JPH05325859A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPH05325859A JPH05325859A JP4130471A JP13047192A JPH05325859A JP H05325859 A JPH05325859 A JP H05325859A JP 4130471 A JP4130471 A JP 4130471A JP 13047192 A JP13047192 A JP 13047192A JP H05325859 A JPH05325859 A JP H05325859A
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- JP
- Japan
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- vacuum
- electron beam
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Abstract
(57)【要約】
【目的】試料の周囲のみを低真空として、微細形態を観
察する電子線照射装置において、試料種類により異なる
低真空度の設定を自動化し、試料よりのガス放出を無視
でき、また水分等の蒸発を抑えた状態での短時間観察，
操作の簡便な装置を提供することにある。 【構成】真空計１７の真空度出力信号と真空度設定部２
２により設定した出力信号を比較部２１で比較し、その
差を増幅しモータ制御部２３で信号差のレベルを判断
し、モータ２４に回転方向の指示を与え、比較部２１の
信号の信号差が零になるまでモータ２４が回転し、ニー
ドルバルブ１８を回転させ導入ガス量を制御して試料室
の真空度設定の自動化を行っている。
察する電子線照射装置において、試料種類により異なる
低真空度の設定を自動化し、試料よりのガス放出を無視
でき、また水分等の蒸発を抑えた状態での短時間観察，
操作の簡便な装置を提供することにある。 【構成】真空計１７の真空度出力信号と真空度設定部２
２により設定した出力信号を比較部２１で比較し、その
差を増幅しモータ制御部２３で信号差のレベルを判断
し、モータ２４に回転方向の指示を与え、比較部２１の
信号の信号差が零になるまでモータ２４が回転し、ニー
ドルバルブ１８を回転させ導入ガス量を制御して試料室
の真空度設定の自動化を行っている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、走査電子顕微鏡の電子
線照射装置に関する。
線照射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】開口部を境として高真空部と別の真空排
気を有し、試料室の真空排気系にガスを導入する電子線
照射装置において、導入するガスの量制御のバルブを手
動で制御している。
気を有し、試料室の真空排気系にガスを導入する電子線
照射装置において、導入するガスの量制御のバルブを手
動で制御している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例では、導入
するガスの制御はバルブ動作が手動のため、目的の真空
度設定までに相当の時間を費し利用者に煩わしさを与え
る。尚水分，油分等を含む試料に対して時間と共に蒸発
が進行して蒸発に伴う表面形態の変化が進み、真の表面
形態観察が難しくなる。また真空中においてガス放出の
ある試料に対しては、設定した真空度が安定しない、あ
るいは設定真空度が変化する問題があった。この発明は
真空度設定を自動化することにより、より短時間で目的
とする真空度設定を可能にしたため煩わしさがなく、ま
た試料からの水分，油分の蒸発量を最低限に抑えること
により試料表面の変化を最低限に抑えて表面形態を忠実
に観察でき、試料からのガス放出に関係なく設定した真
空度に保つことにより、安定した電子銃照射装置を提供
することを目的とする。
するガスの制御はバルブ動作が手動のため、目的の真空
度設定までに相当の時間を費し利用者に煩わしさを与え
る。尚水分，油分等を含む試料に対して時間と共に蒸発
