JPH0534748A - 高調波発生装置 - Google Patents

高調波発生装置

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JPH0534748A
JPH0534748A JP3208490A JP20849091A JPH0534748A JP H0534748 A JPH0534748 A JP H0534748A JP 3208490 A JP3208490 A JP 3208490A JP 20849091 A JP20849091 A JP 20849091A JP H0534748 A JPH0534748 A JP H0534748A
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optical waveguide
harmonic
optical
fundamental wave
waveguide
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Shigeyoshi Misawa
成嘉 三澤
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 空間コヒーレンスが良好で点光源に近い性能
をもつ高調波を高効率で出射可能である。 【構成】 環状の光導波路4と、高調波出射用の光導波
路5とが非線形光学効果を有する基板3に形成されてお
り、光導波路4と光導波路5とは、光導波路4を導波す
る基本波に基づきこの光導波路4内において発生する高
調波が光導波路5に移行し光導波路5から出射されるよ
うな位置関係に配置され、また、光導波路4を導波する
基本波と高調波との間で擬似的位相整合をとるための分
極反転層7が光導波路4に沿って形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク装置やレー
ザビームプリンタ等の情報処理装置,光応用計測器等に
利用され、レーザ光の波長を短波長化し、高調波として
発生させる高調波発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、レーザ光である基本波の波長を短
波長化し、高調波として発生させるのに、特開平2−2
54427号に開示されているような高調波発生装置が
知られている。図2(a),(b)はそれぞれこの種の
高調波発生装置の平面図,側面図である。
【0003】この高調波発生装置では、Yカットされた
LiNbO3の基板11上に環状の3次元光導波路12
をプロトン交換法により形成し、レーザ光源14からの
レーザ光を光学系15を介して光導波路12内に基本波
として入射させて第2高調波を発生させるようにしてお
り、光導波路12を環状に構成することにより、光導波
路12に入射した基本波を環状の光導波路12内におい
てTEモードで矢印Rの向きに還流させることができ
る。また、屈折率制御電極13の印加電圧を調節するこ
とによりリング共振器の共振条件が満足されるよう光導
波路12内の導波モードの位相を調整することができ
る。
【0004】このような構成において、基板11の非線
形光学定数が最大となるd33を利用して高調波発生部1
2aが形成されている場合には、光導波路12に入射し
た基本波は高調波発生部12aにおいて第2高調波に変
換されて基板11内に放出される。基板11内に放出さ
れた第2高調波は、光導波路12の高調波発生部12a
の延設方向に沿って基板11内を下方に傾斜して伝播
し、図2(a),(b)に矢印Aで示すように、傾斜し
た端面11bから出射される。なお、端面11bを図2
(b)のように角度θが鋭角となるように加工すること
により、基板11内を傾斜して伝播する第2高調波を端
面11bから基板11上面と平行に出射させることがで
きる。
【0005】一方、高調波発生部12aにおいて第2高
調波に変換されない基本波は、光導波路12の高調波発
生部12aから第1湾曲部12b内に導入され、第1湾
曲部12bから傾斜部12c、モニター波発生部12
d、および第2湾曲部12eを通って、高調波発生部1
2a内へ還流される。この結果、光導波路12の高調波
発生部12a内を伝播する基本波は、新たに入射する基
本波に還流した基本波が加わったものとなるため、その
光密度は増大し、高効率で第2高調波を発生することが
できる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の高調波発生装置では、第2高調波は、光導波路
の高調波発生部12aの延設方向に沿って基板11内を
斜め方向に伝播する所謂チェレンコフ放射型のものとし
て発生し、この場合には比較的容易に第2高調波を得る
ことができるものの、その反面、光導波路12全体から
基板11内へ向かって放射状に斜めに第2高調波が発生
するので、この第2高調波は点光源とはなり得ず、ま
た、端面11bから出射される第2高調波が基板11上
面と平行になるよう端面11bに加工を施しても、この
第2高調波の空間コヒーレンスを良好なものにすること
ができないという問題があった。このため、上記高調波
発生装置は、高い波面精度の必要な光ディスクドライ
ブ,レーザプリンタ用の光源としては適していない。
【0007】本発明は、空間コヒーレンスが良好で点光
源に近い性能をもつ高調波を高効率で出射させることの
可能な高調波発生装置を提供することを目的としてい
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の高調波発生装置は、環状の第1の光導波路
と、高調波出射用の第2の光導波路とが非線形光学効果
を有する材料で形成された基板に形成されており、前記
第1の光導波路と前記第2の光導波路とは、前記第1の
光導波路を導波する基本波に基づき第1の光導波路内に
おいて発生する高調波が前記第2の光導波路に移行し第
2の光導波路から出射されるような位置関係に配置さ
れ、また、前記第1の光導波路を導波する基本波と高調
波との間で擬似的位相整合をとるための位相整合手段が
前記第1の光導波路に沿って形成されていることを特徴
としている。
【0009】また、前記第1の光導波路と前記第2の光
導波路とは、所定の間隔および所定の結合長で互いに近
接した結合部を有し、前記間隔および結合長を所定の値
に設定することにより、前記第1の光導波路で発生した
高調波のみを前記第2の光導波路に移行させるよう構成
されていることを特徴としている。
【0010】また、前記第2の光導波路は、単一モード
導波路として形成されていることを特徴としている。
【0011】
【作用】上記のような構成の高調波発生装置では、第1
の光導波路を基本波が導波することにより、第1の光導
波路内で高調波が発生する。この際、基本波は第1の光
導波路内を還流することにより光強度が増大し、また、
基本波とこれに基づき発生する高調波とは、第1の光導
波路に沿って形成されている位相整合手段によって擬似
位相整合がとれるので、第1の導波路内において高調波
を高効率で発生させることができる。第1の導波路内に
おいて高効率で発生した高調波は、第2の導波路に移行
し、第2の導波路から出射される。
【0012】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図1(a),(b)は本発明に係る高調波発生
装置の一実施例の平面図,側面図である。本実施例の高
調波発生装置は、所定波長の光を出射する光源1と、光
源1から出射された光を集光する集光光学系2と、非線
形光学定数をもつ基板3上に形成された光入射用の3次
元光導波路4´と、3次元光導波路4´と合流部Cにお
いて連結されている環状の3次元光導波路4と、基板3
上に3次元光導波路4と所定の間隔をへだてて近接して
形成された高調波出射用の3次元光導波路5と、環状の
光導波路4に沿って周期的に所定のピッチで形成された
分極反転領域7と、位相調整用の一対の電極6a,6b
とを有している。
【0013】光源1としては、コヒーレントな光を出射
するものであれば良く、半導体レーザに限らず、YAG
レーザ等の固体レーザや各種の気体レーザ,色素レーザ
等を用いることができる。また、集光光学系2には一般
にとつレンズが使用されるが、光を集光可能な光学系で
あれば、分布屈折率レンズ,フレネルレンズ等をも用い
ることができる。
【0014】また、本実施例では、基板3の材料に例え
ばLiNbO3の強誘電体結晶を用い、これを光学軸
(Z軸)にほぼ垂直な面で切出したものを(すなわちZ
カットされたものを)基板3として使用している。
【0015】また、光導波路4´,4,5は、例えばプ
ロトン交換法によって形成されており、光導波路4,5
の近接領域Dは、光導波路4と光導波路5との間で導波
モードの移行制御を行なう方向性結合器(カップリング
部)として機能するようになっている。すなわち、光導
波路4と光導波路5との間の間隔dおよび結合長lを適
宜設定することにより、光導波路4に励起された高調波
の導波モードのみを光導波路5に結合させ光導波路5に
移行させて、光導波路5から出射させるよう構成されて
いる。
【0016】また、分極反転領域7は、基板3のキュリ
ー点付近やや下の温度で基板3の一部にTiイオン等を
拡散させることにより、基板3の他の部分と分極方向が
反転した形で形成される。また、位相調整用の一対の電
極6a,6bは、図1の例では、一方の電極6aが光導
波路4上に設けられ、該電極6aから横方向にずれた位
置に他方の電極6bが設けられている。このような配置
に電極6a,6bを設け、電極6a,6b間に電圧を印
加すると、基板3の光学軸方向(Z方向)に電界が形成
されるので、この電界に基づく1次の電気光学効果によ
り、電極6a直下の光導波路4の部分の屈折率を変化
(低下)させ、光導波路4を伝播する導波光の位相を変
化させることができるようになっている。
【0017】次にこのような構成における高調波発生装
置の動作について説明する。光源1として例えば半導体
レーザを用い、半導体レーザ1からレーザ光を出射させ
ると、レーザ光は、集光光学系2によって3次元光導波
路4´の端面Aに集光され、光導波路4´に基本波とし
て入射する。光導波路4´に入射した基本波は、基板3
がZカットされているので、その異常光屈折率neによ
り、光導波路4´内をTMモードで伝播し、合流部Cか
ら環状の光導波路4内に入射する。
【0018】光導波路4に入射した基本波は、環状の光
導波路4内を矢印Rの向きに還流し、これにより、光導
波路4には、高調波,例えば、基本波の波長の半波長の
第2高調波が励起される。この場合、励起された高調波
は、光導波路4内を基本波とともに還流するが、光導波
路4と光導波路5との近接領域,すなわちカップリング
部Dにおける光導波路4,5間の間隔d,結合長lを適
宜設定しておくことにより、光導波路4内に励起された
高調波のみを選択的に光導波路5に移行させることがで
きる。すなわち、光導波路4中を伝播する基本波および
高調波の各導波モードは、基板3の材料の波長分散によ
って生じる等価屈折率差をもち光導波路4中を伝播する
各導波モードの伝播速度は互いに異なるので、これに合
せて、カップリング部Dにおける光導波路4,5間の間
隔d,結合長lを予め調整し設定しておくことにより、
高調波の導波モードのみを選択的に光導波路5に結合さ
せ光導波路5に移行させることができる。
【0019】具体的には、カップリング領域Dにおける
光導波路4,5間の間隔dを大きくすると、光導波路
4,5間の高調波導波モードに関する結合定数χが小さ
くなり、間隔dを小さくすると、結合定数χは大きくな
る傾向がある。また、結合長lは、結合定数χと次式の
関係がある。
【0020】
【数1】l=π/2χ
【0021】従って、間隔d,結合長lとしては、間隔
dを所定の値に設定したとすると、この間隔dにより定
まる結合定数χに基づき、数1の関係を満たすよう結合
長lを設定すれば良い。
【0022】このように、本実施例では、光導波路4内
を還流する基本波によって光導波路4内に高調波を励起
させ、これを光導波路4内で導波させることができ、さ
らに、光導波路4内を導波する高調波のみを選択的に光
導波路5に移行させ、光導波路5の端面Bから出射させ
ることができるので、従来のように高調波を基板端面か
らチェレンコフ放射により出射させる形式のものに比べ
て、空間コヒーレンスが良く点光源に近い状態で短波長
の高調波を出射させることができる。なお、光導波路
4,5としては基本波及び高調波の波長に対して単一モ
ード光導波路かそれに近い光導波となっているのが望ま
しく、例えば光導波路5が単一モード光導波路で構成さ
れているときには、光導波路5の端面Bから出射される
高調波の空間コヒーレンスをより良好なものにすること
ができ、点光源により近い状態で高調波を出射させるこ
とができる。
【0023】さらに、本実施例では、環状の光導波路4
に沿って周期的に所定のピッチで分極反転層7が形成さ
れているので、光導波路4を導波する基本波および高調
波の各導波モードは、互いに擬似位相整合がとられ、基
本波と高調波との相互作用長が長くなり、光導波路4に
おいて高調波を高い効率で発生させることができる。従
って、光導波路5の端面Bから高調波を従来に比べて一
層高効率で出射させることができる。
【0024】なお、高調波を高効率で発生させるため
に、具体的には分極反転層7を次式により定まるピッチ
1で周期的に形成するのが良い。
【0025】
【数2】 F1=2(2m+1)lc (m=0,1,2,…)
【0026】ここで、lcはコヒーレント長であり、基
本波の角周波数をω,第N高調波の角周波数をNω,基
本波の波長をλとするときに、コヒーレント長lcは次
式で与えられる。
【0027】
【数3】lc=λ/〔4(neff(Nω)−n
eff(ω))〕
【0028】但し、neff(Nω),neff(ω)はそれ
ぞれ第N高調波,基本波の光導波路4における等価屈折
率である。
【0029】さらに、本実施例では、一対の電極6a,
6bへの印加電圧を調節し、この電極部分に対応した光
導波路4の部分の屈折率を調整することにより、光導波
路4を還流する基本波の位相を調整することができる。
この際、光導波路4を還流して合流点Cに戻った基本波
と光導波路4´から合流点Cに新たに入射する基本波長
との位相が整合するよう電極6a,6bへの印加電圧を
設定すれば、基本波を還流させるに伴なって光導波路4
における基本波の光強度を増大させることができる。す
なわち、環状の光導波路4は、リング共振器として機能
し、電極6a,6bへの印加電圧を調節してリング共振
器の共振ピークに合せることにより、光導波路4内にお
ける基本波の光強度を増大させることができる。この結
果、光導波路4において高調波をさらに一層高効率で発
生させることができ、光導波路5の端面Bから高調波を
より高効率で出射させることができる。
【0030】なお、上述の実施例では、基板3にLiN
bO3を用いているが、基板3の材料に、比較的に安価
にかつ安定して作製可能なLiNb1-xTax3(0≦
x≦1)を用いれば、安価で安定した特性をもつ高調波
発生素子を得ることができる。特に、基板としてLiT
aO3の−Z板を用い、選択的にプロトン交換した後に
キュリ−点直下でアニ−ルすると容易に分極反転領域7
が形成できる。さらに、上記材料の他にも、KTiOP
4や、半導体非線形材料,有機非線形材料など,例え
ばZnSe,ZnS,GaAs等を用いることができ
る。
【0031】また、上述の実施例では、光導波路4´,
4,5をプロトン交換法によって形成しており、プロト
ン交換法により作成するときには、光導波路4´,4,
5を基板3に対して安定かつ容易に作成でき、安価かつ
安定した高調波発生装置を得ることができるが、光導波
路4´,4,5をプロトン交換法以外の方法で形成する
こともできる。例えば、Ti,Cu,Ag,Rb,C
s,Tl等の金属イオンによるイオン交換法(イオン注
入,酸化等をも含む)や、液相,気相成長等の結晶成長
法により形成することもできるし、あるいはスパッタリ
ング蒸着,塗布等の方法とエッチング,切削等を組合せ
てリッジ形の光導波路として形成することもできる。
【0032】さらに、光導波路4´,4の合流部Cにつ
いては、合流の角度φが小さくなるように設定されてい
るのが良く、また、光導波路4において曲率を有する部
分についても、導波損失を少なくするため、曲率ができ
るだけ小さく形成されているのが良い。
【0033】また、上述の実施例では、光導波路4を還
流する基本波の位相を調整するために一対の電極6a,
6bが設けられているが、電極6a,6bのかわりに、
光導波路4の一部あるいは全体の温度を例えば薄膜ヒー
タで変化させて光導波路4の屈折率を変化させ、これに
より位相を調整することもできる。あるいは、光源1の
波長を変化させることにより、リング共振器としての光
導波路4の共振ピークを合わせ、位相を調整することも
可能であり、この場合には、電極6a,6bや薄膜ヒー
タ等の装置を設けずとも良く、高調波発生装置をより簡
単な構成のものにすることができる。
【0034】さらに、上述の実施例では、基本波と高調
波との位相を整合させる位相整合手段として、周期的な
分極反転層7を光導波路4に沿って形成しているが、分
極反転層7のかわりに、所定ピッチをもつグレーティン
グ等を光導波路4に沿って形成しても良い。
【0035】この場合には、グレーティングを次式によ
り定まるピッチF2で周期的に形成するのが良い。
【0036】
【数4】F2=2mlc (m=1,2,3,…)
【0037】ここで、lcは数3によって与えられるコ
ヒーレント長である。グレーティングが数4の関係を満
たすピッチF2で形成されているときには、光導波路4
中にはこのピッチF2で周期的な屈折率変化が与えら
れ、この周期的な屈折率変化により基本波,高調波の導
波モード間で擬似位相整合がとれて、高調波を効率良く
発生させることができる。さらに、光導波路4中の周期
的な屈折率変化だけではなく、光導波路4の幅,深さを
周期的に変化させたり、光導波路4の上部表面に別の材
料で装荷型のグレーティングを設けたりすることによっ
て、擬似位相整合条件を満たさせ、高調波を効率良く発
生させることもできる。
【0038】但し、分極反転層7を形成する場合には、
グレーティング等によって周期的な屈折率変化を与える
場合に比べて、高調波をより効率良く発生させることが
できるので、高調波を高効率で得る目的のためには、グ
レーティング等でなく、分極反転層7を形成するのが良
い。
【0039】また、上述の実施例では、光導波路4の端
面Aに光源1からのレーザ光を集光光学系2で集光して
入射させ、光導波路4において、入射したレーザ光に基
づきTMモードの導波光,すなわち基本波を直接励起し
ているが、光導波路4上にプリズムカプラーやグレーテ
ィングカプラー等を設けて基本波を励起するようにして
も良い。
【0040】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
環状の第1の光導波路を還流する基本波に基づき第1の
光導波路内で発生した高調波を第2の光導波路に移行さ
せて第2の光導波路から出射するように構成し、また、
第1の導波路を導波する基本波と高調波とが位相整合が
とれるように構成しているので、空間コヒーレンスが良
好で点光源に近い性能をもつ高調波を高効率で出射させ
ることができる。
【0041】また、第1の光導波路と第2の光導波路と
の結合部の間隔および結合長を所定の値に設定し、前記
第1の光導波路で発生した高調波のみを前記第2の光導
波路に移行させるよう構成すれば、第2の光導波路から
は高調波のみを出射させることができ、高調波発生装置
を高性能のものにすることができる。
【0042】また、第2の光導波路を単一モード導波路
として形成すれば、第2の光導波路から出射される高調
波の空間コヒーレンスをより良好なものにすることがで
き、点光源により近い状態で高調波を出射させることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a),(b)は本発明に係る高調波発生装置
の一実施例の平面図,側面図である。
【図2】(a),(b)は従来の高調波発生装置の平面
図,側面図である。
【符号の説明】
1 光源 2 集光光学系 3 基板 4´,4,5 3次元光導波路 6a,6b 電極 7 分極反転層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 環状の第1の光導波路と、高調波出射用
    の第2の光導波路とが非線形光学効果を有する材料で形
    成された基板に形成されており、前記第1の光導波路と
    前記第2の光導波路とは、前記第1の光導波路を導波す
    る基本波に基づき第1の光導波路内において発生する高
    調波が前記第2の光導波路に移行し第2の光導波路から
    出射されるような位置関係に配置され、また、前記第1
    の光導波路を導波する基本波と高調波との間で擬似的位
    相整合をとるための位相整合手段が前記第1の光導波路
    に沿って形成されていることを特徴とする高調波発生装
    置。
  2. 【請求項2】 前記第1の光導波路と前記第2の光導波
    路とは、所定の間隔および所定の結合長で互いに近接し
    た結合部を有し、前記間隔および結合長を所定の値に設
    定することにより、前記第1の光導波路で発生した高調
    波のみを前記第2の光導波路に移行させるよう構成され
    ていることを特徴とする請求項1記載の高調波発生装
    置。
  3. 【請求項3】 前記第2の光導波路は、単一モード導波
    路として形成されていることを特徴とする請求項1また
    は2記載の高調波発生装置。
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