JPH06341375A - 低温トラップ - Google Patents
低温トラップInfo
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- JPH06341375A JPH06341375A JP15800393A JP15800393A JPH06341375A JP H06341375 A JPH06341375 A JP H06341375A JP 15800393 A JP15800393 A JP 15800393A JP 15800393 A JP15800393 A JP 15800393A JP H06341375 A JPH06341375 A JP H06341375A
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- Japan
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- vacuum device
- temperature
- low temperature
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Abstract
(57)【要約】
[目的] 真空バルブを使用しないで所要の作業を効率
よく行えるように低温トラップを真空装置に取り付ける
ことを目的とする。 [構成] 低温トラップ21のトラップ面22を小型ヘ
リウム冷凍機23の1段ステージ23aで直接冷却され
るように取り付けることにより、常にトラップ面22を
冷却し、トラップ面22の温度は真空装置20内が大気
圧になっても水を排気できる温度を維持できるように、
又は、真空装置20内が大気圧から再び所定の圧力に排
気されるまでの間に水を排気できる温度に到達できるよ
うに低温トラップ21のトラップ面22の面積を調節す
る。
よく行えるように低温トラップを真空装置に取り付ける
ことを目的とする。 [構成] 低温トラップ21のトラップ面22を小型ヘ
リウム冷凍機23の1段ステージ23aで直接冷却され
るように取り付けることにより、常にトラップ面22を
冷却し、トラップ面22の温度は真空装置20内が大気
圧になっても水を排気できる温度を維持できるように、
又は、真空装置20内が大気圧から再び所定の圧力に排
気されるまでの間に水を排気できる温度に到達できるよ
うに低温トラップ21のトラップ面22の面積を調節す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は低温トラップに関し、特
に小型ヘリウム冷凍機を用いた低温トラップに関する。
に小型ヘリウム冷凍機を用いた低温トラップに関する。
【0002】
【従来の技術】真空装置内では大気圧からロータリーポ
ンプ等の粗引きポンプで粗引きし、その後、拡散ポンプ
やターボ分子ポンプ等の高真空排気ポンプで所定の圧力
まで排気した後に蒸着、或はスパッタリング等の処理が
行われるが、高真空排気ポンプである拡散ポンプやター
ボ分子ポンプは水に対する排気速度が小さいので、真空
装置内を大気圧から所定の圧力まで排気するのに、低温
トラップを用いて水を凝縮排気することで、水に対する
排気速度を改善し生産性を向上させている。このような
低温トラップにはG−M(ギフォード・マクマホン)サ
イクル、ソルベイサイクル又はスターリング冷凍サイク
ル等の小型ヘリウム冷凍機を使用した低温トラップ、液
体窒素を冷媒として使用した低温トラップ又はフレオン
系の冷媒を使用した低温トラップが一般的に知られてい
る。
ンプ等の粗引きポンプで粗引きし、その後、拡散ポンプ
やターボ分子ポンプ等の高真空排気ポンプで所定の圧力
まで排気した後に蒸着、或はスパッタリング等の処理が
行われるが、高真空排気ポンプである拡散ポンプやター
ボ分子ポンプは水に対する排気速度が小さいので、真空
装置内を大気圧から所定の圧力まで排気するのに、低温
トラップを用いて水を凝縮排気することで、水に対する
排気速度を改善し生産性を向上させている。このような
低温トラップにはG−M(ギフォード・マクマホン)サ
イクル、ソルベイサイクル又はスターリング冷凍サイク
ル等の小型ヘリウム冷凍機を使用した低温トラップ、液
体窒素を冷媒として使用した低温トラップ又はフレオン
系の冷媒を使用した低温トラップが一般的に知られてい
る。
【0003】図6、図7及び図8は真空装置1と小型ヘ
リウム冷凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ2と
の構成が示されている。図6は真空装置1の真空排気系
として拡散ポンプ4を用いた場合で、真空装置1と拡散
ポンプ4との間に小型ヘリウム冷凍機又は液体窒素を使
用した低温トラップ2が真空装置1側で真空バルブ3を
介して接続される。図7は真空装置1の真空排気系とし
