎回、30%アセトン−70%へキサンで溶離し、純粋な生成物( 式U1一般式チヤード)に分取し、合計13119(収率44%)を得る。
TLC:ンリカゲル:U■可視化:50%酢酸エチル−50%ヘキサン、 Rf :0442゜ 質量分析 424.348.292.248.216.202.57に主要なイ オン。
NMR(d、−アセトン、TMS):δ1.33−1.43(t、3H);1. 46(s。
9H):4.33−4.46(q、 2H): 7.30(s、 IH);7. 59(s、 ]、H) : 7.62(s、 IH) + 7.87(s、 L H) ; 7゜90(s、IH)ニア、97(bs、LH);8゜35(s、I H);9.43(bs、IH);11.24(bs、IH)。
、TJB:エチルエステル加水分解 窒素下、室温で5時間、MeOH2d IN NaOH1d−水1@1中でエチ ルエステル(式U)100−9(0,29ミリモル)を撹拌したが、そのときT LCは反応が全く完全ではないことを示す。この時点で、IN HCI 0.5 xlを添加し、反応を放置する。
16時間後、TLCは反応が完了したことを示す。該反応混合物を酢酸エチル− 水量で分配する。TLCは酢酸エチル層が不純物だけを含有することを示し、そ れを捨てる。水層をIN HCI 1菖1で酸性化し、酢酸エチルで2回抽出す る。
TLCによって判明するように水層中には生成物は全く残存していない。有機層 を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空下で蒸発させる。これにより、85 1g(式V、一般式チャード)(収率92%)が得られる。
TLCニジ11カゲル、UV可視化+50%酢酸エチル−50%ヘキサン−2% 酢酸:Rf・0.28゜ 質量分析:474.396.320.264.220.188.57に主要なイ オン。
UV(EtOH):210um(11,230);252um(48,600) ;305um(10,760);315um、sl 5h(8,470)。
N M R(d s −D M S OlTMS):δ1.44(s、9H); 7.21(s、LH);7.46.7.49(d、IH)+7.75.7.77 (d、IH):8.25(s、IH):8.88(s、IH)+ 10.12( s、IH);12.07(s、IH); 12.9−13.3(bs、IH)。
工程Cアミド製造 暗所テ、窒素下、RTで、乾m D M F 1 ml中で酸(式V)85@9 (0,27ミ’17モル)を撹拌する。これにアミン(式G1一般式チヤード) 55u(0,27ミリモル)およびEDC52119(0,27ミリモル)を添 加し、該混合物を3日間反応させる。この時点でTLCは不完全な反応を示し、 さらにEDC10!+9を添加し、反応を2日間続け、この時点で反応が完了す ると思われる。
粗製反応混合物をシリカゲル1g上に塗布し、シリカゲル15g上でクロマトグ ラフィーに付し、10−90〜20−80 DMF−トルエンの勾配液で溶離し て、生成物(式X、一般式チャード)138++9を得る。
TLCシリカゲル;UV可視化、10%DMF−90%トルエン、Rf:1を量 分析: 506.406.374.302.57に主要なイオン。
NMR(da−DMS○、TMS):δ1.30−1.41(t、 3H);1 .46(s。
9H);4.30−4.43(Q、 2H)ニア、 22(s、 IH)+7. 50−7.74(m。
4H); 7.77−7.87(d、IH); 8.24(s、1B)+ 8. 35(s、 IH); 894(s、IH):10.19(s、LH);10. 33(s、LH); 11.94(s、IH);12.08(s、IH)。
工程D エステル加水分解 窒素下、R,Tで撹拌しつつ、新しく蒸留したTHF 2mA’にエチルエステ ル(式X)138u(0,27ミリモル)ヲ溶解スル。:hl:EtoH1xl お−i:UINNaOHl+u?を添加する。21時間反応を進行させた後、T LCはそれが完了したことを示す。
該反応混合物をIN HCI 1zlで処理し、真空下で蒸発させる。残留物を IN HCI 1富1を含有する水20m1で処理する。得られた懸濁液を遠心 管に移し、遠心により沈降させる。上澄液をデカントし、固体を水と混合する。
懸濁液を再度遠心により沈降させ、液体をデカントする。真空下で固体を乾燥し 、106冨9(式Y1一般式チヤード)(収率82%)を得る。
TLCニジリカゲル;Uv可可視化+2兄HOAc:Rf:0.32。
質量分析 500、478、422、346、144、57に主要なイオン。
NMR(ds DMS○、TMS):δ1.45(s,9H); 7.09(s .LH)ニア、40−7.61(m.4H); 7.73−7.78(d.LH ); 8.16(s.LH);8、 2 7(s. IH)+8. 8 6(s . LH);1 0. 1 1(s. IH);1 0. 29(s. IH) ;11、73(s.IH):12.05(s.IH)。
工程E :(S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1.6−シヒド ロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1. 2−b:4. 3−b’コシビ ロール−3(2H)−イル]カルボニル]−LH−インドール−5−イルコアミ ノ]カルボニル]−5−[[2−[[(1.1−ジメチルエチル)オキシ]カル ボニル]ヒドラジノコカルボニル]−1H−インドール(化合物11A)の製造 暗所で、窒素下、RTで1時間、EtOAc 2v.lおよびH(Jガスで飽和 したEtOAc 3xl中で(S)−1−(クロロメチル)−1.6−シヒドロ ー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1.2−b:4.3−b’lジビロール −3(2H)−カルボン酸=1.1ージメチルエステル(BOCクロロフェノー ル)57富g(0.17ミリモル)を撹拌する。30%酢酸エチル−70%ヘキ サン中におけるTLCは、出発物質スポットの全てが原点まで移動したことを示 し、完全な反応を示す。次いで、該反応を真空下で蒸発させ、残留物を塩化メチ レンで処理し、真空下で再蒸発させる。固体残留物をDMA 1.5zlに溶解 し、暗褐色の溶液を得る。これに酸(式Y)8 1119(0. 1 7ミリモ ル)およびEDC 32−jを添加する。得られた混合物を、暗所で、窒素下、 RTで1時間撹拌し、次いで、さらに酸2019およびさらにEDC 8mqを 添加し、さらに3時間撹拌する。
該反応混合物を遠心管に移し、生成物を水で沈澱させる。固体を遠心により沈降 させ、液層をデカントする。デカンテーションからの濁った液体をEtOAc− THFで抽出する。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空下で蒸発させる。
これからの残留物をデカンテーションからの固体と合わせる。
粗製生成物をンリカゲル1g上に塗布し、シリカゲル139上でクロマトグラフ ィーに付し、30%DMFー70%トルエンで溶離して、生成物(化合物番号1 1A)90叩(76%)を得る。
TLCニジリカゲル、UV可視化;30%DMFー70%トルエン;Rf :0 、47。
NMR(da DMS○、TMS):δ1.45(s.9H); 2.37(s .3H);3、55−3.68(t.IH);3.87−3.97(d.lH) ;4.00−4.10(t.IH): 4.51−4.60(d.IH); 4 .63−4.77(t.IH)ニア、06(s.IH)ニア、16(s.IH) ニア、46−7、83(m.6H): 8.25(s.LH):δ8.31(s 、IH);8.91(s、IH);9.83(s、IH):10.15(s。
1M);10.30(s、 IH); 1.0.76(s、 IH): 11. 7Hs、 IH); 12゜08(s、1)1)。
UV(MeOH):319nm(34,810);293r+m(36,550 )。
質量分析ニア72.696.695.595.564.360.237.236 .199.187.170.144.57に主要なイオン。
実施例11B (S)−2−[[[2−[rl−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4. s−b’)ジビロール−3( 2H)−イル〕カルボニル]−1H−インドール−5−イルコアミノjカルボニ ル]−5−(ヒドラジノカルボニル)−1H−インドール・−塩酸塩(化合物番 号11B)の製造暗所で、窒素下、室温(〜25℃)で1時間、(S)−2−[ [[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8− メチルベンゾD、2−b:4゜3−b’lジビロールー3(2H)−イルコヵル ボニル]−1H−インドール−5−イルコアミノ]カルボニル]−5[[2−[ [(1,1−ジメチルエチル)オキシコヵルポニルコヒドラジノコカルボニル] −1H−インドール(化合物番号11A)5.14−9(0,0074ミリモル )をMCIガスで飽和した酢酸エチル211/と一緒に撹拌する。20%DMF −80%トルエンにおけるTLCは、出発物質スポットの全てが原点まで移動す るのを示す。反応混合物を真空下で蒸発させ、残留物を塩化メチレンで処理し、 高真空下で再M発させる。
UV(MeOH)+320nm(30,360)+293nm(32,890) 。
質量分析:596.598にM+H:595.597にMoHPLC:アルテッ クス・ウルトラスフェア(Altex Ultrasphere) C18:1 .5ml/分;295n11;40%アセトニトリル−60%水−〇、2%TF A、純度98%:保持時間:5.13分。
NMR(da DMSOlTMS):δ2.36(s、3H)+3.56−3. 70(m。
IH) ; 3.85−3.96(d、 IH) : 3.98−4.10(t 、 IH) ; 4.50−4゜60(d、LH);4.62−4.75(t、  LH) ; 7.06(s、 IH) : 7.15(s。
IH); 7.47−7.54(d、 LH): 7.55−7.73(m、4 H)ゴ、77−7.87(d、 LH) : 8.24(s、’lH): 8. 38(s、 IH) ; 9.77−9.90(b s。
IH):10.39(s、IH);10.4−10.7(bs、2H);10. 78(s。
IH) ; 11.46(s、 IH) ; 11.72(s、IH);12. 25(s、LH)。
実施例12 (S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー8−メチル −5−[[[[4−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ〕カルボニ ルコヒドロラカ]カルボニルコフェニル]アミノコ力ルポニルコオキシ]ベンゾ r1.2−b:4.3−b’3ジビロール−3(2H)−イル]カルポニルニー IH−インドール−5−イルツー2−ベンゾフランカルボキサミド(化合物番号 12)の製造工程A: BOCヒドラジド 窒素下、室温(〜25℃)で、新たに蒸留したTHF Sml中で4−二トロ安 息香酸ヒドラジド50019(2,76ミリモル)を撹拌する。[2−(ter t−ブトキシカルボニルオキシイミノ)−2−フェニルアセトニトリル](BO C−ON)680mg(2,76ミリモル)およびトリエチルアミン385μl c2.フロミリモル)を添加する。次いで、得られた混合物をさらにTHF 3 mlで処理し、次いで、DMF2111で処理し、48時間撹拌し、次いで、5 0℃に8時間加熱し、室温(〜25℃)でさらに16時時間待させる。次いで、 該反応を、50’Cに加熱しつつ、該液体上に窒素流を通すことによって約1/ 2容量まで濃縮する。次いで、トリエチルアミン380μjを添加し、反応を室 温(〜25℃)で4日間放置する。TLCはほとんど完了した反応を示す。
該反応混合物を塩化メチレン−水閘で分配する。層を分離し、水層を酢酸エチル で再抽出する。有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、真空下で蒸発させ る。
粗製生成物をシリカゲル109上に塗布し、シリカゲル100g上でクロマトグ ラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキサンの2O−80(300鳳l)、3O−7 0(250Ilz)、4O−60(250菖l)、50−50(500m1)、 および60−60−40(25Qで溶離し、所望の生成物(一般式チャードにお ける化合物Z)661ms(85%)を得る。
TLCニジリカゲル;UV可視化:20%酢酸エチル−80%ヘキサン、 Rf :0.14゜ rR(vル):2925.1525.1675.3325.3320.2953 .1719.3399.1278.2855.1159.1731.1256. 1510.2869.1484.1350.1370.1373.606.85 1.3235.2986.1460.1456にピーク。
質量分析:435.282.226.182.150.57に主要なイオン。
tJV(EtOH):212nm 5h(8,460):262nm(11,8 50)。
NMR(ds−アセトン、TMS):δ1.46(s、9H); 8.10−8 .23(d+s、3H): 8.33−8.41(d、2H):9.81(s、 LH)。
工程Bz式AA(一般式チャード)アミンの製造THF 2g#:式2(一般式 チャード)(工程A)化合物100−9(0,35ミリモル)を溶解する。これ に95%EtOH5dおよび酸化白金20xgを添加する。
該混合物を、加圧下、室温(〜25℃)で50分間水素添加する。該反応混合物 を濾過し、固体をエタノールで洗浄する。合わせた濾液および洗液を真空下で蒸 発させ、固体8719(式A)を得る。
TLCシリカゲル:UV可視化:60%酢酸エチル−40%ヘキサン、 Rf: 0.47゜ NMR(d*アセトン、TMS):δ1.43(s、9H)+5.17−5.3 (d。
2H): 6.65−6.72(d、2H)+ 7.65−7.74(d、2H );7.77(b s、 L H) ; 9.05(b s、 LH)。
質量分析:252.251、】96.178.120.57に主要なイオン。
rR(マ#):1719.1631.1607.2925.1274.1518 .2954.1487.3356.1259.1167.2855.3239. 1182.2869.1371.2981.3374.1306.3438.1 463.1460.1574.839.779ci−’にピーク。
UV(EtOH): 213nm(11,800): 285nm(16360 )。
工程C:(S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー8 −メチル−5−[[[[4−[[2−C[(1,1−ジメチルエチル)オキシコ カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]フェニル]アミノ]カルボニルコオキシ 〕ベンゾ[1,2−b:4,3−b゛]]ジビロール(2H)−イノ1カルボニ ル]−1H−インドール−5−イルツー2−ベンゾフランカルボキサミド(化合 物番号12)の製造窒素下、室温(〜25℃)で、トルエン中ホスゲン(20% 、1.93モル)4++1を撹拌する。シリンジによって、これに乾燥THF  2mlに溶解したアミン(工程B1式A)50n(0,20ミリモル)を1分間 添加する。5分後、該反応はまだ透明であり、トリエチルアミン28μlを添加 する。沈澱物を形成する。2時間後、さらにトリエチルアミン28μ!を添加し 、17時間反応を続ける。微量試料100μlを取り出し、真空下で蒸発させる 。残留物をTHF Q、5mlに溶解し、IR分析を行う。2250にイソシア ネートピークが見られる。
残りの反応混合物を真空下で蒸発させる。窒素下、乾燥THF中で残留物を撹拌 する。これにトリエチルアミン15μ!および乾燥THF 2冨!中の(S)− (2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メ チルベンゾ[1,2−b:4.3−b’lジビロール−3(2H)−イノ1カル ボニル】−IH−インドール−5−イルツー2−ベンゾフランカルボキサミド( 米国特許第4.912゜227号参照、チャートrV) 57m9(0,106 ミリモル)を添加する。得られた混合物を70℃に1時間加熱し、その後、さら にトリエチルアミン10μjを添加する。さらに1時間加熱を続ける。得られた 混合物を室温(〜25℃)に冷却し、THFで洗浄することによって固体を濾去 する。合わせた濾液および洗液を真空下で蒸発させる。
残留物をシリカゲル19上に塗布し、シリカゲル109上でクロマトグラフィー 付し、20%DMF−80%トルエンで溶離して、主生成物(固体7119)を 得る。
これはまだ不純である。
該不純な生成物をセライト1g上に塗布し、分取用C18逆相ンリカゲル[ウォ ーターズ(Waters)、55〜105ミクロン]7g上でクロマトグラフィ ーに付す。
該カラムを60%酢酸エチル−40%水10m1で溶離し、次いで、同一溶媒の 70−30で溶離し、生成物(化合物番号12)31−g(36%)を得る。
TLC: ン’J 力’fk;UV可i化: 10%DMF−90% トkxン ;Rf:0.21゜ UV(MeOH): 330um(21,220):280um(31,830 )。
NMR(ds−DMSO,TMS):δ1.44(s、9H)、: 3.72− 3.83(t。
IH); 3.95−4.08(d、LH); 4.15−4.28(t、LH ); 4.60−4゜72Cd、LH); 4.73−jj4.84(t、IH ); 7.2Us、LH): 7.23(s。
IH)+7.35−7.45(t、IH) : 7.45−8.00(m、 1 1H) ; 8.25(s。
IH);に8.91(s、IH); 10.13(s、LH): 10.52( s、IH): 10゜73(s、IH);11.28(s、IH);11.76 (s、LH)。
質量分析・819.818.817.816.684.538.303.237 .236.199.187.177.145.120.57に主要なイオン。
