JPH05342991A - Ａｃ型プラズマディスプレイパネル及びそのエージング方法 - Google Patents
Ａｃ型プラズマディスプレイパネル及びそのエージング方法Info
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- JPH05342991A JPH05342991A JP14471392A JP14471392A JPH05342991A JP H05342991 A JPH05342991 A JP H05342991A JP 14471392 A JP14471392 A JP 14471392A JP 14471392 A JP14471392 A JP 14471392A JP H05342991 A JPH05342991 A JP H05342991A
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、ＡＣ型のプラズマディスプレイパネ
ル及びそのエージング方法に関し、放電空間内の残留不
純物に起因した放電特性の経時変化を抑え、表示品質の
上での信頼性の向上を可能にすることを目的とする。 【構成】表示電極Ｘ，Ｙが、誘電体層１５及び保護膜１
６によって被覆されたＡＣ型プラズマディスプレイパネ
ル１であって、表示電極Ｘ，Ｙによって画定される表示
領域ＥＨの外側に、不純物を引き寄せて表示領域ＥＨを
清浄化するための放電に係るエージング用電極６０を有
して構成される。
ル及びそのエージング方法に関し、放電空間内の残留不
純物に起因した放電特性の経時変化を抑え、表示品質の
上での信頼性の向上を可能にすることを目的とする。 【構成】表示電極Ｘ，Ｙが、誘電体層１５及び保護膜１
６によって被覆されたＡＣ型プラズマディスプレイパネ
ル１であって、表示電極Ｘ，Ｙによって画定される表示
領域ＥＨの外側に、不純物を引き寄せて表示領域ＥＨを
清浄化するための放電に係るエージング用電極６０を有
して構成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放電に誘電体層の壁電
荷を利用するＡＣ型のプラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）及びそのエージング方法に関する。
荷を利用するＡＣ型のプラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）及びそのエージング方法に関する。
【０００２】ＰＤＰは、表示の視認性に優れ且つ高速表
示が可能であることから、ＯＡ機器の分野などでの利用
が浸透し始めている。これにともなって、長期にわたっ
て放電特性が安定であり、表示品質の上で信頼性の高い
ＰＤＰが望まれている。
示が可能であることから、ＯＡ機器の分野などでの利用
が浸透し始めている。これにともなって、長期にわたっ
て放電特性が安定であり、表示品質の上で信頼性の高い
ＰＤＰが望まれている。
【０００３】
【従来の技術】ＰＤＰは、表示面側及び背面側の一対の
ガラス基板を対向配置し、これらガラス基板の対向領域
の周縁部を封止することによって、内部に６０〜１５０
μｍ程度の間隙からなる放電空間を形成した表示デバイ
スである。
ガラス基板を対向配置し、これらガラス基板の対向領域
の周縁部を封止することによって、内部に６０〜１５０
μｍ程度の間隙からなる放電空間を形成した表示デバイ
スである。
【０００４】マトリクス表示方式のＰＤＰは、格子状に
配列された電極群を有し、この電極群の交差部に画定さ
れる放電セルを選択的に点灯（放電）させることによっ
て任意の文字や図形を表示する。
配列された電極群を有し、この電極群の交差部に画定さ
れる放電セルを選択的に点灯（放電）させることによっ
て任意の文字や図形を表示する。
【０００５】通常、表示領域（放電セルの画定される領
域）は、ガス放出により放電が不安定になる封止材の近
傍を避けるように設けられる。つまり、表示領域を囲む
ように、表示領域と封止材との間に例えば２〜３ｃｍ程
度の幅の非表示領域が設けられる。
域）は、ガス放出により放電が不安定になる封止材の近
傍を避けるように設けられる。つまり、表示領域を囲む
ように、表示領域と封止材との間に例えば２〜３ｃｍ程
度の幅の非表示領域が設けられる。
【０００６】この種のＰＤＰの内、ＡＣ型ＰＤＰでは、
