JPH06160919A - 波長変換装置 - Google Patents

波長変換装置

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Publication number
JPH06160919A
JPH06160919A JP33240492A JP33240492A JPH06160919A JP H06160919 A JPH06160919 A JP H06160919A JP 33240492 A JP33240492 A JP 33240492A JP 33240492 A JP33240492 A JP 33240492A JP H06160919 A JPH06160919 A JP H06160919A
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JP
Japan
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optical waveguide
wave
conversion device
wavelength conversion
fundamental wave
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Application number
JP33240492A
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English (en)
Inventor
Hiroaki Fukuda
浩章 福田
Shigeyoshi Misawa
成嘉 三澤
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 波長フィルタなどを必要とせずに変換波のみ
を出射可能であって、さらには光源のオン・オフによら
ずに変換波を高速変調可能である。 【構成】 第1の光導波路4を基本波が導波することに
より、基本波は第1の光導波路4内を還流して光強度が
増大し、この基本波に基づき第1の光導波路4内では変
換波が発生する。第1の光導波路4内において発生した
変換波は、第1の光導波路4と第2の光導波路5との結
合部Dにおいて第2の光導波路5に移行し、第2の光導
波路5から出射される。この際、第1の光導波路4と第
2の光導波路5との結合部Dに導波光の位相を変化させ
るための電極8a,8bが設けられているときには、電
極8a,8bに加える電圧を変化させることにより、変
換波を第2の光導波路5に移行させたり移行させなかっ
たりすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク装置やレー
ザビームプリンタ等の情報処理装置,光応用計測器等に
利用される高調波発生装置などの波長変換装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、レーザ光である基本波の波長を短
波長化し、高調波として発生させるのに、特開平2−2
54427号に開示されているような高調波発生装置が
知られている。図7(a),(b)はこの種の高調波発
生装置の平面図,側面図である。
【0003】この高調波発生装置では、Yカットされた
LiNbO3の基板11上に環状の3次元光導波路12
をプロトン交換法により形成し、レーザ光源14からの
レーザ光を光学系15を介して光導波路12内に基本波
として入射させて第2高調波を発生させるようにしてお
り、光導波路12を環状に構成することにより、光導波
路12に入射した基本波を環状の光導波路12内におい
てTEモードで矢印Rの向きに還流させることができ
る。また、屈折率制御電極13の印加電圧を調節するこ
とによりリング共振器の共振条件が満足されるよう光導
波路12内の導波モードの位相を調整することができ
る。
【0004】このような構成において、基板11の非線
形光学定数が最大となるd33を利用して高調波発生部1
2aが形成されている場合には、光導波路12に入射し
た基本波は高調波発生部12aにおいて第2高調波に変
換されて基板11内に放出される。基板11内に放出さ
れた第2高調波は、光導波路12の高調波発生部12a
の延設方向に沿って基板11内を下方に傾斜して伝播
し、図7(a),(b)に矢印Aで示すように、傾斜し
た端面11bから出射される。なお、端面11bを図7
(b)のように角度θが鋭角となるように加工すること
により、基板11内を傾斜して伝播する第2高調波を端
面11bから基板11上面と平行に出射させることがで
きる。
【0005】一方、高調波発生部12aにおいて第2高
調波に変換されない基本波は、光導波路12の高調波発
生部12aから第1湾曲部12b内に導入され、第1湾
曲部12bから傾斜部12c、モニター波発生部12
d、および第2湾曲部12eを通って、高調波発生部1
2a内へ還流される。この結果、光導波路12の高調波
発生部12a内を伝播する基本波は、新たに入射する基
本波に還流した基本波が加わったものとなるため、その
光密度は増大し、高効率で第2高調波を発生することが
できる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の高調波発生装置では、第2高調波は、光導波路
の高調波発生部12aの延設方向に沿って基板11内を
斜め方向に伝播する所謂チェレンコフ放射型のものとし
て発生し、この場合には比較的容易に第2高調波を得る
ことができるものの、その反面、光導波路12全体から
基板11内へ向かって放射状に斜めに第2高調波が発生
するので、この第2高調波は点光源とはなり得ず、ま
た、端面11bから出射される第2高調波が基板11上
面と平行になるよう端面11bに加工を施しても、この
第2高調波の空間コヒーレンスを良好なものにすること
ができないという問題があった。このため、上記高調波
発生装置は、高い波面精度の必要な光ディスクドライ
ブ,レーザプリンタ用の光源としては適していない。さ
らに、この種の従来の波長変換装置では、光を高速変調
しようとする場合には、これをレ−ザ光源のオン・オフ
により行なわなければならず、レ−ザ光源に半導体レ−
ザが用いられる場合には、そのオン・オフに対して波長
変動が生じるため、通常は位相整合をとるのが極めて難
しいという欠点があった。また、従来では、変換されな
かった基本波を第2高調波から分離させるのが難かし
く、第2高調波のみを出射させるのに、波長フィルタが
さらに必要となるなどの問題があった。
【0007】本発明は、空間コヒーレンスが良好で点光
源に近い性能をもつ変換波を高効率で出射させることの
可能な波長変換装置を提供することを目的としている。
さらに、本発明は、波長フィルタなどを必要とせずに変
換波のみを出射させることが可能であって、さらには光
源のオン・オフによらずに変換波を高速変調することの
可能な波長変換装置を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の波長変換装置は、環状の第1の光導波路
と、変換波出射用の第2の光導波路とが非線形光学効果
を有する材料で形成された基板上または基板中に形成さ
れており、前記第1の光導波路と前記第2の光導波路と
は、前記第1の光導波路を導波する基本波に基づき第1
の光導波路内において発生する変換波が前記第2の光導
波路に移行し第2の光導波路から出射されるような位置
関係に配置されていることを特徴としている。また、第
1の光導波路と前記第2の光導波路とは、所定の間隔お
よび所定の結合長で互いに近接した結合部を有し、該結
合部には、導波光の位相を変化させるための電極が形成
されており、該電極に加える電圧を変化させることで、
導波光の位相を変化させ、前記第1の光導波路で発生し
た変換波を前記第2の光導波路に移行させたり移行させ
なかったりする光変調がなされるよう構成されているこ
とを特徴としている。
【0009】
【作用】上記のような構成の波長変換装置では、第1の
光導波路を基本波が導波することにより、基本波は第1
の光導波路内を還流して光強度が増大し、この基本波に
基づき第1の光導波路内では変換波が発生する。第1の
光導波路内において発生した変換波は、第1の光導波路
と第2の光導波路との結合部において第2の導波路に移
行し、第2の導波路から出射される。
【0010】この際、第1の光導波路と第2の光導波路
との結合部に導波光の位相を変化させるための電極が設
けられているときには、電極に加える電圧を変化させる
ことにより、変換波を第2の光導波路に移行させたり移
行させなかったりすることができ、第2の光導波路から
出射する変換波を変調することができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図1(a),(b)は本発明に係る波長変換装
置の一実施例の平面図,側面図である。本実施例の波長
変換装置は、所定波長の光を出射する光源1と、光源1
から出射された光を集光する集光光学系2と、非線形光
学定数をもつ基板3上に形成された光入射用の3次元光
導波路4´と、3次元光導波路4´と合流部Cにおいて
連結されている環状の3次元光導波路4と、基板3上に
3次元光導波路4と所定の間隔をへだてて近接して形成
された変換波出射用の3次元光導波路5と、環状の光導
波路4に沿って所定のピッチで周期的に形成された分極
反転領域7と、位相調整用の一対の電極6a,6bとを
有している。
【0012】光源1としては、コヒーレントな光を出射
するものであれば良く、半導体レーザに限らず、YAG
レーザ等の固体レーザや各種の気体レーザ,色素レーザ
等を用いることができる。また、集光光学系2には一般
にとつレンズが使用されるが、光を集光可能な光学系で
あれば、分布屈折率レンズ,フレネルレンズ等をも用い
ることができる。
【0013】また、本実施例では、基板3には、例えば
非線形材料LiTaO3からなる単結晶基板(基板方位
が例えば−c板)が用いられている。あるいは、基板3
にLiNbO3や、MgOをド−プしたLiNbO3基板
や、KTiOPO4基板などをも用いることもできる。
【0014】また、光導波路4´,4,5は、基板3よ
りも高い屈折率をもつ3次元導波路であり、例えばプロ
トン交換法によって基板3上に形成されている。ここ
で、光導波路4,5の近接領域Dは、光導波路4と光導
波路5との間で導波モードの移行制御を行なう方向性結
合器(カップリング部)として機能するようになってい
る。すなわち、光導波路4と光導波路5との間の間隔d
および結合長lを適宜設定することにより、光導波路4
に励起された変換波の導波モードのみを光導波路5に結
合させ光導波路5に移行させて、光導波路5から出射さ
せるよう構成されている。
【0015】また、分極反転領域7は、周期的にプロト
ン交換した後、基板3のキュリー点付近やや下の温度で
熱処理することにより、基板3の他の部分と分極方向が
反転した形で形成される。また、位相調整用の一対の電
極6a,6bは、図1の例では、一方の電極6aが光導
波路4上に設けられ、該電極6aから横方向にずれた位
置に他方の電極6bが設けられている。このような配置
に電極6a,6bを設け、電極6a,6b間に電圧を印
加すると、基板3の光学軸方向(図1において、紙面に
垂直な方向)に電界が形成されるので、この電界に基づ
く1次の電気光学効果により、電極6a直下の光導波路
4の部分の屈折率を変化(低下)させ、光導波路4を伝
搬する導波光の位相を変化させることができるようにな
っている。
【0016】さらに、本実施例では、光導波路4と光導
波路5とのカップリング部Dにおいて、光導波路4上と
光導波路5上とに、導波光の位相を変化させるための一
対の電極8a,8bがそれぞれ設けられており、一対の
電極8a,8b間に加える電圧を変化させることによ
り、光導波路4に励起された変換波を光導波路5に移行
させたり移行させなかったりすることができ、これによ
り、光導波路5から出射する変換波の光変調を行なうこ
とができるようになっている。
【0017】上記のような構成の波長変換装置は、例え
ば、次のような方法により作製される。すなわち、基板
3にLiTaO3の−c板を用いる場合には、LiTa
3の−c板を洗浄後、Taを用いて図1に符号PLで
示す部分(斜線部)以外の基板部分をマスクし周期的パ
タ−ンを形成した後、ピロリン酸あるいは安息香酸等の
溶液中で約260℃の温度でプロトン交換を行なう。そ
の後、Taのマスクを除去した後、LiTaO3結晶の
キュリ−点直下の温度(600℃)で熱処理することに
よりマスクされていない部分に分極が反転した領域7を
形成することができる。この分極反転領域7の厚さは、
プロトン交換時間,熱処理時間等を変化させることによ
り調整できる。なお、LiNbO3結晶を用いた場合に
は、周期的にTiを拡散、あるいは周期的にSiO2
を装荷した後、キュリ−点直下(1000℃)まで加熱
し急冷することにより、周期的分極反転層7を形成する
ことができる。
【0018】このようにして分極反転領域7を形成した
後、3次元導波路4',4,5を形成する。すなわち、
Taを用いて3次元導波路部分4',4,5の上面以外
