JPH0537120A - 機能性回路基板 - Google Patents
機能性回路基板Info
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- JPH0537120A JPH0537120A JP3187926A JP18792691A JPH0537120A JP H0537120 A JPH0537120 A JP H0537120A JP 3187926 A JP3187926 A JP 3187926A JP 18792691 A JP18792691 A JP 18792691A JP H0537120 A JPH0537120 A JP H0537120A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 回路基板に対して、配線および部品実装の機
能だけでなく、コンデンサ、インダクタンス素子または
抵抗器としての機能を与える。 【構成】 誘電体の分散材を含有する樹脂からなる基板
本体2に導体3および4を設け、基板本体2自身が有す
る誘電体としての電気特性に基づき、コンデンサを回路
基板1内に構成する。基板本体2に含まれる誘電体に代
えて、磁性体、導体または半導体を用いれば、回路基板
自身によって、インダクタンス素子または抵抗器を与え
ることができる。 【効果】 回路基板上に実装されるべき部品を削減で
き、回路基板上に必要とされる部品実装のための面積を
削減することができる。
能だけでなく、コンデンサ、インダクタンス素子または
抵抗器としての機能を与える。 【構成】 誘電体の分散材を含有する樹脂からなる基板
本体2に導体3および4を設け、基板本体2自身が有す
る誘電体としての電気特性に基づき、コンデンサを回路
基板1内に構成する。基板本体2に含まれる誘電体に代
えて、磁性体、導体または半導体を用いれば、回路基板
自身によって、インダクタンス素子または抵抗器を与え
ることができる。 【効果】 回路基板上に実装されるべき部品を削減で
き、回路基板上に必要とされる部品実装のための面積を
削減することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、回路基板に関するも
ので、特に、回路基板が本来有する配線および部品実装
の機能に加えて、別の機能が付加された機能性回路基板
に関するものである。
ので、特に、回路基板が本来有する配線および部品実装
の機能に加えて、別の機能が付加された機能性回路基板
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、回路基板として、たとえばガラス
エポキシ等からなる基板本体に銅箔が付与されたものが
用いられ、銅箔には目的の回路に合った配線になるよう
にエッチング等を施すことによって回路が形成される。
このような回路基板には、個別の部品(IC、抵抗器、
コンデンサ、コイル等)がはんだ付けにより実装されて
いた。
エポキシ等からなる基板本体に銅箔が付与されたものが
用いられ、銅箔には目的の回路に合った配線になるよう
にエッチング等を施すことによって回路が形成される。
このような回路基板には、個別の部品(IC、抵抗器、
コンデンサ、コイル等)がはんだ付けにより実装されて
いた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、上
述したような回路基板に実装されるべき部品の少なくと
も1つが与える機能を、回路基板自身によって与え得る
ようにされた、機能性回路基板を提供しようとすること
である。
述したような回路基板に実装されるべき部品の少なくと
も1つが与える機能を、回路基板自身によって与え得る
ようにされた、機能性回路基板を提供しようとすること
である。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる機能性
回路基板は、誘電体、磁性体、導体または半導体の分散
材を含有する樹脂からなる基板本体と、前記基板本体自
身が有する電気特性を得るように前記基板本体に設けら
れる導体とを備えている。
回路基板は、誘電体、磁性体、導体または半導体の分散
材を含有する樹脂からなる基板本体と、前記基板本体自
身が有する電気特性を得るように前記基板本体に設けら
れる導体とを備えている。
【0005】ここで、各種の分散材としては粉末状のも
のが使用されるが、導体については箔片状、繊維状など
があり、使用用途に応じて適宜選択される。
のが使用されるが、導体については箔片状、繊維状など
があり、使用用途に応じて適宜選択される。
【0006】
【作用】この発明において、基板本体を構成する樹脂が
誘電体の分散材を含有している場合には、基板本体に設
けられる導体によってコンデンサを与えることができ
る。また、磁性体の分散材を含有する場合には、インダ
クタンス素子を与えることができ、導体あるいは半導体
の分散材を含有する場合には、抵抗器を与えることがで
きる。
誘電体の分散材を含有している場合には、基板本体に設
けられる導体によってコンデンサを与えることができ
る。また、磁性体の分散材を含有する場合には、インダ
クタンス素子を与えることができ、導体あるいは半導体
の分散材を含有する場合には、抵抗器を与えることがで
きる。
【0007】
【発明の効果】したがって、この発明によれば、回路基
板上に実装されるべきコンデンサ、コイル、抵抗器など
の部品の少なくとも1つを削減することができる。その
ため、部品コストおよび部品実装コストの削減を図るこ
とができるとともに、回路基板上での部品実装に要する
面積の削減を図ることができ、回路基板の小型化にも寄
与できる。
板上に実装されるべきコンデンサ、コイル、抵抗器など
の部品の少なくとも1つを削減することができる。その
ため、部品コストおよび部品実装コストの削減を図るこ
とができるとともに、回路基板上での部品実装に要する
面積の削減を図ることができ、回路基板の小型化にも寄
与できる。
【0008】
【実施例】まず、この発明に従って、誘電体、磁性体、
導体および半導体の各分散材をそれぞれ含有する樹脂か
らなる基板本体を作製し、それぞれの実用性を確認する
実験を行なった。
導体および半導体の各分散材をそれぞれ含有する樹脂か
らなる基板本体を作製し、それぞれの実用性を確認する
実験を行なった。
【0009】(1) 誘電体基板 エポキシワニス(主剤:「三菱油化エピコート100
1」100重量部、硬化剤:「ジシアンジアミド」4.
0重量部;促進剤:「イミダゾール2PZ−CNS」
0.2重量部;溶剤:「ジメチルフォルムアミド」40
〜400重量部)に、セラミック誘電体粉末を混ぜて、
約1時間攪拌し、複合ワニスを作製した。これを、ガラ
ス織布に浸漬後、シート状にして、150℃で約5分
間、乾燥させてシートを得た。このシートの両面に、銅
箔を配置して、170℃で30分間、ホットプレスした
後、160℃で1時間、エージングして、誘電体基板を
得た。
1」100重量部、硬化剤:「ジシアンジアミド」4.
0重量部;促進剤:「イミダゾール2PZ−CNS」
0.2重量部;溶剤:「ジメチルフォルムアミド」40
〜400重量部)に、セラミック誘電体粉末を混ぜて、
約1時間攪拌し、複合ワニスを作製した。これを、ガラ
ス織布に浸漬後、シート状にして、150℃で約5分
間、乾燥させてシートを得た。このシートの両面に、銅
箔を配置して、170℃で30分間、ホットプレスした
後、160℃で1時間、エージングして、誘電体基板を
得た。
【0010】以下の表1に、セラミック誘電体粉末を含
まない比較例およびこれを含むいくつかの実施例に関し
て、1MHzの周波数のもとで測定した比誘電率
(εr )が示されている。
まない比較例およびこれを含むいくつかの実施例に関し
て、1MHzの周波数のもとで測定した比誘電率
(εr )が示されている。
【0011】
【表1】
【0012】表1からわかるように、セラミック誘電体
粉末の混合割合を変えることにより、得られた誘電体基
板自身の比誘電率を変えることができる。なお、比誘電
率は、混合されるべきセラミック誘電体粉末の種類(す
なわち、粉末の比誘電率)を変えることによっても、変
えることができる。
粉末の混合割合を変えることにより、得られた誘電体基
板自身の比誘電率を変えることができる。なお、比誘電
率は、混合されるべきセラミック誘電体粉末の種類(す
なわち、粉末の比誘電率)を変えることによっても、変
えることができる。
【0013】(2) 磁性体基板 上記(1)で用いたエポキシワニスにBaフェライト粉
末を混ぜ、約1時間攪拌し、複合ワニスを作製した。こ
れをシート状にして、150℃で約5分間、乾燥させ
て、磁性体基板を得た。
末を混ぜ、約1時間攪拌し、複合ワニスを作製した。こ
れをシート状にして、150℃で約5分間、乾燥させ
て、磁性体基板を得た。
【0014】フェライト粉末を含まない比較例とこれを
含むいくつかの実施例について、比透磁率を測定したと
ころ、以下の表2に示すような結果が得られた。なお、
比透磁率は、試料となる基板を、外径30mm、内径2
0mmのリング状にして、ここにコイルを巻いて、周波
数1MHzのもとで測定した。
含むいくつかの実施例について、比透磁率を測定したと
ころ、以下の表2に示すような結果が得られた。なお、
比透磁率は、試料となる基板を、外径30mm、内径2
0mmのリング状にして、ここにコイルを巻いて、周波
数1MHzのもとで測定した。
【0015】
【表2】
【0016】表2からわかるように、磁性体基板の場合
にも、フェライト粉末の混合割合を変えることにより、
磁性体基板の比透磁率を変えることができる。また、磁
性体基板の比透磁率は、用いるフェライトの比透磁率を
変えることによっても変えることができる。
にも、フェライト粉末の混合割合を変えることにより、
磁性体基板の比透磁率を変えることができる。また、磁
性体基板の比透磁率は、用いるフェライトの比透磁率を
変えることによっても変えることができる。
【0017】上述した実施例では、ガラス織布を用いな
かったが、このような磁性体基板にも、ガラス織布を入
れてもよい。また、シート化するとき、金属板または金
属箔上においてシート化するようにしてもよい。この場
合、たとえば、トランスファーモールド、ホットプレス
などを用いることができる。
かったが、このような磁性体基板にも、ガラス織布を入
れてもよい。また、シート化するとき、金属板または金
属箔上においてシート化するようにしてもよい。この場
合、たとえば、トランスファーモールド、ホットプレス
などを用いることができる。
【0018】(3) 抵抗体(半導体)基板 上記(1)で用いたエポキシワニスに、カーボン、銅、
鉛、RuO2 のような導体の粉末、またはチタン酸バリ
ウム系半導体のような半導体の粉末を混ぜて混合ワニス
を作製し、これを用いて抵抗体(半導体)基板を得るこ
とができる。このような抵抗体基板において、その両面
に金属箔を貼り付けたり金属ペーストを印刷したりして
電極を形成すれば、電極間で抵抗を得ることができる。
このとき、電極の面積を変えたり、スルーホールにて両
面の電極の接続を行なうことにより、所要の抵抗値を得
ることができる。
鉛、RuO2 のような導体の粉末、またはチタン酸バリ
ウム系半導体のような半導体の粉末を混ぜて混合ワニス
を作製し、これを用いて抵抗体(半導体)基板を得るこ
とができる。このような抵抗体基板において、その両面
に金属箔を貼り付けたり金属ペーストを印刷したりして
電極を形成すれば、電極間で抵抗を得ることができる。
このとき、電極の面積を変えたり、スルーホールにて両
面の電極の接続を行なうことにより、所要の抵抗値を得
ることができる。
【0019】以下に、この発明に従って得られた機能性
回路基板の種々の構造例について説明する。
回路基板の種々の構造例について説明する。
【0020】図1および図2には、誘電体回路基板1が
示されている。回路基板1は、誘電体の粉末を含有する
樹脂からなる基板本体2を備える。基板本体2には、互
いに対向する導体3および4が設けられる。これら導体
3および4は、コンデンサ電極として機能し、基板本体
2自身が有する誘電体としての電気特性が導体3および
4によって取出される。したがって、このような誘電体
回路基板1を用いることにより、この回路基板1によっ
て構成される電気回路に含まれるコンデンサを回路基板
1自身によって与えることができる。
示されている。回路基板1は、誘電体の粉末を含有する
樹脂からなる基板本体2を備える。基板本体2には、互
いに対向する導体3および4が設けられる。これら導体
3および4は、コンデンサ電極として機能し、基板本体
2自身が有する誘電体としての電気特性が導体3および
4によって取出される。したがって、このような誘電体
回路基板1を用いることにより、この回路基板1によっ
て構成される電気回路に含まれるコンデンサを回路基板
1自身によって与えることができる。
【0021】図3および図4には、磁性体回路基板5が
示されている。この回路基板5は、磁性体の粉末を含有
する樹脂からなる基板本体6を備える。基板本体6に
は、コイル導体7が内蔵され、基板本体6の両主面上に
は、コイル導体7に電気的に接続される接続導体8およ
び9が設けられる。コイル導体7は、たとえば、リング
状の金属膜が順次接続されるように、多層印刷方式によ
って形成されても、予めコイル状とされた導体によって
与えられてもよい。また、コイル導体7に囲まれた部分
は、基板本体6の他の部分と同様、複合ワニスで充填さ
れても、フェライト焼結体を埋め込むようにしてもよ
い。
示されている。この回路基板5は、磁性体の粉末を含有
する樹脂からなる基板本体6を備える。基板本体6に
は、コイル導体7が内蔵され、基板本体6の両主面上に
は、コイル導体7に電気的に接続される接続導体8およ
び9が設けられる。コイル導体7は、たとえば、リング
状の金属膜が順次接続されるように、多層印刷方式によ
って形成されても、予めコイル状とされた導体によって
与えられてもよい。また、コイル導体7に囲まれた部分
は、基板本体6の他の部分と同様、複合ワニスで充填さ
れても、フェライト焼結体を埋め込むようにしてもよ
い。
【0022】上述した磁性体回路基板5によれば、基板
本体6自身が有する磁性体としての電気特性がコイル導
体7によって引出されることができるので、回路基板5
によって与えられる回路に含まれるインダクタンス素子
を、回路基板5自身によって構成することができる。
本体6自身が有する磁性体としての電気特性がコイル導
体7によって引出されることができるので、回路基板5
によって与えられる回路に含まれるインダクタンス素子
を、回路基板5自身によって構成することができる。
【0023】図5および図6は、抵抗体回路基板10を
示している。回路基板10は、導体の粉末を含有する樹
脂からなる基板本体11を備える。なお、基板本体11
に粉末として含有される「導体」は、一般に良導電性材
料として認識されているもののほか、半導体も含む。こ
のような基板本体11の両主面には、基板本体11自身
が有する抵抗体としての電気特性を得るように、導体1
2〜18が設けられる。導体12と導体13、導体14
と導体15、ならびに導体16と導体17および18
が、それぞれ互いに対向している。したがって、基板本
体11自身が有する抵抗体としての特性に基づき、図7
に示すような複数個の抵抗が回路基板10自身によって
与えられる。
示している。回路基板10は、導体の粉末を含有する樹
脂からなる基板本体11を備える。なお、基板本体11
に粉末として含有される「導体」は、一般に良導電性材
料として認識されているもののほか、半導体も含む。こ
のような基板本体11の両主面には、基板本体11自身
が有する抵抗体としての電気特性を得るように、導体1
2〜18が設けられる。導体12と導体13、導体14
と導体15、ならびに導体16と導体17および18
が、それぞれ互いに対向している。したがって、基板本
体11自身が有する抵抗体としての特性に基づき、図7
に示すような複数個の抵抗が回路基板10自身によって
与えられる。
【0024】図8および図9は、抵抗体回路基板の他の
例を示している。これら図面に示された抵抗体回路基板
19は、導体または半導体の粉末を含有する樹脂からな
る基板本体20を備え、基板本体20の両主面には、導
体21〜26が設けられる。導体21と導体22、導体
23と導体24、ならびに導体25と導体26が、それ
ぞれ互いに対向している。さらに、基板本体20には、
厚み方向に貫通するスルーホール導体27が設けられ、
このスルーホール導体27によって、導体24と導体2
5とが互いに接続される。したがって、この抵抗体回路
基板19は、図10に示すような複数個の抵抗を、それ
自身によって与える。
例を示している。これら図面に示された抵抗体回路基板
19は、導体または半導体の粉末を含有する樹脂からな
る基板本体20を備え、基板本体20の両主面には、導
体21〜26が設けられる。導体21と導体22、導体
23と導体24、ならびに導体25と導体26が、それ
ぞれ互いに対向している。さらに、基板本体20には、
厚み方向に貫通するスルーホール導体27が設けられ、
このスルーホール導体27によって、導体24と導体2
5とが互いに接続される。したがって、この抵抗体回路
基板19は、図10に示すような複数個の抵抗を、それ
自身によって与える。
【0025】このように、図5および図6に示した抵抗
体回路基板10または図8および図9に示した抵抗体回
路基板19によれば、回路基板10または19によって
与えられる回路に含む抵抗器を、回路基板10または1
9自身によって構成することができる。
体回路基板10または図8および図9に示した抵抗体回
路基板19によれば、回路基板10または19によって
与えられる回路に含む抵抗器を、回路基板10または1
9自身によって構成することができる。
【図1】この発明の一実施例による誘電体回路基板1の
一部を示す平面図である。
一部を示す平面図である。
【図2】図1の線II−IIに沿う断面図である。
【図3】この発明の他の実施例による磁性体回路基板5
の一部を示す平面図である。
の一部を示す平面図である。
【図4】図3の線IV−IVに沿う断面図である。
【図5】この発明のさらに他の実施例による抵抗体回路
基板10の一部を示す平面図である。
基板10の一部を示す平面図である。
【図6】図5の線VI−VIに沿う断面図である。
【図7】図5および図6に示した抵抗体回路基板10が
与える複数個の抵抗を示す図である。
与える複数個の抵抗を示す図である。
【図8】この発明のさらに他の実施例による抵抗体回路
基板19の一部を示す平面図である。
基板19の一部を示す平面図である。
【図9】図8の線IX−IXに沿う断面図である。
【図10】図8および図9に示した抵抗体回路基板19
が与える複数個の抵抗を示す図である。
が与える複数個の抵抗を示す図である。
1 誘電体回路基板 2,6,11,20 基板本体 3,4,7〜9,12〜18,21〜27 導体 5 磁性体回路基板 10,19 抵抗体回路基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原田 淳 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 今川 俊次郎 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 長久保 博 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 誘電体、磁性体、導体または半導体の分
散材を含有する樹脂からなる基板本体と、 前記基板本体自身が有する電気特性を得るように前記基
板本体に設けられる導体とを備える、機能性回路基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3187926A JPH0537120A (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | 機能性回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3187926A JPH0537120A (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | 機能性回路基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0537120A true JPH0537120A (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=16214621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3187926A Pending JPH0537120A (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | 機能性回路基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0537120A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10193848A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-07-28 | Rohm Co Ltd | 回路チップ搭載カードおよび回路チップモジュール |
JP2006148062A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-06-08 | Fujitsu Ltd | めっき方法、半導体装置の製造方法及び回路基板の製造方法 |
JP2009043223A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-26 | Murata Mfg Co Ltd | 無線icデバイス |
-
1991
- 1991-07-26 JP JP3187926A patent/JPH0537120A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10193848A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-07-28 | Rohm Co Ltd | 回路チップ搭載カードおよび回路チップモジュール |
JP2006148062A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-06-08 | Fujitsu Ltd | めっき方法、半導体装置の製造方法及び回路基板の製造方法 |
US7927998B2 (en) | 2004-10-18 | 2011-04-19 | Fujitsu Limited | Plating method, semiconductor device fabrication method and circuit board fabrication method |
JP4671802B2 (ja) * | 2004-10-18 | 2011-04-20 | 富士通株式会社 | めっき方法、半導体装置の製造方法及び回路基板の製造方法 |
US8058110B2 (en) | 2004-10-18 | 2011-11-15 | Fujitsu Limited | Plating method, semiconductor device fabrication method and circuit board fabrication method |
JP2009043223A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-26 | Murata Mfg Co Ltd | 無線icデバイス |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990629 |