JPH05314474A - 磁気ディスク及びその表面加工方法並びに磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ディスク及びその表面加工方法並びに磁気ディスク装置Info
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- JPH05314474A JPH05314474A JP4115795A JP11579592A JPH05314474A JP H05314474 A JPH05314474 A JP H05314474A JP 4115795 A JP4115795 A JP 4115795A JP 11579592 A JP11579592 A JP 11579592A JP H05314474 A JPH05314474 A JP H05314474A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明の目的は、磁気ディスク装置のヘッド浮
上特性およびＣＳＳ特性を満足させるために磁気ディス
ク面上に生じる微細な異物や汚れを無くすために、ディ
スクの内外周部の表面形状を平滑化することである。 【構成】所要の寸法形状に形成したＡｌ合金基板、Ｎｉ
-Ｐめっき処理した基板、薄膜を形成したスパッタ形成
したスパッタ基板のそれぞれの基板に対して、基板の内
周部及び外周部を回転工具により表面加工し、表面形状
を平滑化し、内外周部に付着した汚れや異物を除去し、
かつそれぞれの洗浄工程での清浄度を高める。この結
果、薄膜を形成したスパッタ磁気ディスクディスクの表
面は、微細な異物や汚れがなく、ヘッドの浮上特性及び
ＣＳＳ特性がよく、高品質の磁気ディスクを実現するこ
とができる。
上特性およびＣＳＳ特性を満足させるために磁気ディス
ク面上に生じる微細な異物や汚れを無くすために、ディ
スクの内外周部の表面形状を平滑化することである。 【構成】所要の寸法形状に形成したＡｌ合金基板、Ｎｉ
-Ｐめっき処理した基板、薄膜を形成したスパッタ形成
したスパッタ基板のそれぞれの基板に対して、基板の内
周部及び外周部を回転工具により表面加工し、表面形状
を平滑化し、内外周部に付着した汚れや異物を除去し、
かつそれぞれの洗浄工程での清浄度を高める。この結
果、薄膜を形成したスパッタ磁気ディスクディスクの表
面は、微細な異物や汚れがなく、ヘッドの浮上特性及び
ＣＳＳ特性がよく、高品質の磁気ディスクを実現するこ
とができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁性媒体をスパッタリ
ングにより形成する薄膜磁気ディスクに係り、特に薄膜
磁気ディスクのヘッド浮上特性や、ＣＳＳ特性などの信
頼性を向上させた磁気ディスク及び磁気ディスク装置に
関する。
ングにより形成する薄膜磁気ディスクに係り、特に薄膜
磁気ディスクのヘッド浮上特性や、ＣＳＳ特性などの信
頼性を向上させた磁気ディスク及び磁気ディスク装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、スパッタ、めっき、イオンプレー
ティングなどの薄膜形成技術を用いて、磁性薄膜を形成
して成る磁気ディスクは、アルミニウム合金基板表面に
厚さ数１０μｍのＮｉ-Ｐめっきを施して、この表面を
図５の工程図に示すように両面研削あるいは両面ラッピ
ング、さらに種々の粒度の砥粒を用いてポリシング加工
し、表面粗さ0.002〜0.003μｍＲａの範囲に仕上げた磁
気ディスク用基板に、磁気ディスク装置としてのＣＳＳ
（Contact-start-stop）における摺動信頼性を向上させ
るため、テクスチャ加工し、表面粗さを0.004〜0.008μ
ｍＲａにし、この基板に磁性膜及び保護膜を形成し、さ
らに潤滑膜を形成して創られる。この磁気ディスクを図
６に示すように磁気ヘッドと組み合わせて、磁気ディス
ク装置として完成する。
ティングなどの薄膜形成技術を用いて、磁性薄膜を形成
して成る磁気ディスクは、アルミニウム合金基板表面に