をマスクした後、ピロリン酸あるいは安息香酸等の溶液
中で約260℃程度の温度でプロトン交換することによ
り、マスクされていない部分に高屈折率層を形成して3
次元導波路4',4,5を作製できる。また、Rb、C
s、Ag等の金属を約300〜400℃付近で拡散する
ことによっても3次元導波路を作製することが可能であ
る。さらにKTiOPO4結晶のc板を用いた場合に
は、RbNO3/Ba(NO32の溶融塩をイオン源に
することにより、イオン交換により上記同様の3次元導
波路を作製することができる。また、3次元導波路はT
i、Cu等を約1000℃程度の温度で拡散することに
よっても作製できる。なお、LiNbO3結晶を用いた
場合には、そのキュリ−点が約1100℃であるので、
ポ−リングを行なって分極方向を揃える必要は無いが、
LiTaO3結晶を用いた場合には、キュリ−点が約6
00℃であるので、3次元導波路作製後、結晶のc軸方
向にキュリ−点近くの温度で電界を印加し分極を揃える
必要がある。また、LiTaO3結晶は、光損傷しきい
値が高いため光損傷に強いという特徴がある。
【0019】また、電極6a,6b,8a,8bは、プ
ラズマCVD法を用いて形成したシリコン酸化膜のバッ
ファ層上に電界めっき法を用いて形成することができ
る。すなわち、バッファ層の上に、接着層としてNiC
r−Auを蒸着した後、厚膜レジストをパタ−ニング
し、そのパタ−ンをガイドにしてAuを電界めっきで成
長させた後、レジストリム−バでレジスト部分を除去
し、Auめっき以外をエッチングで除去して形成するこ
とができる。また、材料がAl、Niの場合はリフトオ
フ法、フォトリソグラフィ−法等で形成できる。
【0020】次にこのような構成における波長変換装置
の動作について説明する。光源1として例えば半導体レ
ーザを用い、半導体レーザ1からレーザ光を出射させる
と、レーザ光は、集光光学系2によって3次元光導波路
4´の端面Aに集光され、光導波路4´に基本波として
入射する。光導波路4´に入射した基本波は、合流部C
から環状の光導波路4内に入射する。
【0021】光導波路4に入射した基本波は、環状の光
導波路4内を矢印Rの向きに還流し、これにより、光導
波路4には、変換波,例えば、基本波の波長の半波長の
第2高調波が励起される。この場合、励起された高調波
は、光導波路4内を基本波とともに還流するが、光導波
路4と光導波路5との近接領域,すなわちカップリング
部Dにおける光導波路4,5間の間隔d,結合長lを適
宜設定しておくことにより、光導波路4内に励起された
変換波(高調波)のみを選択的に光導波路5に移行させ
ることができる。すなわち、光導波路4中を伝播する基
本波および変換波の各導波モードは、基板3の材料の波
長分散によって生じる等価屈折率差をもち光導波路4中
を伝播する各導波モードの伝播速度は互いに異なるの
で、これに合せて、カップリング部Dにおける光導波路
4,5間の間隔d,結合長lを予め調整し設定しておく
ことにより、変換波(高調波)の導波モードのみを選択
的に光導波路5に結合させ光導波路5に移行させること
ができる。
【0022】具体的には、カップリング領域Dにおける
光導波路4,5間の間隔dを大きくすると、光導波路
4,5間の変換波導波モードに関する結合定数χが小さ
くなり、間隔dを小さくすると、結合定数χは大きくな
る傾向がある。また、結合長lは、結合定数χと次式の
関係がある。
【0023】
【数1】l=π/2χ
【0024】従って、間隔d,結合長lとしては、間隔
dを所定の値に設定したとすると、この間隔dにより定
まる結合定数χに基づき、数1の関係を満たすよう結合
長lを設定すれば良い。
【0025】さらに、本実施例では、この結合部分に電
極8a,8bが配置されているので、この電極8a,8
b間に電圧を印加することにより導波モ−ドの結合状態
を屈折率変化により制御できて、導波路端面Bからの出
射光を変調することができる。すなわち、電極8a,8
b間に所定の電圧を印加したり、印加しなかったりする
ことにより、環状の光導波路4から光導波路5へ変換波
を移行させたり移行させなかったり制御することがで
き、変換波を高速に光変調することができる。
【0026】このように、本実施例では、光導波路4内
を還流する基本波によって光導波路4内に変換波(例え
ば第2高調波)を励起させ、これを光導波路4内で導波
させることができ、さらに、光導波路4内を導波する変
