JPH04286843A - 走査形電子顕微鏡及びその類似装置の可動絞り装置 - Google Patents
走査形電子顕微鏡及びその類似装置の可動絞り装置Info
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- JPH04286843A JPH04286843A JP3052132A JP5213291A JPH04286843A JP H04286843 A JPH04286843 A JP H04286843A JP 3052132 A JP3052132 A JP 3052132A JP 5213291 A JP5213291 A JP 5213291A JP H04286843 A JPH04286843 A JP H04286843A
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Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本説明は電子線装置に係り、特に
走査形電子顕微鏡及びその類似装置に使用するのに好適
な電子ビームの可動絞り装置に関する。
走査形電子顕微鏡及びその類似装置に使用するのに好適
な電子ビームの可動絞り装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子線装置、特に走査形電子顕微鏡や、
電子線描画装置等では、電子線をできるだけ細く絞って
試料面あるいは対象物に照射するために、Moなどのご
く薄い金属板が電子ビーム用絞りとして用いられている
。一般には電子光学系を最適照射角や照射電流に設定す
る必要性から、複数個の異なる孔径を有する薄い金属板
が用いられ、最適使用条件が設定できるように電子ビー
ム光軸から出し入れ調整可能な可動絞りが取り付けられ
る。さて、このような絞りに電子ビームが照射されると
絞りや絞りの近傍に存在するハイドロカーボン系などの
ガスが電子ビームと反応して、絞り孔のまわりに付着す
る。これをコンタミネーションと称しているが、このコ
ンタミネーションが絞り孔の周辺に付着するとチャージ
アップが生じたり、孔の真円度が悪くなって、電子ビー
ム変動や非点収差の増大をひきおこす。特に電子光学系
の最終段電磁レンズ(対物レンズ)の近傍に配置される
対物レンズ絞りでは、このコンタミネーションの影響が
、スポットサイズすなわち分解能を決める決定的な要因
になりうる。
電子線描画装置等では、電子線をできるだけ細く絞って
試料面あるいは対象物に照射するために、Moなどのご
く薄い金属板が電子ビーム用絞りとして用いられている
。一般には電子光学系を最適照射角や照射電流に設定す
る必要性から、複数個の異なる孔径を有する薄い金属板
が用いられ、最適使用条件が設定できるように電子ビー
ム光軸から出し入れ調整可能な可動絞りが取り付けられ
る。さて、このような絞りに電子ビームが照射されると
絞りや絞りの近傍に存在するハイドロカーボン系などの
ガスが電子ビームと反応して、絞り孔のまわりに付着す
る。これをコンタミネーションと称しているが、このコ
ンタミネーションが絞り孔の周辺に付着するとチャージ
アップが生じたり、孔の真円度が悪くなって、電子ビー
ム変動や非点収差の増大をひきおこす。特に電子光学系
の最終段電磁レンズ(対物レンズ)の近傍に配置される
対物レンズ絞りでは、このコンタミネーションの影響が
、スポットサイズすなわち分解能を決める決定的な要因
になりうる。
【0003】従来技術では、電子ビーム用絞りはハイド
ロカーボン系の残留ガスの少ないドライバキューム系の
中に固定されて配置されるか、又は対物レンズ絞りのよ
うに複数個の絞り孔をもつ薄い金属板を光軸上から移動
可能とし、1つの絞り孔が汚れたら別の孔に変える方法
をとっていた。ところが、絞り孔にいったんコンタミネ
ーションが付着したら使えなくなるわけで、電子線装置
本体から可動絞りを取り外してクリーニングする必要が
あった。その際、電子線装置本体の少なからぬ部分も大
気にさらすことになり、再排気しても数時間は、装置内
からの放出ガスが枯れない状態となることも多い。これ
は結局、観察しようとする試料や、せっかくクリーニン
グしたばかりの絞りへのコンタミネーション再発生の原
因になりうる。従来技術では、電子ビーム照射中は常に
可動絞りを加熱しておく方法もあるが、絞りの加熱によ
る熱ドリフトが発生して電子ビームを絞りにくくするこ
とがある。
ロカーボン系の残留ガスの少ないドライバキューム系の
中に固定されて配置されるか、又は対物レンズ絞りのよ
うに複数個の絞り孔をもつ薄い金属板を光軸上から移動
可能とし、1つの絞り孔が汚れたら別の孔に変える方法
をとっていた。ところが、絞り孔にいったんコンタミネ
ーションが付着したら使えなくなるわけで、電子線装置
本体から可動絞りを取り外してクリーニングする必要が
あった。その際、電子線装置本体の少なからぬ部分も大
気にさらすことになり、再排気しても数時間は、装置内
からの放出ガスが枯れない状態となることも多い。これ
は結局、観察しようとする試料や、せっかくクリーニン
グしたばかりの絞りへのコンタミネーション再発生の原
因になりうる。従来技術では、電子ビーム照射中は常に
可動絞りを加熱しておく方法もあるが、絞りの加熱によ
る熱ドリフトが発生して電子ビームを絞りにくくするこ
とがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上述し
た従来技術の欠点をなくし、電子線装置本体を大気にさ
らすことなく、容易に可動絞りを交換又はクリーニング
することのできる絞り装置を提供することにある。
た従来技術の欠点をなくし、電子線装置本体を大気にさ
らすことなく、容易に可動絞りを交換又はクリーニング
することのできる絞り装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、電子線装置本体とは真空的に連通し
、かつエアーロック手段によって電子線装置本体から遮
断できる予備室と、該予備室を排気できる手段とを設け
、電子線装置本体を大気にさらすことなく、該予備室に
可動絞りを移動し、かつ交換できるよう構成する。さら
に該予備室には、可動絞りに直接電流を流して加熱し、
絞りをいちいちとり外すことなく、クリーニングを行え
る手段を付設する。又は、該予備室に真空外部よりガラ
ス部材を付設し、このガラス部材を通して可動絞り部分
に熱線を照射しうる手段を設ける。さらに他の実施例に
あっては、該予備室内に可動絞りを輻射熱によって脱ガ
ス・クリーニングするための発熱体を設けるか、又は熱
電子源を設けて絞り面の熱電子衝撃により脱ガス・クリ
ーニングを行うよう構成する。これらの手段により、電
子線本体を大気にさらすことなく、短時間のうちに、可
動絞りの交換、あるいは絞り板のクリーニングを行える
ようにしたものである。
めに、本発明では、電子線装置本体とは真空的に連通し
、かつエアーロック手段によって電子線装置本体から遮
断できる予備室と、該予備室を排気できる手段とを設け
、電子線装置本体を大気にさらすことなく、該予備室に
可動絞りを移動し、かつ交換できるよう構成する。さら
に該予備室には、可動絞りに直接電流を流して加熱し、
絞りをいちいちとり外すことなく、クリーニングを行え
る手段を付設する。又は、該予備室に真空外部よりガラ
ス部材を付設し、このガラス部材を通して可動絞り部分
に熱線を照射しうる手段を設ける。さらに他の実施例に
あっては、該予備室内に可動絞りを輻射熱によって脱ガ
ス・クリーニングするための発熱体を設けるか、又は熱
電子源を設けて絞り面の熱電子衝撃により脱ガス・クリ
ーニングを行うよう構成する。これらの手段により、電
子線本体を大気にさらすことなく、短時間のうちに、可
動絞りの交換、あるいは絞り板のクリーニングを行える
ようにしたものである。
【0006】
【作用】このように構成することにより、請求項1では
、電子線装置本体を大気にさらすことなく、可動絞りを
新しいクリーニングされたものと容易に交換することが
できるようになる。また請求項2では、予備室で絞り板
を直接加熱によってクリーニングすることができ、かつ
、電子線装置本体をクリーニング時の放出ガスや蒸発物
質で汚染することなく、絞り板をクリーニングできるよ
うになる。
、電子線装置本体を大気にさらすことなく、可動絞りを
新しいクリーニングされたものと容易に交換することが
