JPH05507386A - 偏光と２重共役投映レンズを使った近接位置合せシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 偏光と２重共役投映レンズを使った近接位置合せ［発明の背景コ １、発明の分野 本発明は、２つの物体間の位置合せ、詳しくはりソグラフィ・システムにおける ウェハとマスクの位置合せ、さらに詳しくは半導体製造システムにおけるリング ラフィ要素の位置合せに関するものである。

２、関連技術の説明 ウェハ・ステッパを使ってＸ線源でイメージを露光するには、マスクとウェハを 互いに近接させて、たとえば４０μｍ未満の間隔に保持しなければならない。し たがって、ウェハ・ステッパにおける回路レベルのサイト毎の位置合せは、マス ク平面とウェハ平面の間隔を限られた間隔にして行う。この制約により、標準の ２重焦点位置合せ方式は、２つの平面からの信号を同時に受信せざるを得なくな る。

このような従来技術の位置合せシステムの一実施例では、位置合せ対物レンズで マスクを通してウェハのマークを見、次いでマスクのマークが見えるように焦点 を合せ直す。ウェハは第１Ａ図及び第１Ｂ図に示すように背景中にあることに留 意されたい。第１Ａ図及び第１Ｂ図はそれぞれ、マスクが上にのったウェハ、そ の上方の対物レンズ、それにマスク及びウェハから対物レンズを通ってきた放射 線を感知するためのＣＯＤ　（電荷結合素子）検出器を示している。各図面で、 実線は合焦している光を表し、破線は背景からの光を表す。

第１Ａ図は、マスク上の位置合せマークが見えるように焦点を合わせた対物レン ズを示している。実線はマスク・マークの像を表す。破線は背景のウェハを表す 。第１Ｂ図は、ウェハが見えるように焦点を合わせた対物レンズを示しており、 実線はウェハ・マークの像を表し、破線はマスクからの背景を表す。マスクとウ ェハの間の空間（近接ギャップ）は、焦点外れの像をぼやけさせるのに十分な大 きさではあるが、背景は非常に強く見え、捕捉された（検出された）位置合せマ ークの像のコントラスト比の低下をもたらす可能性がある。

背景は、反射または回折された漂遊光の形をとることができる。

要するに、克服すべき全般的問題としては、観察物体と垂直方向に近接する背景 物体からの漂遊光によって、近接位置合せシステム内のウェハ位置合せ目標また はマスク位置合せ目標が改変または変更されることがある。

本出願人に譲渡されたマコシ：ｘ　（Ｍａｋｏｓｃｈ）の”Ｍｅｔｈ、ｏｄ　ａ ｎｄＡｒｒａｎｇｅｍｅｎｔ　ｆｏｒ　０ｐｔｉｃａｌ　Ｄｉｓｔａｎｃｅ　Ｍ ｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ’と題する米国特許第４５７７９６８号は、２本の垂直偏 光ビームを、その変位をめたい物体に関連する光格子に当てて、２つの光ビーム の間で位相シフトを引き起こすことにより、それらのビームが光格子から回折す るときの位相シフトを決定するという、光学的に距離を決定する方法を記載して いる。光格子から回折した後に等しい次数の光ビームを結合する。格子からの回 折によって生じる位相シフトを、物体の変位の測度として使用する。２つの物体 間の位置合せも同様にして決定できる。２つの物体上の格子が完全に位置合せし ている場合、２つの物体の格子から回折される光の間に位相差はない。位置ずれ がある場合は、位置ずれの度合を示す信号が生成される。

マコシュの”Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｃ　Ｍａｓｋ−Ｗａｆｅｒ　Ａｌｉ ｇｎｍｅｎｔ”と題する米国特許第４７７９００１号は、次のように述べている 。

「マスク中に光透過格子を設け、コリメート光線たとえばレーザでこれを照射す る。次いで結像システムにより、２つの対称形回折次数、たとえば±１次数を、 ウェハ上に設けた、マスク格子の像と同じ格子定数の光格子上の１つの共通スポ ットに合焦させる。２つの入射回折次数はウェハ格子で再度回折されて、光軸に 沿って戻り、半透明ミラーで屈折して光検出器に向かう。検出器の出力信号を評 価して２本の回折ビームの相対位相差をめる。この目的で、マスクで回折される ２本のビームの位相を、たとえばマスク格子と直列に配置した薄い振動ガラス板 によって、３段階で周期的に変化させる。」 Ｘ、Ｙ位置合せ情報を分離するため、マコシュの上記特許明細書の第２Ａ図のビ ーム・スプリッタ５には、第２Ｂ図の領域５ａの上にλ／２フィルムが導入され る。これによって、１軸の偏光が９０度回転する。その後、第２Ａ図の検出器ア センブリ６ａ、６ｂ、６ｃで、Ｘ、Ｙ情報の直角偏光によりＸ、Ｙ信号が分離さ れる。

本発明は、２次元広帯域拡大像がマスク検出器とウェハ検出器において形成され る点で、上記特許と異なる。偏光拒絶は、漂遊光を除去し、マスク・データをウ ェハ・データから分離できるようにする４が、マコシュの米国特許第４７７９０ ｏ１号のようにＸ位置合せデータをＹ位置合せデータから減結合するのに寄与し てはいない。

本発明の利点としては、広帯域結像によるプロセス不感受性、近接平面漂遊光の 拒絶、位置合せ中に移動する光学要素の不在、マスク平面とウェハ平面の同時結 像、マスク設計の柔軟性などがある。

マコシュの米国特許第４７７９００１号では、マスク及びウェハ上の１対の格子 と、レーザ位置合せビームを使用する。

上記特許の第２Ａ図に、二色性偏向ミラーから反射されたレーザ光線が示されて いる。反射されたレーザ光線は下方に進んでマスク上のＸ、Ｙ位置合せ格子を通 過し、そこで回折次数に分割されて、傾斜可能ガラス板とビーム・スプリッタ板 を横切り、光学システムによって線形増幅により合焦される。

傾斜ガラス板は２対の回折ビームによって定義される平面に対して４５度の向き にあり、したがってガラス板を傾斜させるとビーム対に相互位相差が導入される 。ビーム・スプリッタの中心では、二色性ミラーがウェハ・マスクからの部分ビ ームを全反射する。二色性ミラーからの光は、偏光ビーム・スプリッタを通過し てＸ及びＹ光検出器に向かい、そこで検出される。

［発明の要約］ 本発明によれば、結像システムの共役平面内の、第１の偏光解消位置合せマーク を有する第１の物体と、第２の偏光解消位置合せマークを有する第２の物体を位 置合せさせるための装置は、 ａ）両物体が共役平面内にあり、第１位置合せマークが第２位置合せマークに対 して斜めの回転角度の位置にある、第１位置合せマークを有する第１物体及び第 ２位置合せマークを有する第２物体と、 ｂ）共通光路に沿って第１及び第２位置合せマークに向かう１対の偏光ビームを 含み、第１及び第２のビームが互いに斜めの角度で偏光され、一方のビームが第 １物体上の偏光解消用位置合せマークと相互作用し、他方のビームが第２物体上 の偏光解消用位置合せマークと相互作用するようになっている、第１及び第２位 置合せマークを照射するための光ビーム手段と、 Ｃ）対応する一方の光ビームを偏光解消させるのに適した角度で両方のビームと 相互作用するように位置合せされた、第１及び第２物体上の偏光解消用位置合せ マークと、ｄ）第１及び第２位置合せマークから反射して、共通光路に沿って進 み、ビーム分離によって第１及び第２の出力ビームに分離されて偏光分析フィル タを通過し、偏光された出力ビームとなった反射光を受ける手段と、 ｅ）各偏光出力ビームからの光を測定する手段とを儒える。

斜めの角度は約４５度が好ましく、また第１及び第２の光ビームのそれぞれから の光を選択的に遮断するためのシャッタが設けられる。

結像システムの共役平面内で第１の位置合せマークを有する第１物体と第２の位 置合せマークを有する第２物体を位置合せさせる方法は、 ａ）第１及び第２光ビームの偏光方向が異なる角度に向いており、第１及び第２ 位置合せマークが第１及び第２ビームの対応する一方を選択的に偏光解消させる ように異なる角度に向いている、共通光路に沿って第１及び第２の選択的偏光解 消する位置合せマークに向かって進む１対の偏光ビームで第１及び第２位置合せ マークを照射するステップと、ｂ）第１及び第２位置合せマークからの光ビーム の反射光が共通光路に沿って進み、ビーム分割手段によって第１及び第２の出力 ビームに分離され、偏光フィルタを通過して、偏光された出力ビームを生成する ステップと、Ｃ）各偏光出力ビームからの光を測定するステップとを含んでいる 。

異なる角度は、約４５度離れていることが好ましい。さらに、第１及び第２光ビ ームのそれぞれからの光を選択的に遮断するシャッタを設けることが好ましい。

本発明のその他の態様は、図面及び下記の説明に記載する。

［図面の簡単な説明］ 第１Ａ図及び第１Ｂ図は、位置合せ対物レンズで、ウェハを背景にしてマスク・ マークを通してウェハ・マークを見るという、従来技術の位置合せシステムを示 す図である。

第２八図ないし第２Ｄ図は、標準の解像目標から、印刷された位置合せ基準の選 択された部分を見るときの、交差偏光の効果を示す図である。目標の２つの回転 方向の差が図示されている。第２Ａ図は「パターンＩ」を示し、第２Ｃ図は「パ ターンＩＩＪを示す。なお、第２Ｂ図および第２Ｄ図は不明瞭であるが、これら の図は画像自体が暗（不明瞭になることを示したものである。

第３Ａ図ないし第３Ｂ図は、第２八図ないし第２Ｄ図に示した位置合せ基準の反 復像を示す図である。第３Ｂ図は、同じ位置合せ基準を交差偏光子を通して見た ものである。本発明に基づくマスクの位置合せ構造とウェハ・マークの向きが第 ３Ａ図及び第３Ｂ図に図示されている。なお、第３Ｂ図は不明瞭であるが、この 図は画像自体が暗く不明瞭になることを示したものである。

第４図は、本発明に基づ〈実施例において２重共役レンズを使用した位置合せシ ステムの概略図である。

第５図は、第４図の２重共役レンズの一方の光路の光学素子を示す図である。

第６図は、他方の光路の光学素子を示す図である。

第７図は、マスク及びウェハ上の位置合せマークの向きと、第４図のマスク及び ウェハ用の偏光フィルタ及び分析フィルタの向きを示す概略図である。

本発明の上記その他の目的、特徴及び利点は、本発明の好ましい実施例に関する 下記のより詳細な記述から明らかになるであろう。

［好ましい実施例の説明コ 発明の開示 本発明は、交差した偏光子結像目標と偏光感受性目標を使用して、近接位置合せ における信号のコントラストを高めるものである。本発明の好ましい実施例では 、２重共役レンズを使って２つの近接平面を同時に結像する。

原理的には、交差した偏光子中で、未偏光の光源が二色性シートなど標準の装置 によって直線偏光される。二色性シートを通過した放射線が観察される物体を照 射し、散乱光、反射光または透過光が、第１の（交差した）直線偏光子に対して ９０度回転した別の直線偏光子を通過する。照射される物体の前、中または上に あり、入射偏光状態の変化または回転を引き起こす構造（ウェハ・マークより前 にある構造については、下記第６図の考察を参照のこと）は明るく見え、偏光状 態を保持する構造は暗く見える。

交差偏光モードで標準のリングラフィ・パターンを見る場合、出力は圧倒的に黒 になるはずである。このことは、物体が反射光を有効に偏光解消せず、放射線が 交差偏光子で吸収されたことを示唆している。しかし、構造の位相と振幅が、そ の法線が入射電界偏光方向に対して４５度になるように向いている特殊な場合に は、入射光の一部分が異なる偏光角に移る。この構造は、第２Ｄ図に示すように 交差偏光子を通過した後、暗い背景を背にして明るく見える。偏光方向に対して 平行または垂直に向いた同じ構造は、結像したとき、第２Ｂ図に示すように黒く 見えることになる。この配向に依存するコントラストの差は、偏光方向に対して 同じ角度の密な間隔で配置した多数の線を配することにより、はるかにぎわ出た せることができる。

第２Ａ図ないし第２Ｄ図は、標準のＫｏｄａｋ解像目標からプリントした位置合 せ基準の選択された部分を見たときの交差偏光の効果を示したものである。４５ 度回転した目標の２つの向きの差は、パターンエの写真（第２Ａ図）をパターン ■■　（第２Ｃ図）と対照するとわかるように非常に大きい。

光の大部分は交差偏光子によって消える。第２Ａ図の場合、入射偏光が異なる偏 光角に全く移らないような向きに物体が向いているため、第２Ｂ図で光が消えて いる。すなわち、すべての光が交差偏光子に吸収された。第２Ｃ図の場合、４５ 度の反復パターンが入射放射線を偏光解消させるため、第２Ｄ図で像の一部だけ が消えている。

第３Ａ図及び第３Ｂ図は、第２Ａ図ないし第２Ｄ図に示したものと同じ位置合せ 構造を反復させた像を示している。第３Ａ図は明視野像である。第３Ｂ図は同じ 構造の交差偏光像である。第３Ｂ図の黒い領域は、第３Ａ図の「正規の」　（直 立及び水平に並んだ）ボックスの像に対応することに留意されたい。これらのパ ターンからの光は、交差偏光子によって完全に消えている。偏光角を４５度回転 すると、入射偏光がダイアモンド形ボックスに対して正規の向きになっているの で、第３Ａ図及び第３Ｂ図のダイアモンド形ボックス上で同じ結果が生じるはず である。

したがって、第３Ａ図、第３Ｂ図、第４図を参照すると、正常な向きのパターン をマスク８上に置き、４５度のパターンをウェハ９上（マスク８上のパターンに 対して４５度）に置く場合、位置合せに関わらない平面からの後方反射などを打 ち消しながら、この２つの位置合せ平面を容易に区別することができる。このこ とは、近接位置合せ方式、特に望ましくない背景ノイズを除去するために余分な 信号処理を実行しなければならないアライナにとって深い意味がある。

発明を実施するための最良の方法及びその他の方法第４図は、マスク８とウェハ ９などの２つの物体の位置合せに関係する、本発明の好ましい実施例の図である 。マスク８上のマーク１１を参照するための未偏光の熱源１０が設けられており 、未偏光の熱源１２がウェハ９上のマーク１５を照射する。熱源１０から発生し た光ビームは、マスク８月の集光レンズ１４を通過する。熱源１２から発生した 光ビームは、ウェハ９用の集光レンズ１６を通過する。集光レンズ１４を通った マスク源１０からの光は、マスク８用の直線マスク偏光子１８を通過する。偏光 子１８はその好ましい偏光軸がマスクの位置合せマーク１１に対して４５度の角 度に向いている。同様に、集光レンズ１６から出た光はウェハ９用の直線ウェハ 偏光子２０を通過する。偏光子２０は、図に示すようにマスク偏光子１８に対し て、またウェハ位置合せマーク１５に対して４５度回転している（図７の水平電 界）。マスク偏光子１８を通った光はビーム・スプリッタ２２を通過する。ウェ ハ偏光子２０から出た光は下へ反射されてマスク偏光子１８からの光と平行に進 む。次いで、マスク偏光子１８及びウェハ偏光子２０からの光は上側ビーム・ス プリッタ２２から照射リレー２４を経て第２のビーム・スプリッタ２６へ向かう 。この２つの偏光ビームは、それぞれ当該の偏光軸に対して４５度の角度に向い たマスク・マーク及びウェハ・マークと相互作用する。この相互作用によって、 各入射照射光束の部分的偏光解消が起こる。この部分偏光解消ビームは、マスク ８及びウェハ９から反射し、再び対物レンズ２８を通り、ビーム・スプリッタ２ ６で右に反射されてビーム・スプリッタ・キューブ３０に向かい、そこでこの２ 本のビームは２本のチャネルまたは光路に分かれる。ビームの一部分はビーム・ スプリッタ・キューブ３ｏを通過して右に向かい、直線偏光検光子３４を通って 第１のチャネル（第１光路）に沿って進む。検光子３４は、第７図に示すように 、ウェハ直線偏光子２ｏに対して直角に交差しており、それによってウェハ信号 のすべての漂遊光が信号から除去され、ウェハ・マークが共役補正リレー・レン ズにバスされる。このリレー・レンズは、ウェハ像をウェハ９用の検出器結像ア レイ４２に中継する。一方、対物レンズ２８中で誘導された、ここで使用する代 替共役レンズからのすべての収差を補正すると、改善された結果が得られる。第 ２のビーム・スプリッタ２６からのビームの別の部分は、ビーム・スプリッタ・ キューブ３゜で上方に反射されて異なるチャネル（異なる光路）に沿って進み、 第７図に示すようにマスク直線偏光子１８に対して直角に交差する直線偏光検光 子３２を通過し、それによってすべての漂遊光が信号から濾波され、マスク・マ ークからの反射光がリレー・レンズ３６に渡され、マスク像がマスク８月の結像 アレイ４０上に投映される。ウェハ９及びマスク８上の位置合せマークの向きは 、各特定平面上の入射照射に対して４５度回転している。次いで、検出器アレイ の出力から指定したマーク中心線に基づいてマスクまたはウェハを増分的に位置 決めすることにより、位置合せを実施する。電気光学式シャッタ４３．４４を選 択的に交互に開いて、マスクまたはウェハの位置合せマークを見ることにより、 信号のコントラストをさらに改善することができる。マスク用光学式シャッタの 標準の電子式制御は、当業者には周知である。

第５図及び第６図は、第４図の２重共役レンズの構造の細特表千５−５０７３８ ６　（５） 部を示しており、これは表工及びＩＩによってさらに明らかになる。

第５図の第１の光学系は、共役補正リレー・レンズ３６、ビーム・スプリッタ・ キューブ３０及び対物レンズ２８を含んでいる。対物レンズ２８は、多数の素子 と界面を備える複合レンズである。この場合、後方焦点距離は０．９８４ｍｍで ある。表１に、第５図の左から右へ第１の光学系３６．３０．２８の各表面の分 離間隔と屈折率１〜３を示す。

第６図を参照すると、第２の光学系はリレー・レンズ３８、ビーム・スプリッタ ・キューブ３０、及び対物レンズ２８を備える。表ＩＩにその分離間隔と屈折率 １〜３を示す。この場合、後方焦点距離は１．０１５ｍｍである。

要約すると、本発明では、直線偏光によって位置合せ基準を照射し、その後に、 照射される直線偏光に対して９０度回転した直線偏光子によって検出を行う。こ の位置合せ基準は、照射される直線偏光角に対して４５度の角度に向いている。

マスクとウェハの同時の照射及び結像は近接して保持され、その際にマスク照射 が直線偏光され、ウェハ照射偏光角に対して４５度の角度に向き、その後初期照 射偏光角に対して９０度の角度に向いた直線偏光フィルタによって各位置合せマ ークを検出する、このシステム及び方法は、それぞれ１つの偏光子を有する２つ の部分的に共通する結像チャネルによってマスクとウェハの同時結像を実現する 。光フィルタ、位相遅延器、波形板などの構造、あるいは他の人工的位置合せマ 一りとは独立の手段を使用して、マスク位置合せマークを通過した後、ウェハ・ マークの前で光の偏光解消を強化し、漂遊光の拒絶をさらに強めることが企図さ れている。

代替設計 本発明はデータ処理などの技術分野で適用可能であり、データ処理の分野では、 パーソナル・コンピュータ、ミニコンピユータ、大型コンピュータ、及びその他 のデータ処理装置用のチップの製造に使用できる。さらに、このシステム及び方 法は、ＬＳＩチップを使った工業用及び個人用電子装置にも適用可能である。輸 送・制御システムなど、連続監視などの機能用のデータ処理システムを組み込ん だ電子製品に、本発明を用いて作った製品を使用することができる。

本明細書では本発明を特定の実施例に関して説明したが、それだけに限定される ものではない。上記の教示から、当業者なら、本発明の範囲内で可能な多数の修 正、変更及び変形が明らかとなるであろう。

、ヵ器　横比器 ＦＩＧ、ＩＡ　ＦＩＧ、１８ ＦＩＧ、２Ａ ＦＩＧ、２Ｂ ＦＩＧ、２Ｃ ＦＩＧ、２Ｄ ＦＩＧ、３Ａ Ｆ［Ｇ、３Ｂ ウェハ共役レンズ ＦＩＧ、５ ウェハ共役レンズ ＦＩＧ、６ 偏光と２重共役投映レンズを使った近接位置合せ要約 本発明によれば、結像システムの共役平面内の、第１の偏光解消位置合せマーク を有する第１の物体と、第２の偏光解消位置合せマークを有する第２の物体を位 置合せさせるための装置は、両物体が共役平面内にあり、第１位置合せマークが 第２位置合せマークに対して斜めの回転角度の位置にある、第１位置合せマーク を有する第１物体及び第２位置合せマークを有する第２物体と、共通光路に沿っ て第１及び第２位置合せマークに向かう１対の偏光ビームを含み、第１及び第２ のビームが互いに斜めの角度で偏光され、一方のビームが第１物体上の偏光解消 用位置合せマークと相互作用し、他方のビームが第２物体上の偏光解消用位置合 せマークと相互作用するようになっている、第１及び第２位置合せマークを照射 するための光ビーム手段と、対応する一方の光ビームを偏光解消させるのに適し た角度で両方のビームと相互作用するように位置合せされた、第１及び第２物体 上の偏光解消用位置合せマークと、第１及び第２位置合せマークから反射して、 共通光路に沿って進み、ビーム分離によって第１及び第２の出力ビームに分離さ れて偏光分析フィルタを通過し、偏光された出力ビームとなワた反射光を受ける 手段と、各偏光出力ビームからの光を測定する手段とを備える。

閣　竪　謹　審　純　牛 国際調査報告

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. １．第１の物体が、第１の中心軸をもつ第１の偏光解消位置合せマークを備え、 第２の物体が、第２の中心軸をもつ第２の偏光解消位置合せマークを備え、前記 第１位置合せマークの前記軸が、前記第２位置合せマークの前記軸に対して斜め の回転角の位置にある、結像システムの共役平面内で第１の物体と第２の物体を 位置合せするための近接位置合せシステムであって、 共通光路に沿って前記第１位置合せマーク及び第２位置合せマークに向かう１対 の偏光ビームで前記第１位置合せマーク及び第２位置合せマークを照射するため の光ビーム手段を備え、 前記第１光ビームと第２光ビームが互いに斜めの角度で偏光され、前記光ビーム の一方が、前記第１物体上の前記第１偏光解消位置合せマークと相互作用するよ うになっており、前記光ビームの他方が、前記第２物体上の前記第２偏光解消位 置合せマークと相互作用するようになっており、前記第１物体上の前記第１偏光 解消位置合せマークと前記第２物体上の前記第２偏光解消位置合せマークがそれ ぞれ、その当該の軸が前記光ビームの対応する一方を偏光解消させるのに適した 回転角にあることにより、前記軸が前記光ビームと相互作用するように位置合せ されており、さらに、前記第１位置合せマーク及び第２位置合せマークから、共 通光路に沿って進む反射光を受ける手段と、前記共通光路に沿って配置された、 前記反射光を第１出力ビームと第２出力ビームに光学的に分離するビーム分割手 段と、 前記第１出力ビームと第２出力ビームを受け取って偏光された出力ビームを生成 する偏光分析フィルタと、前記偏光出力ビームのそれぞれからの光を測定する手 段とを備えるシステム。
2. ２．前記斜めの角度がほぼ４５度であることを特徴とする、請求項１に記載のシ ステム。
3. ３．前記第１光ビーム及び第２光ビームのそれぞれからの光を選択的に遮断する ためのシャッタ手段を備えることを特徴とする、請求項１に記載のシステム。
4. ４．第１の中心軸をもつ第１の偏光解消位置合せマークを備える第１の物体と第 ２の中心軸をもつ第２の偏光解消位置合せマークを備える第２の物体を近接位置 合せシステム中の結像システムの共役平面内で位置合せする方法であって、前記 第１光ビームと第２光ビームの偏光方向が異なる角度で向いており、前記第１マ ークと第２マークの前記軸が異なる角度で向いていて、前記第１ビームと第２ビ ームの対応する一方を選択的に偏光解消できるようになっている状態で、共通光 路に沿って前記第１位置合せマーク及び第２位置合せマークに向かって進む１対 の偏光された光ビームで前記第１位置合せマーク及び第２位置合せマークを照射 するステップと、 前記第１位置合せマーク及び第２位置合せマークからの前記光ビームの反射光を 共通光路に沿って進め、前記反射光を第１出力ビームと第２出力ビームに光学的 に分離し、前記第１出力ビーム及び第２出力ビームを偏光させて、偏光出力ビー ムを生成するステップと、 前記偏光出力ビームのそれぞれからの光を測定するステップとを含む方法。
5. ５．前記光ビーム及び前記中心軸の前記異なる角度がほぼ４５度であることを特 徴とする、請求項４に記載の方法。
6. ６．前記第１光ビーム及び第２光ビームのそれぞれからの光を選択的に遮蔽する ためにシャッタ動作を使用することを特徴とする、請求項４に記載の方法。