換波のみを選択的に光導波路5に移行させ、光導波路5
の端面Bから出射させることができるので、従来のよう
に変換波を基板端面からチェレンコフ放射により出射さ
せる形式のものに比べて、空間コヒーレンスが良く点光
源に近い状態で波面精度の良い短波長の変換波を出射さ
せることができる。なお、光導波路4,5としては基本
波及び変換波の波長に対して単一モード光導波路かそれ
に近い光導波となっているのが望ましく、例えば光導波
路5が単一モード光導波路で構成されているときには、
光導波路5の端面Bから出射される変換波の空間コヒー
レンスをより良好なものにし、さらに波面精度をより良
好なものにすることができ、点光源により近い状態で変
換波を出射させることができる。
【0027】また、光源1をオン・オフせずとも、電極
8a,8b間に加える電圧を変化させることにより、光
導波路5の端面Bから出射される変換波(高調波)の高
速な光変調が可能となる。
【0028】また、本実施例では、一対の電極6a,6
bへの印加電圧を調節し、この電極部分に対応した光導
波路4の部分の屈折率を調整することにより、光導波路
4を還流する基本波の位相を調整することができる。こ
の際、光導波路4を還流して合流点Cに戻った基本波と
光導波路4´から合流点Cに新たに入射する基本波長と
の位相が整合するよう電極6a,6bへの印加電圧を設
定すれば、基本波を還流させるに伴なって光導波路4に
おける基本波の光強度を増大させることができる。すな
わち、環状の光導波路4は、リング共振器として機能
し、電極6a,6bへの印加電圧を調節してリング共振
器の共振ピークに合せることにより、光導波路4内にお
ける基本波の光強度を増大させることができる。この結
果、光導波路4において高調波をさらに一層高効率で発
生させることができ、光導波路5の端面Bから高調波を
より高効率で出射させることができる。なお、この際
に、光導波路4´,4の合流部Cについては、合流の角
度φが小さくなるように設定されているのが良く、ま
た、光導波路4において曲率を有する部分についても、
導波損失を少なくするため、曲率ができるだけ小さく形
成されているのが良い。
【0029】さらに、本実施例では、環状の光導波路4
に沿って周期的に所定のピッチで分極反転層7が形成さ
れているので、光導波路4を導波する基本波および変換
波(高調波)の各導波モードは、互いに擬似位相整合が
とられ、基本波と変換波との相互作用長が長くなり、光
導波路4において変換波を高い効率で発生させることが
できる。従って、光導波路5の端面Bから変換波を従来
に比べて一層高効率で出射させることができる。
【0030】なお、変換波として例えば第2高調波を高
効率で発生させるために、具体的には分極反転層7を次
式により定まるピッチΛで周期的に形成するのが良い。
【0031】
【数2】 Λ=(2m−1)λ/〔2{N(λ/2)−N(λ)}〕 (m=0,1,2,…)
【0032】ここで、λは基本波の波長であり、N
(λ)は基本波に対する等価屈折率であり、N(λ/
2)は基本波の第2高調波に対する等価屈折率であり、
上記数2は基本波の伝搬定数をβ(λ),第2高調波の
伝搬定数をβ(λ/2)として、次式から導出されたも
のである。
【0033】
【数3】 β(λ/2)−2β(λ)=2(2m−1)π/Λ β(λ)=2πN(λ)/λ
【0034】より具体的に説明すると、いま、基板3に
LiTaO3結晶が用いられている場合には、波長0.
83μmの基本波では基板の屈折率の波長分散は、常光
に相当する電界方向がx方向を向いているEx 00モード
を用いた場合で2.1509、異常光に相当する電界方
向がz方向を向いているEz 00モードを用いた場合で
2.1550、波長0.415μmの第2高調波の波長
では常光に相当する電界方向がx方向を向いているEx
00モードを用いた場合で2.2422、異常光に相当す
る電界方向がz方向を向いているEz 00モードを用いた
場合で2.2740である。ここで、導波路深さが1.
8μm、導波路と基板との間の屈折率差が0.01であ
る場合の、Ez 00モードの基本波の波長0.83μmに
おける、導波路幅に対する等価屈折率分散は図2のよう
になる。またEz 00モードの基本波の波長0.415μ
mにおける導波路幅に対する等価屈折率分散は図3のよ
うになる。
【0035】ここで、一数値例として、導波路幅が4.
0μmで、基本波に波長0.83μmのEz 00モードを
用い、第2高調波に波長0.415μmのEz 00モード
を用いた場合、数2に基づき、1次の擬似位相整合を行
なうための分極反転の周期は約3.34μm、3次の擬
似位相整合を行なうための分極反転の周期は約10.0
μmになる。プロトン交換導波路ではEz 00モードのみ
が導波するので、このような偏波を用いる必要がある。
【0036】また高調波発生のための位相整合部分は、
図4に示すように光導波路4に沿って複数個配置するこ
とにより、より高効率に高調波を発生させることができ
る。さらに、前記複数個の位相整合部分において、それ
ぞれ異なった周期Λの周期構造を持つように配置する
と、光源の波長が変動しても安定に高調波を発生するこ
とができる。
【0037】また上記実施例のほかに、図5に示すよう
に、基板にLiNbO3結晶のc板を用いても同様な効
果を得ることが可能である。また基本波の波長が1.0
μm以上である場合には、周期的分極反転層が無くても
位相整合が可能である。この場合に、素子は、図6に示
すように、基板にLiNbO3結晶のb板を用い、基本
波にEy 00モード、第2高調波にEz 00モードを用いると
結晶の複屈折を利用して位相整合をとることが可能にな
る。
【0038】上記実施例において、LiTaO3結晶、
LiNbO3結晶共に一軸性の光学結晶であり、光学軸
をz軸にとった場合、z軸に垂直な方向は光学的に等方
であるため、y軸、x軸の区別は特になく、両者を交換
しても効果は同様である。
【0039】なお、上述の実施例では、光導波路4を還
流する基本波の位相を調整するために一対の電極6a,
6bが設けられているが、電極6a,6bのかわりに、
光導波路4の一部あるいは全体の温度を例えば薄膜ヒー
タで変化させて光導波路4の屈折率を変化させ、これに
より位相を調整することもできる。あるいは、光源1
に、半導体レーザ等を用いた場合には、その波長を変化
させることにより、リング共振器としての光導波路4の
共振ピークを合わせ、位相を調整することも可能であ
り、この場合には、電極6a,6bや薄膜ヒータ等の装
置を設けずとも良く、波長変換装置をより簡単な構成の
ものにすることができる。
【0040】また、上述の実施例では、光導波路4の端
面Aに光源1からのレーザ光を集光光学系2で集光して
入射させ、光導波路4において、入射したレーザ光に基
づきTMモードの導波光,すなわち基本波を直接励起し
ているが、光導波路4上にプリズムカプラーやグレーテ
ィングカプラー等を設けて基本波を励起するようにして
も良い。
【0041】
【発明の効果】以上に説明したように、請求項1記載の
発明によれば、環状の第1の光導波路を還流する基本波
に基づき第1の光導波路内で発生した変換波を第2の光
導波路に移行させて第2の光導波路から出射するように
しているので、空間コヒーレンス,波面精度が良好で点
光源に近い性能をもつ変換波を出射させることができ
る。
【0042】また、請求項2記載の発明では、第1の光
導波路と前記第2の光導波路とは、所定の間隔および所
定の結合長で互いに近接した結合部を有し、該結合部に
は、導波光の位相を変化させるための電極が形成されて
おり、該電極に加える電圧を変化させることで、導波光
の位相を変化させ、前記第1の光導波路で発生した変換
波のみを前記第2の光導波路に移行させるよう構成され
ているので、光源などをオン・オフしたりせずとも、第
2の光導波路から出射する変換波を変調することができ
る。
【0043】また、請求項3記載の発明では、第2の光
導波路を単一モード導波路として形成しているので、第
2の光導波路から出射される変換波の空間コヒーレン
ス,波面精度をより良好なものにすることができ、点光
源により近い状態で変換波を出射させることができる。
【0044】また、請求項4記載の発明では、基本波レ
ーザ光の波長をλとするとき、基本波の導波モードに対
する伝搬定数をβ(λ)、基本波に対する第2高調波の
伝搬定数をβ(λ/2)、mを自然数とすると、 Λ=2(2m−1)π/{β(λ/2)−2β(λ)} なる関係を満たすような周期Λの分極反転構造を有して
いるので、第2高調波発生を行なう非線形媒質の種類を
増やすことができ、さらに、位相整合可能な波長領域を
広げ、任意の波長の第2高調波を発生させることができ
る。
【0045】また、請求項5記載の発明では、異なった
周期を持つ周期構造を備えた位相整合部分を複数個環状
導波路に沿って配置しているので、光源の波長が変化し
た場合においても安定に高調波を発生することができ
る。
【0046】また、請求項6記載の発明では、非線形媒
質にLiTaO3の−c板を用いているので、同一基板
上に大量に波長変換装置を作製可能でありコストダウン
を図ることができ、また、光導波路をプロトンをドープ
して作製できるので、波長変換装置を安定に作製するこ
とが可能である。
【0047】また、請求項7記載の発明では、非線形媒
質にLiNbO3のc板を用いているので、より低コス
トに作製可能であり、また、プロトンをドープするかあ
るいはTiを拡散して光導波路を作製できるので、波長
変換装置を安定に作製することができる。
【0048】また、請求項8記載の発明では、位相整合
部分に周期構造を必要としないので、作製工程の工程数