実施例13 (S)−N−[2−[[1−(クロロメチル”)−1,6−シヒドロー8−メチ ル−5−[[[[4−[[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ]カル ボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチルコフェニル]アミノ]カルボニル]オ キシ]ベンゾ[1,2−b:4.3−b゛]]ジビロール(2H)−イル]カル ボニル]−1H−インドール−5−イル1−2−ベンゾフランカルボキサミド( 化合物番号13)の製造工程A:エステル加水分解 窒素下、室温(〜25℃)で30分間、THF 20mll−MeOH10g上  I NNaOH20冨を中でp−ニトロ桂皮酸エチル29(9,04ミリモル )を撹拌する。
そのとき、全てが溶液になり、TLCは出発物質が残存しないことを示す。
次いで、IN H(J 20xlを添加し、固体の沈澱が生じる。濾過;こよっ て固体(式BB、一般式チヤード)を回収し、真空下で乾燥させ、収量1(1, 58g、収率90%)を得る。濾液を真空下で濃縮し、第2収量(40m9、収 率2%)を得る。合計収率92%。
TLCニジリカゲル;Uv可視化;50%EtOAc−50%ヘキサン:Rf: 原点。
IR(マル)+ 1351.1687.2924.1532.1631.152 1.1343.849.1310.2953.2855.2869.1622. 1429.988.717.1321.1285.1606.1597.713 .961.1497.760.3054cm−’lニビーク。
UV(EtOH)+211nm、5h(14,690):222um、5h(1 0,130);302nm(18,930)。
質量分析:193.176.147.146.102.91.77にイオン。
工程B:式CC(一般式チャード)の製造窒素下、室温(〜25℃)で、乾燥D MF IQxIt中で式BB(工程A)0.59(2,6ミリモル)を撹拌し、 部分溶液を生じる。これにt−ブチルナカルバザード396謬り(3ミリモル) およびEDC575u(3ミリモル)を添加する。混合物を1.5時間反応させ ておき、その間に全てが溶解する。さらにEDC192ugを添加し、反応を3 45日間続ける。
この時点で、反応混合物を酢酸エチル−水閘で分配する。層を分離し、水層を酢 酸エチルで再抽出する。有機層を合わせ、硫酸ナトリウムによって乾燥させ、真 空下で蒸発させる。粗製生成物をシリカゲル109上に塗布し、シリカゲル10 0g上でクロマトグラフィーに付す。該カラムを40−60〜60−40酢酸エ チル−ヘキサンの勾配液で溶離し、固体状態の生成物(式CC)623■g(収 率78%)を得る。
TLC:ンリカゲル:Uv可視化;50%酢酸エチル−50%ヘキサン:Rf: 072゜ IR(マル)・1515.2925.1675.1348.2954.3299 .1715.2855.1252.1637.1367.2867.1166. 1297.3218.1282.1373.1149.1543.835.14 56.989.1594.848.719C,−’にピーク。
UV(EtOH):212um(15400)+223nm 5h(11400 );244n+e 5h(13100):307um、22440゜質量分析: 307.251.234.207.176.57にピーク。
工程C:式DD(一般式チャード)の製造新しく蒸留したTHF 4m7に式C C(工程B)200119(0,65ミリモル)を溶解する。これに95%Et OH10m1および酸化白金40冨9を添加し、該混合物を、加圧下、室温(〜 25℃)で45分間、水素添加する。該反応混合物を濾過し、該固体をTHFで 洗浄する。合わせた濾液および洗液を真空下で蒸発させ、トルエンで処理し、2 回再蒸発させ、生成物(式DD)201mg(収率100%)を得る。
TLCニジリカゲル:Uv可視化;50%酢酸エチル−50%ヘキサン、Rf・ 031゜ NMR(CDCJ’s、TMS):δ1.46(s、 9H) ; 2.40− 2.5(t、 2H);2.80−2.90(t、2H)+3.59(bs、2 H); 6.58−6.64(d、2H);6.92−7.00(d、2H)。
質量分析:559.279.224.180.106.57に主要なイオン。
IR(マル)・2926.2955.2856.1672.1730.1519 .1168.2868.1237、]715.1368.3285.1456. 1466.1272.1258.1484.1288.1298.3327.1 393.1617.1632.831.3389cm−’に主要なピーク。
UV(EtOH): 238um(9580);290um(1360)。
工程D:(S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー8 −メチル−5−[[[[4−[1[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチル〕フェニルコアミノ]カルボニ ル]オキシ]ベンゾ[1,2−b、4.3−b’lジビロール−3(2H)−イ ルコカルボニル]−1H−インドール−5−イル]−2−ベンゾフランカルボキ サミド(化合物番号13)の製造窒素下、室温(〜25℃)で、トルエン中ホス ゲン(20%、1.93モル)1g上を撹拌する。トリエチルアミン80μ!お よび乾燥THF 1g上に溶解した式DD(工程C)アミン50119(0,1 8ミリモル)全部をシリンジを介して1分間かけて添加する。該反応を5時間撹 拌し、さらにトリエチルアミン50μlを添加し、該反応をさらに1時間撹拌す る。次いで、該反応を減圧下で蒸発させる。
次いで、該残留物を、窒素下、乾燥THF 2d中で撹拌して、懸濁液を得る。
これに、乾燥THF 1mA!およびトリエチルアミン10μlに溶解した(S )−N−[2−[D−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ− 8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’コシピロール−3(2H)−イル コカルボニルニーIH−インドール−5−イルコーク−ベンゾフランカルボキサ ミド(米国特許第4.912.227号参照、チャートIV) 30m9(0, 056ミリモル)を添加する。該混合物を70℃に2時間加熱し、その後、さら にトリエチルアミン5μlを添加する。
次いで、該反応を室温(〜25℃)に冷却し、進行させる。16時間後、該反応 を70℃にさらに2時間再加熱し、再度室温(〜25℃)に冷却する。
粗製生成物をシリカゲル1g上に塗布し、シリカゲル10g上でクロマトグラフ ィーに付し、5%DMF−95%トルエン〜10%DMF−90%トルエンの勾 配液で溶離し、不純な生成物を得る。この物質をセライト1g上に塗布し、逆相 C18ンリカゲル(ウォーターズ、55〜105ミクロン)10g上でクロマト グラフィーに付す。該カラムはアセトン中で前処理され、各々lQmlの90− 10.80−20.70−30および60−40のアセトン−水で調整する。次 いで、該生成物を60%アセトン−40%水10厘!、同−溶媒の70−30の 10011および同一溶媒の80−20の20g7!で溶離し、純粋な生成物( 化合物13)28−9(60%)を得る。
TLC: ン’J 力’fh:UV可視化: 10%DMF−90% トルxン ;Rf:053゜ UV(MeOH): 320r+m(41,370)+292ns(54,03 0)。
NMR(d、−アセトン、TMS):δ1.57(s、9H): 2.44(s 、3H);2.83−3.05(m、6H);3.67−3.77(t、LH) :3.96−4.04(dd、IH);4.18−4.2’8(t、IH)+4 .73−4.87(m、2H);7.11(s、 IH);7.23(s、 L H)ニア、 28(s、 IH);7.3 Hs、 IH);7.33−7゜4 1(t、IH);7.46−7.54(t、IH)1.54−7.70(m、6 H)1゜77−7、83(d、 IH) : 8.14(s、 IH) : 8 .42(s、 LH): 9.30(s。
IH):9.69ぐs、IH)+ 10.47(s、IH); 10.98(s 、IH)。
質量分析:844.770,539.538.303.237.236.199 .187.145.73.57に主要なイオン。
実施例14 (S)−N−[2−[[1ベクロロメチル)−1,6−シヒドロー8−メチル− 5−[[[[4−[2−[(ヒドラジノカルボニル)エチル]フェニル]アミノ ]カルボニル]オキシコベンゾ[1,2−b:4.3−b’lジピロール−3( 2H)−イルコ刀ルボニルニーIH−インF−ルー5−イルコーク−ベンゾフラ ンカルボキサミド・−塩酸塩(化合物番号14)の製造 暗所で、窒素下、室温(〜25℃)で1時間、HCIガスで飽和した酢酸エチル 2Kl中で(S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー 8−メチル−5−[[[[4−[[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキ シ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチルコフェニル]アミノ]カルポ ニルコオキシ]ベンゾ[1,2−b:4.3−b’コシビロール−3(2H)− イルコカルボニル]−1H−インドール−5−イルコーク−ベンゾフランカルボ キサミド(化合物番号13) 5.32u(0,0063ミリモル)を撹拌する 。20%DMF−80%トルエンにおけるTLCは、出発物質スポットの全てが 原点に移動したことを示す。該溶媒を真空下で蒸発させる。残留物を塩化メチレ ンで抽出し、高真空下で再蒸発させて、化合物14を得る。
UV(MeOH):320nm(31,230);292n11(39,420 )。
HPLC:フルテックス・ウルトラスフェア(Altex ’Ultrsphe re) C18;1.5ml/分;295nm;55%アセトニトリル−45% 水−〇、2%TFA、純度91%;保持時間:10.22分。
NMR(DMSO,TMS):δ2.42(s、3H);2.76−2.93( m、4H);3.70−3.82(t、IH);3.96−4.05(d、IH );4.13−4.25(t、LH): 4.58−4.67(d、IH);  4.70−4.84(t、IH): 7.15−7.25(m、 4H);7. 34−7.43(t、 IH) ; 7.43−7.54(m、 4H);7. 55−7.64(d、IH): 7.70−7.93(m、4H): 8.23 (s、 IH);10.33(s、IH); 10.5Hs、IH): 11. 22(s、IH); 11.75(s。
IH); 12.07(s、LH)。
実施例15 (S)−[:[[2−[[1−(、クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール−3(2 H)−イル]カルボニルニーIH−インドール−5−イルコアミノ]カルボニル ]−5−[2−[[2−[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル] ヒドラジノ]カルボニル〕エチル]−2−ベンゾフラン(化合物番号15)の製 造工程A+3−[(ベンゾフラン−2−カルボエトキシ)−5−イルツープロピ オン酸の製造 アルゴン下、110℃で1.5時間、5−ブロモベンゾフラン−2−カルボン酸 =エチルエステル(0,76mM)、酢酸パラジウム(0,1411M)、ト! Jフェニルホスフィン(0,31mM)、アクリル酸(7,3菖M)、蒸留トリ エチルアミン(14,3mM)およびジメチルホルムアミド(0,3mJ)の混 合物を加熱する。該反応を冷却し、INHC4および酢酸エチル間で分配する。
酸生成物を5%重炭酸ナトリウム溶液中に抽出する。
酸性化および重炭酸塩溶液の抽出を行い、乾燥および濃縮の後、黄色の粗製固体 27919を得る。該生成物をメタノール−水−酢酸混合物中、逆相C18シリ カ上でクロマトグラフィーに付す。所望の生成物を収率20%で得る。
NMR(d 4−MeOH,TMS):δ1.41(t、3H); 4.41( q、2H): 6゜53(d、IH,J=18hz)ニア、62(rn、2H) +7.76(m、2H);7.99(s、IH)。
C13NMR(DMSO−δ8、TMS):δ14.15.61.43.112 ゜80.114.19.119.32.123.66.127.24.127. 75.130.68.143.49.146.08.155.89.158.5 4.167゜69゜ MS(El):mAz2601=M+、;mAz232.215.188.15 9に主要なイオン。
TLC(RP C18シリカ):メタノールー水−酢酸(70−30−0,2) 中でRf=0.28゜ 工程B 二3−(5−ベンゾフラン−2−カルボエトキシ)−プロピオン酸の製 造THF(1菖I)およびメタノール(1婁り中1=工程Aのオレフィン(0, 18翼M)を溶解する。得られた溶液を炭素上10%パラジウム(3,6−9) で処理する。ギ酸アンモニウムの4つの微量試料(各々、約5019)を3.8 時間かけて添加する。該反応を濾過し、固体をメタノールで洗浄する。濾液を蒸 発させ、酢酸エチル中に再溶解し、水および食塩水で洗浄する。酢酸エチル溶液 を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させる。所望の生成物を収率82%で得 る。融点96〜108℃。
NMR(IL MeOH,TMS):δ1.40(t、 3H) : 2.64 (t、 2H) ; 3゜02(f、2H)+4.40(q、2H)ニア、37 (dd、LH);7.55(m、3H)。
C13NMR(di−MeOHlTMS):δ14.60.31.87.37. 15.62.57.112.81.114.78.123.20.128.50 .129.72.138.19.147.13.15.5.92.161.02 .176.69゜MS(El)+m/z262にM+、。mAz217.203 .175.115に他のイオン。
TLC(シリカゲルGF、酢酸洗浄):酢酸エチル−トルエン(20−80)中 でRf=0.55゜ 工程Cプロピオン酸−3−(5−ベンゾフラン−2−カルボエトキシ)とt−ブ チル=カルバザードとのカップリングN、N−ジメチルアセトアミド(0,5菖 l)に工程Bの酸(0,14mM)を溶解し、tert−ブチル=カルバザード (o、 28.M)で処理する。およそ半分の重量の1−エチル−3−(3−ジ メチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩(EDC,0,321M)を該 反応に添加し、室温(〜25℃)で1.3時間撹拌する。
残りのEDCを添加し、−晩撹拌し続ける。該反応を酢酸エチルおよび水量で分 配する。有機層をO,IN HCIおよび食塩水で洗浄し、乾燥させ、蒸発させ る。
粗製生成物を、酢酸エチル−トルエン混合物中、HPLCグレードシリカ5g上 でクロマトグラフィーに付す。生成物(弐EE、一般式チヤード)を収率83% で得る。
NMRCCDCb、TMS):δ1.42(s+t、12H);2.57(t、 2H);3.06(t、2H);4.43(q、2H);6.82(bs、IH ); 7.26(dd。
IH);7.45(m、3H);8.16(bs、IH)。
C−13NMR(CDC4STMS):δ14.18.27.96.30.81 .35、82.61.39.81.73.112.10.113.51.121 .90.127.03.128.19.136.03.145.78.154. 39.155゜67.159.48.171.60゜ MS(CI):mAz376でM+、。mAz276.203.175.57で 他のイオン。
TLC(シリカゲルOF):酢酸エチル−トルエン(20−80)中でRf=0 .08゜ 工程Dコニチルエステルの加水分解 室温(〜25℃)で4時間、ピリジン(1mA)およびIN Na0H(0,2 5富J)の混合物中で工程Cの生成物(式EE、0.11mM)を撹拌する。該 反応をINHCA’および酢酸エチルで希釈する。酢酸エチル層を乾燥し、蒸発 させて、式FF(収率93%)の白色固体を得、これをさらに精製することなく 次の反応に使用する。
NMR(MeOH−da、CDCf3、TMS):δ1.47(s、9H);2 .57(t。
2H)+ 3.07(t、2H); 7.33(dd、LH); 7.50(m 、4H)。
工程E:5−アミノー2−カルボキシエチル−ベンゾフランと5−アミンインド ール−2−カルボン酸=エチルエステルとのカップリング柔らかな光の下、室温 (〜25℃)で4日間、酸(弐FF、一般式チャードX0゜10重M)、式GG のアミン(0,13菖M)およびEDC(0,15mM)のN、N−ジメチルア セトアミド(0,2真り中温合物を撹拌する。該反応を酢酸エチルおよび水量で 分配する。酢酸エチル層を食塩水で洗浄し、乾燥させ、蒸発させる。粗製生成物 を、酢酸エチル−トルエン混合物中、HPLCグレードシリカゲル上でクロマト グラフィーに付して精製する。白色固体生成物(式HH,一般式チヤード)を収 率72%で得る。融点132〜135℃。
NMR(CDC1s、MeOH−δ4、TMS):δ1.44(t、 3H): 1.48(s。
9H); 2.59(t、2H); 3.09(t、2H); 4.41(q、 2H); 7.18−7゜45(m、7H); 8.17(s、LH)。
C−13NMR(CDC1s、MeOHda、TMS)+15.35.29.1 6.32、39.37.16.62.29.82.51.109.87.112 .14.113.01.113.84.115.86.121.62.123. 17.128.56.129.19.129.79.131.56.136.6 5.137.77.150.31.155.31.157.63.159.26 .163.73.174.59゜ MS(FAB):m/z535に(m+Hl+ ; m/ z 479.435 .361に他のイオン。
TLC(シリカゲルGF):酢酸エチル−トルエン(30−70)中でRf=0 .20゜ 工程F:エステル加水分解 室温(〜25℃)で18時間、エステル(式HH,一般式チヤードX0.07真 M)のピリジン(1ml)およびIN Na、0H(0,3m1)中溶液を撹拌 する。該反応をIN H(Jlで酸性化し、酢酸エチルで抽出する。該酢酸エチ ル溶液の乾燥および濃縮によって白色固体生成物38菖9を得る。さらに精製す ることなく次工程で使用する。
NMR(DMF−d丁、 TMS): δ1.43(s、9H):2.58(t 、2Hj+3゜05(t、2H);7.19(s、IH);7.43(d、LH );7.56(m、2H);7゜7Hm、2H); 7.79(dd、LH); 8.37(s、IH): 8.72(bs、IH);9.64(bs、IH):  10.55(bs、IH): 11.78(bs、IH)。
