JPH0447180A - クライオポンプ - Google Patents

クライオポンプ

Info

Publication number
JPH0447180A
JPH0447180A JP15655790A JP15655790A JPH0447180A JP H0447180 A JPH0447180 A JP H0447180A JP 15655790 A JP15655790 A JP 15655790A JP 15655790 A JP15655790 A JP 15655790A JP H0447180 A JPH0447180 A JP H0447180A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
panel
argon
hydrogen adsorption
bottom wall
adsorption layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP15655790A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2551204B2 (ja
Inventor
Nobuaki Yagi
信昭 八木
Yukihiro Hamada
浜田 行弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to JP2156557A priority Critical patent/JP2551204B2/ja
Publication of JPH0447180A publication Critical patent/JPH0447180A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2551204B2 publication Critical patent/JP2551204B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体や磁気ディスク、光ディスク等の製造
部門で使用されるスパッタ装置の処理室を真空に引く場
合等に適し、主にアルゴンガスの排気に好適なりライオ
ポンプに関する。
(従来の技術) 従来、特開昭60−13992号公報等に開示され且つ
第3図に示すように、この種クライオポンプは、ヘリウ
ムを用いた気体膨張型の冷凍機本体(R)に、絶対温度
数十にレベルの第1ヒートステージ(X)と更にこれよ
り低温の第2ヒートステージ(Y)とを備え、第1ヒー
トステージ(X)に、第2ヒートステージ(Y)を覆い
、ガスの侵入部にバッフル(W)を備える第1パネル(
A)を、又、第2ヒートステージ(Y)に、裏面に活性
炭等の水素吸着層(H)を形成した複数の傘形パネル(
P)から成る第2パネル(B)を各々結合して、第1パ
ネル(A)でポンプケース(C)側等からの熱侵入を阻
止しながら、第2パネル(B)の表面にアルゴンガスを
凝縮させると共に裏面の水素吸着層(H)に水素を吸着
させ、処理室内を真空に引くようにしている。
(発明が解決しようとする課題) ところで、スパッタ装置等でアルゴンガスを使用し、使
用後のアルゴンガスを多量に排気するには、アルゴンガ
スと共に混在する水素ガス(主にカソード材料から放出
される水素ガス)を飽和させないように、該水素ガスを
同時に良好に排気する必要がある。上記従来構造のもの
は、第2パネル(B)を複数の傘形パネル(P)で構成
したことにより、第2パネル(B)を単に有底筒形のパ
ネルとしたものに比べて、アルゴンの付着面積及び水素
の吸着面積を共に広く確保でき、−見、アルゴンガスの
大量排気に適するように思える。
しかし、実際には、図示のように、アルゴン(a)の付
着が進行すると、各傘形パネル(P)の上下間の隙間が
閉塞され、内側に隠れる水素吸着層(H)を利用するこ
とができなくなり、実質的に最下端部の水素吸着層(H
)のみで水素の排気を行うことになり、このため、水素
の排気量が抑制され、これに伴い、アルゴンの排気量も
抑制される問題がある。
又、アルゴン(a)は、第2パネル(B)の上面で、温
度レベルの高い第1パネル(A)やバッフル(W)との
間の空間に堆積され、その堆積量を増大させるには、第
2パネル(B)を第1パネル(A)に対し小さくしたい
が、該第2パネル(B)を小型化すると、傘形パネル(
P)の間隔が狭くなり、更にこの小型化に伴う水素吸着
面積の縮小を補うため傘形パネル(P)の枚数を増やす
場合は一層その間隔が狭くなり、従って、アルゴン(a
)が堆積されると水素吸着層(H)は極めて容易に閉塞
されてしまい、第2パネル(B)の小型化つまり堆積空
間の拡大は困難で、アルゴンの排気量に限界が生じる問
題がある。尚、第2パネル(B)を小型化せずに第1パ
ネル(X)を大型化して堆積空間を拡大する場合は、装
置全体の大型化を招く問題がある。
従って、上記従来のように第2パネル(B)を傘形パネ
ル(P)で構成しても、該第2パネル(B)を単に有底
