JPH054034A - 真空排気装置及びその方法 - Google Patents

真空排気装置及びその方法

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JPH054034A
JPH054034A JP18180591A JP18180591A JPH054034A JP H054034 A JPH054034 A JP H054034A JP 18180591 A JP18180591 A JP 18180591A JP 18180591 A JP18180591 A JP 18180591A JP H054034 A JPH054034 A JP H054034A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cryopanel
chamber
vacuum
cryopump
pump case
Prior art date
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Pending
Application number
JP18180591A
Other languages
English (en)
Inventor
Ikuhiro Mizumoto
郁宏 水元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Miyazaki Oki Electric Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Miyazaki Oki Electric Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 所要の高真空度を短時間で達成できる真空排
気装置および真空排気方法を提供する。 【構成】 第1クライオパネル1および第2クライオパ
ネル2の少なくとも一方をポンプケース6とチャンバ5
間を伸縮自在な構成にし、チャンバ5内の排気対象気体
をクライオパネル上に吸着またはトラップし、排気す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空排気装置に関し、
特に、半導体製造技術で使用されるプラズマCVD装
置、ドライエッチング装置等の高真空を要求される装置
に接続される真空排気装置および真空排気方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造技術においては、半導体ウエ
ハの表面に薄膜を形成するプラズマCVD装置や薄膜を
エッチングするドライエッチング装置等が使用されてい
る。これらの装置において、半導体ウエハを処理するチ
ャンバ(真空槽)はバルブを介して真空排気装置に接続
されている。上記真空排気装置としては、一つのチャン
バに対して、低レベル排気用のロータリーポンプ、メカ
ニカルブースターポンプ等の粗引きポンプと、高真空用
のポンプ、例えば、クライオポンプあるいはターボ分子
ポンプ等が使用されている。
【0003】図3は、真空排気系統の一例を示す図であ
る。この図に示すように、真空排気系統はチャンバ3
2、クライオポンプ31およびロータリーポンプ33か
ら構成されており、チャンバ32は、粗引きバルブ34
を介して粗引き用のロータリーポンプ33に接続される
とともに、本引きバルブ35を介して本引きポンプであ
るクライオポンプ31に連結されている。チャンバ32
内を高真空にするには、まず、ロータリーポンプ33を
用いて100〜200mmTorrまで粗引きした後、
クライオポンプ31に切り換えて本引きを行う。クライ
オポンプの真空引きの原理は、真空中で数十ケルビンま
で冷却されたクライオパネルにクライオポンプとチャン
バとの接続口を通過したチャンバ内の排気されるべき気
体分子を吸着あるいはトラップし、これによって、チャ
ンバ内から気体分子を排除するようにしたものである。
【0004】図4は、従来の真空排気装置におけるクラ
イオポンプ部の概略部分断面図である。このクライオポ
ンプは、上部にチャンバ45に接続するための接続口4
4を有する有底筒状のポンプケース43と、このポンプ
ケース43の底部に配設され、ポンプケース43の内部
を冷却する冷凍機48とからなっている。ポンプケース
43内には、コールドヘッド第1段46により冷却され
る第1クライオパネル41が設けられており、この第1
クライオパネル41の内側にはコールドヘッド第2段4
7によって前記第1クライオパネル41よりさらに低温
に保持される第2クライオパネル42が配設されてい
る。前記コールドヘッド第1段46、コールドヘッド第
2段47は、同軸上に配置されている。チャンバ45を
所要の高真空にするには、バルブ、例えばハイバックバ
ルブを開け、クライオポンプを作動させることにより、
チャンバ45内の気体分子を接続口44からクライオパ