てターボ分子ポンプ5を用いた場合で、図6と同様、真
空装置1とターボ分子ポンプ5との間に小型ヘリウム冷
凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ2が真空装置
1側で真空バルブ3を介して接続される。ここで用いら
れている低温トラップ2はG−M(ギフォード・マクマ
ホン)サイクル、ソルベイサイクル、スターリング冷凍
サイクル等の小型ヘリウム冷凍機を使用したもの、或
は、液体窒素を冷媒として使用したものであるが、これ
らのいずれを使用した場合でも水を排気することのでき
る温度に冷却、又は室温付近までの昇温に時間がかかる
ため、低温トラップ2は図6及び図7で示されるように
真空装置1との間に真空バルブ3が設けられ、真空装置
1内が大気圧になる時には真空バルブ3を閉じて低温ト
ラップ2内を真空に保ち、気体の熱伝導により昇温され
ないようにしている。又、図8は小型ヘリウム冷凍機又
は液体窒素を使用した低温トラップ2が真空排気系とは
独立して接続される場合を示しており、真空装置1には
真空バルブ6を介して拡散ポンプ4が接続され、粗引き
用ポンプとしてロータリーポンプ7が接続される。小型
ヘリウム冷凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ2
は真空バルブ3を介して真空排気系とは独立して真空装
置1に接続されるが、真空装置1と真空排気系の間に低
温トラップ2が接続される場合と同様に、低温トラップ
2は水を排気することのできる温度に冷却、又は室温付
近までの昇温に時間がかかるため、やはり、真空装置1
との間に真空バルブ3が設けられ、真空装置1内が大気
圧になる時には真空バルブ3を閉じて低温トラップ2内
を真空に保ち、気体の熱伝導により昇温されないように
している。即ち、小型ヘリウム冷凍機又は液体窒素を使
用した低温トラップ2は、再生操作以外の時は常に真空
断熱状態におかれる。
リウム冷凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ2と
の構成が示されている。図6は真空装置1の真空排気系
として拡散ポンプ4を用いた場合で、真空装置1と拡散
ポンプ4との間に小型ヘリウム冷凍機又は液体窒素を使
用した低温トラップ2が真空装置1側で真空バルブ3を
介して接続される。図7は真空装置1の真空排気系とし
てターボ分子ポンプ5を用いた場合で、図6と同様、真
空装置1とターボ分子ポンプ5との間に小型ヘリウム冷
凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ2が真空装置
1側で真空バルブ3を介して接続される。ここで用いら
れている低温トラップ2はG−M(ギフォード・マクマ
ホン)サイクル、ソルベイサイクル、スターリング冷凍
サイクル等の小型ヘリウム冷凍機を使用したもの、或
は、液体窒素を冷媒として使用したものであるが、これ
らのいずれを使用した場合でも水を排気することのでき
る温度に冷却、又は室温付近までの昇温に時間がかかる
ため、低温トラップ2は図6及び図7で示されるように
真空装置1との間に真空バルブ3が設けられ、真空装置
1内が大気圧になる時には真空バルブ3を閉じて低温ト
ラップ2内を真空に保ち、気体の熱伝導により昇温され
ないようにしている。又、図8は小型ヘリウム冷凍機又
は液体窒素を使用した低温トラップ2が真空排気系とは
独立して接続される場合を示しており、真空装置1には
真空バルブ6を介して拡散ポンプ4が接続され、粗引き
用ポンプとしてロータリーポンプ7が接続される。小型
ヘリウム冷凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ2
は真空バルブ3を介して真空排気系とは独立して真空装
置1に接続されるが、真空装置1と真空排気系の間に低
温トラップ2が接続される場合と同様に、低温トラップ
2は水を排気することのできる温度に冷却、又は室温付
近までの昇温に時間がかかるため、やはり、真空装置1
との間に真空バルブ3が設けられ、真空装置1内が大気
圧になる時には真空バルブ3を閉じて低温トラップ2内
を真空に保ち、気体の熱伝導により昇温されないように
している。即ち、小型ヘリウム冷凍機又は液体窒素を使
用した低温トラップ2は、再生操作以外の時は常に真空
断熱状態におかれる。
【0004】一方、図9にはフレオン系の冷媒を使用し
た低温トラップ11が示されているが、このフレオン系
の冷媒を使用した低温トラップ11は室温から低温(−
130℃程度)までの冷却、又は冷却された温度から室
温付近まで昇温する時間が短いため、上述した小型ヘリ
ウム冷凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ2で用
いられる真空バルブ3を必要とせず、低温トラップ11