厚さ数１０μｍのＮｉ-Ｐめっきを施して、この表面を
図５の工程図に示すように両面研削あるいは両面ラッピ
ング、さらに種々の粒度の砥粒を用いてポリシング加工
し、表面粗さ0.002〜0.003μｍＲａの範囲に仕上げた磁
気ディスク用基板に、磁気ディスク装置としてのＣＳＳ
（Contact-start-stop）における摺動信頼性を向上させ
るため、テクスチャ加工し、表面粗さを0.004〜0.008μ
ｍＲａにし、この基板に磁性膜及び保護膜を形成し、さ
らに潤滑膜を形成して創られる。この磁気ディスクを図
６に示すように磁気ヘッドと組み合わせて、磁気ディス
ク装置として完成する。
【０００３】一方、磁気ディスク装置の記録容量を増大
させるため、図７に示すように磁気ヘッドの浮上高さＨ
ｆｌｙは非常に小さくなり、0.2μｍ以下から0.1μｍ以
下が要求されてきている。このため、磁気ディスク表面
には微小な異物の付着やスクラッチによる盛り上がり欠
陥などが皆無であることが要求される。
させるため、図７に示すように磁気ヘッドの浮上高さＨ
ｆｌｙは非常に小さくなり、0.2μｍ以下から0.1μｍ以
下が要求されてきている。このため、磁気ディスク表面
には微小な異物の付着やスクラッチによる盛り上がり欠
陥などが皆無であることが要求される。
【０００４】しかしながら、現状の製造プロセスにおい
ては磁気ヘッドが浮上する磁気ディスクの表面に対して
は非常に注意を払って形成され、表面粗さが数ｎｍ以下
の高精度で、かつ高清浄の品質の高い表面が形成されて
いるが、磁気ディスクの内周部や外周部では図 に示す
ように、製造プロセスの初期に切削加工による表面凹凸
が数μｍ以上の表面である。さらに、 この基板に磁性
膜及び保護膜をスパッタ形成し、さらに潤滑膜を形成し
て創られる磁気ディスクでは、磁気ヘッドが浮上するデ
ィスク表面は研磨テープや浮上用ヘッドを用いて表面仕
上げするが、その磁気ディスクの外周部や内周部は成膜
した状態のままであり、外周部や内周部の表面凹凸にス
パッタ形成時の異物が付着している。このため、内周部
に付着した異物は、磁気ディスクを磁気ディスク装置の
スピンドルに組み込む際、脱落しディスク表面に付着
し、磁気ヘッドの浮上特性の劣化を生じる。また、外周
部に付着した異物は、磁気ディスク装置に組み込んだ
後、装置稼働時に脱離し、浮遊塵挨となり、磁気ヘッド
の浮上特性を劣化させる要因やヘッドクラッシュ発生要
因となる。したがって、磁気ディスクの外周部や内周部
の表面を高精度にかつ高清浄にすることは磁気ディスク
装置の信頼性を向上させるために必要である。
ては磁気ヘッドが浮上する磁気ディスクの表面に対して
は非常に注意を払って形成され、表面粗さが数ｎｍ以下
の高精度で、かつ高清浄の品質の高い表面が形成されて
いるが、磁気ディスクの内周部や外周部では図 に示す
ように、製造プロセスの初期に切削加工による表面凹凸
が数μｍ以上の表面である。さらに、 この基板に磁性
膜及び保護膜をスパッタ形成し、さらに潤滑膜を形成し
て創られる磁気ディスクでは、磁気ヘッドが浮上するデ
ィスク表面は研磨テープや浮上用ヘッドを用いて表面仕
上げするが、その磁気ディスクの外周部や内周部は成膜
した状態のままであり、外周部や内周部の表面凹凸にス
パッタ形成時の異物が付着している。このため、内周部
に付着した異物は、磁気ディスクを磁気ディスク装置の
スピンドルに組み込む際、脱落しディスク表面に付着
し、磁気ヘッドの浮上特性の劣化を生じる。また、外周
部に付着した異物は、磁気ディスク装置に組み込んだ
後、装置稼働時に脱離し、浮遊塵挨となり、磁気ヘッド
の浮上特性を劣化させる要因やヘッドクラッシュ発生要
因となる。したがって、磁気ディスクの外周部や内周部
の表面を高精度にかつ高清浄にすることは磁気ディスク
装置の信頼性を向上させるために必要である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来技術は、アルミニ
ウム合金基板を旋削加工によりドーナツ形状の円板に形
成する。この基板にＮｉ-Ｐめっき処理し、両面研磨し
た後、磁性膜及び保護膜をスパッタ形成し、さらに潤滑
膜を形成して磁気ディスクを製作する。したがって、磁
気ディスクの外周部及び内周部の表面は、アルミニウム
合金基板の旋削面にＮｉ-Ｐめっきした状態である。こ
のため、表面凹凸が大きく、Ｎｉ-Ｐめっき基板面の両
面研磨における研磨剤や研磨屑などの付着物が多く、洗
浄による除去がむずかしい問題がある。また、薄膜のス
パッタ形成において、基板の外周部及び内周部にも薄膜
が形成され、それとともに異物が付着する。そこで、磁
気ヘッドが浮上するディスク表面は、研磨テープやクリ
ーニングテープにより、表面加工するが、従来技術では
磁気ディスクの外周部や内周部は、スパッタ形成した状
態のままである。このため、磁気ディスク装置として組
み立てた後、付着した異物が脱離し、前述と同様にヘッ
ド浮上特性を劣化させる要因となる。したがって、磁気
ディスクの外周部及び内周部に異物が付着しない表面形
状にするとともに、付着した異物を除去する手段を講じ
る必要がある。
ウム合金基板を旋削加工によりドーナツ形状の円板に形
成する。この基板にＮｉ-Ｐめっき処理し、両面研磨し
た後、磁性膜及び保護膜をスパッタ形成し、さらに潤滑
膜を形成して磁気ディスクを製作する。したがって、磁
気ディスクの外周部及び内周部の表面は、アルミニウム
合金基板の旋削面にＮｉ-Ｐめっきした状態である。こ
のため、表面凹凸が大きく、Ｎｉ-Ｐめっき基板面の両
面研磨における研磨剤や研磨屑などの付着物が多く、洗
浄による除去がむずかしい問題がある。また、薄膜のス
パッタ形成において、基板の外周部及び内周部にも薄膜
が形成され、それとともに異物が付着する。そこで、磁
気ヘッドが浮上するディスク表面は、研磨テープやクリ
ーニングテープにより、表面加工するが、従来技術では
磁気ディスクの外周部や内周部は、スパッタ形成した状
態のままである。このため、磁気ディスク装置として組
み立てた後、付着した異物が脱離し、前述と同様にヘッ
ド浮上特性を劣化させる要因となる。したがって、磁気
ディスクの外周部及び内周部に異物が付着しない表面形
状にするとともに、付着した異物を除去する手段を講じ
る必要がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、アルミニウム合金基板の作成時に、ディスクの外周
部及び内周部を研磨加工し、表面凹凸を少なく、表面粗
さが0.1μｍＲmax以下に仕上げ、異物が付着しにくくす
る。さらに、Ｎｉ-Ｐめっきした基板においても両面研
磨加工する前に、外周部及び内周部を研磨加工し、表面
粗さを0.1μｍＲmax以下にする。これにより研磨加工後
の洗浄において、付着物の除去が容易となり、高清浄な
基板を得ることができる。この後、磁性膜及び保護膜を
スパッタ形成し、図 に示すように、研磨テープによる
表面仕上げとともに、外周部及び内周部を研磨加工す
る。この後、潤滑膜を形成して磁気ディスクとする。
に、アルミニウム合金基板の作成時に、ディスクの外周
部及び内周部を研磨加工し、表面凹凸を少なく、表面粗
さが0.1μｍＲmax以下に仕上げ、異物が付着しにくくす
る。さらに、Ｎｉ-Ｐめっきした基板においても両面研
磨加工する前に、外周部及び内周部を研磨加工し、表面
粗さを0.1μｍＲmax以下にする。これにより研磨加工後
の洗浄において、付着物の除去が容易となり、高清浄な
基板を得ることができる。この後、磁性膜及び保護膜を
スパッタ形成し、図 に示すように、研磨テープによる
表面仕上げとともに、外周部及び内周部を研磨加工す
る。この後、潤滑膜を形成して磁気ディスクとする。
【０００７】基板や、薄膜を形成した磁気ディスクの外
周部及び内周部を研磨仕上げする方法は、ほとんど同じ
方法であり、工具である研磨テープやクリーニングテー
プの種類を代えれば良い。
周部及び内周部を研磨仕上げする方法は、ほとんど同じ
方法であり、工具である研磨テープやクリーニングテー
プの種類を代えれば良い。
【０００８】
【作用】アルミニウム合金基板の外周部及び内周部を研
磨加工し、表面粗さが0.1μｍ以下に仕上げ、またＮｉ-
Ｐめっき処理後の外周部及び内周部を研磨加工すること
により、異物が付着しにくくなり、さらにＮｉ-Ｐめっ
き基板の両面研磨加工後の洗浄において、研磨加工によ
る汚れが除去しやすくなる。また、この基板に磁性膜及
び保護膜をスパッタ形成し、さらに潤滑膜を形成して創
られる磁気ディスクにおいて、磁性膜及び保護膜を成膜
した後、研磨テープやクリーニングテープを用いてディ
スク表面を加工すると同時に外周部及び内周部を研磨加
工することにより、磁性膜や保護膜のスパッタの際に付
着した異物を取り除く。このように、磁気ヘッドが浮上
するディスク表面とともに、ディスクの外周部及び内周
部を研磨加工やクリーニング処理によって、磁気ディス
クに付着していた異物や汚れが取り除かれる。この除去
は、基板の外周部及び内周部の表面が研磨により平滑に
されているので非常に効率的にかつ効果がある。
磨加工し、表面粗さが0.1μｍ以下に仕上げ、またＮｉ-
Ｐめっき処理後の外周部及び内周部を研磨加工すること
により、異物が付着しにくくなり、さらにＮｉ-Ｐめっ
き基板の両面研磨加工後の洗浄において、研磨加工によ
る汚れが除去しやすくなる。また、この基板に磁性膜及
び保護膜をスパッタ形成し、さらに潤滑膜を形成して創
られる磁気ディスクにおいて、磁性膜及び保護膜を成膜
した後、研磨テープやクリーニングテープを用いてディ
スク表面を加工すると同時に外周部及び内周部を研磨加
工することにより、磁性膜や保護膜のスパッタの際に付
着した異物を取り除く。このように、磁気ヘッドが浮上
するディスク表面とともに、ディスクの外周部及び内周
部を研磨加工やクリーニング処理によって、磁気ディス
クに付着していた異物や汚れが取り除かれる。この除去
は、基板の外周部及び内周部の表面が研磨により平滑に
されているので非常に効率的にかつ効果がある。
【０００９】以上のように、基板での外周部及び内周部
の研磨加工、さらに磁性膜，保護膜の成膜の後、磁気デ
ィスクの外周部及び内周部を加工することによって、製
造プロセスにおける汚れや異物の付着が少なく、また付
着した汚れや異物が除去される。したがって、磁気ディ
スク装置の組立で、磁気ディスクをスピンドルに組み込
む際、磁気ディスクの内周部とスピンドルとの摺動によ
る塵の発生が少なくなる。また、磁性膜および保護膜を
成膜した後、磁気ディスク表面の加工において、外周部
に付着した異物や汚れを巻き込むことがなく、高精度で
高清浄な加工面を得ることができる。さらに、磁気ディ
スク装置の稼働時においても、外周部から脱離する異物
や汚れがなく、磁気ヘッドの浮上安定性及び信頼性が大
幅に向上する。
の研磨加工、さらに磁性膜，保護膜の成膜の後、磁気デ
ィスクの外周部及び内周部を加工することによって、製
造プロセスにおける汚れや異物の付着が少なく、また付
着した汚れや異物が除去される。したがって、磁気ディ
スク装置の組立で、磁気ディスクをスピンドルに組み込
む際、磁気ディスクの内周部とスピンドルとの摺動によ
る塵の発生が少なくなる。また、磁性膜および保護膜を
成膜した後、磁気ディスク表面の加工において、外周部
に付着した異物や汚れを巻き込むことがなく、高精度で
高清浄な加工面を得ることができる。さらに、磁気ディ
スク装置の稼働時においても、外周部から脱離する異物
や汚れがなく、磁気ヘッドの浮上安定性及び信頼性が大
幅に向上する。
【００１０】
【実施例】本発明の一実施例を図を用いて説明する。本
発明の磁気ディスクは、図１から図３に示すように、磁
気ディスク用基板の内周部及び外周部の表面形状を研削
や研磨によって平滑化し、また薄膜を形成した磁気ディ
スクの内周部及び外周部を同様に表面加工し、平滑化と
ともに高清浄化した磁気ディスクである。さらに詳細に
以下説明する。
発明の磁気ディスクは、図１から図３に示すように、磁
気ディスク用基板の内周部及び外周部の表面形状を研削
や研磨によって平滑化し、また薄膜を形成した磁気ディ
スクの内周部及び外周部を同様に表面加工し、平滑化と
ともに高清浄化した磁気ディスクである。さらに詳細に
以下説明する。
【００１１】図４は、本発明の磁気ディスクの製造プロ
セスを示す。磁気ディスク用基板１の下地であるＡｌ合
金基板を切削加工によって所要の寸法形状に機械加工す
る。この基板１の形状精度、特に平面度を向上させるた
め、加圧加熱焼鈍し、内周及び外周を図１に示す方法で
研削及び研磨加工する。この加工方法は、切削加工した
基板１を３個の回転ローラ２に支持し、図２に示す工具
３，５の表面に砥粒４を固着した回転工具を押しつけ、
基板１を回転させると同時に回転工具３，５を回転と上
下方向に揺動させ、かつノズル６，７から研削液を供給
させながら基板１の内周部及び外周部を平滑化する。さ
らに、内周部及び外周部の表面粗さを向上させるため、
図１と同様の加工方法により、図２に示す工具３，５の
表面に、不織布から成るポリシャ８を接着し、ノズル
６，７から遊離砥粒を分散させた研磨剤を供給しながら
基板１の内周部及び外周部を研磨する。また、基板のチ
ャンハ部は、回転工具の端部の形状を予めチャンハ形状
に成形しておき、この端部によって研削あるいは研磨を
行なう。次に、従来Ａｌ合金基板の両面仕上げに用いら
れている両面同時加工機（例えば、スピードファム社製
SFDL-1000）により、上下定盤に弾性砥石GC#1500の工具
を用い基板の両面を研削加工し、さらに同様の両面同時
加工機により上下定盤に不織布のポリシャをはりつけ、
粒径3ミクロンのアルミナ砥粒を分散した研磨剤を用い
て研磨し、さらに洗浄する。
セスを示す。磁気ディスク用基板１の下地であるＡｌ合
金基板を切削加工によって所要の寸法形状に機械加工す
る。この基板１の形状精度、特に平面度を向上させるた
め、加圧加熱焼鈍し、内周及び外周を図１に示す方法で
研削及び研磨加工する。この加工方法は、切削加工した
基板１を３個の回転ローラ２に支持し、図２に示す工具
３，５の表面に砥粒４を固着した回転工具を押しつけ、
基板１を回転させると同時に回転工具３，５を回転と上
下方向に揺動させ、かつノズル６，７から研削液を供給
させながら基板１の内周部及び外周部を平滑化する。さ
らに、内周部及び外周部の表面粗さを向上させるため、
図１と同様の加工方法により、図２に示す工具３，５の
表面に、不織布から成るポリシャ８を接着し、ノズル
６，７から遊離砥粒を分散させた研磨剤を供給しながら
基板１の内周部及び外周部を研磨する。また、基板のチ
ャンハ部は、回転工具の端部の形状を予めチャンハ形状
に成形しておき、この端部によって研削あるいは研磨を
行なう。次に、従来Ａｌ合金基板の両面仕上げに用いら
れている両面同時加工機（例えば、スピードファム社製
SFDL-1000）により、上下定盤に弾性砥石GC#1500の工具
を用い基板の両面を研削加工し、さらに同様の両面同時
加工機により上下定盤に不織布のポリシャをはりつけ、
粒径3ミクロンのアルミナ砥粒を分散した研磨剤を用い
て研磨し、さらに洗浄する。
【００１２】このＡｌ合金基板にＮｉ-Ｐめっきを厚さ
約20μｍ施したＮｉ-Ｐめっき基板９をＡｌ合金基板と
同様に両面研磨する。さらに、Ｎｉ-Ｐめっき基板９の
内周部及び外周部を研磨し、洗浄後、薄膜をスパッタ形
成する。この薄膜は、例えば、従来スパッタ磁気ディス
クとして用いられているＣｒ中間膜（厚さ約200ｎ
ｍ）、Ｃｏ-Ｃｒ系磁性膜（同50ｎｍ）、カーボン保護
膜（同50ｎｍ）の多層膜である。このスパッタ形成後、
スパッタ基板１０の内周部及び外周部を図１に示す方法
により清浄化加工する。この加工では、スパッタによる
汚れ、特にスパッタ時の異物の付着物を除去するため、
図２に示す工具３の表面にアルミナ砥粒1μｍの研磨テ
ープ１１を接着させた回転工具３，５を押しつけ荷重数
十Ｎにて加工する。次に、スパッタ基板１０の表面を、
内外周部の加工と同様の目的で、研磨テープを用いて表
面仕上げする。以上の加工プロセスを通ったディスクに
フッ素潤滑膜を厚さ約数ｎｍ形成し、スパッタ磁気ディ
スク１２を得る。この磁気ディスクの外周部及び内周部
の表面形状Ａ，Ｂを、表面粗さ計を用いて、ディスクの
板厚方向に測定した結果を図３に示す。表面凹凸は、0.