が進行して蒸発に伴う表面形態の変化が進み、真の表面
形態観察が難しくなる。また真空中においてガス放出の
ある試料に対しては、設定した真空度が安定しない、あ
るいは設定真空度が変化する問題があった。この発明は
真空度設定を自動化することにより、より短時間で目的
とする真空度設定を可能にしたため煩わしさがなく、ま
た試料からの水分，油分の蒸発量を最低限に抑えること
により試料表面の変化を最低限に抑えて表面形態を忠実
に観察でき、試料からのガス放出に関係なく設定した真
空度に保つことにより、安定した電子銃照射装置を提供
することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】科学技術の進歩によっ
て、より微細な表面形態を観察したいというニーズが高
まってきている。光学顕微鏡は手軽にこのニーズに対応
することができたが使用倍率が低く、かつ焦点深度が浅
いため部分的観察しかできないという欠点がある。従来
形の走査電子顕微鏡を用いれば、数万倍の表面観察像を
得ることは容易であるが、試料を高真空の雰囲気で電荷
を持った電子を照射して観察しなければならないため、
あらかじめ非導電性試料には表面に電荷がたまり観察が
妨げられるのを防止するため、電荷を逃す導電性処理が
必要となる。また水分を含む試料は真空中における水分
の蒸発による表面形態の変化を抑えるための前処理の上
導電性処理が必要となる。このような処理は光学顕微鏡
に比べ高度な技術的手段と労力が必要となる。
て、より微細な表面形態を観察したいというニーズが高
まってきている。光学顕微鏡は手軽にこのニーズに対応
することができたが使用倍率が低く、かつ焦点深度が浅
いため部分的観察しかできないという欠点がある。従来
形の走査電子顕微鏡を用いれば、数万倍の表面観察像を
得ることは容易であるが、試料を高真空の雰囲気で電荷
を持った電子を照射して観察しなければならないため、
あらかじめ非導電性試料には表面に電荷がたまり観察が
妨げられるのを防止するため、電荷を逃す導電性処理が
必要となる。また水分を含む試料は真空中における水分
の蒸発による表面形態の変化を抑えるための前処理の上
導電性処理が必要となる。このような処理は光学顕微鏡
に比べ高度な技術的手段と労力が必要となる。
【０００５】近年走査電子顕微鏡において、前記のよう
な試料処理を行わず、そのまま観察したいというニーズ
が高まってきている。
な試料処理を行わず、そのまま観察したいというニーズ
が高まってきている。
【０００６】この観察法は試料を約１Ｐａ〜数百Ｐａの
低真空雰囲気で電子線を照射すれば前処理を行わなくて
も観察できることが明らかになってきている。また低真
空の雰囲気は比較的蒸気圧の高い試料等も蒸発をある程
度抑えた状態で観察が可能である。
低真空雰囲気で電子線を照射すれば前処理を行わなくて
も観察できることが明らかになってきている。また低真
空の雰囲気は比較的蒸気圧の高い試料等も蒸発をある程
度抑えた状態で観察が可能である。
【０００７】しかし、現在行われている低真空雰囲気を
設定する低真空度の調整は、排気容量一定の真空ポンプ
で排気しながらガス導入バルブの手動開閉によりガス導
入量を制御し、バランスをとり低真空度を設定してい
る。このため試料からの放出ガスの変化等による経時的
安定性，繰り返し観察時の真空度の再現性は勿論のこ
と、最適な低真空度を設定するのも煩わしさが伴い困難
である。
設定する低真空度の調整は、排気容量一定の真空ポンプ
で排気しながらガス導入バルブの手動開閉によりガス導
入量を制御し、バランスをとり低真空度を設定してい
る。このため試料からの放出ガスの変化等による経時的
安定性，繰り返し観察時の真空度の再現性は勿論のこ
と、最適な低真空度を設定するのも煩わしさが伴い困難
である。
【０００８】試料を低真空雰囲気での観察は前処理の技
術および労力を省き、未熟練者でも容易に観察できるこ
とを目的としているが、上記のように現在の公知の方法
では試料に合った最適な観察状態を設定し得ない欠点が
あった。
術および労力を省き、未熟練者でも容易に観察できるこ
とを目的としているが、上記のように現在の公知の方法
では試料に合った最適な観察状態を設定し得ない欠点が
あった。
【０００９】本発明は設定真空度と測定している試料雰
囲気の真空度の差が零になるようにガス導入バルブを自
動開閉し、試料雰囲気の低真空度を自動調整するもので
ある。
囲気の真空度の差が零になるようにガス導入バルブを自
動開閉し、試料雰囲気の低真空度を自動調整するもので
ある。
【００１０】この方式によると試料からの放出ガス量，
導入ガスの元圧の変動を自動補正し簡単に低真空度設定
ができるため煩わしさがなく、また蒸発する試料でも乾
燥する前に観察可能で、試料表面のより忠実な形態観察
ができる。
導入ガスの元圧の変動を自動補正し簡単に低真空度設定
ができるため煩わしさがなく、また蒸発する試料でも乾
燥する前に観察可能で、試料表面のより忠実な形態観察
ができる。
【００１１】
【作用】本発明では、従来人間により手動での低真空度
の設定を設定真空度と試料雰囲気の測定した真空度を比
較し、差が零となるようにガス導入バルブを自動開閉し
て行うことにより、より短時間で設定できるため水分等
を含んだ試料の低真空中での蒸発が進行しない状態で観
察できるため、より忠実な試料表面の形態観察を実現す
る。
の設定を設定真空度と試料雰囲気の測定した真空度を比
較し、差が零となるようにガス導入バルブを自動開閉し
て行うことにより、より短時間で設定できるため水分等
を含んだ試料の低真空中での蒸発が進行しない状態で観
察できるため、より忠実な試料表面の形態観察を実現す
る。
【００１２】
【実施例】光に比べて電子は電荷を持っているので周囲
の原子，分子との相互作用が大きいため高真空状態（〜
１０-4Ｐａ）でないと散乱が多くなり、試料に到達する
電子の数が少なくなる。そのため試料雰囲気を低真空度
としても電子銃から発生した電子は試料に到達するまで
の大部分は高真空状態として、試料に到達する直前で低
真空雰囲気でのガス分子との相互作用により試料表面に
帯電した電子を中和させて良質な像観察を行い、なおか
つ試料に合わせた最適な低真空度を設定できることが大
切である。
の原子，分子との相互作用が大きいため高真空状態（〜
１０-4Ｐａ）でないと散乱が多くなり、試料に到達する
電子の数が少なくなる。そのため試料雰囲気を低真空度
としても電子銃から発生した電子は試料に到達するまで
の大部分は高真空状態として、試料に到達する直前で低
真空雰囲気でのガス分子との相互作用により試料表面に
帯電した電子を中和させて良質な像観察を行い、なおか
つ試料に合わせた最適な低真空度を設定できることが大
切である。
【００１３】以下、図面を参照してこの発明の一実施例
について説明する。
について説明する。
【００１４】図１に実施例の全体を示す。電子銃部１
は、フィラメント２とフィラメント２を加熱し、フィラ
メント２に負電位を印加する電源３より構成される。加
熱されたフィラメント２より放出された熱電子は収束レ
ンズ系４により微細ビームに集束、対物レンズ５により
試料６表面に最小スポットとして照射される。この動作
は高真空状態でも低真空状態でも同一である。排気系は
電子銃部１内を排気する排管７とレンズ系４及び対物レ
ンズ５の電子線通路部を排気する排管８が真空排気ポン
プ９にバルブ１０を介し接続されている。排気ポンプ１
２ｂは、ポンプ９の背圧を排気するものである。なお大
気よりの予備排気にはバルブ１１を介し、排気ポンプ１
２ａに接続されている。試料室１３は電子銃部１および
レンズ系４および５の高真空部と分離するため、オリフ
ィス１４（０.１〜０.２mmφ）を設けている。低真空雰
囲気状態ではバルブ１５で高真空部と分離しバルブ１６
により排気ポンプ１２ａに接続されている。試料室１３
内の真空度は真空計１７により検出される。また、低真
空度設定のため排気ポンプ１２ａの排気容量とのバラン
スをとるためニードルバルブ１８の開閉により、ガスを
試料室１３内に導入する。なお試料室１３内を高真空で
使用する場合、ニードルバルブ１８との間にバルブ１９
を設けている。試料室１３内の真空度は真空計１７によ
る出力信号を外部真空度表示メータ２０を介し、比較部
２１に入る。一方設定したい低真空度の基準信号を真空
度設定部２２により設定し、その基準信号も比較部２１
に入れ、前記試料室１３内真空度の出力信号との比較を
行いその差を増幅し、モータ制御部２３で信号レベルを
判断し、モータ２４に回転方向の指示を与え比較部２１
の信号差が零になるまでモータ２４が回転し、ニードル
バルブ１８を回転させ導入ガス量を制御する。この制御
により電子銃１を含む高真空部が、例えば１０-3〜１０
-4Ｐａに維持したまま、試料室１３の真空度を１〜数百
Ｐａまで可変できる。前記各バルブ全てをシーケンスを
組むことにより簡単に低真空状態または高真空状態を実
現できる。低真空での排気立上時の各バルブ状態はバル
ブ１１および１６が開、その他のバルブは閉の状態で排
気ポンプ１２ａで排気される。試料室１３内の設定下限
値（たとえば２７０Ｐａ）になるとバルブ１６が閉とな
り試料室１３内の真空度は設定下限値で保持される。高
真空部は排気ポンプ１２ａで排気を続け、高真空排気ポ
ンプ９の動作範囲まで排気された事を、真空計２５の信
号で判断し、バルブ１１を閉としバルブ１０を開として
高真空排気を行う。一方並行してバルブ１０が開の信号
によりバルブ１６およびバルブ１９が開となり、あらか
じめ設定した真空度まで自動設定を行う。
は、フィラメント２とフィラメント２を加熱し、フィラ
メント２に負電位を印加する電源３より構成される。加
熱されたフィラメント２より放出された熱電子は収束レ
ンズ系４により微細ビームに集束、対物レンズ５により
試料６表面に最小スポットとして照射される。この動作
は高真空状態でも低真空状態でも同一である。排気系は
電子銃部１内を排気する排管７とレンズ系４及び対物レ
ンズ５の電子線通路部を排気する排管８が真空排気ポン
プ９にバルブ１０を介し接続されている。排気ポンプ１
２ｂは、ポンプ９の背圧を排気するものである。なお大
気よりの予備排気にはバルブ１１を介し、排気ポンプ１
２ａに接続されている。試料室１３は電子銃部１および
レンズ系４および５の高真空部と分離するため、オリフ
ィス１４（０.１〜０.２mmφ）を設けている。低真空雰
囲気状態ではバルブ１５で高真空部と分離しバルブ１６
により排気ポンプ１２ａに接続されている。試料室１３
内の真空度は真空計１７により検出される。また、低真
空度設定のため排気ポンプ１２ａの排気容量とのバラン
スをとるためニードルバルブ１８の開閉により、ガスを
試料室１３内に導入する。なお試料室１３内を高真空で
使用する場合、ニードルバルブ１８との間にバルブ１９
を設けている。試料室１３内の真空度は真空計１７によ
る出力信号を外部真空度表示メータ２０を介し、比較部
２１に入る。一方設定したい低真空度の基準信号を真空
度設定部２２により設定し、その基準信号も比較部２１
に入れ、前記試料室１３内真空度の出力信号との比較を
行いその差を増幅し、モータ制御部２３で信号レベルを
判断し、モータ２４に回転方向の指示を与え比較部２１
の信号差が零になるまでモータ２４が回転し、ニードル
バルブ１８を回転させ導入ガス量を制御する。この制御
により電子銃１を含む高真空部が、例えば１０-3〜１０
-4Ｐａに維持したまま、試料室１３の真空度を１〜数百
Ｐａまで可変できる。前記各バルブ全てをシーケンスを
組むことにより簡単に低真空状態または高真空状態を実
現できる。低真空での排気立上時の各バルブ状態はバル
ブ１１および１６が開、その他のバルブは閉の状態で排
気ポンプ１２ａで排気される。試料室１３内の設定下限
値（たとえば２７０Ｐａ）になるとバルブ１６が閉とな
り試料室１３内の真空度は設定下限値で保持される。高
真空部は排気ポンプ１２ａで排気を続け、高真空排気ポ
ンプ９の動作範囲まで排気された事を、真空計２５の信
号で判断し、バルブ１１を閉としバルブ１０を開として
高真空排気を行う。一方並行してバルブ１０が開の信号
によりバルブ１６およびバルブ１９が開となり、あらか
じめ設定した真空度まで自動設定を行う。
【００１５】図２にオリフィスの交換機構の一実施例を
示す。オリフィスは電子線と残留ガスの相互作用により
汚れて電子線に影響を及ぼすため、一定期間使用後はク
リーニングまたは交換の必要性がある。交換は電子銃１