のトラップ面11aは、直接、真空装置10内に配設さ
れ、真空装置10外のフレオン冷凍機13とは配管12
を介して接続される。この場合の低温トラップ11のト
ラップ面11aは冷媒の通る配管12を螺旋状に延長し
たパイプ形状である場合が多い。又、フレオン冷凍機1
3とトラップ面11aとの間を低温の冷媒が図9の矢印
で示されるように流れるので、途中の配管12は断熱構
造となっている。この低温トラップ11の運転は真空装
置10内が大気圧になるときには低温トラップ11を室
温まで昇温させ、真空装置10内の真空排気を開始する
時にトラップの冷却を開始するというサイクルで行われ
る。
た低温トラップ11が示されているが、このフレオン系
の冷媒を使用した低温トラップ11は室温から低温(−
130℃程度)までの冷却、又は冷却された温度から室
温付近まで昇温する時間が短いため、上述した小型ヘリ
ウム冷凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ2で用
いられる真空バルブ3を必要とせず、低温トラップ11
のトラップ面11aは、直接、真空装置10内に配設さ
れ、真空装置10外のフレオン冷凍機13とは配管12
を介して接続される。この場合の低温トラップ11のト
ラップ面11aは冷媒の通る配管12を螺旋状に延長し
たパイプ形状である場合が多い。又、フレオン冷凍機1
3とトラップ面11aとの間を低温の冷媒が図9の矢印
で示されるように流れるので、途中の配管12は断熱構
造となっている。この低温トラップ11の運転は真空装
置10内が大気圧になるときには低温トラップ11を室
温まで昇温させ、真空装置10内の真空排気を開始する
時にトラップの冷却を開始するというサイクルで行われ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、小
型ヘリウム冷凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ
2を用いた場合、低温トラップ2と真空装置1との間に
は真空バルブ3が必要であるが、真空バルブ3は高価な
のでコストアップの原因となる。又、真空バルブ3を使
用すると、真空装置1の設計は複雑になり、更に、真空
装置1内で大気、真空と切り替わる度に真空バルブ3の
開閉の操作が必要なので、その操作は煩雑である。
型ヘリウム冷凍機又は液体窒素を使用した低温トラップ
2を用いた場合、低温トラップ2と真空装置1との間に
は真空バルブ3が必要であるが、真空バルブ3は高価な
のでコストアップの原因となる。又、真空バルブ3を使
用すると、真空装置1の設計は複雑になり、更に、真空
装置1内で大気、真空と切り替わる度に真空バルブ3の
開閉の操作が必要なので、その操作は煩雑である。
【0006】一方、フレオン冷凍機13を使用した低温
トラップ11を用いた場合、真空バルブを用いる必要は
ないが、フレオン冷凍機13から低温の冷媒を搬送する
ための配管を断熱構造にする必要があり、配管の長さが
長くなりすぎると冷却能力が低下し、設置上の制約とな
ることがある。又、フレオンやそれに属する冷媒は、オ
ゾン層破壊防止のため今後はその使用が制限されたり、
或は、禁止されるであろう。
トラップ11を用いた場合、真空バルブを用いる必要は
ないが、フレオン冷凍機13から低温の冷媒を搬送する
ための配管を断熱構造にする必要があり、配管の長さが
長くなりすぎると冷却能力が低下し、設置上の制約とな
ることがある。又、フレオンやそれに属する冷媒は、オ
ゾン層破壊防止のため今後はその使用が制限されたり、
或は、禁止されるであろう。
【0007】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、真空
バルブを使用せず、又、フレオン系の冷媒を使用しない
低温トラップを提供することを目的とする。
バルブを使用せず、又、フレオン系の冷媒を使用しない
低温トラップを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】以上の目的は、トラップ
本体と該トラップ本体を冷却する冷凍機とから成り、真
空装置に接続された低温トラップにおいて、前記トラッ
プ本体のトラップ面は直接、前記真空装置内に面するよ
うに配設され、前記冷凍機は常時運転され前記トラップ
本体を直接冷却するように取り付け、前記真空装置内の
圧力が大気圧に昇圧しても前記トラップ面の温度は、前
記真空装置が作業時に必要とする圧力での液体飽和蒸気
圧に対応する温度に、前記真空装置が減圧される途中で
達するような温度より高く昇温しないように、該トラッ
プ面の面積又は前記冷凍機の能力が調節されていること
を特徴とする低温トラップによって達成される。
本体と該トラップ本体を冷却する冷凍機とから成り、真
空装置に接続された低温トラップにおいて、前記トラッ
