JPH0539275A - 除草性及び殺虫性イソオキサゾリノン化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】一般式（Ｉ）で表わされる化合物、一般式
（Ｉ）で表わされる化合物を含有する除草剤組成物なら
びに殺虫剤組成物、及び該化合物の合成中間体。 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ ＝低級アルキル等、ｍ＝０、
１、ｎ＝０、１、２、Ｒ² ＝水素、低級アルキル） 【効果】これらの化合物は、水田、畑地及び非農耕地に
おいて強力な除草作用を有し、かつ強力な殺虫作用を有
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の目的】

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なイソオキサゾリ
ノン誘導体、その中間体及びそれを有効成分として含有
する除草剤及び殺虫剤に関する。

【０００３】

【従来の技術】これまで本発明のイソオキサゾリノン誘
導体に類似する化合物としては、特許公告昭５６−１６
７６３号公報記載の化合物及び、特許公告昭５３−４５
３６７号公報に記載の化合物が知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記公
知化合物のイソオキサゾリン環の４位に硫黄原子を導入
することを試み、本発明の化合物の製造に成功した。さ
らに、これらの化合物が前記公知化合物よりも、水田、
畑地及び非農耕地において強力な除草作用を有し、かつ
強力な殺虫作用を有することを見出し、本発明を完成し
た。

【０００５】

【発明の構成】

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）

【０００７】

【化５】

【０００８】（式中、Ｒ¹ は、低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、ハロゲン置換低級アル
キル基、ハロゲン置換低級アルケニル基、低級アルコキ
シ置換低級アルキル基、フェノキシ置換低級アルキル基
（該ベンゼン環はハロゲン原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基で置換されていてもよい）、低級アルキル
メルカプト置換低級アルキル基、フェニルメルカプト置
換低級アルキル基（該ベンゼン環はハロゲン原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基で置換されていてもよ
い）又はフェニル置換低級アルキル基（該ベンゼン環は
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基で置
換されていてもよい）を示し、ｍは、０又は１を示し、
ｎは、０、１又は２を示し、Ｒ²は、水素原子又は低級
アルキル基を示し、ｍが０のとき、Ｒ¹ とＲ² は一緒に
なってアルキレン基を示してもよく、Ｒ³ は、低級アル
キル基、低級アルケニル基、ハロゲン置換低級アルケニ
ル基、低級アルコキシ置換低級アルキル基又はベンジル
スルホニル基（該ベンゼン環はハロゲン原子、低級アル
キル基、低級アルコキシ基で置換されていてもよい）を
示し、Ｒ⁴ は、低級アルキル基、低級アルケニル基、ベ
ンジル基（該ベンゼン環はハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基で置換されていてもよい）、式

【０００９】

【化６】

【００１０】で表される基（式中、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 及びＲ⁷
は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基、トリフルオロメチル
基、ニトロ基、シアノ基、低級アルキニルオキシ基又は
低級アルコキシカルボニル基を示す）又は式

【００１１】

【化７】

【００１２】で表される基（式中、Ｒ⁸ は、水素原子又
はトリフルオロメチル基を示す）を示し、又はＲ³ とＲ
⁴ は一緒になって窒素原子と共に、ヘテロ原子を含有す
るか又は含有しないで環上に低級アルキル基を置換基と
して有するか又は有しないヘテロ環をなし、Ｙ及びＺ
は、同一又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を示
す。）で表わされる化合物、一般式（ＩＩ）

【００１３】

【化８】

【００１４】（式中、Ｒ¹ は、低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、ハロゲン置換低級アル
キル基、ハロゲン置換低級アルケニル基、低級アルコキ
シ置換低級アルキル基、フェノキシ置換低級アルキル基
（該ベンゼン環はハロゲン原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基で置換されていてもよい）、低級アルキル
メルカプト置換低級アルキル基、フェニルメルカプト置
換低級アルキル基（該ベンゼン環はハロゲン原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基で置換されていてもよ
い）又はフェニル置換低級アルキル基（該ベンゼン環は
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基で置
換されていてもよい）を示し、ｍは、０又は１を示し、
Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル基を示し、ｍが０の
とき、Ｒ¹ とＲ² は一緒になってアルキレン基を示して
もよい。但し、ｍが０のとき、Ｒ¹ はアルキル基及びフ
ェニル基ではない。）で表わされる前記一般式（Ｉ）の
化合物の中間体、及び前記一般式（Ｉ）の化合物を有効
成分として含有する除草剤及び殺虫剤に関する。

【００１５】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ 、
Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 及びＲ⁷ の定義における
「低級アルキル基」としては、例えば、メチル、エチ
ル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、
2-メチルブチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、4-メチル
ペンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3,3-
ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,1-ジメチルブ
チル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,3-
ジメチルブチル、1-プロピルプロピル、2-プロピルプロ
ピル、1-イソプロピルプロピル、2-イソプロピルプロピ
ル、1-メチル-1- エチルプロピル、1-メチル-2- エチル
プロピル、2-メチル-1- エチルプロピル、2-メチル-2-
エチルプロピルのような、炭素数１乃至１個の直鎖又は
分枝鎖のアルキル基を示し、好適には炭素数１乃至４個
のアルキル基である。

【００１６】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ 、
Ｒ³ 及びＲ⁴ の定義における「低級アルケニル基」とし
ては、例えば、ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、
1-メチル-2- プロペニル、2-メチル-2- プロペニル、2-
エチル-2- プロペニル、2-ブテニル、1-メチルブテニ
ル、2-メチル-2- ブテニル、1-エチル-2- ブテニル、3-
ブテニル、1-メチル-3- ブテニル、2-メチル-3- ブテニ
ル、1-エチル-3- ブテニル、2-ペンテニル、1-メチルペ
ンテニル、2-メチル-2- ペンテニル、3-ペンテニル、2-
メチル-3- ペンテニル、4-ペンテニル、2-メチル-4- ペ
ンテニル、3-メチルペンテニル、2-ヘキセニル、3-ヘキ
セニル、4-ヘキセニル、5-ヘキセニルのような、炭素数
２乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルケニル基である。

【００１７】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ の
定義における「低級アルキニル基」としては、例えば、
2-プロピニル、1-メチル-2- プロピニル、2-メチル-2-
プロピニル、2-エチル-2- プロピニル、2-ブチニル、1-
メチルブチニル、2-メチル-2- ブチニル、1-エチル-2-
ブチニル、3-ブチニル、2-メチル-3- ブチニル、1-エチ
ル-3- ブチニル、2-ペンチニル、1-メチル-2- ペンチニ
ル、2-メチル-2- ペンチニル、4-メチル-2- ペンチニ
ル、2-メチル-3- ペンチニル、4-ペンチニル、1-メチル
-4- ペンチニル、2-メチル-4- ペンチニル、2-ヘキシニ
ル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニルのよう
な、炭素数３乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキニル基で
ある。

【００１８】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ の
定義における「ハロゲン置換低級アルキル基」とは、例
えば、トリフルオロメチル、クロルメチル、ブロムメチ
ル、ヨードメチル、ジクロルメチル、ジブロムメチル、
ジフルオロメチル、トリクロルメチル、ジブロムクロル
メチル、2-クロルエチル、2-ブロムエチル、1,1-ジフル
オロエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、1-クロル-1-
フルオロエチル、3-クロルプロピル、3-ブロムプロピル
のような、前記「低級アルキル基」が、弗素、塩素、臭
素又は沃素のような「ハロゲン原子」と結合した基であ
る。

【００１９】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ 及
びＲ³ の定義における「ハロゲン置換低級アルケニル
基」とは、例えば、2-クロル-2- プロペニル、3-クロル
-2- プロペニル、2-クロル-2- ブテニル、3-クロル-2-
ブテニル、2-クロル-1- メチル-2- ブテニル、3-クロル
-1- メチルブテニル、2-ブロム-2- プロペニル、3-ブロ
ム-2- プロペニル、2-ブロム-2- ブテニル、3-ブロム-2
- ブテニル、2-ヨード-2- プロペニル、3-ヨード-2- プ
ロペニル、2-ヨード-2- ブテニルのような、前記「低級
アルケニル基」が、弗素、塩素、臭素又は沃素のような
「ハロゲン原子」と結合した基である。

【００２０】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ 及
びＲ³ の定義における「低級アルコキシ置換低級アルキ
ル基」とは、例えば、メトキシメチル、エトキシエチ
ル、n-プロポキシメチル、イソプロポキシ、n-ブトキシ
メチル、メトキシエチル、エトキシエチル、n-プロポキ
シエチル、イソプロポキシエチルのような、「低級アル
キル基」が炭素数１乃至４個の「低級アルコキシ基」と
結合した基である。

【００２１】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ の
定義における「フェノキシ置換低級アルキル基」とは、
例えば、フェノキシメチル、2-メチルフェノキシメチ
ル、2-クロルフェノキシメチル、2-メトキシフェノキシ
メチル、4-メチルフェノキシメチル、4-クロルフェノキ
シメチル、4-メトキシフェノキシメチル、フェノキシエ
チル、2-メチルフェノキシエチル、2-クロルフェノキシ
エチル、2-メトキシフェノキシエチル、4-メチルフェノ
キシエチル、4-クロルフェノキシエチル、4-メトキシフ
ェノキシエチルのような、当該ベンゼン環に前記「ハロ
ゲン原子」、前記「低級アルキル基」及び前記「低級ア
ルコキシ基」を置換基として有していてもよいフェノキ
シ基が、前記「低級アルキル基」に結合した基である。

【００２２】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ の
定義における「低級アルキルメルカプト置換低級アルキ
ル基」とは、例えば、メチルメルカプトメチル、エチル
メルカプトメチル、n-プロピルメルカプトメチル、イソ
プロピルメルカプトメチル、n-ブチルメルカプトメチ
ル、イソブチルメルカプトメチル、s-ブチルメルカプト
メチル、t-ブチルメルカプトメチル、n-ペンチルメルカ
プトメチル、メチルメルカプトエチル、エチルメルカプ
トエチル、n-プロピルメルカプトエチル、イソプロピル
メルカプトエチル、n-ブチルメルカプトエチル、イソブ
チルメルカプトエチル、s-ブチルメルカプトエチル、t-
ブチルメルカプトエチル、n-ペンチルメルカプトエチ
ル、メチルメルカプトブチル、エチルメルカプトブチ
ル、n-プロピルメルカプトブチル、イソプロピルメルカ
プトブチル、n-ブチルメルカプトブチル、イソブチルメ
ルカプトブチル、s-ブチルメルカプトブチル、t-ブチル
メルカプトブチル、n-ペンチルメルカプトブチルのよう
な、前記「低級アルキル基」が硫黄原子と結合した「低
級アルキルメルカプト基」が、さらに、前記「低級アル
キル基」と結合した基である。

【００２３】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ の
定義における「フェニルメルカプト置換低級アルキル
基」とは、例えば、フェニルメルカプトメチル、2-クロ
ルフェニルメルカプトメチル、2-メチルフェニルメルカ
プトメチル、2-メトキシフェニルメルカプトメチル、4-
クロルフェニルメルカプトメチル、4-メチルフェニルメ
ルカプトメチル、4-メトキシフェニルメルカプトメチ
ル、2-クロルフェニルメルカプトエチル、2-メチルフェ
ニルメルカプトエチル、2-メトキシフェニルメルカプト
エチル、4-クロルフェニルメルカプトエチル、4-メチル
フェニルメルカプトエチル、4-メトキシフェニルメルカ
プトエチルのような、当該ベンゼン環に前記「ハロゲン
原子」、前記「低級アルキル基」及び前記「低級アルコ
キシ基」を置換基として有していてもよいフェニルメル
カプト基が、さらに、前記「低級アルキル基」に結合し
た基である。

【００２４】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ の
定義における「フェニル置換低級アルキル基」とは、例
えば、フェニルメチル、2-クロルフェニルメチル、4-ク
ロルフェニルメチル、2,4-ジクロルフェニルメチル、2-
ブロムフェニルメチル、4-ブロムフェニルメチル、2,4-
ジブロムフェニルメチル、2-メチルフェニルメチル、4-
メチルフェニルメチル、2,4-ジメチルフェニルメチル、
2-メトキシフェニルメチル、4-メトキシフェニルメチ
ル、2,4-ジメトキシフェニルメチル、フェニルエチル、
2-クロルフェニルエチル、4-クロルフェニルエチル、2,
4-ジクロルフェニルエチル、2-ブロムフェニルエチル、
4-ブロムフェニルエチル、2,4-ジブロムフェニルエチ
ル、2-メチルフェニルエチル、4-メチルフェニルエチ
ル、2,4-ジメチルフェニルエチル、2-メトキシフェニル
エチル、4-メトキシフェニルエチル、2,4-ジメトキシフ
ェニルエチルのような、当該ベンゼン環に前記「ハロゲ
ン原子」、前記「低級アルキル基」及び前記「低級アル
コキシ基」を置換基として有していてもよいフェニル基
が、さらに、前記「低級アルキル基」に結合した基であ
る。

【００２５】前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の、Ｒ¹ と
Ｒ² の定義における「アルキレン基」とは、例えば、メ
チレン、メチルメチレン、エチレン、プロピレン、トリ
メチレン、テトラメチレン、1-メチルトリメチレン、2-
メチルトリメチレン、3-メチルトリメチレン、ペンタメ
チレン、ヘキサメチレンのような、炭素数１乃至６個の
アルキレン基であり、好適にはメチレン、エチレン、ト
リメチレン又はテトラメチレンである。

【００２６】前記一般式（Ｉ）の、Ｒ⁴ の定義における
「ベンジル基」とは、例えば、フェニルメチル、2-クロ
ルフェニルメチル、4-クロルフェニルメチル、2,4-ジク
ロルフェニルメチル、2-ブロムフェニルメチル、4-ブロ
ムフェニルメチル、2,4-ジブロムフェニルメチル、2-メ
チルフェニルメチル、4-メチルフェニルメチル、2,4-ジ
メチルフェニルメチル、2-メトキシフェニルメチル、4-
メトキシフェニルメチル、2,4-ジメトキシフェニルメチ
ルのような、当該ベンゼン環に前記「ハロゲン原子」、
前記「低級アルキル基」及び前記「低級アルコキシ基」
を置換基として有していてもよいフェニル基が、メチル
基に結合した基である。

【００２７】前記一般式（Ｉ）の、Ｒ³ の定義における
「ベンジルスルホニル基」とは、前記「ベンジル基」が
「スルホニル基」と結合した基である。

【００２８】前記一般式（Ｉ）の、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 及びＲ⁷
の定義における「アルキニルオキシ基」とは、前記「ア
ルキニル基」が酸素原子と結合した基である。

【００２９】前記一般式（Ｉ）の、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 及びＲ⁷
の定義における「アルコキシカルボニル基」とは、前記
「アルコキシ基」がカルボニル基と結合した基である。

【００３０】前記一般式（Ｉ）の、Ｒ³ とＲ⁴ の定義に
おける「窒素原子と共に、ヘテロ原子を含有するか又は
含有しないで環上に低級アルキル基を置換基として有す
るか又は有しないヘテロ環」とは、例えば、環上の置換
基としてメチル、エチルのような低級アルキル基を有し
ていてもよいピペラジン、ピペリジン、モルホリン、ピ
ロリジンのようなヘテロ環である。

【００３１】一般式（Ｉ）で包括的に表わされる以下の
一般式（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）及び（ＶＩＩ）の化
合物は、次の製造法により製造される。

【００３２】

【化９】

【００３３】以下、これら製造方法について詳しく説明
する。

【００３４】（第１工程）化合物（ＩＩ）（式中、Ｒ
¹ 、Ｒ² 及びｍは前述と同意義を示す）で表わされる3-
ヒドロキシイソオキサゾールと、ホスゲン、クロル蟻酸
メリクロルメチルエステル及びチオホスゲンから一般式
（ＩＩＩ）を有する（チオ）カルバモイルクロリド体
（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びｍは前述したものと同意義を示
す）を製造する工程である。

【００３５】反応は溶剤存在下、両者を混合することに
より達成される。用いられる溶剤は、反応に関与しない
ものであれば限定はないが、例えば、ベンゼン、トルエ
ンのような芳香族炭化水素、メチレンクロリド、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジクロルエタン、トリクロルエタ
ン、テトラクロルエタンのようなハロゲン化炭化水素
類、エチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエー
テル類、アセトニトリルのようなニトリル類、酢酸エチ
ル、プロピオン酸エチルのようなエステル類等が挙げら
れる。反応温度は通常、室温乃至１５０℃で行なわれ、
好ましくは室温乃至８０℃である。反応時間は、反応基
質及び反応温度により異なるが、通常１乃至２４時間で
ある。

【００３６】反応目的物（ＩＩＩ）は、溶剤を留去する
ことにより残留物として得られる。精製することなく、
そのまま第２工程へ移行させることができる。化合物
（ＩＩＩ）の生成は、赤外線吸収スペクトルにおいて16
10〜1690cm^-1に強いカルボニルの吸収によって確認され
る。

【００３７】（第２工程）化合物（ＩＩＩ）と一般式Ｈ
ＮＲ³ Ｒ⁴ （Ｒ³ 及びＲ⁴ は前述したものと同意義を示
す）から、一般式（ＩＶ）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ Ｒ
⁴ 及びｍは前述したものと同意義を示す）を有する4-イ
ソオキサゾリン-3- オンを製造する工程である。

【００３８】反応は溶剤存在下、両者を脱塩酸剤と共に
混和することにより達成される。脱塩酸剤としては、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジエチルイソプロ
ピルアミン、ピリジン、1,4-ジアザビシクロ[2,2,2] オ
クタン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0] ウンデセンのよう
な有機三級アミン類が用いられる。用いられる溶剤とし
ては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、メチレンクロリド、クロロホルム、
ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水素類、エチル
エーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類、ア
セトニトリルのようなニトリル類、酢酸エチル、プロピ
オン酸エチルのようなエステル類等が挙げられる。反応
温度は通常、０乃至１５０℃で行なわれ、好ましくは０
乃至５０℃である。反応時間は、反応基質及び反応温度
により異なるが、通常１乃至２４時間である。

【００３９】反応目的物（ＩＶ）は常法により、反応混
合物から採取される。例えば、反応混合物に、水と混和
しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去することに
よって得られる。得られた目的化合物は、必要ならば、
常法、例えば、再結晶、再沈殿ならびにクロマトグラフ
ィー等によって更に精製する。

【００４０】（第３工程）化合物（ＩＶ）を酸化するこ
とにより、目的化合物（Ｖ）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ²、Ｒ
³ 、Ｒ⁴ 、Ｙ、Ｚ及びｍは前述したものと同意義を示
し、ｎは１又は２を示す）を製造する工程である。

【００４１】反応は化合物（ＩＶ）と酸化剤を溶剤の存
在下混和することにより達成される。酸化剤としては、
例えば、メタクロル過安息香酸、過酢酸のような過酸；
モノ過硫酸カリウム（Oxone)、メタ過ヨウ素酸ナトリウ
ムのような無機の過酸化物；過酸化水素水等が挙げられ
る。目的物（Ｖ）としてスルホキシド(n=1) のとき、等
量乃至やや過剰の酸化剤が、一方スルホン(n=2) のと
き、２倍等量乃至８倍等量の酸化剤が使用される。

【００４２】用いられる溶剤としては、ジクルメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクルエタンのようなハロ
ゲン化炭化水素類、メタノール、エタノールのようなア
ルコール類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、酢酸エチルのようなエス
テル類、酢酸、水及びこれらの混合溶剤等が挙げられ
る。反応温度は通常０乃至１５０℃で行なわれ、好まし
くは２０乃至１１０℃である。反応時間は、反応基質及
び反応温度により異なるが通常１乃至２４時間である。

【００４３】反応目的物（Ｖ）は常法により反応混合物
から採取される。例えば、反応混合物に、水と混和しな
い有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去することによっ
て得られる。得られた目的化合物は必要ならば常法、例
えば、再結晶、再沈殿ならびにクロマトグラフィー等に
よって更に精製する。

【００４４】（第４工程）化合物（ＩＶ）を硫化するこ
とにより化合物（ＶＩ）（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ
⁴ 及びｍは前述したものと同意義を示す）を製造する工
程である。

【００４５】反応は、化合物（ＩＶ）とチオカルボニル
化試薬と溶剤存在下、混和することにより達成される。
チオカルボニル化試薬としては、例えば、五硫化リン、
2,4-ビス（4-メトキシフェニル）-1,3- ジチア-2,4- ジ
ホスフェタン-2,4- ジスルフィドが使用される。用いら
れる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロルエタン、テトラクロルエタンのようなハロゲン化
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタンのようなエーテル類、ピリジン等が挙げられ
る。反応温度は通常２０乃至１８０℃で行なわれ、好ま
しくは５０乃至１２０℃である。反応時間は、反応基質
及び反応温度により異なるが、通常１乃至１５時間であ
る。

【００４６】反応目的物（ＶＩ）は、常法により、反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混和
しない有機溶剤を加え水洗後、溶剤を留去することによ
って得られる。得られた目的化合物は、必要ならば、常
法、例えば、再結晶、再沈殿、ならびにクロマトグラフ
ィー等によって更に精製される。

【００４７】（第５工程）第４工程で得られた化合物
（ＶＩ）を酸化することによって目的化合物の１つであ
る（ＶＩＩ）を製造する工程である。酸化反応は第３工
程に準じて行なわれる。

【００４８】以上の製造方法の出発原料である3-ヒドロ
キシイソオキサゾール類（ＩＩ）

【００４９】

【化１０】

【００５０】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びｍは前述したもの
と同意義を示す）はβ- ケトエステル類（ＶＩＩ）（式
中、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びｍは前述したものと同意義を示し、
Ｒ⁵は低級アルキル基を示す）を特開昭６２−９９３６
９号公報記載の方法に準じ、ヒドロキシルアミンと閉環
反応することにより製造される。

【００５１】同方法で得られた3-ヒドロキシイソオキサ
ゾール類（ＩＩ）は必要に応じて精製単離されるが、精
製単離することなく次の工程の原料として供することも
できる。

【００５２】本工程により製造される、一般式（ＩＩ）
で表される化合物を以下の表１に例示するが、これらに
限られるものではない。

【００５３】また、本発明の一般式（Ｉ）で表される化
合物を以下の表２及び表３に例示するが、本発明はこれ
らに限られるものではない。

【００５４】なお、表１、表２及び表３において、「M
e」はメチル基を、「Et」はエチル基を、「ⁿPr 」はn-
プロピル基を、「ⁱPr 」はi-プロピル基を、「ⁿBu 」は
n-ブチル基を、「^tBu 」はt-ブチル基を、「ⁿPentyl 」
はn-ペンチル基を、「ⁿHexyl」はn-ヘキシル基を、「ⁿH
eptyl 」はn-ヘプチル基を、「Ph」はフェニル基を、
「Vin 」はビニル基を、「All」はアリル基を、「Prg
」はプロパルギル基を、「Pyr 」はピリジル基を、
「2,4-Cl₂-Ph」は2,4-ジクロロフェニル基を、それぞれ
示す。

【００５５】

【００５６】

【表１】

【００５７】

【化１１】

【００５８】

【００５９】

【表２】

【００６０】

【化１２】

【００６１】

【００６２】

【表３】

【００６３】

【化１３】

【００６４】 以下に、表２及び表３に示した化合物のＮＭＲスペクト
ルを示す。

【００６５】¹H-NMRスペクトル(60MHz,CDCl₃) δppm: 化合物番号 71 :0.78 〜1.70(10H.m),1.47(3H.s),2.30
〜2.75(2H.m),7.20 〜7.34(4H.m) 化合物番号 106 :0.67(3H.t),0.75(6H.d),0.88(9H.s),
2.23(2H.q),4.12(1H.heptet),6.78(4H.s) 化合物番号 78 :1.12(3H.t),2.35(3H.s),2.63(2H.q),4.
55(2H.s),5.30 〜5.45(2H.m),7.26(4H.s) 化合物番号 21 :1.14(3H.t),1.23(6H.d),2.67(2H.q),4.
59(1H.heptet),7.05〜7.38(4H.m),7.83(1H.s) 化合物番号 ２５ ：１．１２（３Ｈ．ｔ），２．３４
（３Ｈ．ｓ），２．６２（２Ｈ．ｑ），３．４０（３
Ｈ．ｓ），７．２３（４Ｈ．ｓ） 化合物番号 ６４ ：１．１０（３Ｈ．ｔ），１．３２
（６Ｈ．ｄ），２．２５（３Ｈ．ｓ），２．５５（２
Ｈ．ｑ），４．６１（１Ｈ．ｈｅｐｔｅｔ），６．９８
〜8.40(4H.m) 化合物番号 65 :1.10(3H.t),1.25(6H.d),2.31(3H.s),2.
59(2H.q),4.63(1H.heptet),7.15 〜8.54(4H.m) 化合物番号 31 :1.14 〜1.24(9H.m),2.38(3H.s),2.87(2
H.q),4.19(1H.heptet),7.14 〜7.24(4H.m) 化合物番号 34 :1.20(6H.d),1.25(3H.t),2.54(3H.s),3.
20(2H.q),4.45(1H.heptet),7.03 〜7.50(4H.m) 化合物番号 125 :0.90(3H.t),1.25(6H.d),1.3 〜1.7(3
H.m),2.3(3H.s),2.4 〜2.7(2H.m),2.65(1H.s),4.35 〜
4.70(1H.m),4.75(2H.d),7.0 〜7.2(1H.m) 化合物番号 123 :0.90(3H.t),1.25(6H.d),1.0 〜1.75(2
H.m),2.30(3H.s),2.58(2H.t),4.58,(1H.heptet),6.50〜
6.85(3H.m) 化合物番号 124 :0.91(3H.t),1.20(6H.d),1.00〜1.75(2
H.m)2.29(3H.s),2.57(2H.t),4.60(1H.heptet),6.80〜7.
33(4H.m) 化合物番号 127 :0.90(3H.t),1.35(6H.d),1.20〜1.75(2
H.m),2.26(3H.s),2.25(2H.t),4.46(1H.heptet),7.00 〜
8.42(4H.m) 化合物番号 128 :0.88(3H.t),1.20(6H.d),1.10〜1.60(2
H.m),2.25(3H.s),2.50(2H.t),4.60(1H.heptet),7.10 〜
8.50(4H.m) 化合物番号 149 :1.12(6H.d),1.20(6H.d),2.28(3H.s),
3.10(1H.heptet),4.58(1H.heptet), 6.79〜7.32(4H.m) 化合物番号 150 :1.13(6H.d),1.22(6H.d),2.35(3H.s),
3.15(1H.heptet),4.60(1H.heptet),6.60 〜6.95(3H.m) 化合物番号 151 :1.12(6H.d),1.22(6H.d),2.32(3H.s),
3.10(1H.heptet),4.60(1H.heptet),6.63 〜7.60(3H.m) 化合物番号 152 :1.11(6H.d),1.33(6H.d),2.27(3H.s),
3.12(1H.heptet),4.63(1H.heptet),7.00 〜8.43(4H.m) 化合物番号 153 :1.10(6H.d),1.22(6H.d),2.30(3H.s),
3.10(1H.heptet),4.65(1H.heptet),7.12 〜8.51(4H.m) 化合物番号 162 :0.86(3H.t),1.10 〜1.55(4H.m)1.21(6
H.d),2.30(3H.s),2.60(2H.t),7.26(4H.s) 化合物番号 184 :1.20(6H.d),2.10(1H.t),2.35(3H.s),
3.28(2H.d),4.59(1H.heptet),7.00〜7.40(4H.m) 化合物番号 199 :1.22(6H.d),2.31(3H.s),2.88(2H.t),
3.50(2H.t),4.59(1H.heptet),7.05〜7.40(4H.m) 化合物番号 221 :1.23(6H.d),0.90 〜1.40(3H.m),2.33
(3H.s),3.60(2H.q),4.67(2H.s),4.45 〜4.90(1H.m),7.3
3(4H.s) 化合物番号 263 :1.23(6H.d),1.85(3H.s),3.79 (2H.s),
4.62(1H.heptet),6.57〜7.45(7H.m) 化合物番号 265 :1.20(6H.d),2.20 (3H.s),2.60 〜2.88
(4H.m),4.58(1H.heptet),6.95 〜7.40(9H.m) 化合物番号 193 :1.20(6H,d,J=6.8Hz),2.64(4H,br,s),
4.88(1H,br,s),6.65 〜6.91(4H,m) 前記の例示化合物中、除草活性を有する化合物として
は、好ましくは１２、２１、２９、３０、３１、３７、
３８、４７、４９、５１、５５、１１７、１１９、１２
１、１２３、１２４、１４４、１４８、１４９、１５
０、１５１、１７６、１９０、１９１、１９９、２１
８、２２１、２２２番の化合物である。

【００６６】前記の例示化合物中、除草活性を有する化
合物としては、さらに好ましくは、２１、２９、３０、
３１、３７、３８、４７、４９、５１、５５、１１７、
１２１、１２３、１２４、１４４、１４９、１５０、１
５１、１７６、１９０、１９１、１９９、２１８、２２
１、２２２番の化合物である。

【００６７】前記の例示化合物中、除草活性を有する化
合物としては、もっとも好ましくは、３０、３１、１１
７、１２１、１４４、１４９、１５１、１９０、１９
１、２１８番の化合物である。

【００６８】前記の例示化合物中、殺虫活性を有する化
合物としては、好ましくは、１、１５、２２、１５７、
２１７、２２９、２３２、２４２、２５２、２５６、２
６６番の化合物である。

【００６９】前記の例示化合物中、殺虫活性を有する化
合物としては、さらに好ましくは、１、１５、２２、２
１７、２３２、２４２、２５２番の化合物である。

【００７０】前記の例示化合物中、殺虫活性を有する化
合物としては、もっとも好ましくは、１、１５、２２、
２１７、２３２番の化合物である。

【００７１】以下に、実施例、参考例及び製剤例を挙げ
て、本発明の化合物を更に具体的に説明するが、本発明
はこれらに限られるものではない。

【００７２】

【実施例】

【００７３】

【実施例１】2-(N- イソプロピル-N-p- クロルフェニル
カルバモイル）-4- エチルチオ-5- メチル-4- イソオキ
サゾリン-3- オン （化合物番号３０） 4-エチルチオ-3- ヒドロキシ-5- メチルイソオキサゾー
ル6.25g にホスゲンのトルエン溶液（2.26M)89mlを加
え、室温で３時間、次いで50℃で30分間撹拌した。減圧
下、溶剤及び過剰のホスゲンを留去後、得られた残留物
をトルエン50mlで溶解した。これに、N-イソプロピル-p
- クロルアニリン6.97g とトリエチルアミン6.7ml を溶
かしたトルエン溶液30mlを滴下した。さらに35分撹拌
し、エーテル300ml を加え希釈した。これを1N塩酸、炭
酸水素ナトリウム水溶液及び含塩水で順次洗滌し、芒硝
で乾燥した。溶剤留去後、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトに付し、ヘキサン：酢酸エチルで溶出
し、標記目的物を8.15g （収率58.6％）得た。

【００７４】融点.64-65℃¹ H-NMRスペクトル(60MHz,CDCl₃) δppm:1.09(3H,t,J=7.
5Hz),1.20(6H,d,J=7.5Hz),2.30(3H,s),2.60(2H,q,J=7.5
Hz),4.58(1H,heptet,J=7.5Hz),7.23(4H,s) Massスペクトル m/e :354(M⁺),238,223,196,169,154,11
1,99,75,57,42. ＩＲスペクトル（ν_max ）cm^-1(CHCl₃)：1715,1620.

【００７５】

【実施例２】2-(N- イソプロピル-N-p- クロルフェニル
カルバモイル）-4- エチルスルフィニル-5- メチル-4-
イソオキサゾリン-3- オン （化合物番号３３） 実施例１で得た化合物117.6mg をジクロルメタン20mlに
とかし、これに、ｍ−クロル過安息香酸62.8mgを加え、
２時間撹拌した。ヘキサン−エチルエーテル(1/1)60ml
を加え希釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗滌後、芒
硝で乾燥した。溶剤留去後、得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトに付し、ヘキサン：酢酸エチル(2/1)
で溶出し、標記目的物を104mg(収率85％）得た。

【００７６】融点.70-72℃¹ H-NMRスペクトル(60MHz,CDCl₃) δppm:1.17(6H,d,J=7.
5Hz),1.23(3H,t,J=7.5Hz),2.45(3H,s),3.20(2H,q,J=7.5
Hz),4.45(1H,heptet,J=7.5Hz),7.05〜7.40(4H,m). Massスペクトル m/e:370(M⁺),196,167,156,139,111,10
2,97,83,63,57,50,41. ＩＲスペクトル（ν_max ）cm^-1(CHCl₃):1710,1620,111
5,1095,1040,1020.

【００７７】

【実施例３】2-(N- イソプロピル-N-p- クロルフェニル
カルバモイル）-4- エチルスルホニル-5- メチル-4- イ
ソオキサゾリン-3- チオン （化合物番号３４） 実施例１で得た化合物29.4mgをジクロルメタン5ml にと
かし、これにｍ−クロル過安息香酸42.9mgを加え室温で
１時間撹拌した。反応液をヘキサン−エーテル(1/1) の
溶液で希釈し、重曹水、次いで水で洗滌後、芒硝で乾燥
した。溶剤留去後、得られた残留物をプレパラティブ−
薄層クロマトに付し、ヘキサン−酢酸エチル(2/1) 展開
により標記目的物を、17mg( 収率53％）得た。

【００７８】油状物¹ H-NMRスペクトル(60MHz,CDCl₃) δppm:1.20(6H,d,J=7.
5Hz),1.25(3H,e,J=7.5Hz),2.54(3H,s),3.20(2H,q,J=7.5
Hz),4.45(1H,heptet,J=7.5Hz),7.03〜7.50(4H,m). Massスペクトル m/e :386(M⁺),293,279,265,239,228,19
6,167,154,138,125,111,99,85,71,57,42. ＩＲスペクトル（ν_max ）cm^-1(CHCl₃):1720,1610,131
0,1175.

【００７９】

【実施例４】2-( N-イソプロピル-N-p- クロルフェニル
チオカルバモイル）-4- エチルチオ-5- メチル-4- イソ
オキサゾリン-3- オン （化合物番号３１） 3-ヒドロキシ-4- エチル-5- メチルイソオキサゾール35
3.5mg をトルエン3.5ml に溶かし、これにチオホスゲン
0.34mlを加え、20時間撹拌した。溶剤及び過剰のチオホ
スゲンを減圧下留去し、得られた残留物をトルエン5ml
に溶かし、これに、トルエン3ml に溶かしたN-イソプロ
ピル-p- アニリン396.3mg とトリエチルアミン0.46mlの
混液を滴加した。１時間撹拌後、エーテル30mlを加え希
釈し、1N塩酸、炭酸水素ナトリウム水及び水で順次洗滌
後、芒硝で乾燥した。溶剤留去後、得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトに付し、ヘキサン- 酢酸エチル
(5/1) で溶出し、標記目的物を492mg(収率60％）得た。

【００８０】油状物¹ H-NMRスペクトル(200MHz,CDCl₃)δppm:1.14〜1.24(9H,
m),2.38(3H,s),2.87(2H,q.J=7.37Hz),4.19(1H,heptet,J
= 7.4Hz),7.14 〜7.24(4H,m). Massスペクトル m/e :370(M⁺),226,211,184,167,157,14
4,126,111,102,87,75,59,43.

【００８１】

【実施例５】2-(N- イソプロピル-N-p- クロルフェニル
チオカルバモイル）-4- エチルチオ-5- メチル-4- イソ
オキサゾリン-3- チオン （化合物番号１４５） 2-(N- イソプロピル-N-p- クロルフェニルチオカルバモ
イル）-4- イソプロピルチオ-5- メチル-4- イソオキサ
ゾリン-3- オン95mgと2,4-ビス（4-メトキシフェニル）
-1,3- ジチア-2,4- ジホスフェタン- 2,4-ジスルフィド
417mg をトルエン15mlに加溶化後、120 ℃で２時間加熱
した。水中に投入後，酢酸エチルで抽出し、抽出液を食
塩水で洗滌した。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトで精製
し、標記目的物を36.5mg（収率36.8％) 得た。

【００８２】融点.78-81℃¹ H-NMRスペクトル(200MHz,CDCl₃)δppm:0.83(6H,d,J=6.
7Hz)1.15(6H,d,J=6.7Hz),2.53(3H,s),2.96(1H,heptet,J
= 6.7Hz),4.86(1H,heptet,J=6.7Hz),7.17(2H,d,J=8.6H
z),7.34(2H,d,J=8.6Hz) Massスペクトル m/e:400(M⁺),358,232,190,154.

【００８３】

【参考例】

【００８４】

【参考例１】（（ＩＩ）の製造例）5-エチル-3- ヒドロ
キシ-4- エチルチオイソオキサゾール（ＩＩａ） 水酸化カリウム1.97g (85 ％純度）を水30mlとメタノー
ル60mlの混液に溶かし、これに０℃に冷却しながら、2-
メチルチオ-3- オキソペンタン酸エチルエステル5.76g
を加え、同温度にて45分間撹拌した。一方、ヒドロキシ
ルアミン塩酸塩6.25g の水溶液30mlに85％水酸化カリウ
ム5.92g を加え中和後、先に得た混液を-20 〜-40 ℃の
内温に保ちながら滴加した。同温度で1 時間撹拌後、ア
セトン43mlを加え、さらに10分間撹拌した。次いで濃塩
酸10mlを一度に加えて、90℃にて一時間加熱撹拌した。
冷却後、水 100mlで希釈し、エーテルで抽出した。エー
テル抽出液を1N- 水酸化ナトリウムで再抽出し、氷水で
冷却しつつ、6N- 塩酸でpH２とした。エーテル抽出後、
食塩水で洗滌し芒硝で乾燥した。溶剤を留去し、標記目
的物を2.66g(収率55.8％）得た。

【００８５】融点89〜91℃¹ H-NMR スペクトル(60MHz,CDCl₃) δppｍ:1.25(3H,t,J=
7.0Hz),2.28(3H,s),2.75(2H,q,J=7.0Hz), 10.50(1H,s) Massスペクトル m/e:159(M⁺)

【００８６】

【製剤例】

【００８７】

【製剤例１】（水和剤）３０番の化合物２５％、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸塩２．５％、リグニンスルホン酸
塩２．５％及び珪藻土７０％をよく粉砕混合して水和剤
を得た。

【００８８】

【製剤例２】（乳剤）１１７番の化合物３０％、乳化剤
ソルボールＳＭ１００（東邦化学登録商標名）１０％及
びキシレン６０％をよく混合して乳剤を得た。

【００８９】

【製剤例３】（粒剤）１２１番の化合物５％、ホワイト
カーボン１％、リグニンスルホン酸塩５％及びクレー８
９％をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り合せた後、
造粒乾燥して粒剤を得た。

【００９０】

【製剤例４】（水和剤）１４４番の化合物１０％、エマ
ルゲン８１０（花王株式会社製界面活性剤）、０．５
％、デモールＮ（花王株式会社製界面活性剤）０．５
％、クニライト２０１（クニミネ工業株式会社製珪藻
土）２０％、ジークライトＣＡ（ジークライト鉱業株式
会社製クレー）６９％を均一に混合し粉砕して水和剤を
得た。

【００９１】

【製剤例５】（水和剤）１９０番の化合物２５％、ドデ
シルベンゼンスルホン酸塩２．５％、リグニンスルホン
酸塩２．５％及び珪藻土７０％を混合粉砕して水和剤を
得た。

【００９２】

【製剤例６】（乳剤）１４９番の化合物１５％、シクロ
ヘキサノン３５％、ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル１１％、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウ
ム４％及びメチルナフタリン３５％を均一に溶解し乳剤
を得た。

【００９３】

【製剤例７】（乳剤）１５１番の化合物３０％、乳化剤
ソルボールＳＭ１００（東邦化学株式会社製界面活性
剤）１０％及びキシレン６０％をよく混合して乳剤を得
た。

【００９４】

【製剤例８】（粒剤）１９１番の化合物５％、ラウリル
アルコール硫酸エステルのナトリウム塩２％、リグニン
スルホン酸ナトリウム塩５％、カルボキシメチルセルロ
ースのナトリウム塩２％及びクレー８６％を均一に混合
し粉砕した。この混合物１００重量部に水２０重量部を
加えて練合し、押出式造粒機を用いて、１４〜３２メッ
シュの粒状に加工した後、乾燥して粒剤を得た。

【００９５】

【製剤例９】（粒剤）１９１番の化合物5%、ベントナイ
ト３０％、タルク６２％、リグニンスルホン酸ナトリウ
ム２％及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム１％
を均一に混合し粉砕した。この混合物１００重量部に水
20重量部を加えて練合し、押出式造粒機を用いて、１４
〜３２メッシュの粒状に加工した後、乾燥して粒剤を得
た。

【００９６】

【製剤例１０】（粒剤）２１８番の化合物４％、ベント
ナイト３０％、クレー６３％、ポリビニルアルコール１
％及びアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム２％を均
一に混合し粉砕した。この混合物１００重量部に水２０
重量部を加えて練合し、押出式造粒機を用いて、１４〜
３２メッシュの粒状に加工した後、乾燥して粒剤を得
た。

【００９７】

【製剤例１１】（粒剤）２９番の化合物４％、ベントナ
イト３５％、タルク５８％、アルキルナフタリンスルホ
ン酸２％及びジオクチルスルホサクシネート１％を均一
に混合し粉砕した。この混合物１００重量部に水20重量
部を加えて練合し、押出式造粒機を用いて、１４〜３２
メッシュの粒状に加工した後、乾燥して粒剤を得た。

【００９８】

【製剤例１２】（粒剤）３７番の化合物５％、ホワイト
カーボン１％、リグニンスルホン酸塩５％、クレー８４
％及びカルボキシメチルセルロースのナトリウム塩５％
をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り合わせた後、造
粒乾燥して粒剤を得た。

【００９９】

【製剤例１３】（粉剤）３８番の化合物２％、珪藻土５
％及びクレー９３％を均一に混合粉砕して粉剤を得た。

【０１００】

【製剤例１４】（水和剤）４７番の化合物８０％、ナト
リウムアルキルナフタレンスルホネ−ト２％、ナトリウ
ムリグニンスルホネ−ト２％、合成アモルファスシリカ
３％、カオリナイト１３％を混合し、ハンマ−ミルで粉
砕し、再び混合して包装した。

【０１０１】

【製剤例１５】（粒剤）製剤例１４の水和剤１５％、石
膏６９％、硫酸カリウム１６％を、回転ミキサー又は流
動床ミキサー中で混合し、水を噴霧して顆粒化させた。
大部分が１．０−０．４２ｍｍになったら、顆粒を取り
だし、乾燥後、篩にかけた。オ−バ−サイズの物質を粉
砕し、更に、別の顆粒を得た。

【０１０２】

【製剤例１６】（高濃度濃縮物）４９番の化合物９８．
５％、合成アモルファス微細シリカ１．０％を混合し、
次いでハンマ−ミルで粉砕し、全てが０．２９７ｍｍ孔
を通過する高濃度濃縮物を得た。

【０１０３】

【製剤例１７】（水性懸濁液）５１番の化合物２５％、
水和アタパルジャイト３％、粗製カルシウムリグニンス
ルホネ−ト１０％、燐酸二水素ナトリウム０．５％、水
６１．５％を固形粒子が１０ミクロン以下の直径に減少
されるまで、ボ−ルミル、サンドミル又はロ−ラ−ミル
中で一緒に粉砕した。

【０１０４】

【製剤例１８】（溶液）５５番の化合物３０％、ジメチ
ルホルムアミド７０％を合わせ、撹拌して溶液を得た。

【０１０５】

【製剤例１９】（乳剤）３０番の化合物１５％、カルシ
ウムドデシルベンゼンスルホネ−トと非イオン系界面活
性剤とのブレンド２５％、キシレン６０％を合わせ、撹
拌して活性成分を溶解させ、乳剤を得た。

【０１０６】

【発明の効果】前記一般式（Ｉ）の化合物は殺草作用を
有しており、除草剤として使用することができ、その作
用は一般に双子葉植物に対するよりも単子葉植物に対す
る方が強い。たとえば、水田においては、雑草の発芽前
または発芽後に湛水土壌処理することにより、水田の強
雑草であるタイヌビエ、ヒメタイヌビエ、ケイヌビエ等
のイネ科雑草を特に強力に駆除し、また通常の除草剤で
は防除が困難なマツバイ、ホタルイ、クログワイ、ミズ
ガヤツリ等のカヤツリグサ科多年生雑草も駆除すること
ができ、さらに、アゼナ等のゴマノハグサ科雑草、キカ
シグサ、ヒメミソハギ、ミズマツバ等のミソハギ科雑
草、コナギ、ミズアオイ等のミズアオイ科雑草の広葉雑
草をも有効に駆除することができる。

【０１０７】一方、水稲に対しては選択性が大きく、移
植水稲は薬害をうけることはない。特に特許公告昭５６
−１６７６３号公報で公知の化合物と比較して、高活性
であり、水稲との選択性が大きく、処理適用幅が大きい
利点が見出された。また、畑地においては雑草の発芽前
に土壌処理することにより、畑地の強雑草であるイヌビ
ユ、アオビユ、イノコズチ等のヒユ科雑草、スベリヒユ
等のスベリヒユ科雑草、アカザ、シロザ、コアカザ等の
アカザ科雑草、ツユクサ等のツユクサ科雑草、ハコベ、
ノミノフスマ、ミミナグサ、ツメクサ等のナデシコ科雑
草、エノキグサ、コニシキソウ等のトウダイグサ科雑草
等を有効に駆除することができるが、なかでもカモジグ
サ、メヒシバ、コメヒシバ、イヌビエ、エノコログサ、
アキノエノコログサ、スズメノテッポウ、スズメノカタ
ビラ等のイネ科雑草を極めて強力に駆除することがで
き、一方、トウモロコシ、ビート、ダイズ、ワタ、ダイ
コン、トマト、ニンジン、ハクサイ、レタス等の作物は
薬害を受けることはない。

【０１０８】さらに、前記（Ｉ）式の化合物は非農耕
地、山林等においても除草剤として有効に使用すること
ができる。

【０１０９】前記（Ｉ）式の化合物は、また、植物の伸
長を制御する作用を有しており、適当な時期、濃度で植
物体に処理するとき、その植物体は枯死することなく伸
長が制御されるので、伸長が好ましくない植物に対する
伸長抑制剤としても使用することができる。従って、本
発明の「除草剤」なる語には、植物伸長制御剤も包含す
る。

【０１１０】特に、芝の伸長制御剤として有利に使用す
ることができ、シバ、ハリシバ、コウライシバ等の日本
芝も有効に伸長を抑止しうるが、特にバーミュダグラ
ス、ペントグラス、ブルーグラス、フェスキュ、ライグ
ラス等の西洋芝の伸長をより有効に防止することがで
き、一般庭園、緑地、ゴルフ場等において好適に使用さ
れる。

【０１１１】また、前記一般式（Ｉ）の化合物は、アブ
ラムシ類、ツマグロヨコバイ、トビイロウンカ等の各種
の農園芸害虫に対して殺虫活性が高く、殺虫剤として有
効に使用することができる。

【０１１２】本発明の化合物は、担体及び必要に応じて
他の補助剤と混合して、除草剤及び殺虫剤として通常用
いられる製剤形態、例えば粉剤、粗粉剤、粒剤、顆粒
剤、水和剤、水溶剤、乳剤、液剤等に調製して使用され
る。ここでいう担体とは、有効成分化合物の植物への到
達性を助け又は有効成分の貯蔵、輸送若しくは取り扱い
を容易にするために除草剤中に混合される、合成又は天
然の無機又は有機物質を意味する。

【０１１３】適当な固体担体としては、例えば、カオリ
ナイト群、モンモリロナイト群、アタパルジャイト群等
で代表されるクレー類、タルク、雲母、葉ロウ石、軽
石、バーミキュライト、石膏、ドロマイト、けいそう
土、マグネシウム石灰、燐石灰、ゼオライト、無水ケイ
酸、合成ケイ酸カルシウム、カオリン、ベントナイト、
炭酸カルシウム等の無機物質、大豆粉、タバコ粉、クル
ミ粉、小麦粉、木粉、澱粉、結晶セルロース等の植物性
有機物質、クマロン樹脂、石油樹脂、アルキド樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリアルキレングリコール、ケトン樹
脂、エステルガム、コーパルガム、ダンマルガム等の合
成又は天然の高分子化合物、カルナバロウ、パラフィン
ロウ、蜜ロウ等のワックス類或は尿素等を挙げることが
できる。

【０１１４】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系若しくはナフテン系炭化水素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メチルナフタ
レン等の芳香族炭化水素、四塩化炭素、クロロホルム、
トリクロルエチレン、モノクロルベンゼン、C-クロルト
ルエン等の塩素化炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフ
ェノン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ア
ミル、エチレングリコールアセテート、ジエチレングリ
コールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエ
チル等のエステル類、メタノール、n-ヘキサノール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキ
サノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、エチ
レングリコールエチルエーテル、エチレングリコールフ
ェニルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールブチルエーテル等のエーテル
アルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等の極性溶媒或は水等を挙げることができる。

【０１１５】乳化、分散、湿潤、拡展、結合、崩壊性調
節、有効成分安定化、流動性改良、防錆、植物への吸収
促進等の目的で使用される界面活性剤は、イオン性でも
非イオン性でもよい。

【０１１６】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、脂肪酸の蔗糖エステル、ラウリルアルコール、ス
テアリルアルコール、オレイルアルコール等の高級脂肪
族アルコールの酸化エチレン重合付加物、イソオクチル
フェノール、ノニルフェノール等のアルキルフェノール
の酸化エチレン重合付加物、ブチルナフトール、オクチ
ルナフトール等のアルキルナフトールの酸化エチレン重
合付加物、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等
の高級脂肪酸の酸化エチレン重合付加物、ステアリル燐
酸ジラウリル燐酸等のモノ若しくはジアルキル燐酸の酸
化エチレン重合付加物、ドデシルアミン、ステアリン酸
アミド等の高級脂肪族アミンの酸化エチレン重合付加
物、ソルビタン等の多価アルコールの高級脂肪酸エステ
ル及びその酸化エチレン重合付加物並びに酸化エチレン
と酸化プロピレンの共重合体等を挙げることができる。

【０１１７】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、リラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール
硫酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、ス
ルホコハク酸ジオクチルエステルナトリウム、2-エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等を挙げることがで
きる。

【０１１８】適当な陽イオン性界面活性剤としては、例
えば、高級脂肪族アミン、高級脂肪族アミン酸化エチレ
ン縮合物等を挙げることができる。

【０１１９】さらに、本発明の除草剤及び殺虫剤には、
製剤の性状を改善し生物効果を高める目的で、他の成分
として、例えば、ゼラチン、アラビアゴム、カゼイン、
アルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、ポリビニルア
ルコール、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロ
ース、ヒドロキシメチルセルロース等の高分子化合物、
ポリリン酸ナトリウム、ベントナイト等のチキソトロピ
ー剤及びその他の補助剤を含有することもある。

【０１２０】上記の担体及び種々の補助剤は製剤の剤型
適用場面を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独に或は
組み合わされて適宜使用される。

【０１２１】粉剤は有効成分化合物を通常2 乃至10重量
部含有し、残部は固体担体である。水和剤は有効成分を
通常10乃至80重量部含有し、残部は固体担体、分散湿潤
剤であって、必要に応じて保護コロイド剤、チキソトロ
ピー剤、消泡剤等が加えられる。

【０１２２】粒剤は有効成分化合物を通常0.5 乃至10重
量部含有し、残部は大部分が固体担体である。有効成分
化合物は固体担体と均一に混合されているか或は固体担
体の表面に均一に固着若しくは吸着されており、粒の径
は約0.2 乃至1.5 mm程度である。

【０１２３】乳剤は有効成分を通常10乃至50重量部含有
しており、これに約5 乃至20重量部の乳剤が含まれ、残
部は液体担体であり、必要に応じて防錆剤が加えられ
る。

【０１２４】このようにして種々の剤型に調製された本
発明の化合物を、例えば、水田又は畑地において雑草の
発芽前又は発芽後に土壌処理するときは、10a あたり有
効成分として1 乃至1000g 好ましくは10乃至300gを投ず
ることにより、有効に雑草を駆除することができる。ま
た、非農耕地、例えば、道路、グランド、家屋敷地、線
路等において非選択的に雑草を駆除しようとするとき
は、10a あたり有効成分として200 乃至1000g を投ずる
ことにより、有効に雑草を駆除できる。

【０１２５】さらに、種々の剤型に調製された本発明の
化合物を、例えば、有害昆虫の寄生した農作物に散布す
る時は、有効成分濃度として100 乃至1000ppm を農作物
の茎葉又は土壌に処理することにより、有効に防除する
ことができる。

【０１２６】本発明の除草剤及び殺虫剤に対して、殺草
スペクトラムを広げるために他の除草剤が配合されるこ
とは好ましく、場合によっては相乗効果を期待すること
もできる。

【０１２７】本発明の除草剤及び殺虫剤は、もちろん他
の植物成長調節剤、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫
剤或は肥料等と混合して使用することができる。

【０１２８】次に、生物試験例を挙げて、具体的にその
効果を示す。

【０１２９】

【試験例１】 水田発芽前処理 100cm²ポットに水田土壌を充填し、休眠覚醒したタイヌ
ビエ、ホタルイの種子を表層1cm に混和した。また、催
芽したミズガヤツリ、クログワイの塊茎及びマツバイを
植え、さらに２葉期の水稲の苗を移植して湛水状態と
し、温室で生育させた。３日後に製剤例４で調製した水
和剤を用いて所定の薬量を湛水土壌処理し、２１日後に
次に示す判定基準に従って調査を行なった。その結果を
表４に示す。

【０１３０】判定基準 ０：生育抑制率 ０− １０％ １：生育抑制率１１− ３０％ ２：生育抑制率３１− ５０％ ３：生育抑制率５１− ７０％ ４：生育抑制率７１− ９０％ ５：生育抑制率９１−１００％

【０１３１】

【表４】

【０１３２】

【試験例２】試験例１と同じ方法でタイヌビエを播種
し、２葉期の水稲苗を移植して、３日後及びタイヌビエ
の２葉期に、製剤例４で調製した水和剤を用いて所定の
薬量を湛水土壌処理し、２１日後に調査を行なった。そ
の結果を表５に示す。（判定基準は試験例１と同じ）
尚、試験例２の比較化合物（Ａ）は、特公昭５６−１６
７６３号公報に記載の、

【０１３３】

【化１４】

【０１３４】である。

【０１３５】

【表５】

【０１３６】

【試験例３】モモアカアブラムシ防除試験 （接触性）本発明の有効成分化合物１０部、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム４部、ポリビニルアルコー
ル２部及びクレー８４部を均一に混合し、衝撃式粉砕機
で３回粉砕して水和剤を得た。この水和剤を水で所定濃
度に希釈し、これに展着剤（グラミン）０．０１％を加
え溶解し、薬液を作った。

【０１３７】モモアカアブラムシの寄生したコマツナ苗
から葉をとり、一葉あたり１０ｍｌの薬液をスプレーヤ
ーで散布した。この葉を葉柄を通して、水の入った３０
ｍｏｌのピンに差し込み、ピンの口を脱脂綿でふさぎ、
２５℃、７２時間後の死虫率を調べた。その結果を表６
に示す。

【０１３８】（浸透性）容量３０ｍｌのピンに前記に準
じて調整した所定濃度の薬液を入れ、モモアカアブラム
シの寄生したコマツナ苗の葉を葉柄を通して、水の入っ
た３０ｍｏｌのピンに差し込み、ピンの口を脱脂綿でふ
さぎ、２５℃、７２時間後の死虫率を調べた。その結果
を表６に示す。

【０１３９】なお、試験例３及び試験例４の比較化合物
（Ｂ）は、特許公告昭５３−４５３６７号公報に記載の

【０１４０】

【化１５】

【０１４１】である。

【０１４２】

【表６】 ──────────────────────────────────── 接触性（％） 浸透性（％） 化合物番号 ６．３ ３．２ (ppm) ６．３ ３．２ (ppm) ──────────────────────────────────── １ ７５ ４７ １００ １００ ２２ ９８ ６０ ９７ ９２ ２１７ １００ ５５ １００ ９４ ２３２ １００ ５８ １００ １００ ２４２ ５７ ３２ １００ １００ ２５２ ５１ ２４ ９８ ８６ 比較化合物（Ｂ） ４２ ３５ ８１ ７０ ────────────────────────────────────

【０１４３】

【試験例４】ツマグロヨコバイ及びトビイロウンカ防除
試験 イネ苗を植えたポットに、供試化合物の２％粉剤の所定
量をプラスチックシリンダー内で散布した。シリンダー
内に抵抗性ツマグロヨコバイ又はトビイロウンカの両種
とも終令幼虫１０〜１５頭を放ち、７２時間後の死虫率
を２ポットの合計から算出した。その結果を表７に示
す。

【０１４４】

【表７】 ──────────────────────────────────── ツマグロヨコバイ（％） トビイロウンカ（％） 化合物番号 ３．０^* １．５^* ３．０^* １．５^* ──────────────────────────────────── １ １００ １００ １００ １００ １５ １００ １００ １００ １００ ２２ １００ １００ １００ １００ １５７ １００ １００ １００ １００ ２１７ １００ １００ １００ １００ ２３２ １００ １００ １００ １００ ２６６ ６２ ４２ ９３ ８７ 比較化合物（Ｂ） ６２ ４６ ６０ ４１ ──────────────────────────────────── ＊：１０ａ当たり２％粉剤施用ｋｇ量（換算値）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本間 豊邦 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ¹ は、低級アルキル基、低級アルケニル基、
   低級アルキニル基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロ
   ゲン置換低級アルケニル基、低級アルコキシ置換低級ア
   ルキル基、フェノキシ置換低級アルキル基（該ベンゼン
   環にはハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
   基を置換してもよい）、低級アルキルメルカプト置換低
   級アルキル基、フェニルメルカプト置換低級アルキル基
   （該ベンゼン環にはハロゲン原子、低級アルキル基、低
   級アルコキシ基を置換してもよい）又はフェニル置換低
   級アルキル基（該ベンゼン環はハロゲン原子、低級アル
   キル基、低級アルコキシ基で置換されていてもよい）を
   示し、ｍは、０又は１を示し、ｎは、０、１又は２を示
   し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル基を示し、ｍが
   ０のとき、Ｒ¹ とＲ² は一緒になってアルキレン基を示
   してもよく、Ｒ³ は、低級アルキル基、低級アルケニル
   基、ハロゲン置換低級アルケニル基、低級アルコキシ置
   換低級アルキル基又はベンジルスルホニル基（該ベンゼ
   ン環はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
   基で置換されていてもよい）を示し、Ｒ⁴ は、低級アル
   キル基、低級アルケニル基、ベンジル基（該ベンゼン環
   はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基で
   置換されていてもよい）、式 【化２】 で表される基（式中、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 及びＲ⁷ は、同一又は
   異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、
   低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基、ニトロ基、
   シアノ基、低級アルキニルオキシ基又は低級アルコキシ
   カルボニル基を示す）又は式 【化３】 で表される基（式中、Ｒ⁸ は、水素原子又はトリフルオ
   ロメチル基を示す）を示し、又はＲ³ とＲ⁴ は一緒にな
   って窒素原子と共に、ヘテロ原子を含有するか又は含有
   しないで環上に低級アルキル基を置換基として有するか
   又は有しないヘテロ環をなし、Ｙ及びＺは、同一又は異
   なって、酸素原子又は硫黄原子を示す。）で表わされる
   化合物。
2. 【請求項２】一般式（ＩＩ） 【化４】 （式中、Ｒ¹ は、低級アルキル基、低級アルケニル基、
   低級アルキニル基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロ
   ゲン置換低級アルケニル基、低級アルコキシ置換低級ア
   ルキル基、フェノキシ置換低級アルキル基（該ベンゼン
   環はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
   で置換されていてもよい）、低級アルキルメルカプト置
   換低級アルキル基、フェニルメルカプト置換低級アルキ
   ル基（該ベンゼン環はハロゲン原子、低級アルキル基、
   低級アルコキシ基で置換されていてもよい）又はフェニ
   ル置換低級アルキル基（該ベンゼン環はハロゲン原子、
   低級アルキル基、低級アルコキシ基で置換されていても
   よい）を示し、ｍは、０又は１を示し、Ｒ² は、水素原
   子又は低級アルキル基を示し、ｍが０のとき、Ｒ¹ とＲ
   ² は一緒になってアルキレン基を示してもよい。但し、
   ｍが０のとき、Ｒ¹ はのルキル基及びフェニル基ではな
   い。）で表わされる、請求項１に記載の化合物の中間
   体。
3. 【請求項３】請求項１に記載の化合物を有効成分として
   含有する除草剤組成物。
4. 【請求項４】請求項１に記載の化合物を有効成分として
   含有する殺虫剤組成物。