およびレンズ系４，対物レンズ５を取外すことなく簡単
に交換できる。
示す。オリフィスは電子線と残留ガスの相互作用により
汚れて電子線に影響を及ぼすため、一定期間使用後はク
リーニングまたは交換の必要性がある。交換は電子銃１
およびレンズ系４，対物レンズ５を取外すことなく簡単
に交換できる。
【００１６】実施例として、対物レンズ５の両磁極間に
オリフィス設定用金具２６が真空シール２７を介し固定
されている。オリフィス１４は固定金具２９によりオリ
フィスブロック３０にセットされて、オリフィス１４，
固定金具２９と一体化されている。ブロック３０は設定
用金具２６にネジ込みにより固定されている。オリフィ
ス取外しはブロック３０を治具を用いて取外すことによ
り簡単に交換できる。図３にオリフィス上下機構の一実
施例を示す。オリフィスから試料面までの間は低真空領
域で、前述の電子がガス分子との相互作用を行う領域で
ある。試料からの水分等の蒸発を抑えるため、低真空を
例えば２７０Ｐａ程度とすると水分の蒸発速度は相当遅
くなり、試料表面をより真の形態に近い状態で観察でき
るが、一方ではガス分子と電子の相互作用の確率が非常
に高くなり、散乱電子が多くなり微細構造の観察に制限
を受けるため、高倍率での観察が難しくなってくる。
オリフィス設定用金具２６が真空シール２７を介し固定
されている。オリフィス１４は固定金具２９によりオリ
フィスブロック３０にセットされて、オリフィス１４，
固定金具２９と一体化されている。ブロック３０は設定
用金具２６にネジ込みにより固定されている。オリフィ
ス取外しはブロック３０を治具を用いて取外すことによ
り簡単に交換できる。図３にオリフィス上下機構の一実
施例を示す。オリフィスから試料面までの間は低真空領
域で、前述の電子がガス分子との相互作用を行う領域で
ある。試料からの水分等の蒸発を抑えるため、低真空を
例えば２７０Ｐａ程度とすると水分の蒸発速度は相当遅
くなり、試料表面をより真の形態に近い状態で観察でき
るが、一方ではガス分子と電子の相互作用の確率が非常
に高くなり、散乱電子が多くなり微細構造の観察に制限
を受けるため、高倍率での観察が難しくなってくる。
【００１７】ここで低真空度を保ちながらオリフィス１
４をより試料面に近づけ、電子とガス分子の相互作用の
確率を試料表面に帯電した電子を中和できる程度まで近
づけることにより、散乱電子の数を大幅に減少させて、
より微細構造の観察を水分が蒸発しにくい雰囲気で高倍
率での観察を可能にした。
４をより試料面に近づけ、電子とガス分子の相互作用の
確率を試料表面に帯電した電子を中和できる程度まで近
づけることにより、散乱電子の数を大幅に減少させて、
より微細構造の観察を水分が蒸発しにくい雰囲気で高倍
率での観察を可能にした。
【００１８】歯車Ａ３１は真空外部より自由に回転でき
る構造となっている。また、歯車Ｂ３２は歯車Ａ３１と
噛み合い、歯車Ｂ３２にはピン３３が固定されている。
歯車Ｂ３２の内径の穴にはブロック３０が挿入されてい
る。ブロック３０にはピン３３に合った螺旋状の溝が切
ってあり、溝にはピン３３が入っている。ブロック３０
にはオリフィス１４が固定金具２９により固定されてい
る。またブロック３０にはガイドピン３４が通る溝が設
けられ、回転しないようになっている。反射電子検出器
２８は試料６とオリフィス１４間に設けてある。真空外
部より歯車Ａ３１を回転させることにより、噛み合って
いる歯車Ｂ３２が回転し、歯車Ｂ32に固定されているピ
ン３３も回転する。ピン３３が回転するとピン３３が入
っているブロック３０の溝の位置が変わるため、試料６
とオリフィス１４の間の距離が変化する。
る構造となっている。また、歯車Ｂ３２は歯車Ａ３１と
噛み合い、歯車Ｂ３２にはピン３３が固定されている。
歯車Ｂ３２の内径の穴にはブロック３０が挿入されてい
る。ブロック３０にはピン３３に合った螺旋状の溝が切
ってあり、溝にはピン３３が入っている。ブロック３０
にはオリフィス１４が固定金具２９により固定されてい
る。またブロック３０にはガイドピン３４が通る溝が設
けられ、回転しないようになっている。反射電子検出器
２８は試料６とオリフィス１４間に設けてある。真空外
部より歯車Ａ３１を回転させることにより、噛み合って
いる歯車Ｂ３２が回転し、歯車Ｂ32に固定されているピ
ン３３も回転する。ピン３３が回転するとピン３３が入
っているブロック３０の溝の位置が変わるため、試料６
とオリフィス１４の間の距離が変化する。
【００１９】図４に図１の試料室１３を高真空状態と低
真空状態の真空バルブの開閉状態を示す。このように各
真空バルブをあらかじめ設定したシーケンスに従い、開
閉動作させることにより高真空状態，低真空状態を簡単
に実現できる。
真空状態の真空バルブの開閉状態を示す。このように各
真空バルブをあらかじめ設定したシーケンスに従い、開
閉動作させることにより高真空状態，低真空状態を簡単
に実現できる。
【００２０】なおこのシーケンスに連動して、切り替え
時電源３をＯＦＦとすることで電子銃の放電等による事
故を防ぎ、装置の安全性を保つ動作を与えている。
時電源３をＯＦＦとすることで電子銃の放電等による事
故を防ぎ、装置の安全性を保つ動作を与えている。
【００２１】また、低真空状態での大気からのシーケン
スに従った排気動作中において試料室１３の真空が、可
変設定下限に達するとバルブ１６が閉となり、一時試料
室１３の真空度を保持したままバルブ１１開の状態で高
真空排気ポンプ９が動作可の真空度まで排気ポンプ１２
ａで排気し、前記真空度に達するとバルブ１１が閉とな
り、バルブ１０開で高真空排気を行う。同時にバルブ１
６，バルブ１９が開となり、あらかじめ比較部２１で設
定した真空度まで排気ポンプ１２ａとニードルバルブ１
８により実現する。
スに従った排気動作中において試料室１３の真空が、可
変設定下限に達するとバルブ１６が閉となり、一時試料
室１３の真空度を保持したままバルブ１１開の状態で高
真空排気ポンプ９が動作可の真空度まで排気ポンプ１２
ａで排気し、前記真空度に達するとバルブ１１が閉とな
り、バルブ１０開で高真空排気を行う。同時にバルブ１
６，バルブ１９が開となり、あらかじめ比較部２１で設
定した真空度まで排気ポンプ１２ａとニードルバルブ１
８により実現する。
【００２２】この動作により、低真空状態での大気から
のシーケンスに従った排気動作中において、試料室１３
が設定真空度以上に高真空になり、不必要な水分蒸発が
起こることを防止し、真の形態の観察を実現できる。
のシーケンスに従った排気動作中において、試料室１３
が設定真空度以上に高真空になり、不必要な水分蒸発が
起こることを防止し、真の形態の観察を実現できる。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、設定したい試料室の低
真空度を簡単に速く自動設定できるため、試料セットか
ら観察までの時間を大幅に短縮できるため、操作に煩わ
しさがなく観察効率の向上が期待できる。また水分等を
含む試料も真空雰囲気におかれる時間が短いため、水分
等の蒸発を最低限に抑えて正しい観察を可能とした。
真空度を簡単に速く自動設定できるため、試料セットか
ら観察までの時間を大幅に短縮できるため、操作に煩わ
しさがなく観察効率の向上が期待できる。また水分等を
含む試料も真空雰囲気におかれる時間が短いため、水分
等の蒸発を最低限に抑えて正しい観察を可能とした。
【図１】本発明の一実施例の全体構成図である。
【図２】本発明の一実施例の部分図である。
【図３】本発明の一実施例の部分図である。
【図４】本発明の一実施例の表を示す図である。
１…電子銃、２…フィラメント、３…電源、４…レンズ
系、５…対物レンズ、６…試料、７…排管、８…排管、
９…高真空排気ポンプ、１０…バルブ、１１…バルブ、
１２ａ，１２ｂ…排気ポンプ、１３…試料室、１４…オ
リフィス、１５…バルブ、１６…バルブ、１７…真空
計、１８…バルブ、１９…バルブ、２０…真空度表示メ
ータ、２１…比較部、２２…真空度設定部、２３…モー
タ駆動制御部、２４…モータ、２５…真空計、２６…設
定用金具、２７…真空シール、２８…反射電子検出器、
２９…固定金具、３０…ブロック、３１…歯車Ａ、３２
…歯車Ａ、３３…歯車Ｂ、３４…ピン、３５…ガイドピ
ン。
系、５…対物レンズ、６…試料、７…排管、８…排管、
９…高真空排気ポンプ、１０…バルブ、１１…バルブ、