プ本体のトラップ面は直接、前記真空装置内に面するよ
うに配設され、前記冷凍機は常時運転され前記トラップ
本体を直接冷却するように取り付け、前記真空装置内の
圧力が大気圧に昇圧しても前記トラップ面の温度は、前
記真空装置が作業時に必要とする圧力での液体飽和蒸気
圧に対応する温度に、前記真空装置が減圧される途中で
達するような温度より高く昇温しないように、該トラッ
プ面の面積又は前記冷凍機の能力が調節されていること
を特徴とする低温トラップによって達成される。
【0009】
【作用】低温トラップのトラップ面は冷凍機により直接
冷却され、真空装置内が大気圧になっても冷凍機の運転
を止めることなく常時トラップ面を冷却し続け、真空装
置内が大気圧に昇圧した場合に、トラップ面の温度は真
空装置内での作業時に必要とする圧力以下の飽和蒸気圧
に対応する温度より低い温度となるようにしたので、真
空バルブや断熱配管が不要となりコストを大幅に低下さ
せることができる。
冷却され、真空装置内が大気圧になっても冷凍機の運転
を止めることなく常時トラップ面を冷却し続け、真空装
置内が大気圧に昇圧した場合に、トラップ面の温度は真
空装置内での作業時に必要とする圧力以下の飽和蒸気圧
に対応する温度より低い温度となるようにしたので、真
空バルブや断熱配管が不要となりコストを大幅に低下さ
せることができる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例による低温トラップに
ついて図を参照して説明する。
ついて図を参照して説明する。
【0011】図1には真空装置20と低温トラップ21
との構成が示されている。低温トラップ21は小型ヘリ
ウム冷凍機23を使用しており、この小型ヘリウム冷凍
機23の1段ステージ23aに直接、トラップ面22が
取り付けられている。小型ヘリウム冷凍機23の1段ス
テージ23aとそれに直接取り付けられたトラップ面2
2とは図に示すように真空バルブを用いることなく真空
装置20内に直接挿入されて配設される。小型ヘリウム
冷凍機23はヘリウムライン24を介してコンプレッサ
ー25と接続され、図1の矢印に示すようにヘリウムは
流れる。真空装置20の真空排気系としては、拡散ポン
プ又はターボ分子ポンプ等の本引き用の真空排気ポンプ
26が真空バルブ28aにより真空装置20と接続さ
れ、粗引き用のロータリーポンプ27が真空装置20及
び本引き用の真空ポンプ26とそれぞれ真空バルブ28
b、28cを介して接続されている。
との構成が示されている。低温トラップ21は小型ヘリ
ウム冷凍機23を使用しており、この小型ヘリウム冷凍
機23の1段ステージ23aに直接、トラップ面22が
取り付けられている。小型ヘリウム冷凍機23の1段ス
テージ23aとそれに直接取り付けられたトラップ面2
2とは図に示すように真空バルブを用いることなく真空
装置20内に直接挿入されて配設される。小型ヘリウム
冷凍機23はヘリウムライン24を介してコンプレッサ
ー25と接続され、図1の矢印に示すようにヘリウムは
流れる。真空装置20の真空排気系としては、拡散ポン
プ又はターボ分子ポンプ等の本引き用の真空排気ポンプ
26が真空バルブ28aにより真空装置20と接続さ
れ、粗引き用のロータリーポンプ27が真空装置20及
び本引き用の真空ポンプ26とそれぞれ真空バルブ28
b、28cを介して接続されている。
【0012】本実施例による真空装置20と低温トラッ
プ21とは以上のように構成されるのであるが、次にこ
の作用について説明する。
プ21とは以上のように構成されるのであるが、次にこ
の作用について説明する。
【0013】真空装置20の運転サイクルについて図2
を参照して説明すると、処理過程Aでは真空装置20内
で処理、例えば、蒸着やスパッタリング等が行われる。
真空装置20内での処理が終了した後、昇圧過程Bでは
真空装置20内に窒素ガスや空気を導入して大気圧まで
昇圧し、大気圧過程Cでは真空装置20内が大気圧にな
っているので処理過程Aで処理された被処理物の交換が
行われる。粗引き過程Dでは再び次の処理を行うために
真空装置20内を本引き作動圧までロータリーポンプ2
7により排気し、作動圧に至ると本引き過程Eで本引き
用の真空排気ポンプ26、例えば、拡散ポンプ、又はタ
ーボ分子ポンプ等により真空装置20内での処理に必要
な圧力、例えば、本実施例では1×10-4Torrまで
排気する。本引きが終了すると再び処理過程Aとなり、
蒸着やスパッタリング等の処理が繰り返される。
を参照して説明すると、処理過程Aでは真空装置20内
で処理、例えば、蒸着やスパッタリング等が行われる。
真空装置20内での処理が終了した後、昇圧過程Bでは
真空装置20内に窒素ガスや空気を導入して大気圧まで
昇圧し、大気圧過程Cでは真空装置20内が大気圧にな
っているので処理過程Aで処理された被処理物の交換が
行われる。粗引き過程Dでは再び次の処理を行うために
真空装置20内を本引き作動圧までロータリーポンプ2
7により排気し、作動圧に至ると本引き過程Eで本引き
用の真空排気ポンプ26、例えば、拡散ポンプ、又はタ
ーボ分子ポンプ等により真空装置20内での処理に必要
な圧力、例えば、本実施例では1×10-4Torrまで
排気する。本引きが終了すると再び処理過程Aとなり、
蒸着やスパッタリング等の処理が繰り返される。
【0014】低温トラップ21は水に対する排気速度を
向上させるためのもので、上述した真空装置20の運転
サイクルの処理過程Aにおいてその温度は最低温度とな
り、蒸着やスパッタリング等の処理が行われている間に
放出ガスとして発生する水分子を低温トラップ21のト
ラップ面22に凝縮させて排気する。本実施例では、図
2で示されるように処理過程Aでの圧力は1×10-4T
orrであり、この場合、水の蒸気圧が1×10-4To
rrとなる温度は約180K以下が必要とされる。ここ
で、低温トラップ22の小型ヘリウム冷凍機23が図4
に示されるような冷凍能力特性を持つ場合、図によれば
真空装置20内が大気圧の時でも小型ヘリウム冷凍機2
3への熱負荷が18W以下であれば、小型ヘリウム冷凍
機23の温度は180K以下となるので、低温トラップ
21のトラップ面22の熱負荷が18W以下になるよう
にトラップ面22の面積を調節して、小型ヘリウム冷凍
機23の温度が180K以下となるようにしている。即
ち、真空装置20内が大気圧になっても低温トラップ2
1のトラップ面22の面積を調節することにより小型ヘ
リウム冷凍機23の温度は180K以下となり、これに
直接冷却されるトラップ面22は真空装置20内が大気
圧でも180K以下に冷却され、真空装置20での各過
程においては図3の曲線Xで示されるような温度変化と
なり、水はトラップ面22に凝縮されて1×10-4To
rrの蒸気圧まで排気することができる。従って、この
ときの水を排気できる温度をT1 とすれば、トラップ面
22の温度は常にT1 以下の温度となるようにトラップ
面22の面積を調節しているので、どの過程においても
水を1×10-4Torr以下の圧力まで排気することが
できる。
向上させるためのもので、上述した真空装置20の運転
サイクルの処理過程Aにおいてその温度は最低温度とな
り、蒸着やスパッタリング等の処理が行われている間に
放出ガスとして発生する水分子を低温トラップ21のト
ラップ面22に凝縮させて排気する。本実施例では、図
2で示されるように処理過程Aでの圧力は1×10-4T
orrであり、この場合、水の蒸気圧が1×10-4To
rrとなる温度は約180K以下が必要とされる。ここ
で、低温トラップ22の小型ヘリウム冷凍機23が図4
に示されるような冷凍能力特性を持つ場合、図によれば
真空装置20内が大気圧の時でも小型ヘリウム冷凍機2
3への熱負荷が18W以下であれば、小型ヘリウム冷凍
機23の温度は180K以下となるので、低温トラップ
21のトラップ面22の熱負荷が18W以下になるよう
にトラップ面22の面積を調節して、小型ヘリウム冷凍
機23の温度が180K以下となるようにしている。即
ち、真空装置20内が大気圧になっても低温トラップ2
1のトラップ面22の面積を調節することにより小型ヘ
リウム冷凍機23の温度は180K以下となり、これに
直接冷却されるトラップ面22は真空装置20内が大気
圧でも180K以下に冷却され、真空装置20での各過
程においては図3の曲線Xで示されるような温度変化と
なり、水はトラップ面22に凝縮されて1×10-4To
rrの蒸気圧まで排気することができる。従って、この
ときの水を排気できる温度をT1 とすれば、トラップ面
22の温度は常にT1 以下の温度となるようにトラップ
面22の面積を調節しているので、どの過程においても
水を1×10-4Torr以下の圧力まで排気することが
できる。
【0015】又、本実施例において低温トラップ21の
トラップ面22は処理過程Aで180K以下の温度に冷
却されればよいので、粗引き過程D及び本引き過程Eに
要する時間をtとすると、図3で示されるように低温ト
ラップ21の温度が大気圧過程Cで180K以上の温度
であっても、時間tの間に180K以下の温度となれば
よいので、例えば、大気圧過程Cでトラップ面22の温
度が200Kである場合、真空装置20での各過程にお
いては図3の曲線Yで示されるような温度変化となり、
処理過程Aに到達する時にはその温度は180K以下と
なっている。従って、このときの水を排気できる温度を
T1 とし、粗引き過程D及び本引き過程Eに要する時間
t内にT1 以下の温度に冷却することのできる温度をT
2 とすれば、大気圧過程Cでのトラップ面22の温度は
T1 とT2 との間の温度になるようにトラップ面22の
面積を調節するので、処理過程Aに至った時には水を排