を軽減でき、コストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る波長変換装置の構成例を示す図で
ある。
【図2】導波路深さが1.8μm、導波路と基板との間
の屈折率差が0.01である場合の、Ez 00モードの基
本波の波長0.83μmにおける導波路幅に対する等価
屈折率分散を示す図である。
【図3】導波路深さが1.8μm、導波路と基板との間
の屈折率差が0.01である場合の、Ez 00モードの基
本波の波長0.415μmにおける導波路幅に対する等
価屈折率分散を示す図である。
【図4】位相整合部分が光導波路に沿って複数個配置さ
れた波長変換装置の構成例を示す図である。
【図5】基板にLiNbO3結晶のc板を用いた波長変
換装置の構成例を示す図である。
【図6】基板にLiNbO3結晶のb板を用いた波長変
換装置の構成例を示す図である。
【図7】(a),(b)は従来の高調波発生装置の平面
図,側面図である。
【符号の説明】
1 光源 2 集光光学系 3 基板 4´,4,5 3次元光導波路 6a,6b 電極 7 分極反転層 8a,8b 電極

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 環状の第1の光導波路と、変換波出射用
    の第2の光導波路とが非線形光学効果を有する材料で形
    成された基板上または基板中に形成されており、前記第
    1の光導波路と前記第2の光導波路とは、前記第1の光
    導波路を導波する基本波に基づき第1の光導波路内にお
    いて発生する変換波が前記第2の光導波路に移行し第2
    の光導波路から出射されるような位置関係に配置されて
    いることを特徴とする波長変換装置.
  2. 【請求項2】 請求項1記載の波長変換装置において、
    前記第1の光導波路と前記第2の光導波路とは、所定の
    間隔および所定の結合長で互いに近接した結合部を有
    し、該結合部には、導波光の位相を変化させるための電
    極が形成されており、該電極に加える電圧を変化させる
    ことで、導波光の位相を変化させ、前記第1の光導波路
    で発生した変換波を前記第2の光導波路に移行させたり
    移行させなかったりする光変調がなされるよう構成され
    ていることを特徴とする波長変換装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2記載の波長変換
    装置において、前記第2の光導波路は、単一モード導波
    路として形成されていることを特徴とする波長変換装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の波長変換装置において、
    前記第1の光導波路を導波する基本波と変換波との間で
    位相整合をとるための位相整合手段が前記第1の光導波
    路に沿ってさらに形成されており、該位相整合手段は、
    前記変換波が第2高調波である場合において、基本波の
    周波数をω、基本波に対する導波モ−ド光の伝搬定数を
    β(ω)、前記基本波の変換波に対する導波モ−ド光の
    伝搬定数をβ(2ω)とすると、Λ=2π/{β(2
    ω)−2β(ω)}なる関係を満たすような周期Λの周
    期構造を有していることを特徴とする波長変換装置。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の波長変換装置において、
    前記位相整合手段は複数個設けられており、各位相整合
    手段は、互いに異なる周期Λの周期構造を有しているこ
    とを特徴とする波長変換装置。
  6. 【請求項6】 請求項4記載の波長変換装置において、
    基板として非線形媒質LiTaO3の−c板を用い、光
    の伝搬方向をy軸とし、これに垂直なz軸を基板の−c
    軸方向に合わせたとき、基本波の電界方向がz軸に平行
    な偏波となり、第2高調波の電界方向がz軸に平行な偏
    波となるように基本波を前記第1の光導波路に導波させ
    ることを特徴とする波長変換装置。
  7. 【請求項7】 請求項4記載の波長変換装置において、
    基板として非線形媒質LiNbO3のc板を用い、光の
    伝搬方向をy軸とし、これに垂直なz軸を基板のc軸方
    向に合わせたとき、基本波の電界方向がz軸に平行な偏
    波となり、第2高調波の電界方向がz軸に平行な偏波と
    なるように基本波を前記第1の光導波路に導波させるこ
    とを特徴とする波長変換装置。
  8. 【請求項8】 請求項4記載の波長変換装置において、
    基板として非線形媒質LiNbO3のb板を用い、光の
    伝搬方向をx軸とし、これに垂直なz軸を基板のc軸方
    向に合わせたとき、基本波の電界方向がy軸に平行な偏
    波となり、第2高調波の電界方向がz軸に平行な偏波と
    なるように基本波を前記第1の光導波路に導波させ、位
    相整合に非線形媒質LiNbO3の複屈折性を用いるこ
    とを特徴とする波長変換装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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