筒形のパネルとしたものと顕著な差異はなく、アルゴン
の積算排気量は、例えばガス侵入部の口径が300mm
程度の標準的ポンプで、たかだか2000SL;スタン
ダード・リッター(0℃、1気圧)が限界とされ、スパ
ッタ装置への適用には性能面で不十分となる問題がある
本発明では、第2パネルの構造を工夫することにより、
アルゴンの付着堆積により水素吸着面積が減少されるこ
とがなく、シかも、第2パネルの小型化を可能にしてア
ルゴンの堆積空間を拡大することができ、アルゴンの排
気量を増大できるクライオポンプを提供することを目的
とする。
(課題を解決するための手段) そこで、本発明では、上記目的を達成するため、冷凍機
本体(10)に第1及び第2ヒートステージ(1,2)
を備え、前記第1ヒートステージ(1)に、前記第2ヒ
ートステージ(2)を覆い、ガスの侵入部にバッフル(
4) をもつ第1パネル(5)を結合すると共に、前記
第2ヒートステージ(2)に、水素吸着層(7)をもつ
第2パネル(6)を結合したクライオポンプにおいて、
前記第2パネル(6)を、前記第2ヒートステージ(2
)に結合する底壁(61a)と該底壁の外周部から反バ
ッフル側に延びる筒壁(6t 1 b)とをもつ有底筒
形の外側パネル(61)と、この外側パネル(61)の
内側に放射状に配設され、前記底壁(61a)の背部か
ら前記筒壁(61し)の裾部にかけて延びる複数の放射
状板(62a)から成る内側パネル(62)とで構成し
、前記内側パネル(62)に前記水素吸着層(7)を形
成することにした。
又、上記構成で、外側パネル(61)を、筒壁(61 
b)の裾部に対し底壁(61a)に近い頂部の外径を小
さくすることにした。
(作用) 水素吸着層(7)は外側パネル(61)の裾部開口端を
介して第1パネル(5)の内部つまりガスの侵入経路に
開放されることになり、これにより、外側パネル(61
)の表面にアルゴンが多量に堆積しても、前記外側パネ
ル(61)の下部開口端を介して水素吸着層(7)に水
素を常時取り込ませることができ、水素の吸着を常時良
好に行えて、アルゴンの排気量を増加することができる
。又、第2パネル(6)を小型化しても、外側パネル(
61)の裾部開口端を介して水素吸着層(7)に水素を
取り込ませることができるため、この第2パネル(6)
の小型化が可能であり、この小型化により、第2パネル
(6)と第1パネル(5)又はバッフル(4)との間に
十分な堆積空間を確保することができ、アルゴンの堆積
量を増大できる。
又、外側パネル(61)を裾部に対し頂部の外径を小さ
くすることにより、アルゴンがその侵入経路上流に位置
する外側パネル(61)の頂部に偏って付着するのを回
避でき、アルゴンを外側パネル(61)の外周に筒状に
良好に付着させることができ、その堆積量を更に良好に
増大することができる。
(実施例) 第1図において、(10)はヘリウムを作動流体とする
気体膨張型の冷凍機本体であり、その第1冷却筒(11
)の端面に絶対温度40〜70に程度の第1ヒートステ
ージ(1)を、又、第2冷却箇(12)の端面に10〜
20に程度の第2ヒートステージ(2)を各々備えてい
る。(3)は筒形のポンプケースであり、上部に、スパ
ッタ装置の処理室に取付ける吸気口フランジ(8)を設
けている。
前記第1ヒートステージ(1)には、第2ヒートステー
ジ(2)を覆い、ガスの侵入部に複数のフィン(41)
を同心状に備えて成るバッフル(4)を取付けた有底筒
形の第1パネル(5)を結合し、前記ポンプケース(3
)や処理室側からの熱侵入を遮断又は低減するようにし
ている。
そして、前記第2ヒートステージ(2)に設ける第2パ
ネル(6)を、前記第2ヒートステージ(2)に結合す
る底壁(61a)と該底壁の外周部から反バッフル側に
延びる筒壁(61 b)とをもつ有底筒形の外側パネル
(61)と、この外側パネル(61)の内側に第2図に
示すように放射状に配設され、前記底壁(61a)の背
部から前記筒壁(61 b)の裾部にかけて延びる複数
の放射状板(62a)から成る内側パネル(62)とで
構成する。そして、前記内側パネル(62)を構成する
各放射状板(82a)に、活性炭を用いた水素吸着層(
7)を形成する。
以上の構成によれば、水素吸着層(7)は、外側パネル
(61)の裾部に位置する下部開口端を介して第1パネ
ル(5)の内部つまりガスの侵入経路に開放されること
になるため、外側パネル(61)の表面にアルゴン(a
)が多量に堆積しても、この外側パネル(61)の下部
開口端を介して水素吸着層(7)に水素を常時取り込ま
せることができ、従って、従来のような水素吸着層の閉
塞は無く、水素の吸着を常時良好に行えて、アルゴンの
排気量を増加できるのである。
又、外側パネル(61)の下部開口端を介して水素吸着
層(7)がガスの排気経路内に開放される構造となるか
ら、第2パネル(6)を小型化しても、更にこの小型化
に伴い水素吸着層(7)の面積縮小を補うべく放射状板
(E12a)の枚数を増やしたりしても、アルゴンの付
着堆積により水素吸着層(7)が閉塞されることがなく