気することができる温度以下に冷却されている。
トラップ面22は処理過程Aで180K以下の温度に冷
却されればよいので、粗引き過程D及び本引き過程Eに
要する時間をtとすると、図3で示されるように低温ト
ラップ21の温度が大気圧過程Cで180K以上の温度
であっても、時間tの間に180K以下の温度となれば
よいので、例えば、大気圧過程Cでトラップ面22の温
度が200Kである場合、真空装置20での各過程にお
いては図3の曲線Yで示されるような温度変化となり、
処理過程Aに到達する時にはその温度は180K以下と
なっている。従って、このときの水を排気できる温度を
T1 とし、粗引き過程D及び本引き過程Eに要する時間
t内にT1 以下の温度に冷却することのできる温度をT
2 とすれば、大気圧過程Cでのトラップ面22の温度は
T1 とT2 との間の温度になるようにトラップ面22の
面積を調節するので、処理過程Aに至った時には水を排
気することができる温度以下に冷却されている。
【0016】以上述べたように、小型ヘリウム冷凍機2
3を使用した低温トラップ21のトラップ面22を真空
装置20内に直接取り付けたことにより、真空装置20
及び真空装置20内の被処理物から放出される水を凝縮
して排除するのに、低温トラップを使用しないで真空排
気した場合に比べ真空装置20内を早く必要とする圧力
に到達させることができる。又、低温トラップ21の温
度は真空装置20内の圧力に係らず、水を凝縮排気でき
る温度、又は水を凝縮排気できる温度に短時間で到達す
るような温度に設定されているので、他の低温トラップ
を使用する場合より早く必要とされる圧力に到達させる
ことができる。
3を使用した低温トラップ21のトラップ面22を真空
装置20内に直接取り付けたことにより、真空装置20
及び真空装置20内の被処理物から放出される水を凝縮
して排除するのに、低温トラップを使用しないで真空排
気した場合に比べ真空装置20内を早く必要とする圧力
に到達させることができる。又、低温トラップ21の温
度は真空装置20内の圧力に係らず、水を凝縮排気でき
る温度、又は水を凝縮排気できる温度に短時間で到達す
るような温度に設定されているので、他の低温トラップ
を使用する場合より早く必要とされる圧力に到達させる
ことができる。
【0017】このように低温トラップ21は、大気圧で
も水を排気できる温度を維持しており、又は、大気圧か
ら蒸着又はスパッタリング等の処理を行うのに必要とす
る圧力に到達するまでの間に水を排気できる温度に冷却
することができるので、真空バルブを用いて真空装置2
0から遮断する必要がなく、真空バルブ分のコストを削
減することができる。又、従来のフレオン系の冷媒を用
いた冷凍機を使用した場合、低温トラップの冷却や昇温
に時間がかからないため大気圧になる度に低温トラップ
を室温に戻していたが、本実施例の小型ヘリウム冷凍機
23を用いた低温トラップ21は常に作動しているた
め、真空装置20内の圧力に係らず水を排気しており、
フレオン系の冷凍機よりも早く所定の圧力に到達するこ
とができる。更に、フレオン系の冷凍機で問題となって
いる環境問題が起こらないので、その使用に当たっての
制限がない。又、フレオン系の冷凍機のように断熱真空
配管の必要がなく、取り付け方法にも自由度がある。
も水を排気できる温度を維持しており、又は、大気圧か
ら蒸着又はスパッタリング等の処理を行うのに必要とす
る圧力に到達するまでの間に水を排気できる温度に冷却
することができるので、真空バルブを用いて真空装置2
0から遮断する必要がなく、真空バルブ分のコストを削
減することができる。又、従来のフレオン系の冷媒を用
いた冷凍機を使用した場合、低温トラップの冷却や昇温
に時間がかからないため大気圧になる度に低温トラップ
を室温に戻していたが、本実施例の小型ヘリウム冷凍機
23を用いた低温トラップ21は常に作動しているた
め、真空装置20内の圧力に係らず水を排気しており、
フレオン系の冷凍機よりも早く所定の圧力に到達するこ
とができる。更に、フレオン系の冷凍機で問題となって
いる環境問題が起こらないので、その使用に当たっての
制限がない。又、フレオン系の冷凍機のように断熱真空
配管の必要がなく、取り付け方法にも自由度がある。
【0018】以上、本発明の低温トラップの実施例につ
いて説明したが、勿論、本発明はこれに限定されること
なく本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能で
ある。
いて説明したが、勿論、本発明はこれに限定されること
なく本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能で
ある。
【0019】例えば、本実施例のように小型ヘリウム冷
凍機23の1段ステージ23aに直接、トラップ面22
を取り付けて真空装置20内に挿入するようにしたが、
図5に示されるように、低温トラップ30のトラップ面
31を平面形状とし、トラップ面31のみを真空装置2
0内に露出させるようにして配設してもよい。
凍機23の1段ステージ23aに直接、トラップ面22
を取り付けて真空装置20内に挿入するようにしたが、
図5に示されるように、低温トラップ30のトラップ面
31を平面形状とし、トラップ面31のみを真空装置2
0内に露出させるようにして配設してもよい。
【0020】本実施例ではトラップ面22は、所定の温
度となるようにその面積を調節して取り付けたが、トラ
ップ面の構成を複数枚の平板の一部が重なり合うように
構成し、真空装置20内に取り付けた後も、平板の重な
り合う面積を調節することによりトラップ面22の面積
を設定するようにしてもよい。
度となるようにその面積を調節して取り付けたが、トラ
ップ面の構成を複数枚の平板の一部が重なり合うように
構成し、真空装置20内に取り付けた後も、平板の重な
り合う面積を調節することによりトラップ面22の面積
を設定するようにしてもよい。
【0021】本実施例では真空装置20内での処理過程
Aにおいては処理に必要な圧力を1×10-4Torrと
したので、その圧力下で水を排気できる温度である18
0K以下となるようにトラップ面22の面積を調節する
ようにしたが、例えば、処理過程Aで必要な圧力が1×
10-6Torrとした場合、水の蒸気圧が1×10-6T
orrとなる温度である160K以下に調節することも
できる。このように処理過程Aで必要とされる圧力に対
して、その圧力の水の蒸気圧となるような温度以下にな
るようにトラップ面22の熱を受ける面積を調節すれば
よい。
Aにおいては処理に必要な圧力を1×10-4Torrと
したので、その圧力下で水を排気できる温度である18
0K以下となるようにトラップ面22の面積を調節する
ようにしたが、例えば、処理過程Aで必要な圧力が1×
10-6Torrとした場合、水の蒸気圧が1×10-6T
orrとなる温度である160K以下に調節することも
できる。このように処理過程Aで必要とされる圧力に対
して、その圧力の水の蒸気圧となるような温度以下にな
るようにトラップ面22の熱を受ける面積を調節すれば
よい。
【0022】本実施例の低温トラップ21は水に対する
排気速度を向上させるものとして使用したが、真空装置
20内の被処理物から発生する放出ガスのうち低温トラ
ップに凝縮する成分のみを排除する場合、真空乾燥器の
乾燥効率を上げる場合、又は、被処理物から蒸発する油
や溶剤を凝縮させて排気する場合にも応用することがで
きる。
排気速度を向上させるものとして使用したが、真空装置
20内の被処理物から発生する放出ガスのうち低温トラ
ップに凝縮する成分のみを排除する場合、真空乾燥器の
乾燥効率を上げる場合、又は、被処理物から蒸発する油
や溶剤を凝縮させて排気する場合にも応用することがで
きる。
【0023】又、本実施例ではトラップ面の面積を調節
することによりトラップ面の温度を設定するようにした
が、トラップ面の面積を一定とし、冷凍機の冷凍能力を
調節可能とすることにより、トラップ面の温度を設定す
るようにしてもよい。
することによりトラップ面の温度を設定するようにした
が、トラップ面の面積を一定とし、冷凍機の冷凍能力を
調節可能とすることにより、トラップ面の温度を設定す
るようにしてもよい。
【0024】
【発明の効果】本発明の低温トラップによれば、低温ト
ラップのトラップ面の面積又は冷凍機の冷凍能力を調節
することにより、大気圧でも水を排気できる温度が維持
され、又は、真空装置内で必要とされる圧力に排気され
る間に水を排気できる温度に冷却することができるの
で、水に対する排気速度が改善され、早く所定の圧力に
到達させることができ、生産性を向上させることができ
る。又、真空バルブを使用しないので、コストを削減す
ることができる。
ラップのトラップ面の面積又は冷凍機の冷凍能力を調節
することにより、大気圧でも水を排気できる温度が維持
され、又は、真空装置内で必要とされる圧力に排気され
る間に水を排気できる温度に冷却することができるの
で、水に対する排気速度が改善され、早く所定の圧力に
到達させることができ、生産性を向上させることができ
る。又、真空バルブを使用しないので、コストを削減す
ることができる。
【図1】本発明の実施例による真空装置と低温トラップ
の構成図である。
の構成図である。
【図2】真空装置内の運転サイクルにおける圧力変化を
示す図である。
示す図である。
【図3】真空装置内の運転サイクルにおける低温トラッ
プの温度変化を示す図である。
プの温度変化を示す図である。
【図4】小型ヘリウム冷凍機を使用した低温トラップの
冷凍能力特性曲線を示す図である。
冷凍能力特性曲線を示す図である。
【図5】本発明の変形例による真空装置と低温トラップ
の構成図である。
の構成図である。
【図6】従来例による真空装置と拡散ポンプとの間に低
温トラップを配設した場合の構成図である。
温トラップを配設した場合の構成図である。
【図7】従来例による真空装置とターボ分子ポンプとの
間に低温トラップを配設した場合の構成図である。
間に低温トラップを配設した場合の構成図である。
【図8】従来例による真空装置に独立して低温トラップ
を配設した場合の構成図である。
を配設した場合の構成図である。
【図9】従来例による真空装置内に低温トラップを配設
した場合の構成図である。
した場合の構成図である。
21 低温トラップ 22 トラップ面 23 小型ヘリウム冷凍機
Claims (2)
- 【請求項1】 トラップ本体と該トラップ本体を冷却す
る冷凍機とから成り、真空装置に接続された低温トラッ
プにおいて、前記トラップ本体のトラップ面は直接、前
記真空装置内に面するように配設され、前記冷凍機は常
時運転され前記トラップ本体を直接冷却するように取り
付け、前記真空装置内の圧力が大気圧に昇圧しても前記
トラップ面の温度は、前記真空装置が作業時に必要とす
る圧力での液体飽和蒸気圧に対応する温度に、前記真空
装置が減圧される途中で達するような温度より高く昇温
しないように、該トラップ面の面積又は前記冷凍機の能
力が調節されていることを特徴とする低温トラップ。 - 【請求項2】 前記冷凍機はG−Mサイクル、ソルベイ
サイクル又はスターリング冷凍サイクルの小型ヘリウム
冷凍機である請求項1に記載の低温トラップ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15800393A JPH06341375A (ja) | 1993-06-02 | 1993-06-02 | 低温トラップ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15800393A JPH06341375A (ja) | 1993-06-02 | 1993-06-02 | 低温トラップ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06341375A true JPH06341375A (ja) | 1994-12-13 |
Family
ID=15662131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15800393A Pending JPH06341375A (ja) | 1993-06-02 | 1993-06-02 | 低温トラップ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06341375A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002070738A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-08 | Ulvac Kuraio Kk | クライオトラップ |
JP2008540841A (ja) * | 2005-05-10 | 2008-11-20 | シン フイルム エレクトロニクス エイエスエイ | 強誘電性薄膜を形成するための方法、該方法の使用、及び強誘電性オリゴマーメモリ材料を有するメモリ |
CN103264204A (zh) * | 2013-05-30 | 2013-08-28 | 中国科学院理化技术研究所 | 抽真空系统 |
-
1993
- 1993-06-02 JP JP15800393A patent/JPH06341375A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002070738A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-08 | Ulvac Kuraio Kk | クライオトラップ |
JP4547076B2 (ja) * | 2000-08-31 | 2010-09-22 | アルバック・クライオ株式会社 | クライオトラップ |
JP2008540841A (ja) * | 2005-05-10 | 2008-11-20 | シン フイルム エレクトロニクス エイエスエイ | 強誘電性薄膜を形成するための方法、該方法の使用、及び強誘電性オリゴマーメモリ材料を有するメモリ |
CN103264204A (zh) * | 2013-05-30 | 2013-08-28 | 中国科学院理化技术研究所 | 抽真空系统 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040406 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |