JPH05500120A - 少なくとも１つの画素用の光学的位置定め装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 少なくとも１つの画素用の光学的位置定め装置本発明は請求範囲１による少なく とも２つの画素ないし画像点用の光学的位置定めの装置に関する。

画素（画像点）位置定め系は多種の適用例及び数多の構成が公知である。成る重 要なグループのものは情報の検出のため又は書込みのため、面のラインごとの走 査に用いられる。ここで支配的であるのは連続的に回転する機械的光偏向素子で ある。

機械的偏向運動の精度を高めるため機械的偏向系の所定のクラスのものを、音響 光学的ディフレクタを介しての付加的偏向手段と組合せることが公知である（Ｄ Ｅ−Ｏ３２４４３３７９、ＵＳ−ＰＳ４２７９４７２）。そのようなりラスの機 械的偏向系には振動ミラー又はポリゴン（多角形）輪のような走査系があり、上 記走査系では当該偏向面は偏向素子に当るビーム束に対してたんに小さな角度を 成す。即ち、そのような偏向系に対してのみ、画像平面内又は等価個所にて検出 された誤り方向検出結果の方向（情報）が、偏向位置に無関係に前スキャン系に 配置されている音響光学的偏向器に伝送される。

但し、例えばプリズム偏向器又は回転軸に対して４５度を成すミラー面を有する （双方を回転軸対して平行に照射して）走査系に対してはそのようにはならない 。

更に、異なった波長の光束を選別し、順次走査のために用い得る系も公知である 。

さらに公知技術水準に属するレーザプリンタでは整合調整可能な半導体レーザか ら発するビーム束が直線状の走査線（ライン）に沿っての走査運動を以て、ホロ グラムモジュールを用いて、レーザプリンタの記録ドラム上の感光性の記録材料 に亙って導かれる（ＥＰ−Ｏ３Ｏ２７７８８３）。ホログラムモジュールと走査 平面との間の光路中にｆｏ−レンズが、ビーム束を焦点合せ（フォーカシング） するために挿入配置されている。ホログラム体は透明な多角形体であり、この上 にはレーザビーム束の照射を受ける所望の数のホログラム格子が設けられている 。最も簡単な場合にはホログラムモジュールの代わりにホログラムレンズが設け られ得る。ホログラムモジュール及びホログラムレンズは光偏向性の波長分散性 （波長依存−回折（屈折）特性可変）の素子、換言すれば当該の回折特性が実質 的に光波長に依存する素子を成す。それにより、高速で行なわれ得るビーム束の 非機械的走査が達成される。上記位置定め装置の変形も公知であり、これら変形 装置ではホログラムモジュールは同時に複数のビーム束の照射を受けそれら複数 ビーム束は例えば３つの可制御のレーザから発せられる。ここでホログラムモジ ュール上での３つのビーム束の照射角は同じであるか相互に異なり得る。

連続調整可能なレーザ及びホログラフィ−モジュールないし偏向素子を有するそ れらすべての公知の実施例において欠点となるのは高い精度で画像点ポジション を調整し得るのは極く限られた数に過ぎず、そのような限られた数の画素ポジシ ョンでは殊に画素（バイクセル）に対する活字印刷上の精細な要求度の高い植字 作業には十分でない。達成可能な画素ポジション数は当該の種類の光学的位置定 め装置では基本的に、精確に再現可能の波長に対して所要のスペクトル幅、及び 光源の連続的スペクトル調整領域により定められる。例えば、レーザダイオード のスペクトル連続調整領域（これはほぼ１０ｎｍである）のもとで、そして、０ ．１〜０．３ｎｓ／にの波長の典型的温度依存性のもとで、０．１にへの温度安 定化の際にもせいぜい１０００の精確な画像ポジション数しか達成できず、一方 、グラフィック産業向けの走査器では典型的にｉｏｏ。

Ｏのポジションが分解されるべきである。

たんに音響周波数の変化をするだけで、機械的運動のない音響光学的偏向器を用 いての、従来技術に属する画素位置定めの手段もまた、当該偏向器はたんに比較 的に少数の画素位置（ポジション）のみを分解し、たんにわずかな（小さな）偏 向角度しか実現できないという制約、制限がある。上記の音響周波数変化は音響 光学的偏向器にて生ぜしめられる。

