JPH05500047A - 化粧品製剤用の抗炎症剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 化粧品製剤用の抗炎症剤 本発明は、薬剤および化粧品の局所製剤の製造のための抗炎症剤としての、ノル ボルナンおよび／またはノルボルネンの用途に関する。

化粧品および薬剤の製剤、特に過度に光に晒されて損傷した皮膚に対する使用を 意図した製剤の作用は、抗炎症剤の添加により拡張し得ることか知られている。

使用する抗炎症剤は例えば、アルコキシ安息香酸エステル（西独公開特許第２６ １７８１７号）、ペン・／オキサゾール誘導体（西独公開特許第２３２７９５９ 号）および環状アセタール（西独公開特許第２５１９１．６号）である。

そのような化合物の添加により、顕著な抗炎症作用が得られる力（、抗炎症作用 を有する化合物、とりわけ同程度またはより低（１使用濃度でより強い作用を有 する化合物が更に必要である。

特定のフルボルナンおよび対応するノルボルネンが、非常に良好な抗炎症作用に よって特徴付けられることがわかった。それらの化合物は、局所適用用の通常の 薬剤および化粧品の基剤中に容易に組み合わせることができ、そのような製剤の 通常の他の成分と混合することか容易であり、実見を有すると【、でも殆と有し ない。

化粧品中における冷却作用を有するヒドロキシノルボルナンの使用は、日本国特 許公開公報５９／２．１９２４３号［ダーウエント（Ｄｅｒｖｅｎｔ）の８５１ ０２２８４０号に報告されている］により知られている。ノルボルナンの香料と しての性質も知られている（例えば西独公開特許第３５０１８８８号委照）。

しかし、そのような文献には、ノルボルナンの抗炎症作用は記載されていない。

従って、本発明は、一般式（Ｉ） ［式中、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ３およびＲ′は、それぞれが水素、Ｃ１，□４アルキル 基、式−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ０ＯＲ＋’（Ｒ１１は水素またはＣ１−４アルキル基で ある。）で示される基Ｘ、または式−ＣＯＯＲ”で示される基Ｙを表すか、また はＲ１とＲ２もしくはＲ３とＲ４は、それらを結合している炭素原子と共にカル ボニル基を表し、このカルボニル基はケタール化されていてよく、それ故Ｒ１と Ｒ″もしくはＲ３とＲ４は基−Ｏ−Ｃ、Ｈｔｎ−○−（ｎ−２または３）を表す か、またはＲ１とＲ′もシ、＜はＲ３とＲ′″は、それらを結合している炭素原 子と共に、式〉Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ，−ＣＯＯＲ口で示される基Ｗを表すが、置換基 Ｒ’ないしＲ４の１個は基Ｘであるか、または隣接する２個の炭素原子上で置換 基Ｒ１ないしＲ４の１個もしくは２個は基Ｙであるか、またはＲ１とＲ１もしく はＲ３とＲ４はそれらを結合している炭素原子と共に基Ｗを表すか、 またはＲ１とＲ″もしくはＲ２とＲ４は、基−ＣＨ＝　ＣＨ−ＣＨ、−もしくは 基−ＣＨ（Ｚ）−Ｃ）（、（Ｖ）−ＣＨ２−（ＺおよびＶは、それぞれか基Ｒ目 、基Ｙまたは基−ＣＨ、−〇−Ｃ○−ＣＨ，−Ｒ１”を表し、Ｒ＋２は基ＲＩ　 １または基−〇−Ｒ目である。）を表し、ｉ１１’ｌ：Ｒ’、Ｒ１１，Ｒ’、Ｒ ’ＳＲ’、Ｒ１Ｇ、Ｒ１３およびＲ＋４は、それぞれか水素またはＣＩ−４アル キル基を表し、更にＲ５、Ｒ６、Ｒ１３およびＲ１４は基−○Ｒ１’ｌもしくは 一〇−Ｃ〇−ＲＩＩを表してもよく、またはＲ５とＲ１３もしくはＲｅとＲ１４ は、それらを結合している炭素原子と共にカルボニル基を表し、このカルボニル 基はケタール化されていてよく、それ故Ｒ５とＲ＋３もしくはＲ１１とＲ１４は 基−０−Ｃ，。

Ｒ２−０（ｍ＝２または３）を表す。］て示されるノルボルナンおよび／または 構造的に式（１）の化合物から、置換基Ｒ１３およびＲ１４を除去し、対応する 炭素原子間にＣ−Ｃ２重結合を形成することによって構成されるノルボルネン並 びに前記ノルボルナンおよび／またはノルボルネンの混合物の、薬剤および化粧 品の局所製剤の製造用の抗炎症剤としての用途に関する。

式（Ｉ）で示される化合物は、既知の化学反応により製造し得る。

すなわち、本発明に従って使用する２環式および３環式のエステルは、市販の２ 環式および３環式の酸またはアルコールから、既知のエステル化方法により得ら れる。

そのようなエステル化方法の出発物質は、例えば、３−（３，３−ジメチルビン クロＣ２，２，ｌ］ヘフリー２−イル）−プロペ／酸、（±）−ショウノウー３ −カルホン酸、２−フルホルニル酢酸、シス−５−ノルホル不ンエンド−２，９ −ジカルホン酸無水物、トリシクロ［５，２，１，０””］］デカンー３４）− オール、トリシクロ［５，２，１゜０２“８］テカンー８（９）−オール、トリ シクロ［５，２，１，０”″ｌデカンー３−エンー８（９）−オール、トリシク ロ［５，２，１，０″′６］デカン−８（９）−オン、３（４）−ヒドロキシメ チル−トリシクロ［５，２゜ｌ　、　Ｑ　”　ａ］テ、Ｌ、　７、ト！Ｊンクｏ ［５，２，１，０””］］ｆ’カフー３　（４）−カルボン酸である。

既知のケタール化方法によって、オキソ化合物の環状ケタールが得られる。その ような方法の例は、酸性触媒、例えばｐ−）ルエンスルホン酸、硫酸、塩化亜鉛 または塩化鉄（ＩＩ［）の存在下に行なう、市販のオキソ化合物と、対応する１ 、２−または１．３−ジオールとの縮合であり、生成する反応水は、トルエンま たはシクロヘキサンのような共留剤と共に連続的に除去する。他の方法は、オル トギ酸トリアルキルエステルおよび酸性触媒の存在下に５０〜１５０’Ｃ（７） 温度ですキソ化合物とジオールとを反応させ、低沸点反応生成物（キ酸エステル 、アルコール）を留去することを含んで成る。

本発明に従って使用する化合物において、Ｒ１，Ｒ１、Ｒ３およびＲ４は水素ま たはＣＩ−４アルキル基、すなわちメチル、エチル、ｎ　−プロピル、イソプロ ピル、ｎ−ブチル、イソブチルおよびｔ−ブチル基を表す。アルキル基のうち、 メチル基か好ましい。

更に、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、基Ｘ１基Ｙを表すか、またはＲ１とＲ２ もしくはＲ３とＲ′は、それらを結合している炭素原子と共にカルボニル基を表 し、このカルボニル基はケタール化されていてよ（、それ故Ｒ区とＲ′もしくは Ｒ３とＲ′は、基−０−ＣＦ、Ｈｔｎ−○−（ｎ＝２または３）を表す。最後に 、置換基Ｒ１、Ｒ意、Ｒ３およびＲ４の２個、すなわちＲ１とＲ３またはＲ２と Ｒ４は、それらを結合している炭素原子と共に、式＞Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ，−ＣＯＯ Ｒ”で示される基Ｗを表し得る。

基Ｘは、一般式−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ０ＯＲ”　（Ｒ”は水素またはＣ３−４アルキ ル基、すなわちメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ ソブチルもしくはｔ−ブチル基を表す。）で示されるプロペン酸またはプロペン 酸エステル基である。好ましい基Ｒ′１は、水素およびメチル基である。

基Ｙは、一般式−Ｃ０ＯＲ”　（Ｒ”は、基Ｘのものと同意義である。）で示さ れるカルホン酸またはカルホン酸基である。基Ｙにおいて好ましい基Ｒ１′は、 水素およびメチル基である。

更に、置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の２個、すなわちＲ１とＲ３またはＲ ２とＲ４は、基−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ，−または基−ＣＨ（Ｚ）−ＣＨ（Ｖ）−Ｃ Ｈ，−（ＺおよびＶは、それぞれが基Ｒ”、基Ｙまたは基−ＣＨ，−０−Ｃｏ− ＣＨ，−Ｒ１”を表し、Ｒ”は基Ｒ”または基０−Ｒ”である。）を表し得る。

Ｒ５、Ｒ８、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ”、、Ｒ”、Ｒ′３およびＲ′４は、ツレツレが水 素または前記Ｃｌ　−４アルキル基を表し得る。

更に、Ｒ５、Ｒ＠、Ｒ＋３およびＲＩ′は、基−ＯＲ”または−〇−ＣＯＲ目を 表す。最後に、Ｒ５とＲ１３またはＲ８とＲ１４は、それらを結合している炭素 原子と共にカルボニル基を表し得、このカルボニル基はケタール化されていてよ く、それ故Ｒ５とＲ′３またはＲ＋＋とＲ１４は、基−〇−Ｃｊ（、、、−０− （ｍ＝　２または３）を表す。

前記ノルボルナンに加えて、構造的に式（１）の化合物から、置換基Ｒ１３およ びＲ１４を除去し、対応する炭素原子間にＣ＝Ｃ２重結合を形成することによっ て構成される対応するノルボルネンも、本発明の目的のために適当である。

更に、前記ノルボルナンおよび／またはノルボルネンの混合物も、抗炎症剤とし て適当である。

本発明の好ましい化合物は、３−（３，３−ジメチルビシクロ［２゜２．１］へ ブタ−２−イル）−フロペン酸メチルエステル、３−（３゜３−ジメチルビシク ロ［２，２，１］へブタ−２−イル）−プロペン酸、（±）−ショウノウ−３− カルボン酸メチルエステル、酢酸トリシクロＣ５，２，１、０”ｌ′］デカ−３ （４）−イルメチルエステル、メトキソ酢酸トリンクロ［５，２，１，０”’］ デカー３（４）−イルメチルエステル、ビシクロＣ２，２，１］へブタ−５−エ ン−２，３−ジカルホン酸／メチルエステル、トリシクロ［５，２，１，０”６ ］デカン−３（４，１）−カルボン酸メチルエステル、酢酸トリシクロ［５，２ ，１，０’″６］テカン−８（９）イルエステルおよび酢酸トリ／クロＥ５，２ ，１．．０”°″］］デカー３−エンー８）イルエステルである。

３−（３，３−シメチルビ／クロ［２，２，１］へブタ−２−イル）−プロパー ２−エン酸メチルエステルおよび酢酸トリシクロ［５，２゜１　、　Ｏ”　６］ デカ−３（４）−イルメチルエステルが、本発明の目的に特に好ましい化合物で ある。

本発明によると、一般式（１）で示されるノルボルナンおよび／または対応する ノルボルネンは、製剤全体に対して、好ましくは０゜０１〜１０重量％の量、よ り好ましくは０．５〜５重量％の量で使用する。特に好ましい態様においては、 一般式（Ｉ）で示される化合物および／または対応するノルボルネンは、２〜５ 重量％の量、とりわけ約３重量％の量で使用する。

一般式（１）で示される化合物および／または対応するノルボルネンは、日光遮 蔽製剤および日焼は止め製剤の製造のために使用することが特に有利である。

本発明の化合物は、日光浴前に皮膚に適用する製剤および日光浴後に皮膚に適用 する製剤のいずれにも使用し得る。

このような目的のために使用する本発明のフルボルナンおよびノルボルネンは、 それ自体は、紅斑を起こす約３００〜３２０　ｎｍのＵＶ−Ｂ範囲に吸収帯を持 たない。従って、日光浴前に皮膚に適用する製剤の製造においては、通常のＵＶ フィルターと組み合わせて使用することが好ましい。

適当なＵＶフィルターは、例えば、 ・サリチル酸銹導体、例えばメントール、ホモメントール、フェンコール、ボル ネオール、グリセロール、ベンジルアルコール、フェノール、エチレングリコー ル、２−エチルヘキサノールおよびｔ−ブタノールのサリチル酸エステル並びに サリチル酸のトリエタノールアンモニウム塩、 ・桂皮酸エステル、例えばｐ−メトキン桂皮酸−３−エトキシエチルエステル、 ｐ−メトキシ桂皮酸−２−エチルヘキサルエステルおよびｐ−アセトアミド桂皮 酸イソプロピルエステルのようなｐ−メトキ７、ｐ−アミノおよびｐ−ジメチル アミン桂皮酸エステル、・ｐ−アミノ安息香酸およびその誘導体、例えばｐ−ア ミノ安息香酸エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、モノグリセロールおよび ／プロピレングリコールエチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルお よびアミルエステル並びにｐ−ノエチルアミノ安息香酸エチルおよびアミルエス テル、 ・置換ベンゾフェノン、例えば２，２′−ジヒドロキシー４，４“−ジメトキシ ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、４〜フ エニルベンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−メトキンベンゾフェノン−５−ス ルホン酸および４−フェニルベンゾフェノン−２〜カルボン酸インオクチルエス テル、・クマリン誘導体、例えば４−メチルクマリン、６−メドキンクマリン、 ７−エチルアミノ−４−メチルクマリン、７．８−ジヒドロキンクマリン、６． ７−ジヒドロキンクマリン、７−ヒドロキシクマリン、４−メチル−７−ヒドロ キシクマリンおよび３−フェニルクマリン、 並びに２−フェニルベンズイミダソール−５−スルホン酸、ナトリウム−３，４ −シメトキ／フェニルグリオキシレート、ブチルヘンザルアセトン、ベンザルア セトフェノン、３〜トリリデン−Ｄ、Ｌ−７コウノウ、３−ヘンンリデンーＤ、 Ｌ−ンヨウノウ、３−（ｐ〜メチルヘンシリデン）−Ｄ、Ｌ−ショウ／つ、ウロ カニン酸およびその塩、ベンズイミダゾール誘導体、ジガロイルトリオレエート 、スルホンアミド、ヒドラゾン、タンニンとエチレンオキシドとの縮合生成物、 および天然物として、桂皮、ラタニアおよび甘草の抽出物である。

適当なＵＶフィルターのリストは、「ドイツチェ・コスメーティクフェアオルド ヌング（Ｄｅｕｔｓｃｈｅ　Ｋｏｓｍｅｔｉｋｖｅｒｏｒｄｎｕｎｇ）（付録７ 〜＠３ｂ）Ｊにも記載されている。

前記ＵＶフィルターは通例、製剤全体に対して１〜１０重量％の置で使用する。

２〜６重量％の量が好ましい。

更に、本発明によると、請求の範囲第１項に従って製造する製剤に、抗酸化剤を 加えることが好ましい。これに関して、天然または天然物様の化合物、例えばト コフェロールを使用することか特に好ましい。前記抗酸化剤は、本発明の製剤中 に、０．１〜５重量％の量、とりわけ０，５〜２重量％の量で存在する。

本発明の製剤は、液体、ペースト状または固体の製剤として、例えば水溶液もし くはアルコール溶液、水性懸濁液、エマルション、軟膏、クリーム、オイル、パ ウダーまたはスティックとして調製し得る。所望の製剤によっては、例えば油成 分、脂肪およびワックス、乳化剤、アニオン性、カチオン性、両性、双性イオン 性および／またはノニオン性界面活性剤、低級１価および多価アルコール、水、 防腐剤、緩衝剤、増粘剤、香料、色素および乳白剤を更なる成分として含有する 局所適用用の薬剤または化粧品の基剤中に、ノルボルナンまたはノルボルネンを 組み合わせることができる。

害廊！ 以下の実施例は、本発明を制限することなく説明することを意図するものである 。

１２環式および３環式化合物の製造 ａ）３−（３，３−ジメチルビンクロＥ２．２．１１へブタ−２−イル）−プロ ペン酸メチルエステル ３−（３，３−ジメチルビンクロ［２，２，１］へブタ−２−イル）−プロペン 酸［ヘキスト（ＨＯＥＣＨ３Ｔ）コ２０９（０，ｌ　Ｏ３モル）、メタノール５ ０ｍｇおよび濃硫酸２．３次Ｃの混合物を、５時間加熱還流した。

次いで、過剰のメタノールを減圧下に留去し、残渣をｔ−ブチルメチルエーテル に溶解した。中性となるまで水洗し、次いて乾燥した後、得られた溶液を蒸発に より濃縮した。残渣を、展開溶媒として塩化メチレンを用いて、シリカゲル［メ ルク（ＶＥＲＣＫ）］クロマトグラフィーに付した。５．８９の黄色がかった油 状物の形態で得た生成物は、３−（３，３−ジメチルビシクロ［２，２，ｌｌヘ プタ−２−イル）−プロペン酸メチルエステルおよび３−（３，３−ジメチルビ シクロ［２，２，１，］へ］ブター２−イリデン−プロピオン酸メチルエステル の混合物であり、屈折率ｎＤ′。は１．４８１４であった。