ネル側に排出させる。第1クライオパネル41は主とし
て、水蒸気や炭酸ガスを吸着またはトラップし、第2ク
ライオパネルは酸素、窒素、アルゴン、水素、ヘリウ
ム、ネオン等を吸着またはトラップする。これらの作用
により、チャンバ45内の排気が行われる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
クライオポンプを用いた真空排気方法では、クライオポ
ンプとチャンバの接続口の大きさが一定、すなわちその
コンダクタンスが一定であるため、チャンバ内の分子が
狭い接続口を通過し、クライオパネルに到達するまでに
時間がかかってしまう。このため、所要の高真空度を達
成するには時間がかかりすぎるという問題があった。
【0006】本発明は、上記問題を解決し、短時間で所
要の高真空度を達成できる真空排気装置および真空排気
方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の真空排気装置は
上記問題点を解決するため、コールドヘッド第1段によ
り冷却される第1クライオパネルと、この第1クライオ
パネルの内側に設置され、コールドヘッド第2段によっ
て前記第1クライオパネルよりさらに低温に保持される
第2クライオパネルと、これらクライオパネルを収納す
るポンプケースと、このポンプケースの底部に配設さ
れ、前記ポンプケースの内部を冷却する冷凍機とからな
り、チャンバ内を高真空にするための真空排気装置にお
いて、前記ポンプケース内に収納された前記第1クライ
オパネルおよび第2クライオパネルのうち少なくとも一
方を、前記ポンプケース内と前記チャンバ内との間を伸
縮し得るように構成し、チャンバ内に伸びたこのクライ
オパネルの極低温冷却面に排気対象気体を吸着またはト
ラップすることによって前記チャンバ内の排気を行うよ
うにしたものである。また、本発明の真空排気方法は、
粗引き用ポンプを使ってチャンバ内を低真空にした後、
クライオポンプとチャンバを接続しているバルブを開
け、クライオパネルを前記チャンバ内に挿入し、このク
ライオパネルの極低温冷却面に排気対象気体を吸着また
はトラップさせることによりチャンバを高真空状態に導
いた後、前記クライオパネルをクライオポンプ内に戻す
ようにしている。
【0008】
【作用】本発明によれば、以上のように前記第1クライ
オパネルおよび第2クライオパネルのうち少なくとも一
方を前記ポンプケースからチャンバ内に伸ばせる構成と
したため、チャンバ内の排気すべき気体分子をチャンバ
内においてクライオパネル面にトラップすることが可能
になる。排気すべき気体分子をトラップしたクライオパ
ネルは真空排気装置内に戻され、チャンバ内を所要の高
真空度とすることができる。
【0009】
【実施例】図1および図2は、本発明の真空排気装置の
クライオポンプ部の概略部分断面図である。これらの図
において、1は第1クライオパネル、2は第2クライオ
パネル、3はクライオポンプ、4は接続口、5はチャン
バ、6はポンプケース、7は冷凍機である。前記第1ク
ライオパネル1および第2クライオパネル2の材料は、
銅、アルミニウム、ステンレス等である。クライオポン
プ3は、ポンプケース6内にコールドヘッド第1段(図
示せず)により冷却される第1クライオパネル1と、こ
の第1クライオパネル1の内側にコールドヘッド第2段
(図示せず)により前記第1クライオパネル1よりさら
に低温に保持される第2クライオパネル2を備えてい
る。このクライオポンプ3には、ポンプケース6の内部
を冷却する冷凍機7がその底部に配設されている。そし
て、クライオポンプ3は接続口4を介してチャンバ5に
接続されており、ハイバックバルブを開き前記クライオ
ポンプ3を動作させることによってチャンバ3の真空排
気がなされるようになっている。
【0010】第2クライオパネル2は径の異なる連続し
た円筒状パネルを同軸上に数枚重ねて構成されたもので
あり、図示していない駆動手段によって、ポンプケース
6内とチャンバ5内との間を伸縮できるようになってい
る。図1はこの第2クライオパネル2をチャンバ5内ま
で伸ばした状態を示す図であり、図2は第2クライオパ
ネル2を縮めポンプケース6内に戻した状態を示す図で
ある。
【0011】次に、本発明による真空排気方法を説明す
る。まず、粗引きバルブを開放し粗引き用のロータリー
ポンプを作動させ、チャンバ5内を100〜200To
rr程度の低真空とする。その後、本引き用のハイバッ
クバルブを開き前記クライオポンプ3を作動させて、チ
ャンバ内を所要の高真空(1×10-7Torr)にす
る。この際、第1クライオパネルは、その極低温冷却面
に主として水蒸気や炭酸ガスを吸着またはトラップし、
排気する。次に、図1に示されているように、ポンプケ
ース6内の第2クライオパネル2をチャンバ5とクライ
オポンプの接続口4を通してチャンバ5内まで伸ばして