１２ａ，１２ｂ…排気ポンプ、１３…試料室、１４…オ
リフィス、１５…バルブ、１６…バルブ、１７…真空
計、１８…バルブ、１９…バルブ、２０…真空度表示メ
ータ、２１…比較部、２２…真空度設定部、２３…モー
タ駆動制御部、２４…モータ、２５…真空計、２６…設
定用金具、２７…真空シール、２８…反射電子検出器、
２９…固定金具、３０…ブロック、３１…歯車Ａ、３２
…歯車Ａ、３３…歯車Ｂ、３４…ピン、３５…ガイドピ
ン。
Claims (6)
- 【請求項１】電子線を発生する電子銃と、前記電子線を
収束する複数個の電磁レンズを有し、電子銃内部および
電子線通路は、高真空排気系につながる２ヶ以上の結合
部と前記電子線を試料に照射するための開口部を有し、
この開口部を境とし前記高真空排気系とは異なった真空
状態を維持する電子線通路を持ち、前記試料を保持する
試料台と前記開口部を相対せしめ、前記高真空排気系と
は別の排気系につながる１ヶ以上の結合部を有し、真空
状態を維持する機能を有する試料室とからなる電子線照
射装置において、試料室の真空度を可変せしめるため
に、試料室もしくは試料室の真空排気系に大気あるいは
適性のガスを適量導入するバルブを有するガス導入系
と、試料室の真空度を検出し、設定された真空度を維持
するごとく前記バルブを駆動するバルブ駆動機構を自動
的に制御する機能を備えたことを特徴とする電子線照射
装置。 - 【請求項２】請求項１において、電子線通路に設置され
る開口部が試料室側より着脱可能に構成されていること
を特徴とする電子線照射装置。 - 【請求項３】請求項１において、開口部を真空外よりの
操作により、上下に移動可能とし、相対する試料間の距
離を可変せしめるように構成したことを特徴とする電子
線照射装置。 - 【請求項４】請求項１，２または３において、試料室の
真空排気系およびガス導入系を遮断し電子線通路の高真
空排気系と試料室を結合する真空排気系の切り替え機能
を付加したことを特徴とする電子線照射装置。 - 【請求項５】請求項４において、真空排気系の切り替え
に連動して一時電子線の照射を停止する機能を付加した
ことを特徴とする電子線照射装置。 - 【請求項６】請求項１，２または３において、電子線通
路および試料室が大気圧の状態から真空状態に移行する
場合に試料室の真空度を調整下限値に保持し、高真空部
が所定の真空度に達した後、高真空部の排気と並行して
試料室の真空度をあらかじめ設定した真空度まで排気設
定する機能を有することを特徴とする電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4130471A JP2821313B2 (ja) | 1992-05-22 | 1992-05-22 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4130471A JP2821313B2 (ja) | 1992-05-22 | 1992-05-22 | 電子線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05325859A true JPH05325859A (ja) | 1993-12-10 |
| JP2821313B2 JP2821313B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=15035041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4130471A Expired - Lifetime JP2821313B2 (ja) | 1992-05-22 | 1992-05-22 | 電子線照射装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2821313B2 (ja) |
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|---|---|
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