高い位置定め精度のもとての大きな有用な偏向角度を次のような公知の光学−機 械的位置定め装置が有し得る、即ち、光偏向素子が殊に回転軸を中心として回転 する当該光学機械的位置定め装置が有し得る。殊に、回転軸に対して４５°を成 して配置されている面を有するポリゴンミラーが有利である、それというのはそ れにより達成可能な１：１の回転角度の変換が、走査角において可能になるから である。更に、９０°方向変換付きの偏向プリズム（先行のポリゴンミラーのよ うな）は例えば支承部ウオブリングによる、又は振動による、理想的ミラーポジ ションに対する悪影響、障害の作用を受け難い。後続の走査対物レンズを有する 回転プリズムは傾倒運動に対して影響を受け難い。

多（の領域分野において、殊にグラフィック産業において、上述の光学的−機械 的走査器（これは走査動作中面平面又は被走査面にわたって少なくとも１つのビ ーム束を動かす）では、利用可能な走査速度の増大に対する要求、必要性が存す る。そのような走査速度増大は次のようにして達成される、即ち、たんに１つの 画素によるのみならず、複数の、有利には相互に等間隔をおいて導かれる画素に よっても走査されるようにするのである。有利な光学的−機械的走査系（これは 回転軸に対して４５°を成す面を有するポリゴンミラーを以て、又は少なくとも １つのプリズムを以て構成され得、また、理想的な場合は回転軸線内に位置する ビーム束の照射を受ける）では複数のビームを相互に平行に、以て、部分的に強 制的に回転軸線外に位置して拡大することは不可能である、それというのは偏向 素子又は偏向器の回転が画素の回転に影響を及ぼす（当該画素が光学的軸又は回 転軸に位置していない限り）からである。当該走査線の１つの領域内にて複数の 画素が、走査方向に対して直角方向の１つの線上にあるとすれば当該の１つの線 はそのつどの回転角に相応して上記走査線のほうに傾くこととなる。

それにより提起される本発明の課題とするところは冒頭に述べた形式の位置定め 位装置を次のように発展改良させることにある、即ち、多数の画像ポジションの 高い分解能のもとで少なくとも２つの画素の同時の位置定めにより当該走査速度 が所定係数分だけ改善されるように改良発展させることにある。

上記課題は請求項１の特徴部分により解決される。

それによれば、上記位置定め装置は複数の画素の同時の位置定めのため、異なっ た可調整の波長の同数の相応の光源を有する。上記光源から発せられるビーム束 は第２の光偏向素子（これはここでも１次近似的に波長依存性でない）を用いて １つの共通平面内で延在して偏向される。

請求項２によれば当該ビーム束は当該装置の少なくとも１つの別の光学的素子に 照射される。

上記の別の光学的素子により構成される位置定め装置は次のような有利な構成要 件を有する、即ち、複数の画素の同時の位置定めのため、異なった可調整の波長 の相応の数の光源が設けられており、更に、上記光源から発するビーム束が第２ の光偏向素子を用いて１つの共通の平面内に延びるように偏向され、少なくとも １つの光学素子に照射され、更に、上記の付加的光学素子の出力ビーム路中に少 な（とも１つの波長分散性素子は次のように配置構成されている、即ち、それに より異なった波長のビーム束が例えば当該の第２の偏向方向とは別の方向に相互 に分離されるように配置構成されてるのである。

上記付加的光学的素子は有利に画素の焦点合せ（フォーカシング）のための典型 的に精巧な対物レンズであり、このレンズはただ１つ構成されさえすればよい。

請求項４によれば、付加的光学素子として画素の共通の焦点合せのための対物レ ンズが用いられ、この対物レンズは第２偏向器の後方に配置され、ビーム束は実 質的に第２の非波長依存性の運動する偏向器を介して当該の子午平面内で、経過 する。まさに、そのようなスキャン（走査）一対物レンズ（これは軸線外れのビ ーム束利用のために特に精巧複雑に構成される必要性がある）にはすべてのビー ム束が共通に照射されるのが有利である。