同様のエステル化方法により、下記化合物を得た二ｂ）３−（３，３−ジメチル ビシクロ−２，２−１１へブタ−２−イル）−プロペン酸エチルエステル／：３ −（３，３−ジメチルビシクロＣ２゜２．１］へブタ−２−イリデン）−プロパ ン酸エチルエステル　Ｍ点：９６〜９８℃。

ｃ）３−（３，３−ジメチルビシクロ［２，２，１］へブタ−２−イル）−プロ パン酸イソプロピルエステル／３−（３，３−ジメチルビシクロ［２，２，］、 ］ｌヘプター２−イリデン−プロパン酸イソプロピルエステル、ｎ♂０・１．４ ７１２゜ ｄ）３−（３，３−ジメチルビシクロ［２，２，１］へブタ−２−イル）−プロ ペン酸ｎ−ブチルエステル／３−（３，３−ジメチルビシクロ［２，２，１］へ ブタ−２−イリデン）−プロパン酸ｎ−ブチルエステル、沸点：８０〜８１℃１ ０．０５ミリバール、ｎｏ”。：　１．４７８４゜ｅ）（±）−ショウノウ−３ −カルボン酸メチルエステノヘ沸点゛１４２〜１４４°Ｃ／１６ミリバール、ｎ ｎ’。：１．４，７９６゜ｆ）（±）−ショウノウ−３−カルボン酸エチルエス テル、沸点＝１５１〜１５２°Ｃ／１６ミリバール、ｎ、”：　１．４７４６゜ ｇ）（±）−７ヨウノウー３−カルボン酸ｎ−ブチルエステル１、４７１６。

ｈ）２−ノルホルニル酢酸メチルエステル１２ミリバール、ｎｏ’。　１．４６ ４５。

ｉ）２−ノルボルニル酢酸ｎ−プロピルエステル１２０°Ｃ／１２ミリバール、 ｎｏ’。　１．４６１７。

コ）シス−５−フルボルネンエンド−２．３−ジカルボン酸ジメチルエステル、 ｎｏ’。：１．４８４２。

ｋ）酢酸トリシクロ［５，２，１．０″”＠］デカー３（４）−イルメチルエス テル ４９１２。

１）メトキン酢酸トリ／クロ［５，２，１．０””］］デカー３４）−イルメチ ルエステル、沸点：　９　２〜９　３℃１０．　０　６ミ１ｊノぐ一ル、ｎＤｔ ｏ：１、４８９８。

ｍ）酢酸トリシクロ［５，２，１．０”＠］デカー８（９）−イルエステル沸点 　：　５　１　°Ｃ１０．０６　ミ　リ　ノ＼−ル、　ｎｏ’。：　１．４８５ ２。

ｎ）酢酸（ドリンクｃ＋Ｅ５．２．１＋Ｏ”’コブカー３−ニンー８（９）−イ ル）−エステル、沸点．１２７〜１２８°Ｃ／１４ミリ／Ｘ−ル、ｎｒＩ２０： 　１．４９６５。

ｏ）トリシクロ［５，２，１．０”’］デカンー８（９）−オンのエチレングリ ールニ トリシクロ［５，　２，　１．０”＠］デカンー８（９）−オン３　０９（０． 　２モル）、エチレングリコール１　５．　５ｇ（０．　２　５モル）、ｐ−１ −ルエンスルホン酸０　１ｇおよびトルエンｔｏｏｌｅの混合物を、反応水を除 去しながら３時間加熱還流した。溶液を、中性になるまで水洗し、乾燥し、蒸発 により濃縮した後、残渣を分別蒸留に付した。所望の生成物を、収量１３．４９ （理論値の７８％）で得た。沸点１５２〜５３°Ｃ１０．０６ミリバール、ｎ♂ ’：１．５０１０。

下記化合物を同様に製造した： ｐ）トリシクロ［５，２，　１．０””］］デカンー８９）−オンの１．２−プ ロピレンケタール、沸点６８°Ｃ１０．０６ミリノぐール、ｎｏ’。二１。