表示電極が低融点ガラスからなる誘電体層で被覆され、
さらにその表面に誘電体層を放電時のイオン衝撃から保
護するための耐熱性の保護膜が設けられている。
表示電極が低融点ガラスからなる誘電体層で被覆され、
さらにその表面に誘電体層を放電時のイオン衝撃から保
護するための耐熱性の保護膜が設けられている。
【０００７】一般に、保護膜は、膜厚が数千Å程度の酸
化マグネシウム（ＭｇＯ）膜からなる。酸化マグネシウ
ムは、二次電子放出係数の大きい金属酸化物であり、こ
れを保護膜材料とすることにより、放電開始電圧が下が
って駆動が容易となる。
化マグネシウム（ＭｇＯ）膜からなる。酸化マグネシウ
ムは、二次電子放出係数の大きい金属酸化物であり、こ
れを保護膜材料とすることにより、放電開始電圧が下が
って駆動が容易となる。
【０００８】なお、酸化マグネシウム膜は、例えば電子
ビーム加熱などによって膜材料を蒸発させて成膜面上に
結晶成長の形で堆積させる手法、すなわち蒸着法によっ
て形成される。
ビーム加熱などによって膜材料を蒸発させて成膜面上に
結晶成長の形で堆積させる手法、すなわち蒸着法によっ
て形成される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来では、例えば、特
定の放電セルを点灯させる固定表示から全ての放電セル
を点灯させる全面表示へ表示状態を切り換えた場合に、
固定表示で点灯させた放電セルにおいて点灯ミス（点灯
すべき放電セルが点灯しない状態）が生じ易くなり、以
後に正規の表示が困難になるという問題があった。
定の放電セルを点灯させる固定表示から全ての放電セル
を点灯させる全面表示へ表示状態を切り換えた場合に、
固定表示で点灯させた放電セルにおいて点灯ミス（点灯
すべき放電セルが点灯しない状態）が生じ易くなり、以
後に正規の表示が困難になるという問題があった。
【００１０】このように点灯が不安定になる現象は、使
用開始から間もない期間（使用時間が数十時間程度より
短い期間）に発生し且つ不可逆であることから、固定表
示の点灯により化学的に活性化した放電セルに放電空間
内の残留不純物が集まって保護膜の表面に吸着し、その
ために放電開始電圧が上昇することによって生じるもの
と考えられる。
用開始から間もない期間（使用時間が数十時間程度より
短い期間）に発生し且つ不可逆であることから、固定表
示の点灯により化学的に活性化した放電セルに放電空間
内の残留不純物が集まって保護膜の表面に吸着し、その
ために放電開始電圧が上昇することによって生じるもの
と考えられる。
【００１１】なお、残留不純物としては、保護膜の成膜
中に生じる水酸基、大気中の窒素、封止材に含まれる炭
素及びその酸化物（一酸化炭素や二酸化炭素）などが挙
げられる。
中に生じる水酸基、大気中の窒素、封止材に含まれる炭
素及びその酸化物（一酸化炭素や二酸化炭素）などが挙
げられる。
【００１２】本発明は、上述の問題に鑑み、放電空間内
の残留不純物に起因した放電特性の経時変化を抑え、表
示品質の上での信頼性の向上を可能にすることを目的と
している。
の残留不純物に起因した放電特性の経時変化を抑え、表
示品質の上での信頼性の向上を可能にすることを目的と
している。
【００１３】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係るＰ
ＤＰは、上述の課題を解決するため、図１に示すよう
に、表示電極Ｘ，Ｙが、誘電体層１５及び保護膜１６に
よって被覆されたＡＣ型プラズマディスプレイパネル１
であって、前記表示電極Ｘ，Ｙによって画定される表示
領域ＥＨの外側にエージング用電極６０を有してなる。
ＤＰは、上述の課題を解決するため、図１に示すよう
に、表示電極Ｘ，Ｙが、誘電体層１５及び保護膜１６に
よって被覆されたＡＣ型プラズマディスプレイパネル１
であって、前記表示電極Ｘ，Ｙによって画定される表示
領域ＥＨの外側にエージング用電極６０を有してなる。
【００１４】請求項２の発明に係るＰＤＰは、前記表示
領域ＥＨの外側に、放電空間３０に露出する不純物吸着
膜７０を有してなる。請求項３の発明に係るＰＤＰは、
前記保護膜１６が酸化マグネシウム膜からなり、且つ前
記不純物吸着膜７０が当該保護膜１６と膜質の異なる酸
化マグネシウム膜からなる。
領域ＥＨの外側に、放電空間３０に露出する不純物吸着
膜７０を有してなる。請求項３の発明に係るＰＤＰは、