工程G:(S)−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5 −ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’lジビロール−3 (2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−アミノ]カル ボニル]−5−[2−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ]カルボ ニル]ヒドラジノ〕カルボニル〕エチル]−2−ベンゾフラン(化合物番号15 )の製造酢酸エチル中に塩化水素を約20分間通気する。酢酸エチル(0,5m 1)中の(S)−1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ− 8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4.3−b’lジピロール−3(2H)−カ ルボン酸=1.1−ジメチルエステルBOC(CPI)クロロフェノール(0, 105mM)を上記HCj’溶液1冨lで処理する。不活性雰囲気下、室温(〜 25℃)で45分間、該反応を撹拌する。該反応を減圧下で蒸発乾固する。該生 成物と空気との接触を回避する。残留物を塩化メチレンで処理し、2回再蒸発さ せる。残留物に工程Fの酸(0,07511M)のN、N−ジメチルアセトアミ ド(1mA’)中溶液を添加し、次いで、およそ半分の重量のEDC(0,19 mM)を添加する。
該反応を室温(〜25℃)で1時間撹拌した後、残りのEDCを添加する。1時 間後、該反応を酢酸エチルで希釈し、水で洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウ ムで乾燥させ、蒸発させる。残留物をシリカゲル(1g)上に吸着させ、ジメチ ルホルムアミド−トルエン(20−80)および(30−70)中、HPLCグ レードシリカゲル(7g)上でフラッシュクロマトグラフィーに付し、黄色固体 の生成物を収率72%を得る。
NMR(DMSO−ds)δ1.41(s、9H)+2.36(s、3H);2 .45(t。
2H); 2.96(t、2H): 3.61(t、LH): 3.90m、I H); 4.04(m。
LH); 4.53(m、LH); 4.67(m、IH); 7.05(S、 IH): 7.14(S。
IH); 7.37(cj、IH);7.47(d、IH); 7.62(m、 5H); 8.20(s。
LH): 8.73(bs、IH); 9.58(bs、IH); 9.79( s、IH)+ 10.45(s、LH)+ 10.73(bs、IH); 11 .69(bs、IH)。
MS(FAB)・C38H37CIN607の計算値+ 724.2412 ; 測定値=724.2393゜m/zに625.389.357.347.236 .199に主要なイオン。
UV(DMA、MeOH): εmax 294(36000)、335(22 000)にショルダー。
TLC(シリカゲルGF)二DMF−トルエン(30−70)中でRf=0.4 5゜実施例16 (S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾEl、2−b:4.3−b’コシビロール−3(2 H)−イルコカルポニル]−1H−インドール−5−イルコアミノカルボニル] −5−[2−(ヒドラジノカルボニル)エチルクー2−ベンゾフラン・−塩酸塩 (化合物番号16)の製造 t−BOC保護基の除去 最少量のジメチルホルムアミド中に(S)−[[[2−[[1−(クロロメチル )−1゜6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4. a−b’1ジビロール−3(28)−イルコカルボニル]−1H−インドール− 5−イル]−アミノ]カルボニル] −5−[2−[[2−[(1、1−ジメチ ルエチル)オキシ]カルボニルコヒドラジノ〕カルボニル]エチルコ−2−ベン ゾフラン(化合物番号15M319.4゜lXl0−’モル)を溶解する。該溶 液をH(J’飽和酢酸エチルで1富!で処理し、柔らかな光の下、室温(〜25 ℃)で20分間撹拌する。次いで、溶媒を真空下で除去し、固体状態の(S)− [[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8 −メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b’lジビロール−3(2H)−イル] カルボニル]−18−インドール−5−イルコアミノカルボニル−5−[2−( ヒドラジノカルボニル)エチルクー2−ベンゾフラン・−塩酸塩(化合物番号1 6)を得る。
NMR(DMSO−d、、TMS):δ2.36(s、 3H) : 2.60 (t、 2H) ;3.00(t、2H)+3.60(t、LH);3.92( dd、IH):4.03(dd。
IH)+4.53(d、 LH);4.68(t、 LH)+7.05(s、  LH) : 7.13(s。
IH) : 7.39(d、 1M) : 7.48(d、 LH); 7.6 4(m、 5H) ; 7.73(s。
IH) ; 8.20(s、 IH) ; 9.79(s、 IH); 10. 46(s、 IH) + 10.62(bs、LH); 10.74(s、LH )+ 11.69(s、LH)。
HPLC(フルテックス・ウルトラスフェア(Altex Ultrasher e) ODS。
5μ018カラム、4.6X150gx:295nm検出:溶媒:40%CH3 CN十〇、2%TFA・60%H20+ 0.2%TFA、ポンプ速度1.5m l/分):保持時間=8.19分。
実施例17 (7bR)−N−[2−[[4,5,8,8a−テトラヒドロ−7−メチル−4 −オキソンクロプロパ[clピロロ[3,2−e]インドール−2(IH)−イ ルーカルボニル]−1H−インドール−5−イルコアミノカルボニル]−5−[ 2−[[2−[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒドラジノ] カルボニル]エチル−2−ベンゾフラン(化合物番号17)の製造(S)−[[ [2−[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メ チルベンゾ[1,2−b:4.3−b’lジビロール−3(2H)−イル]カル ボニル]−1H−インドール−5−イルコアミノカルボニル]−5−[2−[騰 −[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニ ル]エチル]−2−ベンゾフラン(化合物番号15) 50mg(0,069ミ リモル)をトリエチルアミン−アセトニトリル−水(25−25−50)10冨 Jで処理し、得られた溶液を25℃で25分間撹拌する。次いで、反応混合物を THF、酢酸エチルおよび水の間で分配する。水層を分離し、THF−酢酸エチ ルで再抽出する。合わせた有機抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥させる。この溶液 にシリカゲル500富9を添加し、次いで、該混合物を真空下で濃縮する。残留 物を5gシリカゲルカラムの上部に加え、該カラムをDMF−トルエン(20− 80)で溶離し、2冨げつの両分を収集する。TLCによって決定した生成物含 有画分(19−28)を合わせ、真空下で蒸発させ、(7bR)−N−[2−[ [4,5,8,8a−テトラヒドロ−7−メチル−4−オキソシクロプロパ[c lピロロ[3,2−eコインドール−2(IH)−イルーカルボニル]−1H− インドール−5−イルコアミノカルボニル]−5−[2−[[2−[(1,1− ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチル−2− ベンゾフラン37富9が得られる。
NMR(DMSO−ds):61.32(s、 IH);1.41(s、9H) ;1.90−2゜04(m、 IH) : 2. OHs、 3H);2.38 −2.52(t、 2H) : 2.90−3゜02(t、2H): 3.12 −3.23(m、 IH); 4.41−4.51(d、IH): 4.52− 4.60(dd、IH);6.72(s、IH);6.90(s、LH);7. 22(s。
IH);7.33−7.41(dd、IH);7.44−7.51(d、IH) ;7.62(s、IH)+ 7.65(s、IH)+ 7.70(s、IH);  8.22(s、IH)+ 8.75(S、IH);9.59(s、IH);1 0.48(s、LH);11.56(s、LH)+11゜83(s、IH)。
TLC:DMF−トルエン(20−80)中でRf=0.36゜実施例18 (S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’コシピロール−3(2H) −イル]カルボニルニーIH−インドール−5−イル]アミノ]カルボニルコ− 5−[2−[[2−[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシコカルボニル]ヒド ラジノ]カルボニル]エチル−2−ベンゾフラン=3.6.9− トリオキサデ カン酸エステル(化合物番号18)の製造 工程A・3,6.9−トリオキサデカン酸(23899−IG−154)の製造 水素の摂取が止むまで、常圧および25℃で、水60m1中で酸化白金0.5g を水素添加する。得られた混合物に、水20d中に溶解した重炭酸ナトリウム0 .6g(7,14ミリモル)およびトリエチルグリコールモノメチルエーテル1 .Og(6,1ミリモル)の混合物を添加する。4時間、上記混合物に通気し、 TLCによって出発物質の消費を追跡する。次いで、該反応をセライトを介して 濾過し、該セライトを水で洗浄する。合わせた洗液をIN塩酸7.2dC7,2 ミリモル)で処理し、得られた溶液を凍結乾燥する。残渣をアセトンで洗浄し、 濾過する。真空下で濾液を蒸発乾固させる。残留油状物をCC−4シリ力ゲル1 00g上でクロマトグラフィーに付し、アセトン−塩化メチレン(50−50) で溶離し、20m1ずつの両分を得る。画分11−16を濃縮し、所望の3.6 .9−トリオキサデカン酸0.92vを得る。
NMR(アセトン−δ6)=63.30(s、3H); 3.40−3.75( m、8H):4、12(s、 2H)。
TLC:アセトン−ヘキサン−酢酸(40−60−2)中でRf=0.13゜工 程B: 3、6.9− トリオキサデカン酸(工程A)40me(0,22ミリモル)を 塩化チオニル0.5鷹1で処理し、該混合物を窒素雰囲気下で1時間加熱還流す る。次いで、反応を冷却し、真空下、25℃で濃縮する。残留物を四塩化炭素中 に再溶解し、再度、真空下で蒸発させる。得られた酸塩化物を乾燥ピリジン1. 0+lで処理し、この溶液を、(7bR)−N−[2−[[4,5,8,8a− テトラヒドロ−7−メチル−4−オキソシクロプロパ[clピロロ[3,2−e ]コインドール2(IH)−イルーカルボニル]−1H−インドール−5−イル コアミノカルボニル]−5−[2−[[2−[(1,1−ジメチルエチル)オキ シ]カルボニル]ヒドラジノコカルボニルコニチル−2−ベンゾフラン(化合物 番号17) 30++s+(0,043ミリモル)の溶液に添加する。25℃で 16時間撹拌した後、該反応を重炭酸ナトリウム5%水溶液0.3mlで処理し 、真空下、シリカゲル0.59上で全混合物を蒸発させる。残ったシリカゲルお よび化合物を7gシリカゲルカラムの上部に添加し、次いで、DMF−トルエン (15−85)で溶離し、2wlずつの画分を収集する。画分13−20の蒸発 によって、(S )−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロ ー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール −3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イルコアミノ]力 ルポニルコ−5−[2−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ]力ル ポニルコヒドラジノ]カルボニルコニチル−2−ベンゾフラン=3.6.9−ト リオキサデカン酸エステル(化合物番号18)9miを得る。
NMR(DMSO−ds):δ1.4Hs、9H);2.41(s、3H);2 .40−2゜50(t、2H); 2.90−3.00(t、2H): 3.2 5(s、3H): 3.42−3゜50(m、2H); 3.53−3.65( m、4H)+ 3.70−3.80(m、3H); 3゜94−4.03(d、 IH):4.13−4.24(t、IH): 4.57(s、2H); 4゜5 6−4.66(d、IH): 4.68−4.81(t、IH); 7.18( s、IH)+ 7゜26(s、IH): 7.32−7.40(dd、IH);  7.45−7.53(d、IH);7.56−7.67(m、3H); 7. 86(s、IH); 8.22(s、IH);8.72(s、IH): 9.5 9(s、LH); 10.47(s、IH): 11.15(s、IH): 1 1.69(s、LH)。
TLC:DMF−トルエン(20−80)中でRf=0.44゜実施例19 (S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’lジビロールー3(2H) −イル]カルボニル〕−IH−インドール−5−イル]アミノコカルボニル]− 5−[2−(ヒドラジノ)カルボニル]エチルー2−ベンゾフラン=3.6.9 − トリオキサデカン酸エステル(化合物番号19)の製造。
25℃で、(S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー 5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール− 3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノコカル ボニル] −5−[2−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ]カル ボニル]ヒドラジノコカルボニル]エチル−2−ベンゾフラン=3.6.9−ト リオキサデカン酸エステル(化合物番号18)4u(0,0O45ミリモル)を トリフルオロ酢酸02冨!で処理する。2分後、該反応を真空下(< Q、 2 mxHg)で蒸発させ、残留物をそのままDMFo、25算lに溶解し、該溶液 を塩化物型の1.25gダウエックス(Dowex)2−X8(50〜100メ ツシユ)イオン交換カラムの上部に添加する。該カラムをDMFで溶離し、0. 251Jずつの画分を収集する。該画分をアルテックス・ウルトラスフェア(A ltex Ultrasphere)5 uOD S 4.6 X 15 (b 藁カラム上でHPLCに付し、アセトニトリル−水−TFA(45−55−0, 1)によって1.5菖l/分で溶離し、295nmでUVによってピーク溶出を 追跡することによって分析する。これらの条件下、7.7分のうちに出発物質が 溶出し、5.2分のうちに(S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1, 6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1゜2−b:4,3−b’ コシピロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル ]アミノ〕カルボニル]−5−[2−(ヒドラジノ)カルボニル]エチルー2− ベンゾフラン=3.6.9− トリオキサデカン酸エステルを溶出する。生成物 含有画分を合わせ、高真空下(< 0.2umHg)で濃縮する。
TLC:C−18逆相シリカゲルプレート上でアセトニトリル−水(50−50 )中でRf=0.40゜ 実施例20 (S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジピロールー3(2H) −イル〕カルボニル]−1H−インドール−5−イルコアミノ〕カルボニル]− 5−[2−[[2−[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ]カルポニルコヒド ラジノコカルボニル]エチル]−2−ベンゾフランニブルタル酸モノエステル( 化合物番号20)の製造ピリジン0.20菖lに(S)−([[−2[[1−( クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1, 2−b:4.3−b’lジピロール−3(2H)−イル]カルボニル]−18− インドール−5−イルコアミノコカルポニルコ−5−[2−[[2−[[(1, 1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル〕ヒドラジノ]カルボニルコニチル] −2−ベンゾフラン(化合物番号I 5) 30−9(0,041ミリモル)、 無水グルタル酸7m+9および4−N、N−ジ、メチルアミノピリジン3真9を 溶解し、該溶液を、窒素雰囲気下、65℃に3時間加熱し、次いで、25℃で6 4時間撹拌する。次いで、該反応をシリカゲル0.5gに添加し、真空下で蒸発 させる。残留物を5gシリカゲルカラムの上部に添加し、TLCが出発物質(化 合物番号15)の溶出を示すまで、該カラムをDMF−4ルエン(20−80) で溶離する。次いで、溶媒をDMF−)ルエンー酢酸(20−80−2)に換え 、2Klずつの両分を収集する。真空下(< 0.2mmHg)で蒸発させて、 (S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1゜2−b:4.3−b’コンビロール−3(2H) −イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]− 5−[2−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒド ラジノ]カルボニル]エチル]−2−ベンゾフランニブルタル酸モノエステル2 7菖9を得る。
NMR(DMSO+:l+):δ1.41(s、9H); 1.85−1.98 (Q、2H);2、33−2.44(t、 2H) ; 2.41(s、3H) : 2.45−2.53(t、2H);2.73−2.83(t、2H); 2 .92−3.04(t、2H); 3.67−3.80(t、LH): 3.9 3−4.05(d、IH); 4゜14−4.24(t、IH)+4.56−4 .66(d、LH); 4.70−4.81(t、LH); 7.20(s、I H): 7.25(s、LH); 7.34−7.41(dd、LH): 7. 45−7.53(d、IH): 7.55−7.70(m、3H);7.71( s、LH)+7.85(S、IH);8゜23(s。