２、抗炎症効果の試験 化合物の抗炎症効果を測定するために、無毛マウスに対して、ＵＶ光による皮膚 損傷試験を行なった。

無毛マウスの背に、ＵＶランプ［オスラム・ウルトラヴイタルソクス（ＯＳＲＡ Ｍ　Ｕｌｔｒａｖｉｔａｌｕｘ）ランプ］を４５ｃｍの距離から３分間照射して 、測定可能な皮膚の炎症（浮腫）を起こした。照射直後並びにその１．２および ３時間後に、試験化合物をエタノール溶液（自動ピペットを用いる１回の適用当 たり２０μｇ×２）の形態で適用し、ガラス棒で穏やかに擦った。比較試験にお いては、同様に照射したマウスを、担体エタノールによる後処理に付した（対照 ）。３０時間後、皮脂厚を測定することにより、浮腫形成の程度を測定した。処 理動物と、担体でのみ処理した動物との、照射による皮脂厚の変化を比較するこ とによって、浮腫抑制の程度を測定した。

下記の結果が得られた； 化合物　３０時間後の ＵＶ浮腫の抑制 ３−（３，３−ジメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタ−２−イル）−プロペン 酸メチルエステル　４７％３−（３，３−ジメチルビシクロ［２，２，１］ヘプ タ−２−イル）−プロペン酸　２６％（±）−７ヨウ／ウー３−カルボン酸メチ ルエステル　２２％ 酢酸ドリンクＯ［５，２，１，０″′８］デカ−３（４）−イルメチルエステル 　５２％メトキン酢酸トリシクロ［５，２，１，０”’］テｈ　−３（４）−イ ルメチルエステル　３８％ビシクＯＥ２．２．１］へブタ−５−エン−２，３− ジカルボン酸ジメチルエステル　２６％トゾシクロ［５，２，１，０””コブカ ン−３（４）−カルボン酸メチルエステル　２２％酢酸トリシクロ［５，２，１ ，０”ａ−デカン−８（９）−イルエステル　３２％ 酢酸トリシクロ［５，２，１，０””］−］デカー３−エンー８９）−イルエス テル　３２％３、日光遮蔽エマルションの組成 成分二　重量部 クチナ（Ｃｕｔｉｎａ）ＧＭＳ　（商標）’　１０．０ピーナツ油　１０．０ オイムルシン（Ｅ　ｕｍｕｌｇｉｎ）（商標）Ｂ３’　４．０グリセロール　５ ．０ フエノニツプ（Ｐｈｅｎｏｎｉｐ）（商標）３　０．２式（１）の化合物　３． ０ α−Ｄ−トコフェロール　１．３ ３−トリリデン−Ｄ、Ｌ−ショウノウ　２．０色素、香料、水　全ｊｌ１００． Ｏとする１　グリセロールモノステアレートＤＡＢ８［ヘンケル（ＨＥＮＫＥＬ ）］２　エチレンオキシドを約３０モル有するセトステアリルアルコール（ヘン ケル） ３　ヒドロキシ安息香酸メチルエステル、ヒドロキシ安息香酸エチルエステル、 ヒドロキシ安息香酸プロピルエステル、ヒドロキシ安息香酸フフルルステルおよ びフェノキンエタノールの混合物［二バ（ＮＩＰＡ）］。