本発明の位置定め装置では画素のポジションが、−第２の光偏向素子（これは非 波長依存性である）による画素の偏向を別とすれば一波長分散性素子に対する光 源の相対的配置関係と、光源から発せられる波長とにより定まる。当該の達成可 能な位置定め領域は画素と波長分散性素子との間の光学系の部分と、波長領域（ この波長領域に亙り光源が連続調整され得る）とにより制限される。前述のパラ メータは広い限界内で適用事例に依存して選定され得る。

可調整の波長の適当な光源として、広帯域に、又は多重線でエミッション（発光 ）するランプが、後置接続の可変のモノクロメータと共に、また、広帯域に連続 調整可能なレーザ、例えば色素レーザ、又は固体レーザ（Ｃｒ−又はＴｉ−ドー ピング付）、半導体レーザ、又はガスレーザもぐ多重エミッション線を以て）使 用され得る。

例を挙げて、これまで説明して来た事項について述べる。機械的な第２偏向器は 回転ミラー形又はプリズム形偏向器であるものとし、その際その偏向器は２０μ 肩の画素間隔のもとで１５．０００の分解可能な典型的画素数ないし１０μ舅の 画素間隔のもとで３００００の画素数を有し、また、数μ舅から１０分の数μ諺 までの領域内の精度を有するものとする。第１偏向器に対しては光源の波長が１ ０ｎｍだけ変化され得、確実に再現可能な変化（分散）に対するステップの大き さは０．１ｎｍであるものとする。その際１００の応答可能なポジションが得ら れる。所定の素子の分散（性）が後続の光学系に対して次のように適合調整され ているものとする、すなわち、１０ｎｍの波長変化のもとて画素が２０μ諺だけ シフトされるように調整されているものとする。このことはＱ、ｌｎｍの波長分 散（変化）ごとに０．２ｎｍの空間□分解能に相応する。それにより、第１偏向 系の分解能は第２偏向系のそれに比して１より大の１オーダ大となるが、走査（ スキャン）領域は著しく狭められた状態下におかれる。当該組合せにおいて２つ の系の強さく特長面）が統合され得る。

別の実施例においては分散性素子は実質的に平行なビーム束の照射を受け、焦点 合せ光学系の前に位置するもとする。

分散性素子として格子周期りを有する格子が使用される場合波長λに対してブラ ッグ条件のセツティングのもとて Ｄ　ｓｉｎ　ｗ（λ）＝λ　（式１） が得られ、但し、Ｗは格子垂線に対する角度、従って、ブラッグ入射のもとて格 子の零次と１次回折との間の角度の１７２である。

Ｄ＝０．２ｍｌで、可変光源の平均波長λ＝８００であるものとするとＷ（λｏ ）＝０．２２９２度が得られるか、又は、他の表示形態では４　ｍｒａｄに等し い。

隣接する波長λに対しては良好な近似で下記の関係式が成立つ。

△Ｗ＝△λＷ（λｏ）／λｏ＝０．００５ｍｒａｄ／ｎｍ　（式２）％式％ 格子に後続するフォーカシング光学系、ｆ＝４００ｎｍの焦点距離ｆによっては 画像平面内において下記の変位が生じる。

△ｙ　＝　ｆ　ｔａｎ　（△ｗ）　（式３）もって、△λ＝１ｎｍごとに△ｙ＝ ２μ厘、従って、ＩＱｎｍの波長変化の場合２０μ菖の変位が生じる。

分散性素子として垂直に通過照射するのではないプリズムの境界面が空気中で使 用される場合はプリズムの材料としてＢＫ７の仮定のもとてほぼｎ＝１．５１１ の屈折率、及び、中心波長λ＝７８０ｎｍのもとで△ｎ／△λ＝２Ｘ１０−５／ ｎｍ の分散が生じる。出射面に対してｗ、＝１４度のビーム束の入射角に対してはλ ＝７８０ｎｍのもとで出射角変位角度Ｗ、に対して、屈折法則によればｎ　ｓｔ ｎ　（ｗ＋）　＝ｓｉｎ　（ｗ、）　（式４）但し、空気の屈折率１が用いられ ており、下記の関係性が成立っている。

ｗ　、＝　（７３Ｑｎｓ）＝　ａｒｃ　ｓｉｎ　（１，５１１ｓｉｎ　１４度） ＝　２１．４４１１度 λ＝７７Ｑｒ１ｍに対しては下記の関係性が成立つ。

ｗ　、＝　（７７０ｎｍ）＝　ａｒｃ　ｓｉｎ　（１，５１１２ｓｉｎ　１４度 ）＝　２１．４４４０度 当該角度差は式（３）に従ってフォーカシング光学系ｆ　＝４００　ｎｍを介し て、画像平面内で丸められて△ｙ＝２０μ厘に変換される。それにより、同様に １０μ票の波長変化の場合、上記例において示されたポジションシフト（位置移 動）が達成される。

第２の、即ち主偏向方向外での位置定め領域の増大のためには複数の波長分散性 の素子がビーム路（光路）中で直列的に配置され得、又はそのような素子は光路 の付加的一定の方向変換の後多重にビームの通過照射を受け得る。少なくとも１ つの波長分散性素子と関連づけての光源の波長制御による第２の主偏向装置外へ の画素の位置定めは光学的−機械的走査系における加算的調整素子として、位置 定めの高度の精密性の際の小さい位置変化に対して適する。

請求項１の基本手法の変形によれば、複数のビーム束を次のような場合にも波長 分散性素子を用いて１つの画素に統合することが可能である、即ちビーム束が波 長分散性素子のところまで別個に延びる場合でも上記のように統合することが可 能である。種々の源の画素の統合のためには粗調整のための付加的機械手段が設 けられ得、上記粗調整に対しては付加的に上記光源の適当な波長の選定により所 属の微調整が行なわれ得る。適用例は走査スキャナであり、これは種々のスペク トル領域の光源により夫々１つの画素を走査するものであり、又は、位置定め装 置であり、これは１つの画素にて高いエネルギをまとめ、従って複数の光源を当 該画素にて結像すべきものである。

請求項１にて特定された位置定め装置（ここでは種々の源の画素が所定の別個の 位置を絶対的にとるべきであると共に相互に相対的な位置関係をとるべきもので ある）では相対的な位置定めを、同様に光源の適当な波長の調整により行なわせ 得る。上記の相対的な位置関係は付加的な機械的な調整素子の使用により機械的 構成及び位置定め装置の安定性への要求度を高めることなく、時間的に波長の制 御によっても達成され得る。

上述のように第２の光偏向素子（これは動作上の主偏向を行なわせる）は光学的 −機械的偏向器の構成部分であり得る。上記偏向器は特に次のようにすれば有利 である、即ち、回転軸に対して４５°を成して配置されたポリゴンミラー面とし て構成されるか、又はプリズム、殊にペンタプリズム（ここでは幾つかのプリズ ム面における反射が利用され、後続の対物レンズと共に十分ウオブリングの補償 の作用が行なわれる）として構成されるようにするのである。

幾つかの適用例にとっては波長分散性の素子が、光学的−機械的偏向器の可動、 殊に回転運動の部分と連結されている。殊に当該利点とするところは、波長分散 性素子の有効面積が小さくされ得、動作上の偏向角度を重畳させる必要はなく、 分散性素子に対する入射特性が一層良好に一定に保持され得る（回転角に依存せ ずに）ことである。有利には可制御の波長の光源としてレーザが使用され得る。

請求項１０によれば２つの画素に対する光学的位置定め装置において、別個の波 長の各光源が、当該光源から発する光束の照射を受ける波長分散性の素子と次の ように組合される、即ち所望の画素ポジションが調整されるように組合される。

上記において上記の２つの画素は夫々スペクトル的に狭帯域の光源から発する各 々のビーム束を用いて、並びに少なくとも１つのビーム束の照射を受ける波長分 散性の素子全体を用いて生ぜしめられる。要するに請求項１０の光学的位置定め 装置は所定の作成段階に係わるものであり、この作成段階では夫々の装置にとっ て好適な組合せ、即ち、非可変の個別の波長を有する光源と実施及び配置の点で 適合した波長分散性素子との好適な組合せが選定される。殊に、製造プロセスに 制約される又は定まる個別のエミッション波長を有する光源、例えば半導体レー ザダイオードが選定され得る。このために例えば、わずかに異なる分散を有する 複数の波長分散性の素子から成る所定の適当な波長分散素子が選定され、これは 夫々の半導体ダイオードの１つ又は１対と組合される。２つより多くの画素の場 合には第３の源からは各１つの別の、別個に照射を受ける分散性素子が設けられ るか、又は、有利に、可変の波長の各１つの源が設けられる（請求項１ないし３ に規定のように）。

波長分散性素子として一般に有利に平坦な格子構造が使用され得る。そのような 格子構造には音響光学的に生ぜしめられる格子構造の使用が含まれる。

このことは例えば請求項１２によれば少なくとも１つのホログラムによって実現 され得る。

但し、波長分散性素子は請求項１３により従来通り少な（とも１つの光学的素子 から成っていてもよく、この光学的素子にはそれの光学的軸外のビーム束が進入 する。その場合、当該プリズム作用ないし色収差が主軸外におかれて利用される レンズであってもよい。

光学的位置定め装置において付加的な波長分散性素子を省くことができる。

請求項１４によれば波長分散性素子は異なる屈折率の２つの媒質間で実質的に平 坦な少なくとも１つの境界面を有し、上記境界面は照射されるビーム束の軸に対 して斜め方向に配向されている。このことにはプリズムの使用が含まれる。

波長分散性の素子の種々の実施例に対して上記のＥＰ−０３２７７８８３に就い て言及する。

次に４つの図を用いて本発明の詳細な説明する。

図１は１つのビーム路（光路）を２重に偏向する、２つの光源付きの光学的位置 定め装置の模式図である図２は複数のビーム束が１つの画像点においてまとめら れる光学的位置定め装置の部分を模式的に示す平面略図ないし側面略図である。

図３は実質的に回転軸にてビーム束の照射を受ける鏡反射性の偏向器を有する光 学的位置定め装置を模式％式％ 図４は光偏向素子を拡大して示す側面図である。

図１には可調整の波長の２つの狭帯域光源１，１ａを有する光学的位置定め装置 を示す。それら光源から発するビーム束は部分透過性のミラー１ｂにてまとめら れる。当該ビーム路中には波長分散性素子２、光学−機械的偏向器３（これは回 転軸４を中心として回転可能である）走査対物レンズ５が配置されている。光源 から発せられた光は走査対物レンズ５により画素において走査ライン６に沿って 結像される。走査ライン６における走査運動７は光学的機械的偏向器３の回転に 帰せられ、動作上又は第２の走査運動と称せられる。走査線６は一方では波長λ １にて走査される。この波長には例えば１つの瞬時の画素ポジションＢ（λｌ） が相応する。光源１ａにて異なる波長が調整されているので、他方では、静止状 態の波長分散性素子２により生せしめられた１つの画像ポジションが、Ｂ　（λ ２）にて生じる。図１には２つの画素Ｂ（λ１）、Ｂ（λ２）が同じ走査線６に 位置する特別な場合が示しである。一般に、他の実施例では第１の偏向運動（こ れは光源１の波長の変化により生ぜしめられる）は第２偏向運動に向って夫々の 方向に行なわれ得る。

図２の位置定め装置では異なった波長λ１、λ２、λ３を発射する３つの光源を ８．９．１０で示す。それらの光源から発せられるビーム束は１つの波長分散性 素子１１においてまとめられ、上記素子１１により、上記ビーム束は相互に間隔 をおいて画素Ｂ（λ１）、Ｂ（λ２）、Ｂ（λ３）として１つの図示してない走 査面上に位置定めされる。上記画素Ｂ（λｌ）　、Ｂ　（λ２）、Ｂ（λ３）の 相対的位置関係は光源８〜１１の波長の調整により変化され得る。機械的偏向器 （これはわかり易くするため図示してない）によっては上記の３つの画素は図示 の位置で相並んでないし相互に上下に走査ラインに沿つて動かされ得る。

図３の位置定め装置では図４に詳細に示す光学−機械的偏向器（デフレクタ１２ ）が使用される。上記光学−機械的偏向器は理想的回転軸１３を中心として回転 し、鏡反射する面１４でシンボリックに示されている。波長分散性素子１５は光 学−機械的偏向器中に統合化されていて、その結果−緒に回転される。ビーム束 １６は理想的回転軸１３の方向で波長分散性素子１５及び鏡反射面１４に当り、 その際ビーム束１６は光源１９．２０の２つの部分ビーム束１７．１８から成り 得る（図３参照）。波長λ１、λ２を有する部分ビーム束１７．１８は半透過性 の光学素子２１によりビーム束１６にまとめられる。走査対物レンズ２２（図３ 参照）は波長分散性素子１５の出力ビーム路中で偏向器と図示されてない画像平 面との間に次のように配置されている、即ち、当該画素が平坦な画像平面内にて 位置定めされるように配置されている。走査ライン２３．２４は配置分散性素子 １５によりここでは走査方向に対して垂直方向にずらされて、そして、従って実 質的に平行にずらされて画像平面上に偏向される。

そのような位置定め装置によっては機械的偏向器又はデフレクタにて所定の有利 な９０゛方向変換のもとでも多重の平行な書込トラックが実現され得る。

図４には出射角Ｗ（λ１）、Ｗ（λ２）、ｗ（λ３）が波長λ１、λ２、λ３に 依存する格子を詳細に示す。ここで、光波長は複数光源から発して同時にビーム 束１６にて生じ、又は時間的に順次、たんに１つの切換制御される光源により発 射され得る。

走査対物レンズ２２には有利に子午平面内にて、鏡反射面１４を用いて９０°方 向変換されたビーム束が通過する。波長λｌのビーム束は子午平面をわずかに外 れて走査対物レンズを通過する。