、従って、この小型化が可能であり、この小型化により
、第2パネル(6)と第1パネル(5)又はバッフル(
4)との間に十分な堆積空間を確保することができて、
アルゴンの堆積量を増大できるのである。
又、以上の構成で、外側パネル(61)は、筒壁(61
 b)の裾部に対し底壁(61a)に近い頂部の外径を
小さくして、テーバ形状としているのであり、この構造
により、アルゴン(a)がその侵入経路上流に位置する
外側パネル(61)の頂部に偏って付着してトップヘビ
ーな状態となるのを回避でき、該アルゴン(a)を外側
パネル(61)の外周に筒状に良好に付着させることが
でき、全体として、堆積量を更に良好に増大できるので
ある。
因に、以上説明した構造のものでその口径が約300m
m程度のものでは、積算のアルゴン排気容量を4000
〜4500SLとほぼ従来の2倍程度に増加できるに至
った。
(発明の効果) 以上のように、本発明によれば、第2パネル(6)を、
第2ヒートステージ(2)に結合する底壁(61a)と
該底壁の外周部から反バックル側に延びる筒壁(61b
)とをもつ有底筒形の外側パネル(61)と、この外側
パネル(61)の内側に放射状に配設され、前記底壁(
61a)の背部から前記筒壁C61 b)の裾部にかけ
て延びる複数の放射状板(62a)から成る内側パネル
(62)とで構成し、前記内側パネル(62)に水素吸
着層(7)を形成したから、アルゴンの付着堆積により
前記水素吸着層(7)が閉塞される事態を回避できると
共に、第2パネル(6)の小型化によるアルゴンの堆積
空間の拡大が可能となり、アルゴンの排気量を増大する
ことができ、スパッタ装置用等のアルゴン大排気用ポン
プとして好適なものとなるのである。
この場合、前記外側パネル(61)を、筒壁(61b)
の裾部に対し底壁(61 a)に近い頂部の外径を小さ
くすれば、アルゴンがその侵入経路上流に位置する外側
パネル(61)の頂部に偏って付着するのを回避でき、
アルゴンを外側パネル(61)の外周に筒状に良好に付
着させることができて、その堆積量を更に良好に増大す
ることができるのである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るタライオポンプの要部断面図、第
2図は同第2パネルの底面図、第3図は従来例の断面図
である。 (1)・・・・第2ヒートステージ (2)・・・・第2ヒートステージ (4)・・・・バッフル (5)・・・・第1パネル (6)・・・・第2パネル (7)・・・・水素吸着層 (工0)・・・・冷凍機本体 (61)・・・・外側パネル (62)・・・・内側パネル (61 a)・・・・底壁 (61b)・・・・筒壁 (E32 a)・・・・放射状板 箱 1図 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)冷凍機本体(10)に第1及び第2ヒートステー
    ジ(1,2)を備え、前記第1ヒートステージ(1)に
    、前記第2ヒートステージ(2)を覆い、ガスの侵入部
    にバッフル(4)をもつ第1パネル(5)を結合すると
    共に、前記第2ヒートステージ(2)に、水素吸着層(
    7)をもつ第2パネル(6)を結合したクライオポンプ
    において、前記第2パネル(6)を、前記第2ヒートス
    テージ(2)に結合する底壁(61a)と該底壁の外周
    部から反バッフル側に延びる筒壁(61b)とをもつ有
    底筒形の外側パネル(61)と、この外側パネル(61
    )の内側に放射状に配設され、前記底壁(61a)の背
    部から前記筒壁(61b)の裾部にかけて延びる複数の
    放射状板(62a)から成る内側パネル(62)とで構
    成し、前記内側パネル(62)に前記水素吸着層(7)
    を形成したことを特徴とするクライオポンプ。
  2. (2)外側パネル(61)を、筒壁(61b)の裾部に
    対し底壁(61a)に近い頂部の外径を小さくしている
    請求項1記載のクライオポンプ。
JP2156557A 1990-06-14 1990-06-14 クライオポンプ Expired - Fee Related JP2551204B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2156557A JP2551204B2 (ja) 1990-06-14 1990-06-14 クライオポンプ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2156557A JP2551204B2 (ja) 1990-06-14 1990-06-14 クライオポンプ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0447180A true JPH0447180A (ja) 1992-02-17
JP2551204B2 JP2551204B2 (ja) 1996-11-06