できるようになる。また請求項2では、予備室で絞り板
を直接加熱によってクリーニングすることができ、かつ
、電子線装置本体をクリーニング時の放出ガスや蒸発物
質で汚染することなく、絞り板をクリーニングできるよ
うになる。
【0007】請求項3では真空外部よりガラス部材を通
して絞りの孔部分に熱線を集中照射して、クリーニング
できるようになる。
して絞りの孔部分に熱線を集中照射して、クリーニング
できるようになる。
【0008】請求項4では、予備室内で可動絞りを片面
又は両側から発熱体からの輻射熱でクリーニングできる
ようになる。
又は両側から発熱体からの輻射熱でクリーニングできる
ようになる。
【0009】請求項5では、予備室内で可動絞りを熱電
子衝撃によりクリーニングできるようになる。
子衝撃によりクリーニングできるようになる。
【0010】
【実施例】以下で図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
説明する。
【0011】図1は、本発明を電界放射形走査電子顕微
鏡の対物レンズ可動絞り装置に適用した場合の一実施例
を示す図である。電子銃は超高真空容器1内にあって電
子源となるポイントフィラメント陰極2と静電レンズを
成す2つの陽極3,4から形成される。第1陽極3は電
界放射電子流5を引き出すためのもの、第2陽極4は加
速用のものである。V1は電界放射電子流引き出し電圧
6,V0は加速電圧7である。第1陽極孔を通過した放
射電子流8は第1陽極と第2陽極との間で形成される静
電レンズにより、収束作用を受け、第2陽極下方で細い
電子ビーム9となる。この電界放射形電子銃は従来の熱
電子銃に比べて約103倍という高い輝度が得られるの
で、走査電子顕微鏡にとっては有力な電子銃であり、さ
らに、多段電磁レンズ系を付加することにより超高分解
能の顕微鏡像が得られる。図1はコンデンサレンズ10
と対物レンズ11の2段の電磁レンズを付加した場合に
ついて示したものである。このような電界放射形電子銃
を有する多段電磁レンズ系においては通常2つの可動絞
り装置が設けられる。一つは第2陽極4とコンデンサレ
ンズ10との間に設けられる中間絞り装置12であり、
もう一つは偏向コイル13と試料14との間に設けられ
る対物絞り装置15である。中間絞り装置12は、電子
銃からの電子ビーム8を細く絞ると同時に、電子ビーム
の一部を検出して、割算増幅器(図示せず)に導き電子
ビームに付随する微小変動(チップノズと称される)を
キャンセルするのに使われる。また、対物絞り装置15
は対物レンズ11により試料上に電子ビームスポットを
結ばせる際の最適照射角を設定するのに用いられる。さ
て、このような絞り上には、電子ビームの照射により、
周囲のガス分子が付着し、いわゆるコンタミネーション
が生ずる。絞り孔の周辺にこのようなコンタミネーショ
ンが生ずると、電子が帯電し、非点収差が発生したり、
散乱電子線が多くなって、分解能の著しい低下やザラツ
キの多い走査像になるなどの悪影響を及ぼす。このため
、これらの絞りは、時々、電子線の光軸から取り除き、
クリーニングする必要がある。特に対物絞りの場合は、
近くに観察用試料14や、該試料を載せ、視野移動させ
るための試料ステージ16などからの放出ガス、特にハ
イドロカーボン系の有機ガスを発生する部材が多いので
、このコンタミネーションの発生頻度が高い。このため
従来技術では、絞りを装置外に取り出して真空蒸着装置
内で焼き出しクリーニングするか、又は、鏡体内に置い
たまま、絞りを常時加熱状態にしておいて、ガス分子の
付着を少なくする方法がとられている。しかし前述した
ように、前者の方法では、絞りを真空外に取り出す際に
鏡体内を大気にさらすことになるので残留ガスが多くな
り、像観察にとって好ましくない。せっかく絞りをクリ
ーニングしても鏡体内の残留ガスにより、再コンタミネ
ーションが早くなるだけでなく、像観察時の試料のコン
タミネーションも多くなるからである。特に、電界放射
形走査電子顕微鏡のように、超高分解能の走査像を観察
する装置では、像質の低下や分解能の低下は著しい。ま
た、絞りを常時加熱する方式は、加熱の際の熱的なドリ
フトがなかなかおさまらないことや、いったん付着した
コンタミネーションはとりきれないといった問題が残っ
ている。そこで本発明の実施例では、対物絞り装置15
は像観察時には電子ビーム光軸上にセットし、クリーニ
ング時には、予備室17に引き出せるようになっている
。該予備室17は、装置本体の鏡体とは、エアークロッ
ク装置18によって真空的に遮断したり、連通したりで
きるようになっている。すなわち、予備室に引き出した
ときは、エアークロック装置18を閉じ、予備室を大気
圧状態にして、対物絞り全体を予備室から取外せるよう
になっている。該対物絞り装置15は、中心部に1個又
は複数個の微小な孔径を有するモリブデン等の薄膜状金
属板(厚さ数十ミクロンミリメートル)からなる絞り板
19と、これを押える押え20と、絞り板を載置し摺動
軸21につながる絞りホールダ22、絞り装置全体を予
備室に装着するフランジ23及び真空に維持するための
Oリング24,25、前記摺動軸上に付けられたストッ
パ用ピン26などから構成されている。また、予備室に
は、絞り装置をホールドしておくためのストッパ27と
該予備室を排気したり、リークしたりするための排気手
段が設けられている。該排気手段は、例えば開閉用バル
ブ28,ターボ分子ポンプ29,封止バルブ30,リー
クバルブ31,フォアライントラップ32、及びロータ
リーポンプ33などより構成されている。これにより、
クリーニング済みの絞り装置を予備室にセットした後、
再排気し、所定の真空度に達した後、エアーロック装置
18を開ける。しかる後、対物絞りを電子ビーム光軸に
まで挿入すれば、鏡体内を大気にさらすことなく直ちに
、電子ビームを出して、試料14からの2次電子34な
どの信号を、検出器35,偏向回路36,CRT37な
どにより、良好な走査電子顕微鏡像として観察できるよ
うになる。なお、この実施例では、絞り装置の真空封止
をOリングで行っているが、前記摺動軸21とフランジ
23をベロースでつないでもよく、ドライバキュー系に
するという観点からはむしろその方が好ましい。なお、
本実施例では電界放射形電子銃を有する走査形電子顕微
鏡に適用した例について説明したが、熱電子形電子銃を
有する走査形電子顕微鏡に対しても同様に適用できる。
鏡の対物レンズ可動絞り装置に適用した場合の一実施例
を示す図である。電子銃は超高真空容器1内にあって電
子源となるポイントフィラメント陰極2と静電レンズを
成す2つの陽極3,4から形成される。第1陽極3は電
界放射電子流5を引き出すためのもの、第2陽極4は加
速用のものである。V1は電界放射電子流引き出し電圧
6,V0は加速電圧7である。第1陽極孔を通過した放
射電子流8は第1陽極と第2陽極との間で形成される静
電レンズにより、収束作用を受け、第2陽極下方で細い
電子ビーム9となる。この電界放射形電子銃は従来の熱
電子銃に比べて約103倍という高い輝度が得られるの
で、走査電子顕微鏡にとっては有力な電子銃であり、さ
らに、多段電磁レンズ系を付加することにより超高分解
能の顕微鏡像が得られる。図1はコンデンサレンズ10
と対物レンズ11の2段の電磁レンズを付加した場合に
ついて示したものである。このような電界放射形電子銃
を有する多段電磁レンズ系においては通常2つの可動絞
り装置が設けられる。一つは第2陽極4とコンデンサレ
ンズ10との間に設けられる中間絞り装置12であり、
もう一つは偏向コイル13と試料14との間に設けられ
る対物絞り装置15である。中間絞り装置12は、電子
銃からの電子ビーム8を細く絞ると同時に、電子ビーム
の一部を検出して、割算増幅器(図示せず)に導き電子
ビームに付随する微小変動(チップノズと称される)を
キャンセルするのに使われる。また、対物絞り装置15
は対物レンズ11により試料上に電子ビームスポットを
結ばせる際の最適照射角を設定するのに用いられる。さ
て、このような絞り上には、電子ビームの照射により、
周囲のガス分子が付着し、いわゆるコンタミネーション
が生ずる。絞り孔の周辺にこのようなコンタミネーショ
ンが生ずると、電子が帯電し、非点収差が発生したり、
散乱電子線が多くなって、分解能の著しい低下やザラツ
キの多い走査像になるなどの悪影響を及ぼす。このため
、これらの絞りは、時々、電子線の光軸から取り除き、
クリーニングする必要がある。特に対物絞りの場合は、
近くに観察用試料14や、該試料を載せ、視野移動させ
るための試料ステージ16などからの放出ガス、特にハ
イドロカーボン系の有機ガスを発生する部材が多いので
、このコンタミネーションの発生頻度が高い。このため
従来技術では、絞りを装置外に取り出して真空蒸着装置
内で焼き出しクリーニングするか、又は、鏡体内に置い
たまま、絞りを常時加熱状態にしておいて、ガス分子の
付着を少なくする方法がとられている。しかし前述した
ように、前者の方法では、絞りを真空外に取り出す際に
鏡体内を大気にさらすことになるので残留ガスが多くな
り、像観察にとって好ましくない。せっかく絞りをクリ
ーニングしても鏡体内の残留ガスにより、再コンタミネ
ーションが早くなるだけでなく、像観察時の試料のコン
タミネーションも多くなるからである。特に、電界放射
形走査電子顕微鏡のように、超高分解能の走査像を観察
する装置では、像質の低下や分解能の低下は著しい。ま
た、絞りを常時加熱する方式は、加熱の際の熱的なドリ
フトがなかなかおさまらないことや、いったん付着した
コンタミネーションはとりきれないといった問題が残っ
ている。そこで本発明の実施例では、対物絞り装置15
は像観察時には電子ビーム光軸上にセットし、クリーニ
ング時には、予備室17に引き出せるようになっている
。該予備室17は、装置本体の鏡体とは、エアークロッ
ク装置18によって真空的に遮断したり、連通したりで
きるようになっている。すなわち、予備室に引き出した
ときは、エアークロック装置18を閉じ、予備室を大気
圧状態にして、対物絞り全体を予備室から取外せるよう
になっている。該対物絞り装置15は、中心部に1個又
は複数個の微小な孔径を有するモリブデン等の薄膜状金
属板(厚さ数十ミクロンミリメートル)からなる絞り板
19と、これを押える押え20と、絞り板を載置し摺動
軸21につながる絞りホールダ22、絞り装置全体を予
備室に装着するフランジ23及び真空に維持するための
Oリング24,25、前記摺動軸上に付けられたストッ
パ用ピン26などから構成されている。また、予備室に
は、絞り装置をホールドしておくためのストッパ27と
該予備室を排気したり、リークしたりするための排気手
段が設けられている。該排気手段は、例えば開閉用バル
ブ28,ターボ分子ポンプ29,封止バルブ30,リー
クバルブ31,フォアライントラップ32、及びロータ
リーポンプ33などより構成されている。これにより、
クリーニング済みの絞り装置を予備室にセットした後、
再排気し、所定の真空度に達した後、エアーロック装置
18を開ける。しかる後、対物絞りを電子ビーム光軸に
まで挿入すれば、鏡体内を大気にさらすことなく直ちに
、電子ビームを出して、試料14からの2次電子34な
どの信号を、検出器35,偏向回路36,CRT37な
どにより、良好な走査電子顕微鏡像として観察できるよ
うになる。なお、この実施例では、絞り装置の真空封止
をOリングで行っているが、前記摺動軸21とフランジ
23をベロースでつないでもよく、ドライバキュー系に
するという観点からはむしろその方が好ましい。なお、
本実施例では電界放射形電子銃を有する走査形電子顕微
鏡に適用した例について説明したが、熱電子形電子銃を
有する走査形電子顕微鏡に対しても同様に適用できる。
【0012】図2は、本発明の他の一実施例を示すもの
で、予備室17と対物絞り装置15の部分について示し
た構成概略図であり請求項2に対応する。以下、図1と
ほぼ同一部材を意味するものは同一符番で示すものとす
る。本実施例では、予備室17に加熱ヒーター38とシ
ャッター装置39,電流導入端子40及び観察用窓41
を設け、加熱ヒーター38の一端は絞り押え20aの先
端に接続し、他端は電流導入端子40を介してもう一方
の絞り押え20bに接続する。そして真空外部より、加
熱電源42より加熱ヒーター38及び絞り板19に直列
に電流を流して、絞り板を直接加熱する。シャッター装
置39は加熱の最初にヒーター38からの蒸発物によっ
て絞り板19や予備室内が汚染されるのを防止する。 (ヒーターが清浄ならこのシャッターはなくてもよい。 )また、観察窓41を通して、加熱強度やクリーニング
の度合いをチェックする。予備室17と鏡体(電子線装
置本体)43の間は、加熱中はエアーロック装置18に
よりエアーロックされるか又は、鏡体側に汚染物質やガ
ス分子が飛散しない程度に遮断される。もちろん、加熱
中は、ターボ分子ポンプ29又は、油拡散ポンプやクラ
イオポンプ、ソープションポンプなどの排気手段によっ
て排気される。本実施例では、絞り装置からいちいち絞
り板を取り外さなくても予備室で絞り板のクリーニング
を繰り返し行える。また、加熱ヒーターによる輻射熱と
、絞り自身に電流が流れることによる直接加熱の相乗効
果によりクリーニングでき、消費電力も従来の蒸着装置
による加熱焼き出し方法に比べて少なくてすむという利
点がある。
で、予備室17と対物絞り装置15の部分について示し
た構成概略図であり請求項2に対応する。以下、図1と
ほぼ同一部材を意味するものは同一符番で示すものとす
る。本実施例では、予備室17に加熱ヒーター38とシ
ャッター装置39,電流導入端子40及び観察用窓41
を設け、加熱ヒーター38の一端は絞り押え20aの先
端に接続し、他端は電流導入端子40を介してもう一方
の絞り押え20bに接続する。そして真空外部より、加
熱電源42より加熱ヒーター38及び絞り板19に直列
に電流を流して、絞り板を直接加熱する。シャッター装
置39は加熱の最初にヒーター38からの蒸発物によっ
て絞り板19や予備室内が汚染されるのを防止する。 (ヒーターが清浄ならこのシャッターはなくてもよい。 )また、観察窓41を通して、加熱強度やクリーニング
の度合いをチェックする。予備室17と鏡体(電子線装
置本体)43の間は、加熱中はエアーロック装置18に
よりエアーロックされるか又は、鏡体側に汚染物質やガ
ス分子が飛散しない程度に遮断される。もちろん、加熱
中は、ターボ分子ポンプ29又は、油拡散ポンプやクラ
イオポンプ、ソープションポンプなどの排気手段によっ
て排気される。本実施例では、絞り装置からいちいち絞
り板を取り外さなくても予備室で絞り板のクリーニング
を繰り返し行える。また、加熱ヒーターによる輻射熱と
、絞り自身に電流が流れることによる直接加熱の相乗効
果によりクリーニングでき、消費電力も従来の蒸着装置
による加熱焼き出し方法に比べて少なくてすむという利
点がある。
【0013】図3は、本発明の他の一実施例を示す概略
図であり、請求項3に対応する。熱源44と凸レンズ状
のガラス窓45を通して絞り板19の上に熱線をフォー
カスさせ、絞りの加熱脱ガスを行えるようにしたもので
ある。熱源44としては赤外線あるいはレーザービーム
光を用いてもよい。本実施例では、予備室を大気にさら
すことなく、真空外から必要とする絞り面のみ集中的に
クリーニングを行える利点がある。
図であり、請求項3に対応する。熱源44と凸レンズ状
のガラス窓45を通して絞り板19の上に熱線をフォー
カスさせ、絞りの加熱脱ガスを行えるようにしたもので
ある。熱源44としては赤外線あるいはレーザービーム
光を用いてもよい。本実施例では、予備室を大気にさら
すことなく、真空外から必要とする絞り面のみ集中的に
クリーニングを行える利点がある。
【0014】図4は、本発明の他の一実施例を示す概略
図であり、請求項4に対応するものである。本実施例で
は絞り板19の上下両側から加熱ヒーター38a、38
bを配置し、加熱電源42a、42bより電流を流して
輻射熱により絞り板19の加熱脱ガスを行えるようにし
たものである。本実施例では、絞り板の両側を同時にク
リーニングできる利点がある。
図であり、請求項4に対応するものである。本実施例で
は絞り板19の上下両側から加熱ヒーター38a、38
bを配置し、加熱電源42a、42bより電流を流して
輻射熱により絞り板19の加熱脱ガスを行えるようにし
たものである。本実施例では、絞り板の両側を同時にク
リーニングできる利点がある。
【0015】図5は、本発明の他の一実施例を示す概略
図であり、請求項5に対応する。本実施例では、絞り板
19の表面を熱電子衝撃によって行うため、熱電子源4
6、加熱電源47,高圧導入部48,熱電子衝撃用高電
圧電源VB49を設けている。本実施例では、熱電子源
からの輻射熱と熱電子流50による熱電子衝撃の双方の
効果により絞り板19のクリーニングを行える利点があ
る。
図であり、請求項5に対応する。本実施例では、絞り板
19の表面を熱電子衝撃によって行うため、熱電子源4
6、加熱電源47,高圧導入部48,熱電子衝撃用高電
圧電源VB49を設けている。本実施例では、熱電子源
からの輻射熱と熱電子流50による熱電子衝撃の双方の
効果により絞り板19のクリーニングを行える利点があ
る。
【0016】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明によれば、電
子線装置本体を大気にさらすことなく、可動絞りのクリ
ーニングを容易に行うことができ、実用に供してその効
果顕著である。
子線装置本体を大気にさらすことなく、可動絞りのクリ
ーニングを容易に行うことができ、実用に供してその効
果顕著である。
【図1】本発明の一実施例を示す構成概略図である。
【図2】本発明の他の一実施例を示す可動絞り装置と予
備室の部分を示す図である。
備室の部分を示す図である。
【図3】本発明の他の実施例を示す図である。
【図4】本発明の他の実施例を示す図である。
【図5】本発明の他の実施例を示す図である。
11…対物レンズ、15…対物絞り装置、17…予備室
、18…エアーロック装置、19…絞り板、20,20
a,20b…絞り押さえ、21…摺動軸、28…開閉バ
ルブ、29…ターボ分子ポンプ、33…油回転ポンプ、
38,38a,38b…加熱ヒーター、41…観察窓、
42,42a,42b…加熱電源、43…鏡体、44…
熱源、45…ガラス窓、46…熱電子源、47…加熱電
源、49…熱電子衝撃用高電圧電源、50…熱電子流。
、18…エアーロック装置、19…絞り板、20,20
a,20b…絞り押さえ、21…摺動軸、28…開閉バ
ルブ、29…ターボ分子ポンプ、33…油回転ポンプ、
38,38a,38b…加熱ヒーター、41…観察窓、
42,42a,42b…加熱電源、43…鏡体、44…
熱源、45…ガラス窓、46…熱電子源、47…加熱電
源、49…熱電子衝撃用高電圧電源、50…熱電子流。
Claims (5)
- 【請求項1】電子線の通路から出し入れできる可動絞り
を備えた電子線装置において、電子線装置本体とは真空
的に連通し、かつエアーロック手段によって遮断できる
予備室と、該予備室を排気する手段とを設け、電子線装
置本体を大気にさらすことなく、該予備室に可動絞りを
移動し、かつ交換できるよう構成したことを特徴とする
走査形電子顕微鏡及びその類似装置の可動絞り装置。 - 【請求項2】前記予備室は、可動絞りに電流を流して加
熱する手段を備えていることを特徴とする請求項1に記
載の可動絞り装置。 - 【請求項3】前記予備室は、真空外部よりガラス部材を
通して可動絞り部分に熱線を照射しうる手段を備えてい
ることを特徴とする請求項1記載の可動絞り装置。 - 【請求項4】前記予備室に、可動絞りを輻射熱によって
脱ガスするための発熱体を配設したことを特徴とする請
求項1記載に可動絞り装置。 - 【請求項5】前記予備室に熱電子源を設け、可動絞り面
の熱電子衝撃を行うよう構成したことを特徴とする請求
項1記載の可動絞り装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3052132A JPH04286843A (ja) | 1991-03-18 | 1991-03-18 | 走査形電子顕微鏡及びその類似装置の可動絞り装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3052132A JPH04286843A (ja) | 1991-03-18 | 1991-03-18 | 走査形電子顕微鏡及びその類似装置の可動絞り装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04286843A true JPH04286843A (ja) | 1992-10-12 |
Family
ID=12906342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3052132A Pending JPH04286843A (ja) | 1991-03-18 | 1991-03-18 | 走査形電子顕微鏡及びその類似装置の可動絞り装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04286843A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0883157A1 (en) * | 1997-04-22 | 1998-12-09 | Schlumberger Technologies, Inc. | Optical system with an axially moveable apertured plate |
JP2010212583A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Nuflare Technology Inc | 成形アパーチャ部材のクリーニング方法及び描画方法 |
US8263943B2 (en) | 2009-01-15 | 2012-09-11 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ion beam device |
JP2013251088A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子装置 |
WO2014069325A1 (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム顕微装置 |
EP4160651A1 (en) * | 2021-09-30 | 2023-04-05 | FEI Company | Modular ultra-high vacuum electron microscope |
-
1991
- 1991-03-18 JP JP3052132A patent/JPH04286843A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0883157A1 (en) * | 1997-04-22 | 1998-12-09 | Schlumberger Technologies, Inc. | Optical system with an axially moveable apertured plate |
US8263943B2 (en) | 2009-01-15 | 2012-09-11 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ion beam device |
DE112010000799T5 (de) | 2009-01-15 | 2012-11-08 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ionenstrahlvorrichtung |
US8563944B2 (en) | 2009-01-15 | 2013-10-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ion beam device |
JP2010212583A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Nuflare Technology Inc | 成形アパーチャ部材のクリーニング方法及び描画方法 |
JP2013251088A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子装置 |
WO2014069325A1 (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム顕微装置 |
EP4160651A1 (en) * | 2021-09-30 | 2023-04-05 | FEI Company | Modular ultra-high vacuum electron microscope |
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