前記保護膜１６が酸化マグネシウム膜からなり、且つ前
記不純物吸着膜７０が当該保護膜１６と膜質の異なる酸
化マグネシウム膜からなる。
【００１５】請求項４の発明に係るエージング方法は、
前記エージング用電極６０を用いて前記表示領域ＥＨの
外側で放電を生じさせた後に、引き続いて前記表示領域
ＥＨ内の全ての放電セルで放電を生じさせる。
前記エージング用電極６０を用いて前記表示領域ＥＨの
外側で放電を生じさせた後に、引き続いて前記表示領域
ＥＨ内の全ての放電セルで放電を生じさせる。
【００１６】
【作用】エージング用電極６０に所定の電圧を印加する
と、表示領域ＥＨの外側で放電が生じる。この放電によ
って、放電空間３０の壁面において、エージング用電極
６０の近傍の部分が化学的に活性化する。
と、表示領域ＥＨの外側で放電が生じる。この放電によ
って、放電空間３０の壁面において、エージング用電極
６０の近傍の部分が化学的に活性化する。
【００１７】活性状態を保ちつつ表示領域ＥＨ内で放電
を生じさせると、主として保護膜１６上での吸着の形で
放電空間３０に残留する不純物が、活性状態の部位（表
示領域ＥＨの外側）に集まる。つまり、表示領域ＥＨが
清浄化される。
を生じさせると、主として保護膜１６上での吸着の形で
放電空間３０に残留する不純物が、活性状態の部位（表
示領域ＥＨの外側）に集まる。つまり、表示領域ＥＨが
清浄化される。
【００１８】表示領域ＥＨの外側に集まった不純物は、
例えば酸化マグネシウムからなる不純物吸着膜７０の表
層部に吸着する。
例えば酸化マグネシウムからなる不純物吸着膜７０の表
層部に吸着する。
【００１９】
【実施例】図１は本発明に係るＰＤＰ１の構成を示す要
部断面図、図２は図１のＰＤＰ１の電極構造を模式的に
示す平面図である。なお、図２では代表的に１本の表示
電極Ｙに対応する放電セルＣを示してある。
部断面図、図２は図１のＰＤＰ１の電極構造を模式的に
示す平面図である。なお、図２では代表的に１本の表示
電極Ｙに対応する放電セルＣを示してある。
【００２０】これらの図において、ＰＤＰ１は、対向放
電形式のＡＣ型ＰＤＰであって、一対のガラス基板１
１，２１、ガラス基板１１の内面上に互いに平行に配列
された複数の表示電極Ｘ、ガラス基板２１の内面上に表
示電極Ｘと直交するよう配列された複数の表示電極Ｙ、
表示電極Ｘ，Ｙをそれぞれ被覆する誘電体層１５、各誘
電体層１５を放電空間３０に対して被覆する保護膜（Ｍ
ｇＯ膜）１６、ガラス基板１１，２１の周囲を封止する
封止ガラス３１、表示領域ＥＨと封止ガラス３１との間
に設けられたエージング用電極６０、及び不純物吸着膜
７０などから構成されている。
電形式のＡＣ型ＰＤＰであって、一対のガラス基板１
１，２１、ガラス基板１１の内面上に互いに平行に配列
された複数の表示電極Ｘ、ガラス基板２１の内面上に表
示電極Ｘと直交するよう配列された複数の表示電極Ｙ、
表示電極Ｘ，Ｙをそれぞれ被覆する誘電体層１５、各誘
電体層１５を放電空間３０に対して被覆する保護膜（Ｍ
ｇＯ膜）１６、ガラス基板１１，２１の周囲を封止する
封止ガラス３１、表示領域ＥＨと封止ガラス３１との間
に設けられたエージング用電極６０、及び不純物吸着膜
７０などから構成されている。
【００２１】放電空間３０の間隙寸法は図示しないスペ
ーサによって６０〜８０μｍ程度の値に規定され、この
放電空間３０には放電ガスとして例えばキセノンとネオ
ンとからなるペニングガスが封入されている。
ーサによって６０〜８０μｍ程度の値に規定され、この
放電空間３０には放電ガスとして例えばキセノンとネオ
ンとからなるペニングガスが封入されている。
【００２２】表示電極Ｘ，Ｙは、スパッタリングによる
クロム−銅−クロムの三層構造の金属薄膜（膜厚は５０
００〜１００００Å）からなり、７０μｍ程度の幅の帯
状にパターニングされている。
クロム−銅−クロムの三層構造の金属薄膜（膜厚は５０
００〜１００００Å）からなり、７０μｍ程度の幅の帯
状にパターニングされている。
【００２３】エージング電極６０は、図２によく示され
るように、表示電極Ｘと平行な帯状（幅は例えば５００
μｍ程度）の電極であって、表示電極Ｘの列の両側の非
表示領域に配置されている。なお、エージング電極６０
は表示電極Ｘと同時に形成される。
るように、表示電極Ｘと平行な帯状（幅は例えば５００
μｍ程度）の電極であって、表示電極Ｘの列の両側の非
表示領域に配置されている。なお、エージング電極６０
は表示電極Ｘと同時に形成される。
【００２４】不純物吸着膜７０は、不純物が吸着し易い
膜質のＭｇＯ膜からなり、表示領域ＥＨの外側の誘電体
層１５上に、放電空間３０に露出する最表層として設け
られている。
膜質のＭｇＯ膜からなり、表示領域ＥＨの外側の誘電体
層１５上に、放電空間３０に露出する最表層として設け
られている。
【００２５】以上の構成のＰＤＰ１は、各ガラス基板１
１，２１について別個に所定の構成要素を設ける工程、
ガラス基板１１，２１を対向配置して周囲を封止する工
程、内部の排気と放電ガスの封入とを行う工程、及びエ
ージング工程を経て製品として完成される。
１，２１について別個に所定の構成要素を設ける工程、
ガラス基板１１，２１を対向配置して周囲を封止する工
程、内部の排気と放電ガスの封入とを行う工程、及びエ
ージング工程を経て製品として完成される。
【００２６】その際、保護膜１６及び不純物吸着膜７０
は、部分的にイオンアシストを行う蒸着法によって同時
に形成することができる。すなわち、誘電体層１５を設
けたガラス基板１１，２１をチャンバ内に配置し、遮蔽
板などを用いて表示領域ＥＨに対応する部分のみに酸素
などのイオンビームを照射しつつ、誘電体層１５の全面
にＭｇＯを蒸着する。
は、部分的にイオンアシストを行う蒸着法によって同時
に形成することができる。すなわち、誘電体層１５を設
けたガラス基板１１，２１をチャンバ内に配置し、遮蔽
板などを用いて表示領域ＥＨに対応する部分のみに酸素
などのイオンビームを照射しつつ、誘電体層１５の全面
にＭｇＯを蒸着する。
【００２７】イオンビームが照射された部分では、蒸気
化したＭｇＯと入射した酸素ビームとが適当に化合し、
イオンビームによる表面清浄化と相まって、緻密且つ組
成の均一なＭｇＯ膜（保護膜１６）が成長する。これに
対して、他の部分では、保護膜１６に比べて粒界（結晶
粒の間隙）が多く不純物の吸着し易いＭｇＯ膜（不純物
吸着膜７０）が成長する。
化したＭｇＯと入射した酸素ビームとが適当に化合し、
イオンビームによる表面清浄化と相まって、緻密且つ組
成の均一なＭｇＯ膜（保護膜１６）が成長する。これに
対して、他の部分では、保護膜１６に比べて粒界（結晶
粒の間隙）が多く不純物の吸着し易いＭｇＯ膜（不純物
吸着膜７０）が成長する。
【００２８】また、エージング工程では、まず、エージ
ング用電極６０と表示電極Ｙとに対して所定の交流電圧
を印加し、表示領域ＥＨの外側で例えば数十時間にわた
って放電を生じさせる。これにより、特に不純物吸着膜
７０は化学的な活性状態になる。
ング用電極６０と表示電極Ｙとに対して所定の交流電圧
を印加し、表示領域ＥＨの外側で例えば数十時間にわた
って放電を生じさせる。これにより、特に不純物吸着膜
７０は化学的な活性状態になる。
【００２９】次に、表示領域外における活性状態を保持
しつつ、表示電極Ｘ，Ｙにより画定される全ての放電セ
ルＣ（図２参照）で放電を生じさせる。すなわち表示領
域ＥＨのいわゆる全面点灯を行う。
しつつ、表示電極Ｘ，Ｙにより画定される全ての放電セ
ルＣ（図２参照）で放電を生じさせる。すなわち表示領
域ＥＨのいわゆる全面点灯を行う。
【００３０】全面点灯は、各放電セルＣの放電特性の均
一化を目的として、例えば４８時間にわたって実施され
る。このとき、保護膜１６上の残留不純物が表示領域Ｅ
Ｈの外側に集まって不純物吸着膜７０に吸着し、表示領
域ＥＨが清浄化される。
一化を目的として、例えば４８時間にわたって実施され
る。このとき、保護膜１６上の残留不純物が表示領域Ｅ
Ｈの外側に集まって不純物吸着膜７０に吸着し、表示領
域ＥＨが清浄化される。
【００３１】上述の実施例において、エージング用電極
６０の寸法は、非表示領域の大きさに応じて適宜選定す
ることができる。上述の実施例においては、対向放電形
式のＰＤＰ１を例示したが、表示電極Ｘ，Ｙを同一基板
上に隣接配置する面放電形式のＰＤＰにも本発明を適用
することができる。
６０の寸法は、非表示領域の大きさに応じて適宜選定す
ることができる。上述の実施例においては、対向放電形
式のＰＤＰ１を例示したが、表示電極Ｘ，Ｙを同一基板
上に隣接配置する面放電形式のＰＤＰにも本発明を適用
することができる。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、放電空間内の残留不純
物に起因した放電特性の経時変化を抑えることができ、
表示品質の上での信頼性の向上を図ることができる。
物に起因した放電特性の経時変化を抑えることができ、
表示品質の上での信頼性の向上を図ることができる。
【００３３】請求項２の発明によれば、放電特性の経時
変化をより確実に抑えることができる。
変化をより確実に抑えることができる。
【図１】本発明に係るＰＤＰの構成を示す要部断面図で
ある。
ある。
【図２】図１のＰＤＰの電極構造を模式的に示す平面図
である。
である。
１ ＰＤＰ（ＡＣ型プラズマディスプレイパネル） Ｘ，Ｙ 表示電極 １５ 誘電体層 １６ 保護膜 ＥＨ 表示領域 ６０ エージング用電極 ３０ 放電空間 ７０ 不純物吸着膜
Claims (4)
- 【請求項１】表示電極（Ｘ）（Ｙ）が、誘電体層（１
５）及び保護膜（１６）によって被覆されたＡＣ型プラ
ズマディスプレイパネル（１）であって、 前記表示電極（Ｘ）（Ｙ）によって画定される表示領域
（ＥＨ）の外側に、エージング用電極（６０）を有して
なることを特徴とするＡＣ型プラズマディスプレイパネ
ル。 - 【請求項２】請求項１記載のＡＣ型プラズマディスプレ
イパネル（１）であって、 前記表示領域（ＥＨ）の外側に、放電空間（３０）に露
出する不純物吸着膜（７０）を有してなることを特徴と
するＡＣ型プラズマディスプレイパネル。 - 【請求項３】請求項２記載のＡＣ型プラズマディスプレ
イパネル（１）であって、 前記保護膜（１６）が酸化マグネシウム膜からなり、且
つ前記不純物吸着膜（７０）が当該保護膜（１６）と膜
質の異なる酸化マグネシウム膜からなることを特徴とす
るＡＣ型プラズマディスプレイパネル。 - 【請求項４】請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の
ＡＣ型プラズマディスプレイパネル（１）のエージング
方法であって、 前記エージング用電極（６０）を用いて前記表示領域
（ＥＨ）の外側で放電を生じさせた後に、引き続いて前
記表示領域（ＥＨ）内の全ての放電セルで放電を生じさ
せることを特徴とするＡＣ型プラズマディスプレイパネ
ルのエージング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14471392A JP3236665B2 (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | Ａｃ型プラズマディスプレイパネルのエージング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14471392A JP3236665B2 (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | Ａｃ型プラズマディスプレイパネルのエージング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05342991A true JPH05342991A (ja) | 1993-12-24 |
| JP3236665B2 JP3236665B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=15368566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14471392A Expired - Fee Related JP3236665B2 (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | Ａｃ型プラズマディスプレイパネルのエージング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3236665B2 (ja) |
Cited By (10)
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-
1992
- 1992-06-05 JP JP14471392A patent/JP3236665B2/ja not_active Expired - Fee Related
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