動作させ、酸素、窒素、アルゴン、水素、ヘリウム、ネ
オン等を第2クライオパネル2の極低温冷却面に吸着ま
たはトラップし、排気する。このようにして、チャンバ
5内を高真空にした後、第2クライオパネル2をポンプ
ケース6内まで縮め、図2に示されている状態に戻す。
以上のように、第2クライオパネル2をポンプケース6
からチャンバ5内に伸ばす構造としては、例えば、図示
していない駆動手段によって最小径の円筒状パネルを持
ち上げ、この上昇に伴って、より大きな径の円筒状パネ
ルを引き上げるような機構が考えられる。
【0012】以上、本発明を実施例に基いて具体的に説
明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものでは
なく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能
であることはいうまでもない。
【0013】たとえば、上記実施例においては、第2ク
ライオパネルを伸縮自在な構成とした場合のみを示した
が、第1クライオパネルを伸縮自在な構成にしてもよい
し、第1クライオパネルおよび第2クライオパネルの両
方を伸縮自在な構成にしてもよい。しかしながら、クラ
イオパネルの極低温冷却面にトラップされるのに時間が
かかる酸素、窒素、アルゴン、水素、ヘリウム、ネオン
等の排気のための第2クライオパネルを伸縮自在な構成
にすれば、排気時間の短縮に大いに寄与できる。また、
ポンプケースからチャンバ内に伸縮可能なクライオパネ
ルの構造については、実施例に限定されない。
【0014】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
真空排気装置は、クライオパネルをチャンバ内に伸ばし
て、チャンバ内の排気対象気体をトラップし排気するよ
うにしたため、短時間で所要の高真空度が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の真空排気装置におけるクライオポンプ
部の概略部分断面図であり、クライオパネルをチャンバ
内に伸ばした状態を示す。
【図2】本発明の真空排気装置におけるクライオポンプ
部の概略部分断面図であり、クライオパネルをポンプケ
ース内に戻した状態を示す。
【図3】図3は、真空排気系統の一例を示す図である。
【図4】図4は、従来の真空排気装置におけるクライオ
ポンプ部の概略部分断面図である。
【符号の説明】
1 第1クライオパネル 2 第2クライオパネル 3 クライオポンプ 4 接続口 5 チャンバ 6 ポンプケース 7 冷凍機

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コールドヘッド第1段により冷却される
    第1クライオパネルと、この第1クライオパネルの内側
    に設置され、コールドヘッド第2段によって前記第1ク
    ライオパネルよりさらに低温に保持される第2クライオ
    パネルと、これらクライオパネルを収納するポンプケー
    スと、このポンプケースの底部に配設され、前記ポンプ
    ケースの内部を冷却する冷凍機とからなり、チャンバ内
    を高真空にするための真空排気装置において、前記ポン
    プケース内に収納された前記第1クライオパネルおよび
    第2クライオパネルのうち少なくとも一方を、前記ポン
    プケース内と前記チャンバ内との間を伸縮し得るように
    構成し、チャンバ内に伸びたこのクライオパネルの極低
    温冷却面に排気対象気体を吸着またはトラップすること
    によって前記チャンバ内の排気を行うようにしたことを
    特徴とする真空排気装置。
  2. 【請求項2】 チャンバ内の空気を粗引き用ポンプを用
    いて排気し低真空とした後、クライオポンプで引いて前
    記チャンバ内をより高真空にする真空排気方法におい
    て、粗引き用ポンプを用いてチャンバ内を低真空とした
    後、前記クライオポンプとチャンバを接続しているバル
    ブを開け、クライオパネルを前記チャンバ内に挿入し、
    このクライオパネルの極低温冷却面に排気対象気体を吸
    着またはトラップさせることによりチャンバ内を高真空
    状態に導いた後、前記クライオパネルをクライオポンプ
    内に戻すことを特徴とする真空排気方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013145640A1 (ja) * 2012-03-27 2013-10-03 パナソニック株式会社 真空チャンバーの減圧方法、真空装置、有機膜の形成方法、有機el素子の製造方法、有機el表示パネル、有機el表示装置、有機el発光装置および不純物検出方法

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