Family

ID=15630401

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2156557A Expired - Fee Related JP2551204B2 (ja) 1990-06-14 1990-06-14 クライオポンプ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2551204B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5301511A (en) * 1992-06-12 1994-04-12 Helix Technology Corporation Cryopump and cryopanel having frost concentrating device

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6057782B2 (ja) 2013-03-05 2017-01-11 住友重機械工業株式会社 クライオポンプ
JP6338403B2 (ja) * 2013-03-25 2018-06-06 住友重機械工業株式会社 クライオポンプ及び真空排気方法
JP6857046B2 (ja) 2016-03-29 2021-04-14 住友重機械工業株式会社 クライオポンプ

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5543398A (en) * 1978-09-18 1980-03-27 Varian Associates Low temperature device for limiting emission speed of selected gas
JPS6035190A (ja) * 1983-05-13 1985-02-22 ヘリツクス テクノロジー コーポレーシヨン クライオポンプ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5543398A (en) * 1978-09-18 1980-03-27 Varian Associates Low temperature device for limiting emission speed of selected gas
JPS6035190A (ja) * 1983-05-13 1985-02-22 ヘリツクス テクノロジー コーポレーシヨン クライオポンプ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5301511A (en) * 1992-06-12 1994-04-12 Helix Technology Corporation Cryopump and cryopanel having frost concentrating device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2551204B2 (ja) 1996-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6299746B1 (en) Getter system for purifying the confinement volume in process chambers
US5855118A (en) Combination cryopump/getter pump and method for regenerating same
JP5184995B2 (ja) クライオポンプ
JP5552693B2 (ja) クライオポンプルーバ拡張部
US5772404A (en) Compact getter pump with nested thermally insulating shields
JPH0864578A (ja) 半導体製造装置及び半導体製造装置のクリーニング方法
WO1997035652A9 (en) Combination cryopump/getter pump and method for regenerating same
JP6338403B2 (ja) クライオポンプ及び真空排気方法
JPH0447180A (ja) クライオポンプ
JPS58117372A (ja) クライオポンプとバルグゲッタポンプを組合わせた超高真空ポンプ
JPS60262969A (ja) スパツタタ−ゲツト装置
JPH05149443A (ja) 磁性流体シール装置
JPH0328377A (ja) 半導体製造装置
JP2002231783A (ja) 半導体製造装置
JP3419414B2 (ja) スパッタリング装置の排気機構
JPH04103885A (ja) クライオポンプにおけるクライオパネル
JP4521607B2 (ja) エクスターナル・カソード電極搭載型スパッタ装置
JPS62161971A (ja) 真空装置
JPH06112165A (ja) プラズマ処理装置
JPS63237528A (ja) 半導体製造装置
JP2579588Y2 (ja) スパッタリング装置
CA2254515A1 (en) Getter system for purifying the work atmosphere in the processes of physical vapor deposition
JPH05112870A (ja) 縦型減圧cvd装置
KR19980032349A (ko) 크라이오 펌프를 사용한 스퍼터링장치의 동작방법 및 그 장치
JP2000279792A (ja) 真空ロードロック機構

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080822

Year of fee payment: 12

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080822

Year of fee payment: 12

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080822

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090822

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees