JPH0548932B2 - - Google Patents

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JPH0548932B2
JPH0548932B2 JP62221405A JP22140587A JPH0548932B2 JP H0548932 B2 JPH0548932 B2 JP H0548932B2 JP 62221405 A JP62221405 A JP 62221405A JP 22140587 A JP22140587 A JP 22140587A JP H0548932 B2 JPH0548932 B2 JP H0548932B2
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JP
Japan
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mask
wafer
light
diffraction grating
optical system
Prior art date
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JP62221405A
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English (en)
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JPS6464319A (en
Inventor
Akira Ono
Tomoji Sekya
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP62221405A priority Critical patent/JPS6464319A/ja
Publication of JPS6464319A publication Critical patent/JPS6464319A/ja
Publication of JPH0548932B2 publication Critical patent/JPH0548932B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、露光によりマスクパターンをウエハ
上に形成する際にマスクとウエハとの位置を合せ
る位置合せ装置に関する。
(従来の技術) LSI(大規模集積回路)の製造工程にはウエハ
の対向位置にマスクを配置して露光を行なつてマ
スクに形成されたマスクパターンをウエハ上に転
写することが行われるが、近年の超LSI製造に伴
つてその集積度をより高くするために露光に紫外
光が使用されている。
ところで、このようなマスクパターンの転写を
行なう際、マスクとウエハとの位置合せが正確に
行われることが必要であり、この位置合せには露
光用の紫外光の波長とは異なる波長の可視光線が
使用されている。これは位置合せ用の光でウエハ
が露光されないようにである。第7図はこのよう
な位置合せ装置の構成図であつて、テーブル1上
にはウエハ2が載置されるとともにこのウエハ2
の上方には紫外光を照射する照明光学系3が配置
されている。そして、この照明光学系3から照射
された紫外光4はコンデンサレンズ5、マスク6
及び投影レンズ7を通してウエハ2に照射されて
マスクパターン転写が行われるようになつてい
る。ここに、マスク6にはマスク位置合せ光学系
8が設けられ、マスク6に設けられた発光素子か
らの各光9がITV(工業用テレビジヨン)カメラ
10に入射されるようになつている。又、ウエハ
位置合せ光学系11が設けられ、このウエハ位置
合せ光学系11はHe−Neレーザ発振器12から
発振されるレーザ光をウエハ2上にそれぞれ配置
した顕微鏡13,14,15を通してウエハ2に
照射し、この反射光を各顕微鏡13,14,15
を通してITVカメラ16に送るようにしている。
かくして、紫外線とウエハ位置合せ用He−Ne
レーザ光との波長が異なり、投影レンズの結像位
置が異なるためマスク位置合せ光学系とウエハ位
置合せ光学系を別に設ける必要があつた。
ところが、マスク位置合せ光学系8とウエハ位
置合せ光学系11とがそれぞれ別に設けられてこ
れら位置の検出結果からマスク6とウエハ2とが
位置合せされているために、マスク6とウエハ2
との位置合せは間接的となつて高精度な位置合せ
は困難となつている。又、別々の光学系を設けな
ければならないので、これら光学系が複雑化す
る。
(発明が解決しようとする問題点) 以上のように露光用紫外光と位置合せ用の光と
の波長による投影レンズの結像点のずれのため高
精度な位置合せができず、そのうえ光学系が複雑
化する問題がある。
そこで本発明は、簡単な構成で高精度に位置合
せができる位置合せ装置を提供することを目的と
する。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明は、所定波長の第1光線をマスク及び対
物レンズを通過させてテーブル上に載置されたウ
エハ上に照射してマスクに形成されたパターンを
ウエハ上に転写する転写装置におけるマスクとウ
エハとの相対位置を合わせる位置合せ装置におい
て、 マスク上に設けられた第1回折格子と、 ウエハ上に設けられた第2回折格子と、 第1光線とは異なる波長の第2光線を対物レン
ズを通過させて第2回折格子に照射させる光照射
光学系と、 第2光線の照射された第2回折格子からの少な
くとも+1次回折光及び−1次回折光の各光路を
強制的に変えて第1回折格子上に重ね合せる重ね
合せ光学系と、 +1次回折光及び−1次回折光により形成され
る干渉縞と第1回折格子との作用により現れるモ
アレ縞の光強度を検出する光検出素子と、 この光検出素子により検出されたモアレ縞の光
強度に基づいてマスクとウエハとを位置合わせす
る制御信号を求めるサーボ制御部と、 このサーボ制御部からの制御信号を受けてテー
ブルを移動させるテーブル移動機構と、 を備えて上記目的を達成しようとする位置合せ装
置である。
(作用) このような手段を備えたことにより、転写用の
第1光線とは異なる波長の第2光線が光照射光学
系により対物レンズを通過して第2回折格子に照
射され、この第2回折格子からの少なくとも+1
次回折光及び−1次回折光の各光路が重ね合せ光
学系により強制的に変えられて第1回折格子上に
重ね合わされる。
これら+1次回折光及び−1次回折光により形
成される干渉縞と第1回折格子との作用により現
れるモアレ縞の光強度が光検出素子により検出さ
れ、この光強度に基づいてマスクとウエハとを位
置合わせする制御信号がサーボ制御部からテーブ
ル移動機構に送られる。これにより、ウエハを載
置したテーブルがテーブル移動機構により移動さ
れてマスクとウエハとが位置合わせされる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例について図面を参照し
て説明する。
第1図は位置合せ装置を適用した露光転写装置
の構成図である。移動テーブル20上にはウエハ
21が載置され、又このウエハ21の上方にはウ
エハ21と対向してマスク22が配置されてい
る。23は第1光線としての露光用紫外光24を
放射する照明光学系であつて、この照明光学系2
3から放射された露光用紫外光24はコリメータ
レンズ25からマスク22を通過し、さらに対物
レンズ26を通つてウエハ21上に照射されるよ
うになつている。
さて、ウエハ21と対向するマスク22面の辺
側には第1回折格子27が設けられ、又ウエハ2
1のマスク22と対向する面の第1回折格子27
と対向する位置には第2回折格子28が設けられ
ている。一方、29は第2光線としてのレーザ光
30を発振するHe−Neレーザ発振器であつて、
このレーザ発振器29から発振されるレーザ光3
0は光照射光学系としてのミラー31で反射して
対物レンズ26を通して第2回折格子28に照射
されるようになつている。ところで、マスク22
と対物レンズ26との間には重ね合せ光学系を構
成する2枚のオプテイカルパラレルグラス32,
33が配置されている。これらオプテイカルパラ
レルグラス32,33は第2回折格子28からの
+1次回折光34、−1次回折光35の光路をそ
れぞれ強制的に変更して両回折光34,35がウ
エハ22上において重なるようにするものであ
る。さらに、マスク22のコリメータレンズ25
側にはフオトセンサ36が配置されている。この
フオトセンサ36は+1次回折光34と−1次回
折光35とにより形成される干渉縞と第1回折格
子27との作用で現われるモアレ縞の強度を検出
してその検出信号をサーボ制御部37に送出する
ものである。このサーボ制御部37はフオトセン
サ36からの検出信号を受けてモアレ縞の強度に
基づいて移動テーブル20を第1及び第2回折格
子27,28のピツチ配列方向に移動させてマス
ク22とウエハ21とを所定位置に位置合せする
制御信号を求め、この制御信号をテーブル移動機
構38に送出する機能を持つたものである。な
お、39は空間フイルタである。
次に上記の如く構成された装置の作用について
説明する。
マスクパターンのウエハ21への転写の際、マ
スク22とウエハ21との位置合せが行われる。
このとき、He−Neレーザ発振器29から発振さ
れたレーザ光30はミラー31で反射して対物レ
ンズ26に入射し、この対物レンズ26を通つて
ウエハ21上に設けられた第2回折格子28に照
射される。これにより、第2回折格子28からは
+n次回折光及び−n次回折光(n=1,2,3
…)とが発生するが、このうち+1次回折光34
及び−1次回折光35は再び対物レンズ26を通
つてそれぞれオプテイカルパラレルレンズ32,
33に到達する。かくして、これら+1次回折光
34及び−1次回折光35はそれぞれ光路を強制
的に変更されてマスク22の設けられた第1回折
格子27に送出される。このとき、各+1次回折
光34及び−1次回折光35は各オプテイカルパ
ラレルレンズ32,33によりマスク22上で焦
点が合つてそれぞれ重ね合わされる。従つて、マ
スク22上で+1次回折光34及び−1次回折光
35により干渉縞が形成され、さらにこの干渉縞
と第1回折格子27とによりモアレ縞が現れる。
フオトセンサ36はこのモアレ縞の光強度を検出
してその検出信号をサーボ制御部37に送る。と
ころで、このフオトセンサ36から出力される検
出信号は第2図に示すように各第1及び第2回折
格子27,28の位置がそれぞれピツチ配列方向
にずれるとその強度がピツチ配列間隔に応じて変
化するものとなつている。従つて、サーボ制御部
37はこの検出信号の強度に応じて位置合せの制
御信号をテーブル移動機構38に送出する。かく
して、テーブル20が移動してマスク22とウエ
ハ21との位置合せが行われる。
このように上記一実施例においては、露光転写
用の紫外光24の波長とは異なる波長のレーザ光
30を対物レンズ26を通過してウエハ21上の
第2回折格子28に照射し、この第2回折格子2
8からの+1次回折光34及び−1次回折光35
の各光路を変更して第1回折格子27上で重ね合
せ、これにより形成される干渉縞と第1回折格子
27とにより現われるモアレ縞の強度に応じてマ
スク22とウエハ21とを位置合せする構成とし
たので、マスク22上で確実に+1次回折光34
と−1次回折光35とを重ね合せて干渉縞を形成
し、さらに第1回折格子27とでモアレ縞を形成
できる。従つて、露光用紫外光24に対して焦点
の設定された対物レンズ26を位置合せ用に共通
に使用しても対物レンズ26を移動させて露光用
紫外光の焦点位置をずらす等の影響を与えず、マ
スク22とウエハ21との位置合せが高精度にで
きる。ところで、各オプテイカルパラレルグラス
32,33がそれぞれ配置されていなければ、+
1次及び−1次回折光は第1図に示すように点線
の光路を進行して決してマスク22上では焦点が
一致しないものとなる。これは対物レンズ26が
露光用紫外光24に対して焦点位置が設定され、
これと同時にレーザ光30に対しては焦点位置が
合わされていないためである。従つて、露光用の
紫外光24と位置合せのための可視光のレーザ光
30の焦点位置がそれぞれ異なつていても高精度
に位置合せができる。
なお、本発明は上記一実施例に限定されるもの
でなくその主旨を逸脱しない範囲で変形してもよ
い。例えば、重ね合せ光学系は第3図乃至第6図
に示すような形状のものを使用てもよい。第3図
は中央に平部の形成されたバイプリズム40であ
り、第4図は台形形状の各プリズム41,42を
配置したものであり、又第5図は各三角プリズム
43,44を配置したものである。そして、第6
図は半円形状でかつマスク22から見て長方形の
形状をしたものを使用してもよい。さらに、ドー
ナツツ形状のものを配置してもよい。又、これら
重ね合せ光学系の配置位置はマスク22と対物レ
ンズ26との間に限らず、対物レンズ26とウエ
ハ21との間に配置してもよい。又、±1次回折
光に限らず高次の回折光を用いても位置合せがで
きる。
[発明の効果] 以上詳記したように本発明によれば、露光用の
第1光線に対して焦点の設定された対物レンズを
位置合わせ用に共通使用しても対物レンズを移動
させて第1光線の焦点位置をずらす等の影響を与
えず、かつ第1光線と位置合わせのための第2光
線の焦点位置がそれぞれ異なつていてもマスクと
ウエハとの位置合わせを高精度にできる位置合せ
装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係わる位置合せ装置の一実施
例を露光転写装置に適用した構成図、第2図は同
装置におけるモアレ縞光強度の検出信号を示す
図、第3図乃至第6図は同装置における重ね合せ
光学系の変形例を示す図、第7図は従来装置を示
す図である。 20……移動テーブル、21……ウエハ、22
……マスク、23……照明光学系、26……対物
レンズ、27……第1回折格子、28……第2回
折格子、29……He−Neレーザ発振器、31…
…ミラー、32,33……オプテイカルパラレル
グラス、36……フオトセンサ、37……サーボ
制御部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 所定波長の第1光線をマスク及び対物レンズ
    を通過させてテーブル上に載置されたウエハ上に
    照射して前記マスクに形成されたパターンを前記
    ウエハ上に転写する転写装置における前記マスク
    と前記ウエハとの相対位置を合わせる位置合せ装
    置において、 前記マスク上に設けられた第1回折格子と、 前記ウエハ上に設けられた第2回折格子と、 前記第1光線とは異なる波長の第2光線を前記
    対物レンズを通過させて前記第2回折格子に照射
    させる光照射光学系と、 前記第2光線の照射された前記第2回折格子か
    らの少なくとも+1次回折光及び−1次回折光の
    各光路を強制的に変えて前記第1回折格子上に重
    ね合せる重ね合せ光学系と、 前記+1次回折光及び前記−1次回折光により
    形成される干渉縞と前記第1回折格子との作用に
    より現れるモアレ縞の光強度を検出する光検出素
    子と、 この光検出素子により検出されたモアレ縞の光
    強度に基づいて前記マスクと前記ウエハとを位置
    合わせする制御信号を求めるサーボ制御部と、 このサーボ制御部からの制御信号を受けて前記
    テーブルを移動させるテーブル移動機構と、 を具備したことを特徴とする位置合せ装置。
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JPS6464319A JPS6464319A (en) 1989-03-10
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Families Citing this family (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960011399B1 (ko) * 1991-04-03 1996-08-22 샤프 가부시끼가이샤 광학 소자 조립 장치
JP4827344B2 (ja) * 2001-06-22 2011-11-30 株式会社トプコン 光学測定装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPS62188317A (ja) * 1986-02-14 1987-08-17 Toshiba Corp 位置合わせ方法

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