国際調査報告 −１、□、　ＰＣＴ／ＥＰ　９０１０２０６４Ｓ＾　４２６５０

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. １．波長分散性の第１の光偏向素子（２）を有する少なくとも２つの画素ないし 画像点（Ｂ１，Ｂ２）に対する光学的位置定め装置であって、上記光偏向素子に よっては光束がそれの波長に従って第１の偏向方向に偏向されるように構成され ている装置において、上記光学的装置は各画素ないし画像点に対して可制御の波 長の狭帯域光源を有し、更に上記第１の光偏向素子（２）は第２光偏向器（３） の光路中に配置されており、上記第２光偏向器によっては実質的に波長に無関係 の偏向が行なわれ得、ここにおいて、上記第１の光偏向素子（２）の偏向領域が 上記第２の光偏向素子（３）のそれより著しく小であり、更に上記の光源のビー ム束は上記の波長分散性の素子（２）に照射されて、それにより、上記第２の光 偏向素子（３）により、設定された基本位置のまわりで同時に上記画素ないし画 像点（Ｂｉ）の各々が当該の光源の波長の調整により第２の光偏向素子（３）の 偏向領域において所望の画像位置をとるように構成されていることを特徴とする 少なくとも１つの画素用の光学的位置定め装置。
2. ２．上記両偏向器（２）及び（３）のほかに少なくとも１つの別の光学的素子が 光源のビーム束中に配置されている請求項１記載の少なくとも２つの画素（Ｂ１ ，Ｂ２）に対する光学的位置定め装置。
3. ３．少なくとも１つの波長分散性の第１の光偏向素子（２）を有する少なくとも ２つの画素用の光学的位置定め装置であって、上記の波長分散性の第１の光偏向 素子によっては可制御の波長の光源（１）から発するビーム束が第１の偏向運動 にて偏向可能であるように構成されている装置において、上記第１光偏向素子（ ２）は第２光偏向素子（３）のビーム路（光路）中に配置されており、該第２光 偏向素子によってはビーム束が付加的に偏向可能であり、上記第２光偏向素子（ ３）は非波長分散性の偏内特性を有し、上記第１光偏向素子の偏向領域は上記第 ２光偏向素子のそれより小であり、更に、複数の画素（Ｂλ１，Ｂλ２，Ｂλ３ ）の同時の位置定めのため、異なった可調整の波長の相応の数の光源（８，９１ ０）が設けられており、更に、上記光源から発するビーム束が第２の光偏向素子 を用いて１つの共通の平面内に延びるように偏向され、少なくとも１つの光学素 子に照射され、更に、上記の付加的光学素子の出力ビーム路中に少なくとも１つ の波長分散性素子（１１）は次のように配置構成されている、即ち、それにより 異なった波長のビーム束が例えば当該の第２の偏向方向とは別の方向に相互に分 離されるように配置構成されていることを特徴とする光学的位置定め装置。
4. ４．上記の付加的光学的素子は上記の第２の光偏向素子（３）の後に配置された 光学系（２２）として構成され、上記ビーム束（１８）は運動する第２偏向器（ ３）を介して実質的に上記光学系（２２）の子午平面内に延びている請求項２又 は３記載の光学的位置定め装置。
5. ５．当該波長分散性素子（１５）に照射されるビーム束（１６）が第２偏向方向 に対して実質的に直角方向に偏向されるように上記波長分散性素子（１５）は光 路中に配置されている請求項１から４までのうちいずれか１項記載の位置定め装 置。
6. ６．上記第２光偏向素子（１４）は光学的−機械的偏向器（１２）の一緒に運動 する構成部分である請求項１から５までのうちいずれか１項記載の光学的位置定 め装置。
7. ７．上記の第２の光偏向素子（１２）は回転軸（１３）を中心として回転するミ ラー性（鏡反射する）偏向器（１４）として構成され、該偏向器は実質的に回転 軸線内でビーム束（１６）の照射を受けるように構成されている請求項６記載の 位置定め装置。
8. ８．上記波長分散性素子（１５）は上記光学−機械的偏向器（１２）の運動部分 、例えば回転部分と固定的に連結されている請求項６又は７記載の光学的位置定 め装置。
9. ９．上記光源は当該波長が可調整であるレーザである前記先行請求項のうちの１ 項記載の光学的位置定め装置。
10. １０．波長分散性の第１の光偏向素子（２）を有していて２つの画素（Ｂ１，Ｂ ２）の同時の位置定めを行なう光学装置であって、上記の第１光偏向器はビーム 束をそれの波長にしたがって第１の偏向方向に偏向するように構成されている装 置において、当該光学装置は各画素ないし画像点に対して時間的に一定の波長の 狭帯域光源を有しており、更に、上記の第１の光偏向素子（２）は第２の光偏向 素子（３）の光路中に配置されており、該第２の偏向素子によっては実質的に非 波長依存性の付加的な偏向が実施可能であり、ここにおいて上記の第１の光偏向 素子（２）の偏向領域が上記の第２の偏向素子（３）のそれより著しく小であり 、更に、上記の光源のビーム束は上記の第１の光偏向素子（２）に一緒に照射さ れ、それにより、上記の第２の光偏向素子（３）により定められるすべての基本 ポジションに対して、上記の各画素Ｂ１，Ｂ２の同時の位置定めが相互に所望の 間隔をおいて、上記の第２の光偏向素子（２）の偏向により行なわれるように構 成されていることを特徴とする光学的位置定め装置。
11. １１．上記の波長分散性の第１の光偏向素子は少なくとも１つの平担な格子構造 を有する前記の先行の請求項のうちの１記載の光学的位置定め装置。
12. １２．上記格子構造は少なくとも１つのホログラムにより形成されている請求項 １１記載の光学的位置定め装置。
13. １３．上記の波長分散性の第１の光偏向素子は少なくとも１つの所定の光学的素 子から成り、該光学的素子中にはビーム束がそれの光学的軸外に進入する請求項 １から１０までのうちいずれか１項記載の光学的位置定め装置。
14. １４．上記の波長分散性の第１の光偏向素子は異なる屈折率の２つの媒質問で実 質的に平坦な境界面を有し該境界面は照射されるビーム束の軸に対して垂直方向 には配向されていない請求項１から１０までのうちいずれか１項記載の光学的位 置定め装置。