国際調査報告 ｋｗｍｋｖｅｋａｋａ　Ｉ６ａ、　ＰＣＴ／ＥＰ９０１０１３Ｂ５国際調査報告

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. １．一般式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれが水素、Ｃ１−４アルキル基 、式−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯＲ１１（Ｒ１１は水素またはＣ１−４アルキル基であ る。）で示される基Ｘ、または式−ＣＯＯＲ１１で示される基Ｙを表すか、また はＲ１とＲ２もしくはＲ３とＲ４は、それらを結合している炭素原子と共にカル ボニル基を表し、このカルボニル基はケタール化されていてよく、それ故Ｒ１と Ｒ２もしくはＲ３とＲ４は基−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−（ｎ＝２または３）を表す か、またはＲ１とＲ２もしくはＲ３とＲ４は、それらを結合している炭素原子と 共に、式＞Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＯＯＲ１１で示される基Ｗを表すが、置換基Ｒ １ないしＲ４の１個は基Ｘであるか、または隣接する２個の炭素原子上で置換基 Ｒ１ないしＲ４の１個もしくは２個は基Ｙであるか、またはＲ１とＲ２もしくは Ｒ３とＲ４はそれらを結合している炭素原子と共に基Ｗを表すか、 またはＲ１とＲ３もしくはＲ２とＲ４は、基−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−もしくは基 −ＣＨ（Ｚ）−ＣＨ（Ｖ）−ＣＨ２−（ＺおよびＶは、それぞれが基Ｒ１１、基 Ｙまたは基−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１２を表し、Ｒ１２は基Ｒ１１また は基−Ｏ−Ｒ１１である。）を表し、並びにＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ １０、Ｒ１３およびＲ１４は、それぞれが水素またはＣ１−４アルキル基を表し 、更にＲ５、Ｒ６、Ｒ１３およびＲ１４は基−ＯＲ１１もしくは−Ｏ−ＣＯ−Ｒ １１を表してもよく、またはＲ５とＲ１３もしくはＲ６とＲ１４は、それらを結 合している炭素原子と共にカルボニル基を表し、このカルボニル基はケタール化 されていてよく、それ故Ｒ５とＲ１３もしくはＲ６とＲ１４は基−Ｏ−ＣｍＨ２ ｍ−Ｏ−（ｍ＝２または３）を表す。］で示されるノルボルナンおよび／または 構造的に式（Ｉ）の化合物から、置換基Ｒ１３およびＲ１４を除去し、対応する 炭素原子間にＣ＝Ｃ２重結合を形成することによって構成されるノルボルネン並 びに前記ノルボルナンおよび／またはノルボルネンの混合物の、薬剤および化粧 品の局所製剤の製造用の抗炎症剤としての用途。
2. ２．一般式（Ｉ）のノルボルナンおよび／または対応するノルボルネンにおいて 、置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうちの１個が基Ｘであり、基Ｘ中、Ｒ１ １はアルキル基、とりわけメチル基であることを特徴とする請求項１記載の用途 。
3. ３．一般式（Ｉ）で示されるノルボルナンおよび／または対応するノルボルネン において、置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうちの少なくとも１個、とりわ け少なくとも２個が、アルキル基、とりわけメチル基であることを特徴とする請 求項２記載の用途。
4. ４．一般式（Ｉ）のノルボルナンおよび／または対応するノルボルネンにおいて 、置換基Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０のうちの少なくとも４個が 水素原子であることを特徴とする請求項２または３記載の用途。
5. ５．一般式（Ｉ）のノルボルナンおよび／または対応するノルボルネンにおいて 、Ｒ１とＲ３またはＲ２とＲ４が、基−ＣＨ（Ｚ）−ＣＨ（Ｖ）−ＣＨ２−を表 すことを特徴とする請求項１記載の用途。
6. ６．一般式（Ｉ）のノルボルナンおよび／または対応するノルボルネンにおいて 、基ＺまたはＶの少なくとも１個が、基−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ２−Ｒ１２を 表すことを特徴とする請求項５記載の用途。
7. ７．一般式（Ｉ）のノルボルナンおよび／または対応するノルボルネンにおいて 、Ｒ１２は水素または基Ｏ−Ｒ１１、とりわけ水素またはメトキシ基であり、置 換基Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０の少なくとも４個は水素原子で あることを特徴とする請求項６記載の用途。
8. ８．一般式（Ｉ）のノルボルナンおよび／または対応するノルボルネンを、製剤 全体に対して０．０１〜１０重量％の量、とりわけ０．５〜５重量％の量で使用 することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の用途。
9. ９．薬剤および化粧品の製剤は、日光遮蔽剤および日焼け止め製剤であることを 特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の用途。
10. １０．一般式（Ｉ）のノルボルナンおよび／または対応するノルボルネンを、通 常のＵＶフィルターと組み合わせて使用することを特徴とする請求項１〜９のい ずれかに記載の用途。
11. １１．ＵＶフィルターを、製剤全体に対して１〜１０重量％の量、とりわけ２〜 ６重量％の量で使用することを特徴とする請求項１０記載の用途。
12. １２．一般式（Ｉ）のノルボルナンおよび／または対応するノルボルネンを、抗 酸化剤と組み合わせて使用することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記 載の用途。
13. １３．抗酸化剤を、製剤全体に対して０．１〜５重重％の量、とりわけ０．５〜 ２重量％の量で使用することを特徴とする請求項１２記載の用途。