IH); 8.75(s、IH)+ 9.60(s、IH); 10.47(s 、IH)+ 11.13(s、IH)+ 11.71(s、LH)。
TLC:DMF−トルエン(20−80)中でRf=0.14゜T L C:  DMF −トルエン−酢酸(20−80−2)中でRf=0.57゜実施例21 N−[2−ヒドロキシ−1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル]グルタミン 酸の(S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b・4.3−b’]ジビロールー3(2 H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル ]−5−[2−[[2−[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ〕カルボニル] ヒドラジノコカルボニル]エチル]−2−ベンゾフランエステル(化合物番号2 1)の製造DMA 0.20m/C(S)[[[2[[1−(クロロメチル)− 1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3− b’コシビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5− イル]アミノ]カルポニルコ−5−[2−[[2−[[(1,1−ジメチルエチ ル)オキシ〕カルボニル]ヒドラジノコカルボニル]エチル]−2−ベンゾフラ ンニブルタル酸モノエステル(化合物番号20)25u(0,03ミリモル)、 ヒドロキシベンゾトリアゾール7哩、トリエチルアミン7μ!およびエチルジメ チルアミノプロビルカルポジイミド9冨9を溶解し、該反応を暗所で1.5時間 放置する。次いで、該反応をトリヒドロキシメチルアミノメタン7mgで処理し 、該反応を、暗所で、25℃で21時間撹拌する。
次いで、該反応を、高真空下(<0.2+uHg)、シリカゲル0.5g上で蒸 発させる。
残留物を5gシリカゲルカラムの上部に添加し、DMF−トルエン(20−80 )で溶離し、2Klずつの画分を収集する。高真空下(<0.2mmHg)、画 分22−44を蒸発させて、N−[2−ヒドロキシ−1,1−ビス(ヒドロキシ メチル)エチル]グルタミン酸の(S)−[[[−2[[1−(クロロメチル) −1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3 −b’]ジビロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5 −イルコアミノ]カルボニル]−5−[2−[[2−[[(1,1−ジメチルエ チル)オキシ〕カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチル〕−2−ベンゾフ ランエステル(化合物番号21)1819を得る。
NMR(DMSO−as):δ1.41(s、9H): 1.84−1.99( q、2H):2.24−2.36(t、2H): 2.4Hs、3H): 2. 41−2.50(t、2H):2.70−2.80(t、2H): 2.90− 3.02(t、2H);3.56 & 3.58(d、6H); 3.66−3 .77(t、IH); 3.92−4.03(d、IH); 4.13−4.2 4(t、IH); 4.54−4.65(d、IH): 4.67−4.80( 2t。
4H); 7.18(s、LH): 7.23(s、2H)、7.33−7.4 0(dd、LH);7.44−7.53(d、IH): 7.56−7.69( m、3H); 7.71(s、LH);7.84(s、IH); 8.22(’ b、LH);8.73(s、IH); 9.5g(s、IH):10□46(s 、IH); 11.09(s、IH); 11.69(s、LH)。
TLC:DMF−トルエン(30−70)中でRf=0.60゜HPLCニアセ トニトリル−水−TFA (45−55−0,1)によって1.5xi/分で溶 離した4、6X150+i+アルテツクス・ウルトラスフェア(AltexUl trasphere)5μODsカラム上でRT=4.06分;アセトニトリル −水−TFA、(43−57−0,1)によって15*l/分で溶離した4、6 X150mmアルテックス・ウルトラスフェア(Altex Ultrasph ere) 5 μODsカラム上でRT=6.51分。
実施例22 N−[2−ヒドロキシ−1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル]グルタミン 酸の(S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b・4.3−b”]]ジピロールー32 H)−イルコカルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノコカルボニル ]−5−[2−(ヒドラジノ)カルボニル]エチルー2−ベンゾフランエステル (化合物番号22)の製造25℃で、トリフルオロ酢酸0.90富lで(化合物 番号22)16哩(0,017ミリモル)を処理する。2分後、該混合物を高真 空下(< Q、 2mmHg)で蒸発させる。残留物をそのままDMF 1mA に溶解し、塩化物型の5gダウエックス(Dovex)2−X8(50〜100 メツシユ)イオン交換カラムの上部に添加する。
該カラムをDMFで溶離し、IKlずつの画分を収集する。高真空下(< 0. 2tmHg)で画分3−7を蒸発させて、僅かに不純なN−[2−ヒドロキシ− 1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチルコグルタミン酸の(S)−[[[−2 [[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベ ンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール−3(28)−イル]カルボニル ]−IH−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]−5−42−(ヒドラ ジノ)カルボニル]エチルー2−ベンゾフランエステル(化合物番号22)15 mgを得る。この物質をDMF Q、6富1に溶解し、該溶液を水Q、4+Jで 希釈する。この混合物をC−18逆相シリ力ゲル2g上でクロマトグラフィーに 付し、DMF=水(60−40)3.l、次いでDMF−水(7〇−30’)3 0mlで溶離する。1鳳!ずつの画分を収集する。画分9−13を蒸発させ、N −[2−ヒドロキシ−1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル]グルタミン酸 の(S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒド ロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール−3(2H )−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イルコアミノコ力ルボニル] −5−[2−(ヒドラジノ)カルボニル〕エチルー2−ベンゾフランエステル( 化合物番号22)3+=gを得る。
NMR(DMSO−d@)+ 61.84−1.98(q、2H); 2.25 −2.35(t、2H); 2.36−2.44(t、2H); 2.4i(s 、3H); 2.67−2.77(t、2H);2.90−3.00(t、2H );3.55 & 3.57(d、6H); 3.67−3.77(t、IH) ; 3.94−4.04(d、LH): 4.13−4.25(t。
IH):4.57−4.65(d、IH);4.70−4.82(2t、4H) ;7.18(s。
IH);7.23(s、2H); 7.30−7.37(d、LH); 7.4 4−7.51(d。
IH); 7.56−.7.66(m、4H); 7.7Hs、IH): 7. 84(s、IH); 8゜22(s、LH): 8.99(s、IH); 10 .45(s、IH): 11.09(s、LH);11.69(s、IH)。
TLC:C−18シリカゲル逆相TLCプレート上でDMF−水(70−30) 中でRf=0.60゜ 実施例23 7−アミノ−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸・二ナトリウム塩の(S)−[ [[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8− メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’lジビロール−3(2H)−イル]カ ルボニル]−18−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]−5−[2− [[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ〕カルボニル]ヒドラジノコカ ルボニル]エチル]−2−ベンゾフラン=グルタル酸モノエステルモノアミド( 化合物番号23)の製造DMA 0.20dに(S)−[[[−2[[1−(り Oロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2 −b:4.3−b’]ジビロール−3(2H)−イルコカルボニル]−1H−イ ンドール−5−イル]アミノ]カルボニル]−5−[2−[[2−[[(1,1 −ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチル]− 2−ベンゾフランニブルタル酸モノエステル(化合物番号20)25冨9(0, 03ミリモル)、ヒドロキシベンゾトリアゾール7菖9、トリエチルアミン7μ !およびエチルジメチルアミノプロピルカルボジイミド9mgを溶解し、該溶液 を25℃で1.5時間撹拌する。次いで、該反応に、トリエチルアミン10μ! および水20μlに溶解した7−アミノ−1,3−ナフタレンジスルホン酸10 −9(0,033ミリモル)を添加し、得られた溶液をDMFIOμ!で洗浄す る。暗所で、25℃で21時間、該反応を撹拌する。次いで、該反応を、高真空 下(< 0.2+*xHg)、セライト(Celite)0.5g上で蒸発させ る。残留物を59C−18逆相シリカゲルカラムの上部に添加し、DMF−水中 1%塩化ナトリウム(10−90)10@lで溶離し、次いで、水中DMFを1 0%から80%まで10%ずつ増加させた溶媒IQxj’ずつで溶離する。2m lずつの画分を収集する。
所望の7−アミノ−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸・二ナトリウム塩の(S )−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ −8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール−3(2H)−イ ル]カルボニルニーIH−インドール−5−イル]アミノコカルポニルコ−5− [2−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシコカルボニル]ヒドラジ ノ]カルボニルコニチル−2−ベンゾフランニブルタル酸モノエステルモノアミ ドを、TLCおよびHPLCによってこの物質を含有することが判明したこれら の画分を高真空下(< 0.2 +u+Hg)で蒸発させることによって、固体 残留物として得る。
NMR(DMSO−d、、TMS) 61.41(s、 9H) ; 1.99 −2.10(q。
2H); 2.40(s、3H); 2.40−2.48(t、2H); 2. 50−2.59(t。
2H) : 2.77−2.87(t、2H) ; 2.90−3.01(t、  2H) + 3.68−3゜79(t、IH): 3.94−4.03(d、 IH); 4.13−4.24(t、IH); 4゜56−4.66(d、IH ): 4.70−4.80(t、IH); 7.18(s、LH); 7゜24 (s、IH); 7.34−7’、40(d、IH); 7.46−7.53( d、IH); 7゜56−7.67(m、3H); 7.70(s、LH);  7.85−7.92(m、2H); 8゜00(s、IH); 8.13−8. 20(d、IH): 8.20−8.24(m、2H): 8゜67(s、IH ); 8.73(s、LH): 9.59(s、IH); 10.39(s、L H);10.46(s、IH)+11.13(s、IH); 11.72(s、 LH)。
HPLC:ビダック・プロティン−ペプチド(Vydac Protein − Peptide)Cps:1.5ml/分+295nm;20%CH,CN−8 0%50mM NEt3/HOAc(pH#5.5)で2分間、次いで、80% CHsCN−20%50冨MNEt3/HOAcまでの勾配液で5分間、次いで 、80%CH,CN−20%50冨M NEt3/HOAcで溶離する。保持時 間ニア、6分。
実施例24 7−アミノ−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸・二ナトリウム塩の(S)−[ [[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8− メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール−3(2H)−イル]カ ルボニル]−LH−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]−5−[2− (ヒドラジノ)カルボニル]エチルー2−ベンゾフラン=グルタル酸モノエステ ルモノアミド(化合物番号24)の製造 25℃で、7−アミノ−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸・二ナトリウム塩の (S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4.3−b’コシピロール−3(2H) −イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル〕アミノコカルボニル]− 5−[2−[[2−[[(1゜1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒド ラジノ]カルボニル]エチル]−2−ベンゾフランニブルタル酸モノエステルモ ノアミド(化合物番号23)20翼9(0,016ミリモル)をトリフルオロ酢 酸0.90ffifで処理する。2分後、該混合物を高真空下(< 0.2+u Hg)で蒸発させる。残留物をそのままDMF 1mlに溶解し、高真空下(0 ゜2x諺Hg)でセライト0.5g上で蒸発させる。残留物を5gC−18逆相 シリカゲルカラムの上部に添加し、DMF−水中1%塩化ナトリウム(10−9 0)10@lで溶離し、次いで、水中DMFを10%〜80%まで10%ずつ増 加させた溶液IQm7ずつで溶離する。2dずつの画分を収集する。所望の7− アミノ−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸・二ナトリウム塩の(S)−[[[ −2[[1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチ ルベンゾ[1,2−b・4.3−b’lジビロール−3(2H)−イル]カルボ ニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]−5−[2−[[ 2−(ヒドラジノ)カルボニル]エチルー2−ベンゾフラン=グルタル酸モノエ ステルモノアミドを、TLCおよびHPLCによってこの物質を含有しているこ とが判明したこれらの画分を高真空下(< 0.2m冨Hg)で蒸発させること によって固体残留物として得る。
NMR(DMSOda、TMS):61.98−2.12(Q、 2H);2. 40(S。
3H);2.34−2.46(t、2H);2゜52−2.60(t、2H); 2.78−2゜88(t、2H) : 2.93−3.01(t、2H) :  3.6’8−3.79(t、 IH) ; 3゜93−4.03(d、LH)+ 4.10−4.23(t、LH); 4.55−4.65(d。
IH): 4.68−4.81(t、LH): 7.18(s、IH): 7. 23(s、IH): 7゜30−7.39(d、IH); 7.45−7.53 (d、IH)ニア、57−7.67(m。
3H);7.70(s、IH);7.83−7.93(m、2H);8.01( s、IH); 8.10−8.19(d、 LH); 8.19−8.24(m 、 2H)+ 8.67(s、 IH) : 8.98(s、IH); 10. 39(s、LH)+ 10.45(S、LH)+ 11.13(S、LH);1 1、72(s、 I H)。
HPLC:ヴイダック・プロティン−ペプチド(Vydac Protein  −Peptide)Cps ; 1.5ml/分;295r+m;40%CH3 CN−60%50mM NEt3/HOAc(pI(w5.5)から45%CH s CN −55%50HM NEt3/HOAcまでの直線勾配液で3分間に わたって。保持時間:3.13分。
出発化合物は公知であるか、または公知の方法によって容易に製造され得る。
エム・エイ・ワーベホスキイ(M、 A、 Warpehoski)、テトラヘ ドロン・レター(Tet、 Lett、 )、27.4103(1986);ダ ブリュ・ダブリュ・ウイアレンガ(W、 W、 Wierenga)、ジャーナ ル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイ(J、Am、 Chew、 S oc、)、103、第18号、1981 ;ディー・ジー・マーチン(D、 G 、 Martin)、ジャーナル・オブ・アンチビオティクス(J 、 Ant ibiotics)、1985.38.746 :およびエム−エイ・ワーベホ スキイ(M、 A、 Warpehoski)、アイ・ゲブハード(1、Geb hard)、アール・シー・ケリイ(R,C,Kelly)、ダブリュ・シー・ クルーガー(W、 C,Krueger)、エル・エイチ・す(L、 H,Li )、ジエイ・ビー・マクガブレン(J 、 P、 McG avren)、エム ・ディ・ブライリエ(M、D。
Prairie)、エヌ・ウィクニエンスキ−(N、 Wic!1ienski )およびダブリュ・ウイアレンガ(W、 Wierenga)、ジャーナル・オ ブ・メデイシナル・ケミストリー(J。
Med、 Chem)、1988.31、第590〜603頁参照。
(S)−1−(クロロメチル)−1,6−シヒドロー5−ヒドロキシ−8−メチ ル−ベンゾ[1,2−b:4.3−b’]ジビロール−3(2H)−カルボン酸 =1.1−ジメチルエステルBOC(CPI)クロロフェニル・H(Jの製造は 、アール・ジー・ケリイ(R,C,Kelly)、アイ・ゲブハード(I 、  Gebhard)、エヌ・ウィフクニエンスキ−(N、 Wicnienski )、ビー・エイ・アリストフ(P、 A、 Ar15tof、f)、ビー・ディ ー・ジョンソン(P、 D、 ’J ohnson)、ディー・ジー・マーチン (D、 G。
Martin)、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ(J 、Am。
Chem、 S oc、 )、1987.109 6837に教示されている。
式Aで示されるスピロシクロプロピルシクロへキサジェニル化合物および1−( ハロメチル)−1,6−ヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2 −b:4.3−b’]ジビロール−3(2H)−イル5−エステルまたはウレタ ン(式B)は、1986年8月7日に出願された米国特許出願第894.314 号(現在、放棄された)および1987年12月11日に出願された特許出願P CT/87103227に教示されている手段および方法によっても製造するこ とができる。
共に、本明細書中に引用記載される。欧州特許出願公開第015444.)号( 1985年11月9日公開)も参照。
式1および■の化合物は、抗腫瘍剤として特に有用である。式1およびHの化合 物の例は、P388白血病マウスにおいて抗腫瘍活性を示し、またL1210白 血病およびBI3黒色腫ネズミ試験システムにおいて有意な活性を示す。これら のネズミ試験システムは、臨床学的に有用なヒト抗腫瘍剤について予言し〔例え ば、エイ・ゲルディン(A、 Ge1din)ら、ヨーロピアン・ジャーナル・ オブ・キャンサー(E uropean J 、 Caneer)、第17巻、 第129〜142頁、1981 ;ジエイ・エム・ペンデッティ(J 、 M、  Vendetti)、キャンサー・トリートメント・リポーツ(Cancer  Treatment Reports)、第67巻、第767〜772頁、1 983;およびジェイ・エム・ベンデッティ(J 、 M、 Vendetti )ら、アドバンシズ・イ:/−7フー7:10シイ・アンド・ケモセラピイ(A dvances in Phariacologyand Che+aothe rapy)、第20巻、第1〜20頁、1984参照コ、したがって、本発明の 化合物(式Iおよび■)は、例えば1日当たり体重1kqにつき0.001μ9 〜約10寓9を静脈内投与した場合(厳密な投与量は、患者の年齢、体重および 状態ならびに投与回数に依存する)、ヒトにおける罹病性白血病を含む罹病性腫 瘍性(癌)疾患の制御および治療において有用であろう。
式1および■の化合物はポーラス注射によってまたは輸液によって液性溶液で静 脈内投与(IV)される場合に有効である。好ましい投与量は、ポーラス注射に よって0.01μq/kq〜1000μq/kqおよび輸液によって0.000 2〜20μ9/&9/分である。厳密な投与量は、個々の化合物、ならびに年齢 、体重、投与経路、患者の体調、および投与回数に依存して変化するであろう。
式1の化合物についてのL1210試験データを第1表に示す。
本発明の化合物をそのまま投与することに加えて、該化合物(式1およびn)は 、モノクローナル(Mab)またはポリクローナルのいずれかの抗体に結合され 、特異的な癌細胞抗原に対して指向され、かくして、患者由来のこれらの疾患細 胞を選択的に排除する。本発明化合物の抗体への結合は、欧州特許出願第854 017761号(公開番号第0175617号)および83400461.6号 (公開番号第0088695号)(本明細書中に引用記載される)ならびにエイ ・エイチ・ブレアー(A、 H,Blair)、ティー・アイ・ボーズ(T、  I 、 Ghose)、ジャーナル・オブ・イムノロジカル・メソッズ(J 、  I mo+uno1. Methods)、59.129(1983)、エフ ・エンド(N、 Endo)、ワイ・カド(Y、 Kat、o)、ワイ・タケダ (Y。
Takeda)、エム・サイト(M、 5aito)、−1−ヌ・ウメモト(N 、 Umemoto)、ケイ・キング(K、 K15hida)、ティー・ハラ (T、Hara)、キャンサー・リサーチ(CancerRes、)、47.1 076(1987)、イー・フルヴイッツ(E 、 Hurwi tz)、アー ル・レヴイ(R,Levy>、アール−voン(R,Maron)、エム・ウィ ルチェック(M。
Wilchek)、アール・アーノン(R,Arnon)、エム・シーラ(M、  Se1g)、キャンサー・リサーチ(Cancer Res、)、35.11 75(1975)、ケイ・オーカワ(K。
0hkava)、ワイ・ツカダ(Y、 Tsukada)、エフ・ヒビ(N、  Hibi)、エフ・ウメモh (N、 U+emoto)、ティー・ハラ(T、  Hara)、キャンサー・イムノロジー・アンド・イムノセラビー(Canc er I mmunol、 I mmunother、 )、23.81(19 86)、ビー・バラカード(B、 Packard)、エム・エディディン(M 、 Edidin)、エイ・コモリヤ(A、 Komoriya)、バイオケミ ストリー(B 1oche+++1stry)、25.3538(1986)、 ジェイ・ディー・ロッドウェル(J 、 D、 Rodwell)、ケイ・エル ・アルバレツ(V、 L、 Alvarez)、シー・シー(C,Lee)、エ イ・ディー・ロベス(A、 D。
Lopes)、ジニイ・ダヴリュ・エフ・ゴアーズ(J 、 W、 F、 Go ers)、エイチ・ディー・キング(H,D、 King)、エイチ・ジェイ・ ボウスナー(H,J、 Povsner)、ティー・ジェイ・マクカーン(T、  J 、 McKearn)、プロシーディンゲス・オブ・ナショナル・アカデ ミイ・オブ・サイエンシズ・ニーニスエイ(Proc、 Natl、 Acad 。
Sci、 U S A)、83.2632(1986)、ワイ・ツカダ(Y、  Tsukada)、ワイ・カド(Y、 Kato)、エフ・ウメモト(N、 U me+noto)、ワイ・タケダ(Y、 Takeda)、ティー・ハラ(T、 Hara)、エイチ・ヒライ(T、 Harai)、ジャーナル・オブ・ナショ ナ/lz−キャンサー・インスティチュ−ト(J 、 Nat、 Cancer  I nst、 )、73.721(1984)およびエフ・ウメモト(N、  Ugemoto)、ワイ・カド(Y、 Kato)、ワイ・タケダ(Y、 T  akeda)、エム・サイト(M、 5aito)、ティー・ハラ(T、Har a)、エム・モト(M、 Setg)、ティー・タカハシ(T、 Takaha shi)、ジャーナル・オブ・アプライド・バイオケミストリー(J 、 Ap pl、 B 1oche+a、 )、6.297(1984)のものを含む当技 術分野においてよ(知られている方法によって行うことができる。
さらに、化合物(式1および■)は、該化合物と可溶性ヒトCD4またはヒト免 疫不全性ウィルスのgp120エンベロープ蛋白に結合する能力を有する可溶性 ヒトCD4蛋白フラグメントとの間でコンジュゲート体を調製することによって AIDSを治療するのに利用することができる。
可溶性ヒトCD4(またはヒト免疫不全性ウィルスのgp120エンベロープ蛋 白に結合する能力を有する可溶性ヒトCD4蛋白フラグメント、すなわち、生物 学的に活性なCD4フラグメント)のアミノ酸配列は突然変異体ヒトCD4蛋白 と同一であり得るか、あるいは、1)ヒトCD4のアミノ酸配列からの欠失、該 配列における置換および/または該配列への付加があり得[マツトン、ビー・ジ ェイ(Maddon、 P、 J 、 )ら、「T細胞表面蛋白T4をコードす るcDNAの単離およびヌクレオチド配列:免疫グロブリン遺伝子ファミリーの 新しいメンバー(The I 5olation and Nucleotid e 5equence of a c DNA Encoding theT  Ce1l 5urface Protein T 4 : A New Mem ber of the I munoglobulinGene Family )J 、セル(Cell)、第24巻、第93〜104頁、1985年8月、お よびガーリック、アール・エル(Garlick、 R,L、 )ら、「トラン ケート可溶性CD4のエシェリキア・コリ発現、精製および生物学的活性(Es chericia coliexpression、 purificatio n、and biological activity of a trunc ated@5oluble CD4)ゴ、エイズ・リサーチ・アンド・ヒユーマン・レトロウイルシズ(AI [S Re5earch and Human Retroviruses)、 第6巻、第4号、第465〜479頁、1990参照コニ2)トランケートされ (すなわち、同一アミノ酸配列を含む):3)トランケートされ、該トランケー トされた形態または一部が対応する部分または断片において生じるアミノ酸配列 からの欠失、該配列における置換および/または該配列への付加を含む(上記文 献参照)という点で配列が突然変異体CD4蛋白のものとは異なるような手段に おいて修飾され得る。
好ましくは、生物学的に活性なおよび/または修飾された可溶性CD4断片は、 疎水性膜内外部分を全く含んでいない(または少なくとも6個より少ないアミノ 酸を含む)。このような生物学的に活性な(修飾または非修飾)可溶性CD4断 片は、HIVウィルスのgp120エンベロープ蛋白に有効に結合させるのに充 分に長い(10個のアミノ酸またはそれより長い)。このような断片はヒトCD 4蛋白との完全な相同性を示す必要はないが、それらはgp120に結合するた めにこれらの領域において約75%の相同性を有するであろう。
例証するCD4断片は、特許および/または科学文献、例えばネイチャー(Na ture)、第337巻、第525〜31頁(1989)または1989年3月 5日に出願された米国特許a願第333.516号に開示されたものを含む(T UC’5183フラグメント)。
本発明の新規なコンジュゲート体(式IまたはHの化合物および抗体/CD4) は、ポーラス注射によってまたは輸液によって液体溶液において静脈内(rV) 投与される場合に有効である。好ましい投与量はポーラス注射によつて0.01 μ97に9〜1000μg/kg(化合物Iまたは■に換算して)、輸液によっ て0.0002〜20μq/by1分である。厳密な投与量は、個々の化合物な らびに年齢、体重、投与経路、および患者の身体的状態、および投与回数に依存 して変化するカルボキシ末端化合切工または■(例えば、式A′、Bo、Coな ど)とリンカ−の活性アミン、グアニジンまたはヒドラジド基との結合。チャー ト1参照。
DMFSDMA、THF、ジオキサンなどのような非プロトン性溶媒またはこれ ら非プロトン性溶媒の混合物(好ましくはDMAまたはDMF)にQ、1mMの カルボキシ末端CPI化合物を溶解し、0.01−1.0Mの濃度を得る。得ら れた溶液を一10′′〜100℃(好ましくは20〜25℃)で撹拌し、N−ヒ ドロキシ−ベンゾトリアゾールまたはN−ヒドロキシスクシンイミドなどのよう な結合媒介物質の存在または非存在下、エチルジメチルアミノプロピルカルポジ イミド・塩酸塩(EDC)、ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC)クロロ ギ酸イソブチル、または塩化ピバロイルなどのようなペプチド結合剤(好ましく はEDC)で処理する。得られた溶液を、CP’lおよびリンカ−が共に同一モ ル濃度で出発するように適当なリンカ−(例えば、H,NNHBocのような保 護ヒドラジン)と予め混合するか、または該リンカ−を上記と同一または別の非 プロトン性溶媒に溶解してよく、該リンカ−溶液は、同一モル濃度のCPIカル ボキシレートおよびリンカ−が達成されるまで、CPI化合物−ペプチド結合剤 混合物(結合媒介物質を含むかまたは含まない)に添加してよい。該反応を一1 0″〜100℃(好ましくは20〜25℃)で1分〜48時間(好ましくは2〜 4時間)撹拌する。次いで、該反応を水で希釈し、濾過によって回収するか、ま たは塩化メチレンまたは酢酸エチルのような水不混和性溶媒で抽出する。抽出し た場合、該抽出物を乾燥し、蒸発させる。この生成物または濾過によって回収さ れた生成物を、結晶化によって、あるいはシリカゲルもしくは他の順相支持体の いずれかを使用するクロマトグラフィーによって、またはC−2、C−8もしく はC−18シリカゲル上で逆相クロマトグラフィーによって精製する。
一般的な実施例2 アミノ末端化合物■または■(例えば、式D゛、E′、F′など)とリンカ−の 活性カルボキシル基との結合。チャート2参照。
DMF、DMA、THF、ジオキサンなどの非プロトン性溶媒またはこれら非プ ロトン性溶媒の混合物(好ましくはDMAまたはDMF)l;0.1mMのカル ボキシル末端リンカ−を溶解して、001〜1.0Mの濃度を得る。得られた溶 液を一106〜100℃(好ましくは20〜25℃)で撹拌し、N−ヒドロキシ −ベンゾトリアゾールまたはN−ヒドロキシスクシンイミドなどのような結合媒 介物質の存在または非存在下、エチルジメチルアミノプロビルカルポジイミド・ 塩酸塩(EDC)、ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC)クロロギ酸イソ ブチル、または塩化ピバロイルなどのようなペプチド結合剤(好ましくはEDC )で処理する。
得られた溶液は、CPIおよびリンカ−が共に同一モル濃度で出発するようにア ミノまたはヒドラジド末端CPIと予め混合されてもよく、あるいは、CPI化 合物は、上記と同一または他の非プロトン性溶媒に溶解されてよ(、該CPI化 合物溶液は、同一モル濃度のCPIカルボキシレートおよびリンカ−が達成され るまで、リンカー−ペプチド結合剤混合物(結合媒介物質を含むかまたは含まな い)に添加される。該反応を一10″〜100℃(好ましくは20〜25℃)で 1分〜48時間(好ましくは2〜4時間)撹拌する。次いで、該反応を水で希釈 し、生成物を濾過によって回収するか、または塩化メチレンもしくは酢酸エチル のような水不混和性溶媒で抽出する。抽出した場合、抽出物を乾燥し、蒸発させ る。
この生成物または濾過によって回収したものを結晶化によって、あるいはシリカ ゲルもしくは他の順相支持体を使用するクロマトグラフィーによって、またはC −2、C−8もしくはC−18シリカゲル上で逆相クロマトグラフィーによりて 精製する。
一般的な実施例3 化合切工または■(式G”、H’など)へのエステルプロドラッグとしてのリン カ−の結合。チャート3参照。
ピリジン、塩化メチレン、THFなどのような非プロトン性溶媒(好ましくはピ リジンであり、この場合、さらなる第三級アミンの添加は必要ではない)中に0 .01〜3MのCPIを溶解し、該溶液をトリエチルアミン、ピリジン、または エチルジイソプロピルアミンのような第三級アミンで処理し、該溶液を一10° 〜100℃で撹拌する。この溶液にリンカ−ハロゲン化アシル(好ましくは塩化 アシル)を添加し、得られた溶液を一10″〜100℃(好ましくは20〜25 ℃)で1分〜48時間(好ましくは2〜4時間)撹拌する。次いで、該反応を水 で希釈する。生成物が固体として沈澱されると、濾過によって回収され得る。他 方、塩化メチレンまたは酢酸エチルのような水不混和性溶媒で水性混合物を抽出 してよい。有機層を重炭酸ナトリウム5%水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムま たは硫酸ナトリウムによって乾燥し、真空濃縮する。該抽出物から、または上記 濾過によって得られた生成物を、シリカゲル、アルミナまたは他の固体支持体上 で順相クロマトグラフィーによってさらに精製するか、またはC−2、C−8ま たはC−18シリカゲル上で逆相クロマトグラフィーによって精製してよい。
一般的な実施例4 CPI化合物に結合したリンカ−からN−Bocまたはt−ブチルエステル保護 基の除去。式I゛、J゛などの化合物の脱保護。チャート4参照。
酢酸エチル、ジオキサンまたは塩化メチレンのような溶媒中、0.01〜2Mの CPI化合物に結合したN−Bocまたはt−ブチルエステル保護リンカ−を溶 解し、該溶液を一50″〜100℃(好ましくは20〜25℃)で撹拌する。こ の溶液をHClガス(酢酸エチル中1〜3M)またはトリフルオロ酢酸のような N−Boaまたはt−ブチルエステル基の除去のために当技術分野において知ら れている酸で1分〜48時間(好ましくは2〜4時間)処理する。所定の間の後 、該反応を真空濃縮する。かくして得られた生成物を、シリカゲル、アルミナも しくは池の固体支持体上での順相クロマトグラフィーによってさらに精製してよ いか、またはC−2、C−8もしくはC−18シリカゲル上での逆相クロマトグ ラフィーによって精製されてよい。
一般的な実施例5 CPI化合物に結合したリンカ−からN−Cbzまたはベンジルエステル保護基 の除去。弐に°、L゛などの化合物の脱保護。チャート5゜CPI化合物に結合 した0、01〜2MのN−Cbz(N−カルボベンジルオキシまたはN−ベンジ ルオキシカルボニル)またはベンジルエステル保護リンカ−を、MeOH,Me OH−THFSMeOH−ジオキサンなどの溶媒またはこれらの溶媒の混合物に 溶解し、該溶液を一50°〜100℃(好ましくは20〜25℃)で撹拌する。
この溶液を、0.01〜3モル当量の1.(ラジウム金属、炭素上5%パラジウ ム、ラネーニッケルなどの水素化分解触媒(好ましくは0.01〜0.2モル当 量の炭素上5〜10%パラジウム)で処理する。該溶液を、大気圧の1〜5倍で 10分〜48時間(好ましくは2〜4時間)水素によって直接水素添加されてよ く、あるいは、他方、化合物および触媒の溶液をギ酸アンモニウム、ギ酸、ンク ロへキサジエンまたは他の相移動触媒水素添加水素ドナー(好ましくはギ酸アン モニウム)で処理してよく、得られた混合物を1分〜48時間(好ましくは5分 〜3時間)撹拌する。所定時間の後に、該反応を濾過し、濾液を真空濃縮する。
かくして得られた生成物を、シリカゲル、アルミナまたは他の固体支持体上で順 相クロマトグラフィーによってさらに精製してよく、あるいはC−2、C−8ま たはC−18シリカゲルによる逆相クロマトグラフィーによって精製してよい。
一般的な実施例6 化合物■、例えば式M゛へのウレタンプロドラッグとしてのリンカ−の結合。
チャート6参照。
0.01〜3Mのフェノール性CPI化合物をピリジン、塩化メチレン、THF などのような非プロトン性溶媒(好ましくはピリジンであり、この場合、さらな る第三級アミンは添加する必要がない)中に溶解し、該溶液をジブチルスズアセ テートまたはトリエチルアミン、ピリジンもしくはエチルジイソプロピルアミン のような第三級アミンの如き触媒で処理し、該溶液を一10’〜100℃で撹拌 する。この溶液にリンカ−イソシアネート、クロロカルバメートまたは他の活性 アミノカルボニル誘導体を添加し、得られた溶液を一10″〜100℃(好まし くは20〜25℃)で1分〜48時間(好ましくは2〜4時間)撹拌する。次い で、該反応を水で希釈する。生成物が固体として沈殿した場合、濾過によって回 収してよい。他方、水性混合物は、塩化メチレンまたは酢酸エチルのような水不 混和性溶媒で抽出してよい。有機層を重炭酸ナトリウム5%水溶液で洗浄し、硫 酸マグネシウムまたは硫酸ナトリウムで乾燥し、真空濃縮する。かくして抽出か らまたは上記濾過によって得られた生成物を、シリカゲル、アルミナまたは他の 固体支持体上で順相クロマトグラフィーによってさらに精製してよく、あるいは 、C−2、C−8またはC−18シリカゲル上で逆相クロマトグラフィーにより て精製してよい。
カルボキシ末端CPIリンカー構造物、例えば式P゛、Q゛、Roなどとモノク ローナル抗体(Mab)またはCD4の活性アミン、グアニジンまたはヒドラジ ド基との結合。チャート7参照。
0.1菖Mのカルボキシ末端CPI−リンカー化合物をDMF、DMA、THF 。
ジオキサンなどのような非プロトン性溶媒またはこれら非プロトン性溶媒の混合 物(好ましくはDMAまたはDMF)に溶解し、0.01〜1.OMの濃度を得 る。
得られた溶液を一10’〜100℃(好ましくは20〜25℃)で撹拌し、N− ヒドロキシ−ベンゾトリアゾールまたはN−ヒドロキシスクシンイミドなどのよ うな結合媒介物質の存在または非存在下、エチルジメチルアミノプロビルカルボ ジイミド・塩酸塩(EDC)、ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC)クロ ロギ酸イソブチル、または塩化ピバロイルなどのようなペプチド結合剤(好まし くはEDC)で処理する。同一モル濃度のCPI−リンカ−カルボキシレートお よび蛋白が達成されるまで、得られた溶液を、DMF、DMA、ホルムアミドの ような極性溶媒、または水、pH6,5〜8.0(好ましくは約7.0〜7.5 )で等強性塩濃度またはその付近の緩衝化水、あるいはこのような溶媒のいずれ かの混合物に溶解したHN末端MabまたはCD4蛋白に添加する。該反応を一 10″〜100℃(好ましくは20〜25℃)で1分〜48時間(好ましくは2 〜4時間)撹拌する。
次いで、該反応を水、硫酸アンモニウム水溶液のような水塩混合物、メタノール またはエタノールのようなアルコールで希釈し、生成物を濾過によって回収する か、あるいは該生成物を透析してよく、該水性残留物は凍結乾燥させる。この生 成物または濾過によって回収したものを塩沈殿法によって、あるいはサイズ排除 クロマトグラフィー、親和性クロマトグラフィーまたはC−18シリカゲル上で の逆相クロマトグラフィーによって精製する。
一般的な実施例8 アミノ、グアニジ人またはヒドラジド末端C’PI−リンカー構造物、例えば式 T’、U’、V’などとモノクローナル抗体(Mab)またはCD4の活性カル ボキシルとの結合(チャート8参照)。
10〜30℃で、領1iMのカルボキシMabまたはCD4を、水、pH6,5 〜8.0(好ましくは約7.0〜7.5)の等強性塩濃度もしくはその付近の緩 衝化水、またはDMF、DMAもしくはホルムアミドのような非極性溶媒あるい はこのような非極性溶媒および水の混合物に溶解する。−NH末端CPI−リン カ−化合物の溶液をDMF、DMA5THF、ジオキサンなどのような非プロト ン性溶媒またはこれら非プロトン性溶媒の混合物(好ましくはDMAまたはDM F)に溶解して、0.01〜1.0Mの濃度を得、これをカルボキシル末端蛋白 溶液に添加する。得られた溶液をO″〜100℃(好ましくは20〜25℃)で 撹拌し、N−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾールまたはN−ヒドロキシスクシンイ ミドなどのような結合媒介物質の存在または非存在下、0.8〜5.0モル当量 (好ましくは1当量)の、エチルジメチルアミノプロビルカルボジイミド・塩酸 塩(EDC)、ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC)クロロギ酸イソブチ ル、または塩化ピバロイルなどのようなペプチド結合剤(好ましくはEDC)で 処理する。該反応を09〜100℃で(好ましくは20〜25℃で)1分〜48 時間(好ましくは2〜4時間)撹拌する。次いで、該反応を水、硫酸アンモニウ ム水溶液のような水塩混合液、メタノールまたはエタノールのようなアルコール で希釈し、生成物を濾過によって回収するか、または生成物を透析してよく、該 水性残留物は凍結乾燥させる。この生成物または濾過によって回収されたものを 塩沈殿法によって、またはサイズ排除クロマトグラフィー、親和性クロマトグラ フィー、C−18シリカゲル上での逆相クロマトグラフィーのようなりロマトグ ラフイーによって精製する。
一般的な実施例9 チオピリジル末端チオール(すなわち、ピリジルジスルフィド)CPI−リンカ −構造物、例えば式X′およびY′などからチオールへの還元。チャート9参照 。
10〜50℃で、Q、1mMのチオピリジル末端チオールCPI−リンカ−を、 水またはDMF、DMAもしくはホルムアミドのような極性溶媒あるいはこのよ うな極性溶媒および水の混合物に溶解する。これに、過剰(2〜50倍過剰、好 ましくは5〜10倍)の、ジチオトレイトールのような還元剤を添加し、該混合 物を5分〜48時間(好ましくは30分〜2時間)撹拌する。次いで、生成物チ オールを、水または非極性溶媒による沈殿によって、あるいは酸素不含環境下で の抽出によって単離してよい。沈殿または抽出からの物質は、そのまま次工程に 使用されてよく、あるいは、結晶化、選択沈殿または酸素不含環境下でのクロマ トグラフィーによってさらに精製されてよい。適当なりロフトグラフィー法とし ては、サイズ排除クロマトグラフィー、親和性クロマトグラフィーまたはC−1 8シリカゲル上での逆相クロマトグラフィーが挙げられる。
一般的な実施例10 ジスルフィド架橋を介するチオールリンカ−末端CPI、例えば構造式AA’お よびAB’とチオール末端Mabとの結合。チャート10参照。
10〜50℃で、0.1mMのチオール末端Mabを、水、pH3〜10(好ま しくはpH7〜8)のほぼ等強性の塩濃度の水性緩衝液中、あるいはDMF、D MAもしくはホルムアミドのような極性溶媒またはこのような極性溶媒の混合物 との混合水溶液中に溶解する。これに、過剰(2〜50倍過剰、好ましくは5〜 10倍)のチオールリンカ−末端CPI化合物を添加し、該混合物を、5分〜4 8時間(好ましくは30分〜2時間)、酸素を泡立てながら撹拌する。次いで、 生成物Mabジスルフィド結合CP■化合物を水、20%硫酸アンモニウムまた は飽和硫酸ナトリウムのような塩水溶液あるいは非極性溶媒による沈殿によって 単離する。
他方、生成物は透析によって低分子量不純物を除去してよい。沈殿または透析か らの物質を、結晶化、選択沈殿法、またはクロマトグラフィーによってさらに精 製してよい。適切なりロフトグラフィー法としては、サイズ排除クロマトグラフ ィー、親和性クロマトグラフィーまたはC−18シリカゲル上での逆相クロマト グラフィーが挙げられる。
一般的な実施例11 チオピリジル末端チオール(すなわち、ピリジルジスルフィド)CPI−リンカ −構造物、例えば式X゛、Y′などのチオール末端Mabへの結合。チャート1 1参照。
10〜50℃で、0.1mMのチオピリジル末端チオールCPI−リンカ−を水 またはDMF、DMAもしくはホルムアミドのような極性溶媒あるいはこのよう な極性溶媒および水の混合物に溶解する。これに0.5〜3当量(好ましくは1 当量)のチオール末端抗体を添加し、該混合物を有機酸または無機酸あるいは好 ましくはこれらの酸の緩衝液でpHO〜5(好ましくはpH3〜4)に調整する 。該混合物を5分〜48時間(好ましくは30分〜2時間)撹拌する。次いで、 上記実施例11に従って、生成物ジスルフィドを単離し、精製する。
一般的な実施例12 N−マレイミド末端CPI−リンカー構造物、式AD’、AE’などのチオール 末端Mabへの結合。チャート12参照。
0〜50℃で、0.1禦MのN−マレイミドCPI−リンカ−を水またはDMF 。
DMA もL<はホルムアミドのような極性溶媒あるいはこのような極性溶媒お よび水の混合物に溶解する。これに、0.5〜3当量(好ましくは0.8〜1. 2当量)のチオール末端Mabを水、pH3〜10(好ましくはpH6〜8)の 水性緩衝液または上記溶媒とDMF、DMFもしくはホルムアミドのような極性 溶媒との混合物に溶解し、該混合物を0〜50℃(好ましくは5〜20℃)で5 分〜48時間(好ましくは30分〜2時間)放置する。次いで、生成物を水、2 0%硫酸アンモニウムもしくは飽和硫酸ナトリウムのような塩水溶液または非極 性溶媒による沈殿によって単離してよい。他方、生成物は、透析によって低分子 量不純物を除去してよい。沈殿または透析からの物質は、結晶化、選択沈殿法、 またはクロマトグラフィーによってさらに精製されてよい。適切なりロフトグラ フィー法としては、サイズ排除クロマトグラフィー、親和性クロマトグラフィー またはC−18シリカゲル上での逆相クロマトグラフィーが挙げられる。
一般的な実施例13 ヒドラジド末端CPI−リンカー構造物、例えば式AG’、AH’などのホルミ ル末端Mabへの結合。チャート13参照。
0〜50℃で、0,1冒Mのヒドラジド末端CPI−リンカ−を水またはDMF 。
DMAもしくはホルムアミドのような極性溶媒あるいはこのような極性溶媒およ び水の混合物に溶解する。これに、水、pH3〜10(好ましくはpH4〜6) の緩衝液または上記溶媒とDMF、DMFもしくはホルムアミドのような極性溶 媒との混合物に溶解した0、5〜3当量(好ましくは0.8〜1.2当量)のホ ルミル末端Mab(当技術分野において知られているようなMabグリコジル残 基の切断によって調製される)を添加し、該混合物を0〜50℃(好ましくは5 〜20℃)で5分〜48時間(好ましくは30分〜2時間)放置する。次いで、 生成物ヒドラゾンを水、20%硫酸アンモニウムもしくは飽和硫酸ナトリウムの ような塩水溶液または非極性溶媒による沈殿法によって単離してよい。他方、生 成物は、透析によって低分子量の不純物を除去してよい。沈殿または透析からの 物質は、結晶化、選択沈殿法またはクロマトグラフィーによってさらに精製して よい。適切なりロフトグラフィー法としては、サイズ排除クロマトグラフィー、 親和性クロマトグラフィーまたはC−18シリカゲル上での逆相クロにか挙げら れる。
一般的な実施例14 アミノ末端CPI−リンカー構造物、例えば式AJ’、AK’などのホルミル末 端Mabへの結合。チャート14参照。
0〜50℃で、0.1冨Mのアミノ末端CPI−リンカ−を水またはDMF、D MAもしくはホルムアミドのような極性溶媒またはこのような極性溶媒および水 の混合物に溶解する。これに、水、pH2〜6(好ましくはpH3〜5)の緩衝 液または上記溶媒とDMF、DMFもしくはホルムアミドのような極性溶媒との 混合物に溶解した0、5〜3当量(好ましくは0.8〜1.2当量)のホルミル 末端Mab(当技術分野において知られているようにMabグリコジル残基の切 断によって調製する)を添加し、該混合物を1〜100当量のシアノホウ水素化 ナトリウム(好ましくは5〜10当量)で処理し、該混合物を0〜50℃(好ま しくは5〜20℃)で5分〜48時間(好ましくは30分〜2時間)撹拌する。
次いで、該生成物アミンを水、20%硫酸アンモニウムもしくは飽和硫酸ナトリ ウムのような塩水溶液または非極性溶媒による沈殿によって単離してよい。他方 、生成物は、透析によって低分子量の不純物を除去してよい。沈殿または透析か らの物質は、結晶化、選択沈殿法またはクロマトグラフィーによってさらに精製 されてよい。適切なりロフトグラフィー法としては、サイズ排除クロマトグラフ ィー、親和性クロマトグラフィーまたはC−18シリカゲル上での逆相クロマト グラフィーが挙げられる。
一般的な実施例15 モノクローナル抗体(Mab)またはCD4フラグメントと式1または■の化合 物、例えば式AA’、AC’、AF’などとのマレイミドを基礎とする結合。チ ャート15参照。
マレイミド末端蛋白は、ペプチド特異性抗体応答の誘発に適しているペプチド標 識担体蛋白の調製についての記載に従って調製することができる。
文献ニジエイ・エイ・ニコラス(J 、 A、 N1cholas)ら、ジャー ナル・オブ・パイロoジー(J 、 Virology) 62.4465−4 473(1988);エフ・−ティ・リュウ(F、 −T、 Liu)ら、バイ オケミストリー(B iochemistry) l g、690−697(1 979)。
4−(N−マレイミドメチル)シクロヘキサン−1−カルボン酸スクシンイミジ ル(0,5〜40当量、好ましくは0.8〜10当量)、または一端にN−ヒド ロキシスクシンイミジルエステル、および反対の端部にマレイミド基を含有する 他のへテロ官能性架橋剤を、水またはDMF、DMAもしくはホルムアミドのよ うな極性溶媒に溶解し、該溶液を、0.0INリン酸ナトリウム(pH7,0! 0.75m1)に溶解した蛋白(0,11M)の撹拌溶液に添加する。この混合 物を0〜50℃(好ましくは5〜25℃)で5分〜4時間(好ましくは20分〜 1時間)撹拌し、0、INリン酸ナトリウム(pH6,0)で4℃で予め平衡化 されたセファデックス(S ephadex) O〜25カラム上に直接負荷す る。該カラムを4℃で同一の緩衝液中で操作する。溶出した第1ピークは、チオ ール末端CP■−リンカ−と直接結合するのに適しているマレイミド末端蛋白を 含む。
チオール末端CP I ’) ンカm造物(Rso= S H)(T’、U゛、 v’)ような化合物)のMab、生物学的に活性な可溶性ヒトCD4フラグメン トまたは可溶性ヒトCD4のトランケート形態のようなマレイミド末端蛋白への 結合。
0、IIIMのマレイミド末端CD4を、水、pH3〜10(好ましくはpH6 〜8)の緩衝液または上記溶媒とDMF、DMAもしくはホルムアミドのような 極性溶媒との混合物中で調製する。これに、0〜50℃で、水またはDMF、D MAもしくはホルムアミドのような極性溶媒またはこのような極性溶媒および水 の混合物に溶解した0、5〜40当量(好ましくは0.8〜10当量)のチオー ル末端CPI−リンカー化合物を添加し、該混合物を0〜50℃(好ましくは5 〜25℃)で5分〜48時間(好ましくは30分〜2時間)放置する。次いで、 該生成物を水、20%硫酸アンモニウムもしくは飽和硫酸ナトリウムのような塩 水溶液または非極性溶媒による沈殿によって単離してよい。他方、該生成物は、 透析によって低分子量の不純物を除去してよい。沈殿または透析からの物質は、 結晶化、選択沈殿法またはクロマトグラフィーによってさらに精製してよい。適 切なりロフトグラフィー法としては、サイズ排除クロマトグラフィー、親和性ク ロマトグラフィーまたはC−18シリカゲル上での逆相クロマトグラフィーが挙 げられる。
式Iまたはnの化合物は、抗菌剤としても有用である。これらの化合物は、標準 的な微生物学的技術を使用して、種々の環境において罹病性微生物の増殖を制御 するのに有用である。このような環境としては、スタフィロコッカス・アウレウ ス(S、 aureus)などによって汚染された歯科用器具、および微生物学 実験室における実験室ベンチが挙げられ、これは、式1または■の化合物を約1 〜10%(W/V)含有している製剤によって清浄することができる。
チャート1 [ここで、Ar−(リンカ−)−CO2Hffi 以下番二示すAo、Bo、C oおよびn■ 0−5 r チャート2 R′ Rはリンカ−基] チャート3 Ar−(リンカ−)−NI(、−Boa −* Ar−(リンカ−)−N’H2 にこで、Ar−(’ルカー)−NHBoc= 以下に示す工′、J゛コチャート 6 M/ チャート7 〔ここで、Ar−(リンカ−)−CO28! 以下に示すP′、Q′、R’][ ここで1.A、r−(リンカ−)−NHR= 以下に示すT′、U゛、V’]y + Ar−(I77 ヵ )−5−5−ビリノン + H5CH,CHOHCHOH CI(2SR−Ar−(リンカ−)−5R[ここで、Ar−(リンカ−)−3S −ピリジン = 以下に示すX′、Y’1Y/ チャート10 Ar(−リンカ−)−5R+ Is−Mab →Ar−’ノンカーー5−5−M ab入AI AB’ チャート11 紅−(リンカ−)−s−s−ピリジン +H5−Mab −Ar−(リンカ−) −5−5−Mabにこで、Ar−(リンカ−>−s −s−ピリジン = 以下 に示すX′、Y’]Y/ チャート12 AE’ チャート13 [ここで、Ar−(リンカ−)−CNHNH,ffi 以下に示すAG’、AH ’]AG’ AH’ チャート14 2) NaBH3CN にこで、Ar−(リンカ−)−NH2ミ 以下に示すAJ’、AK’]≦−−1 +1 ″:、r誌姦) チャート15 [ここで、Ar−(リンカ−)−SH+= 以下に示すAA’、AC’、AF’ ]ナヤー1′10(171:ぎ) 式チャート(続き) 化合物4 化合物5 化合物8 式チャート(続き) 化合物10 化合物11A 、[lcl 化合物11B 式チャート(続き) 化合物18 化合物19 式チャート(続き) 化合物20 化合物21 式チャート(続き) 化合物22 化合物23 式チャート(続き) 化合物24 一般式チャード 八 B D 一般式チヤード(続き) 一般式千で一ト(続き) c H J に 一般式チャード(続き) に 一般式チャード(続き) N O P Q 一般式チャード(続き) υ 一般式チヤード(続き) 一般式チャート(続き) 2 人A 一般式チャード(続き) BBCC −給オーF−セードG専缶) 一般式チヤード(続き) 一版工(T′f−1″(ηLc〕 一般式チャード(続き) 一般式チヤード(続き) ddd 一般式チヤード(続き) 式(続き) 第1表 11A L1210 IP/IV 1 0.20 17312 L1210 I P/IV 1 0.20 20013 L1210 IP/IV 1 0.20  21315 L1210 IP/IV 1 0.20 18014 L121 0 IP/IV 1 0.20 188i6 L1210 IP/IV 1 0 .10 18118 L1210 rP/IV 1 0.20 13321 L 1210 IP/IV 1 0.20 15622 L12101P/IV 1  0.40 172A、C1による切断のためのリンカ− Iys− (a、a)。4− −1yr− −ala−vml−tyr− −ala−ue−arg− 一自一■a−1ys− −ala−i1e−tyr− −giy−画−Mg− −olv−*Iz−1vs− 第3表 B、C4,2による切断のためのトリペプチド配列(続き)−ile− aJx−1yS− −ile−ala−tyr− −Lle−1eu−ug− −ue−1eu−1ys− −ile−1れうや −ile−gly−arg− (a、a)、4− −ila−gly−1ys−−ilシgty−+yr− −ile−val−arg− −ile−iJe−arg− −ile−i1e−1ys− −iJe−il!()’f− 第3表 C,C4’、2による切断のためのペプチド配列−ile−giy− 第3表 C,C4,2による切断のためのペプチド配列(続き)〜1le−al a− [ここで、(a、 a)は、天然アミノ酸を表しくおよび同一または異なってい てよい)、n4=o〜5である] 本発明は、新規な合成によって得られる式Iおよび■・で示される、化学的中間 体として有用である化合物を提供する。代表的な式1または■化合物は、また憚 準的な実験呈動物試験において有用な範囲の抗腫瘍活性を有することを示した。
さらに、CC−1065類似体(式1および■の化合物)を、標的抗原を発現す るこれらの標的細胞に選択的に輸送し、か(して動物またはヒト由来のこれらの 罹患細胞を選択的に除去する手段として、式Iまたは■の化合物を直接または公 知の連結基を介して、モノクローナル抗体に結合することができる。また、式1 およびHの化合物を可溶性ヒトCD4またはヒト免疫−ウィルスのgp120エ ンベロープ蛋白に結合する能力を有する可溶性ヒトCD4蛋白フラグメントに結 合することができ、かくして、ウィルス感染した細胞を除去することができる。
m−1−mA制−一劇kwrSsIll’〒ll+cll1M571’lA国際 調査報告

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式IまたはIIで示される化合物:▲数式、化学式、表等があります▼I ▲数式、化学式、表等があります▼II(式中 WはC1〜C5アルキル、フェニルまたは水素から選択され;Xはアジド、ハロ ゲン原子、シアネート、チオシアネート、イソシアネート、チオイソシアネート 、ホスフェード=ジエステル(−PO(OR)2)、ホスホニル(−O−PO2 R)、チオホスホニル(−O−PSOR)、スルフィニル(−O−SOR)また はスルホニル(−O−SO2R)から選択され:DはR15またはR′15; DがR′15である場合、QはY; DがR13である場合、QはY′; Yは水素、−C(O)R、−C(S)R、−C(O)OR1、−S(O)2R1 、−C(O)NR2R3、−C(S)NR2R3、−C(O)NHSO2R4、 −C(O)CH2(OCH2CH2)a7O(C1〜C3アルキル)[ここで、 n7は0〜5]または−C(O)(CH2)n8C(O)Rbから選択され[こ こで、n8は0〜10、Rbは−OH(またはその金属もしくはアミン塩)、− ORc(ここで、Rcは−CH2C(CH2OH)3またはR70)および−N (Rd)Roから選択され、ここで、Rdは水素またはC1〜C4アルキル、R ■は−C(CH2OH)3、−CH2C(CH2OH)3、−CH2C(CH2 NH2)3、R70、R71またはR72から選択される]; R70は ▲数式、化学式、表等があります▼R70R71は ▲数式、化学式、表等があります▼R71R72は ▲数式、化学式、表等があります▼R72n9は1または2、n10は1〜3; Y′は−C(O)R10、−C(S)R10、−C(O)OR10、−S(O) 2R10、−C(O)NR12R13、−C(S)NR12R13または−C( O)NHSO2R14から選択され;ZはC1〜C5アルキル、フェニルまたは 水素からなる群から選択され;RはC1〜C20アルキル;C2〜C8アルケニ ル;C2〜C6アルキニル:所望により1、2または3個のC1〜C4アルキル 、C1〜C3アルコキシ、ハロ、C1〜C3アルキルチオ、トリフルオロメチル 、C2〜C6ジアルキルアミノまたはニトロで置換されていてよいフェニル;所 望により1または2個のC1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロ、ト リフルオロメチル、C2〜C6ジアルキルアミノ、C1〜C3アルキルチオまた はニトロで置換されていてよいナフチルからなる群から選択され; R1はC1〜C20アルキルまたは所望により1、2もしくは3個のC1〜C4 アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロ、C1〜C3アルキルチオ、トリフルオ ロメチル、C2〜C6ジアルキルアミノまたはニトロで置換されていてよいフェ ニルから選択され; R2およびR3は、同一または異なっていてよく、水素、C1〜C20アルキル または所望により1、2もしくは3個のC1〜C4アルキル、C1〜C3アルコ キシ、ハロ、C1〜C3アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2〜C6ジアル キルアミノまたはニトロで置換されていてよいフェニルから選択され(ただし、 R2およびR3は共にフェニルまたは置換フェニルであり得ない)R4はC1〜 C10アルキル;所望により1、2または3個のC1〜C4アルキル、C1〜C 3アルコキシ、ハロ、C1〜C3アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2〜C 6ジアルキルアミノまたはニトロで置換されていてよいフェニル;所望により1 または2個のC1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロ、トリフルオロ メチル、C2〜C6ジアルキルアミノ、C1〜C3アルキルチオまたはニトロで 置換されていてよいナフチルから選択され; R10、R13およびR14は、同一または異なっていてよく、−(C1〜C2 0アルキル)(CH2)nR50または−(所望により1または2個のC1〜C 4アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロ、C1〜C3アルキルチオ、トリフル オロメチル、C2〜C6ジアルキルアミノまたはニトロで置換されていてよいフ ェニル)(CH2)nR50から選択され; nは0〜10; R50は (i)−CO2H; (ii)−CH2NH2; (iii)−SH; (iv)−C(R60)(R61)−SH[ここで、R60およびR61は、同 一または異なっていてよく、C1〜C4アルキルまたはH];(v)−NHC( O)−(CH2)m1−C(R60)(R61)−SH[ここで、R60および R61は上記に定義されており、n1は0〜5];(vi)−C(O)NHNH 2(ヒドラジド);(vii)−NHNH2(ヒドラジノ);(viii)−C H2OH(ヒドロキシメチル);(ix)−NHC(S)NH2(チオウレイド );(x)−CH2NHC(O)NH2; (xi)−NHC(S)NHNH2; (xii)−C(O)CH2X1[ここで、X1はハロゲン];(xiiii) −CH2X1(ハロメチル)[ここで、X1はハロゲン];(xiv)−CHO (アルデヒド); (xv)▲数式、化学式、表等があります▼(N−ヒドロキシスクシミジル); (xvi)▲数式、化学式、表等があります▼(マレイミド);(xvii)− C(R60)(R61)C(O)NHNH2[ここで、R60およびR61は、 同一または異なっていてよく、C1〜C4アルキルまたはH];(xviii) −O(CH2)n1C(R60)(R61)C(O)NHNH2[ここで、R6 0、R61およびn1は上記に定義されている];(xix)−N(R62)( CH2)n1C(R60)(R61)C(O)NHNH2[ここで、R60、R 61およびR62は、独立して、C1〜C4アルキルまたはHから選択され、n 1=0〜5]; (xx)−O(CH2)n2C(R60)(R61)C(O)NHNH2[ここ で、n2=1〜5]; (xxi)−NHR51; (xxii)−C(O)NHNHR51;(xxiii)−NHNHR51 [ここで、R51は、BOC(t−ブトキシカルボニル)、FMOC(9−フル オレニルメチルオキシカルボニル)、TFA(トリフルオロアセテート)アミド )、ALLOC(アルオキシカルボニル)、CBZ(ベンゾキシカルボニル)、 またはTROC(トリクロロエトキシカルボニル)のようなアミン保護基];( xxiv)−NHC(=NH)NH2(グアナジニル);または(xxv)−B −M−(CH2)n3R52[ここで、n3=0〜5;R52は上記(群(i) 〜(xxiv)だけ)のR50と同一];Bはエステル[−OC(O)−もしく は−C(O)O−]またはアミド[−NHC(O)−もしくは−C(O)NH− ]結合;Mはいずれの適合ペプチド、炭水化物または本発明の具体例に特定の性 質の具体例(例えば、化学的、光化学的、または酵素的切断性;本発明のさらな る治療剤の複数の部位結合のための分枝形成;治療剤と抗体との間に最適な間隔 をとること)に与える他の有機基としても以下に定義され;血清補体によるリン カーの切断のため、Mは治療剤(TA)の抗体分子への結合に関する以下のリン カーグループ: A.C1による切断のためのリンカー 【配列があります】 B.C4.2による切断のためのトリペプチド配列【配列があります】III. B.C4,2による切断のためのトリペプチド配列(続き)【配列があります】 III.B.C4,2による切断のためのトリペプチド配列(続き)【配列があ ります】 III.B.C4,2による切断のためのトリペプチド配列【配列があります】 −トリペプチド [ここで、(a,a)はいずれの天然アミノ酸をも表し(および同一または異な っていてよく)、トリペプチドはセクションIII.Bのいずれのペプチドでも あり、n4=O〜5] から選択することができ; R12は水素、C1〜C20アルキル、または所望により1、2または3個のC 1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロ、C1〜C3アルキルチオ、ト リフルオロメチル、C2〜C6ジアルキルアミノまたはニトロで置換されていて よいフェニルから選択され; R15は (a) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X8は−O−、−S−、−NH−;X9は−CH−またはN;X10は −O−、−S−、−NH−;X11は−CH−または−N−;X3は同一または 異なっていてよく、H、OCH3、NO2、NHC(O)CH3、OH、ハロ、 C1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ、C2−C6ジアルキルアミノまた はNHC(O)C6H5;X6はH、OCH3、NO2、NHC(O)CH3、 OH、ハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ、C2〜C6アルキル アミノまたはNHC(O)C6H5];(b) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X5、X8、X9は上記で定義された意味を有する];(c) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X5、X6、X8、X9は上記で定義された意味を有する]からなる群 から選択されるカルボニルアリール基;R′15は、 (d) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、8は−O−、−S−.−NH−;X9は−CH−またはN;X10は− O−、−S−、−NH−;X11は−CH−または−N−;X5は同一または異 なっていてよく、H、OCH3、NO2、NHC(O)CH3、OH、ハロ、C 1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ、C2〜C6ジアルキルアミノまたは NHC(O)C6H5;X6はH、OCH3、NO2、NHC(O)CH3、O H、ハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ、C2〜C6ジアルキル アミノ、またはNHC(O)C6H5;nおよびR50は上記で定義された意味 を有する];(e) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X8は−O−、−S−、−NH−;X9は−CH−またはN;X10は −O−、−S−、−NH−:X11は−CH−または−N−;X5はH、OCH 3、NO2、NHC(O)CH3、OH、ハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C 3アルコキシ、C2〜C6ジアルキルアミノ、またはNHC(O)C6H5;X 6はH、OCH3、NO2、NHC(O)CH3、OH、ハロ、C1〜C4アル キル、C1〜C3アルコキシ、C2〜C6ジアルキルアミノまたはNHC(O) C6H5;nおよびR50は上記で定義された意味を有する]; (f) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X5、X8、X9、nおよびR50は上記で定義された意味を有する] ;(g) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X5、X6、X8、X9、nおよびR50は上記で定義された意味を有 する];(h) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X5、X6、X8、X9、nおよびR50は上記で定義された意味を有 する]からなる群から選択されるカルボニルアリール基]。
  2. (2)Wがメチル;Zが水素;Xがハロゲン;QがY′であり、Y′が−C(O )R10、−SO2R10、−C(O)NR12R13から選択され;R10お よびR13が−(所望により1または2個のC1〜C4アルキル、C1〜C3ア ルコキシ、ハロ、C1〜C3アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2〜C6ジ アルキルアミノまたはニトロで置換されていてよいフェニル)(CH2)nR5 0から選択され、ここで、nが0、1または2、R50か−CO2H、−CH2 NH2、−SH、−C(R60)(R61)SH、−NHC(O)−(CH2) n1−C(R60)(R61)−SH、−C(O)NHNH2、−CH2OH、 −C(R60)(R61)C(O)NHNH2、−N(R62)(CH2)n1 C(R60)(R61)C(O)−NHNH2、−O(CH2)n2C(R60 )(R61)C(O)NHNH2;n1が1〜3;n2が0〜2;R60、R6 1およびR62が同一または異なっていてよく、H、メチルまたはエチル;R1 2が水素;R15が(aa) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X10は−NH−または−O−;X5およびX6は同一または異なって いてよく、水素、OH、NO2、NHC(O)CH3、ハロ、C1〜C4アルキ ル、C1〜C3アルコキシまたはC2〜C6ジアルキルアミノ)である請求項( 1)記載の式Iの化合物。
  3. (3)Wがメチル;Zが水素;Xがハロゲン:QがY′であり、Y′が−C(O )R10、−SO2R10、−C(O)NR12R13から選択され;R10お よびR13が−(所望により1または2個のC1〜C4アルキル、C1〜C3ア ルコキシ、ハロ、C1〜C3アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2〜C6ジ アルキルアミノまたはニトロで置換されていてよいフェニル)(CH2)nR5 0から選択され、ここで、nが0、1または2、R50がN−ヒドロキシスクシ ミジルまたはマレイミド;R12は水素;R15が(aa) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X10は−NH−または−O−;X5およびX6は同一または異なって いてよく、水素、OH、NO2、NHC(O)CH3、ハロ、C1〜C4アルキ ル、C1〜C3アルコキシまたはC2〜C6ジアルキルアミノ)である請求項( 1)記載の式Iの化合物。
  4. (4)Wがメチル;Zが水素;Xがハロゲン:QがY′であり、Y′が−C(O )NR12R13、−C(O)R10、−SO2R10、−C(O)NR12R 13から選択され;R12が水素であり、R10およびR13が−(所望により 1または2個のC1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロ、C1〜C3 アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2〜C6ジアルキルアミノ、またはニト ロで置換されていてよいフェニル)(CH2)nR50から選択され;nが0ま たは1;R50が−B−M−(CH2)n3R52、R52が−NH2、−C( O)NHNH2、−CO2H、または−SH、R15は(aa) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X10は−NH−または−O−;X5およびX6は独立してH、NO2 、NHC(O)CH3、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ 、またはC2〜C6ジアルキルアミノ) である請求項(1)記載の式Iの化合物。
  5. (5)Wがメチル;Zが水素;Xがハロゲン:QがYであり、Yが水素、−C( O)R、−SO2R1、−C(O)NR2R3から選択され;R3が水素、Rお よびR1およびR2(同一または異なっていてよい)が所望により1〜3個のC 1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロ、C1〜C3アルキルチオ、ト リフルオロメチル、C2〜C■ジアルキルアミノまたはニトロで置換されていて よいフェニルから選択され;R′15が ▲数式、化学式、表等があります▼(dd)▲数式、化学式、表等があります▼ (ddd)▲数式、化学式、表等があります▼(dddd)▲数式、化学式、表 等があります▼(ee)▲数式、化学式、表等があります▼(eee)から選択 され;nが0〜6;X10が−NH−または−O−;X5およびX6が独立して H、OH、NO2、NHC(O)CH3、ハロ、C1〜C4アルキル、C1〜C 3アルコキシまたはC2〜C6ジアルキルアミノである請求項(1)記載の式I の化合物。
  6. (6)R50がN−ヒドロキシスクシミジルまたはマレイミジルである請求項( 5)記載の化合物。
  7. (7)R50が−B−M−(CH2)n3R52であり、ここで、R52が−N H2、−C(O)NHNH2、−CO2Hまたは−SHである請求項(5)記載 の化合物。
  8. (8)R50が−CO2H、−CH2NH2、−SH、−C(R60)(R61 )SH、−NHC(O)−(CH2)n1−C(R60)(R61)−SH、− C(O)NHNH2、−CH2OH、−C(R60)(R61)C(O)NHN H2、−N(R62)(CH2)n1C(R60)(R61)C(O)−NHN H2、−O(CH2)n2C(R60)(R61)C(O)NHNH2であり; ここで、n1が1〜3であり;n2が0〜2であり:R60、R61およびR6 2が同一または異なっていてよくH、メチルまたはエチルである請求項(5)記 載の化合物。
  9. (9)X3およびX6が共に水素である請求項(8)記載の化合物。
  10. (10)X5およびX6が共に水素である請求項(2)記載の化合物。
  11. (11)X5およびX6が共に水素であり、R50が−CO2H、−CH2NH 2、−SH、−C(R60)(R61)SH、−NHC(O)−(CH2)n1 −C(R60)(R61)−SH、−C(O)NHNH2、−CH2OH、−C (R60)(R61)C(O)NHNH2、−N(R62)(CH2)n1C( R60)(R61)C(O)−NHNH2、−O(CH2)n2C(R60)( R61)C(O)NHNH2であり;ここで、n1が1〜3であり;n2が0〜 2であり;R60、R61およびR62が同一または異なっていてよく、H、メ チルまたはエチルである請求項(5)記載の化合物。
  12. (12)X5およびX6が共に水素であり、R′15が▲数式、化学式、表等が あります▼(dd)である請求項(5)記載の化合物。
  13. (13)R50が請求項(2)における定義と同じである請求項(12)記載の 化合物。
  14. (14)Wがメチルであり;Zが水素であり;R′15が▲数式、化学式、表等 があります▼(dd)▲数式、化学式、表等があります▼(ddd)▲数式、化 学式、表等があります▼(dddd)▲数式、化学式、表等があります▼(ee )▲数式、化学式、表等があります▼(eee)から選択され;nが0〜6であ り;X10が−NH−または−O−であり;X5およびX6が独立してH、NO 2、NHC(O)CH3、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C3アルコキ シまたはC2〜C6ジアルキルアミノである請求項(1)記載の式IIの化合物 。
  15. (15)R50が−CO2H、−CH2NH2、−SH、−C(R60)(R6 1)SH、−NHC(O)−(CH2)n1−C(R60)(R61)−SH、 −C(O)NHNH2、−CH2OH、−C(R60)(R61)C(O)NH NH2、−N(R62)(CH2)n1C(R60)(R61)C(O)−NH NH2、−O(CH2)n2C(R60)(R61)C(O)NHNH2であり ;ここで、n1が1〜3であり;n2が0〜2であり;R60、R61およびR 62が同一または異なっていてよく、H、メチルまたはエチルである請求項(1 4)記載の式IIの化合物。
  16. (16)X5およびX6が共に水素である請求項(14)記載の式IIの化合物 。
  17. (17)X5およびX6が共に水素であり、R50が−CO2H、−CH2NH 2、−SH、−C(R60)(R61)SH、−NHC(O)−(CH2)n1 −C(R60)(R61)−SH、−C(O)NHNH2、−CH2OH、−C (R60)(R61)C(O)NHNH2、−N(R62)(CH2)n1C( R60)(R61)C(O)−NHNH2、−O(CH2)n2C(R60)( R61)C(O)NHNH2であり;ここで、n1が1〜3であり;n2が0〜 2であり;R60、R61およびR62が同一または異なっていてよく、H、メ チルまたはエチルである請求項(14)記載の式IIの化合物。
  18. (18)X5およびX6が共に水素であり、R′15が▲数式、化学式、表等が あります▼(dd)である請求項(14)記載の式IIの化合物。
  19. (19)X5およびX6が共に水素である請求項(17)記載の式IIの化合物 。
  20. (20)R50が請求項(3)における定義と同じである請求項(14)記載の 式IIの化合物。
  21. (21)R50が請求項(4)における定義と同じである請求項(14)記載の 式IIの化合物。
  22. (22)(S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ −5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジピロール −3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カ ルボニル]−2−ベンゾフラン−5−カルボン酸=フェニルメチルエステル(化 合物番号1);(S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジ ヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b;4,3−b′]ジピ ロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミ ノ]カルボニル]−2−ベンゾフラン−5−カルボン酸(化合物番号2); (S)−2−[[[2−[(4,5,8,8a−テトラヒドロ−7−メチル−4 −オキソシクロプロパ−[c]ピロール[3,2−e]インドール−2(1H) −イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]− 2−ベンゾフラン−5−カルボン酸(化合物番号3); (S)−2−[[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5− ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジピロール−3( 2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニ ル]−1H−インドール−5−イル]−カルバミド酸=1,1−ジメチルエチル エステル(化合物番号4); (S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチル −5−[[[[4−[[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ア ミノメチル]フェニル]アミノ]カルボニル]オキシ]ベンゾ[1,2−b:4 ,3−b′]−ジピロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドー ル−5−イル]−2−ベンゾフランカルボキサミド(化合物番号5); 5−[(2−メルカプトプロビオニル)アミノ)−N−[2−(4,5,8,8 a−テトラヒドロ−7−メチル−4−オキソシクロプロパ[c]ピロロ[3,2 −e]インド−ル−2(1H)−イル)−1H−インドール−5−イル]−1H −インドール−2−カルボキサミド(化合物番号8);(S)−N−[2−[[ 1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチル−5−[[[[4−[[ (フェニルメチル)オキシ]カルボニル)フェニル]アミノ]カルボニル]オキ シ]ベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジピロール−3(2H)−2−イル] カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−2−ベンゾフランカルボキサミ ド(化合物番号10); (S)−2−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒ ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジピロール−3(2 H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル ]−5−[[2−[[(11−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル)ヒドラジ ノ]カルボニル]−1H−インド−ル(化合物番号11A); (S)−2−[[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5− ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジピロール−3( 2H)−イル]カルボニル)−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニ ル]−5−(ヒドラジノカルボニル)−1H−インドール・一塩酸塩(化合物番 号11B);(S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ −8−メチル−5−[[[[4−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキ シ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]フェニル]アミノ]カルボニル]オ キシ]ベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジビロ−ル−3(2H)−イル]カ ルボニル]−1H−インドール−5−イル]−2−ベンゾフランカルボキサミド (化合物番号12);(S)−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,6− ジヒドロ−8−メチル−5−[[[[4−[[[2−[[(1,1−ジメチルエ チル)オキシ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチル]フェニル]アミ ノ]カルボニル]オキシ]ベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジピロール−3 (2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−2−ベンゾフ ランカルボキサミド(化合物番号13);(S)−N−[2−[[1−(クロロ メチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチル−5−[[[[4−[2−[(ヒドラ ジノカルボニル)エチル]フェニル]アミノ]カルボニル]オキシ]ベンゾ[1 ,2−b:4.3−b′]ジピロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H −インドール−5−イル]−2−ベンゾフランカルボキサミド・一塩酸塩(化合 物番号14): (S)−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジピロール−3(2H) −イル]カルボニル)−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]− 5−[2−[[2−[((1,1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒド ラジノ]カルボニル]エチル]−2−ベンゾフラン(化合物番号15); (S)−[[[2−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジピロール−3(2H) −イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル−5 −[2−(ヒドラジノカルボニル)エチル]−2−ベンゾフラン・一塩酸塩(化 合物番号16);(7bR)−N−[2−[[4,5,8,8a−テトラヒドロ −7−メチル−4−オキソシクロプロパ[c]ピロロ[3,2−e)インドール −2(1H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノカル ボエル]−5−[2−[[2−[(1,1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニ ル]ヒドラジノ]カルボニル]エチル−2−ベンゾフラン(化合物番号17); (S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b′]ジピロール−3(2H) −イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]− 5−[2−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒド ラジノ]カルボニル]エチル−2−ベンゾフラン=3,6,9−トリオキサデカ ン酸エステル(化合物番号18);(S)−[[[−2[[1−(クロロメチル )−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4, 3−b′]ジピロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール− 5−イル]アミノ]カルボニル]−5−[2−(ヒドラジノ)カルボニル]エチ ル−2−ベンゾフラン=3,6,9−トリオキサデカン酸エステル(化合物番号 19); (S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロ キシ−8−メチルベンゾ(1、2−b:4,3−b′]ジピロール−3(2H) −イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]− 5−[2−[[2−[[(1.1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒド ラジノ]カルボニル]エチル]−2−ベンゾフラン=グルタル酸モノエステル( 化合物番号20);N−[2−ヒドロキシ−1.1−ビス(ヒドロキシメチル) エチル]グルタルアミド酸の(S)−[[[−2[[1−(クロロメチル)−1 ,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b ′]ジピロ−ル−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ ル]アミノ]カルボニル]−5−[2−[[2−[[(1,1−ジメチルエチル )オキシ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチル]−2−ベンゾフラン エステル(化合物番号21);N−[2−ヒドロキシ−1,1−ビス(ヒドロキ シメチル)エチル]グルタルアミド酸の(S)−[[[−2[[1−(クロロメ チル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b: 4,3−b′]ジピロ−ル−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドー ル−5−イル]アミノ]カルボニル]−5−[2−(ヒドラジノ)カルボニル] エチル−2−ベンゾフランエステル(化合物番号22);7−アミノ−ナフタレ ン−1,3−ジスルホン酸・ジナトリウム塩の(S)−[[[−2[[1−(ク ロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2 −b:4,3−b′]ジピロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−イ ンドール−5−イル]アミノ]カルボニル]−5−[2−[[2−[[[(1, 1−ジメチルエチル)オキシ]カルボニル]ヒドラジノ]カルボニル]エチル] −2−ベンゾフラン=グルタル酸モノエステルモノアミド(化合物番号23); 7−7ミノ−ナフタレン−1,3−ジスルホン酸・ジナトリウム塩の(S)−[ [[−2[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8− メチルベンゾ(1,2−b:4,3−b′]ジピロール−3(2H)−イル]カ ルボニル]−1H−インドール−5−イル]アミノ]カルボニル]−5−[2− (ヒドラジノ)カルボニル]エチル−2−ベンゾフラン=グルタル酸モノエステ ルモノアミド(化合物番号24) からなる群から選択された請求項(1)記載の化合物。
  23. (23)Yが水素、−C(O)R、−C(S)R、−C(O)OR1、−S(O )2R1、−C(O)NR2R3、−C(S)NR2R3、−C(O)NHSO 2R4、−C(O)CH2(OCH2CH2)n7O(C1〜C3アルキル)[ ここで、n7は0〜5]、または−C(O)(CH2)n8C(O)Rb[ここ で、n8は0〜10、Rbは−OH(またはその金属もしくはアミン塩)、−O Rc(ここで、Rcは−CH2C(CH2OH)3またはR70)および−N( Rd)R5(ここで、Rdは水素またはC1〜C4アルキル、R■は−C(CH 2OH)3、−CH2C(CH2OH)3、−CH2C(CH2NH2)3、R 70、R71またはR72から選択され、n9は1または2、n10は1〜3) から選択される請求項(1)記載の式Iの化合物。
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