1μｍ以下に平滑になっている。また汚れや異物の付着
は無く、清浄度の高い表面であった。
約20μｍ施したＮｉ-Ｐめっき基板９をＡｌ合金基板と
同様に両面研磨する。さらに、Ｎｉ-Ｐめっき基板９の
内周部及び外周部を研磨し、洗浄後、薄膜をスパッタ形
成する。この薄膜は、例えば、従来スパッタ磁気ディス
クとして用いられているＣｒ中間膜（厚さ約200ｎ
ｍ）、Ｃｏ-Ｃｒ系磁性膜（同50ｎｍ）、カーボン保護
膜（同50ｎｍ）の多層膜である。このスパッタ形成後、
スパッタ基板１０の内周部及び外周部を図１に示す方法
により清浄化加工する。この加工では、スパッタによる
汚れ、特にスパッタ時の異物の付着物を除去するため、
図２に示す工具３の表面にアルミナ砥粒1μｍの研磨テ
ープ１１を接着させた回転工具３，５を押しつけ荷重数
十Ｎにて加工する。次に、スパッタ基板１０の表面を、
内外周部の加工と同様の目的で、研磨テープを用いて表
面仕上げする。以上の加工プロセスを通ったディスクに
フッ素潤滑膜を厚さ約数ｎｍ形成し、スパッタ磁気ディ
スク１２を得る。この磁気ディスクの外周部及び内周部
の表面形状Ａ，Ｂを、表面粗さ計を用いて、ディスクの
板厚方向に測定した結果を図３に示す。表面凹凸は、0.
1μｍ以下に平滑になっている。また汚れや異物の付着
は無く、清浄度の高い表面であった。
【００１３】上記のように、Ａｌ合金基板１の内外周部
加工、Ｎｉ-Ｐめっき基板９の内外周部加工、スパッタ
基板１０の内外周部加工を適用することによって、内外
周部に付着する汚れや異物を少なく、かつ除去し安く
し、清浄度の高い基板を得ることができ、この結果、ヘ
ッド浮上特性がよく、ＣＳＳ特性などのヘッド摺動信頼
性の高い高品質のスパッタ磁気ディスク１２に達成する
ことができる。
加工、Ｎｉ-Ｐめっき基板９の内外周部加工、スパッタ
基板１０の内外周部加工を適用することによって、内外
周部に付着する汚れや異物を少なく、かつ除去し安く
し、清浄度の高い基板を得ることができ、この結果、ヘ
ッド浮上特性がよく、ＣＳＳ特性などのヘッド摺動信頼
性の高い高品質のスパッタ磁気ディスク１２に達成する
ことができる。
【００１４】Ａｌ合金基板の内外周部加工では、切削加
工における表面凹凸を平滑化するため、前述のように研
削加工した後、研磨加工する。
工における表面凹凸を平滑化するため、前述のように研
削加工した後、研磨加工する。
【００１５】Ｎｉ-Ｐめっき基板の内外周部加工では、
Ｎｉ-Ｐめっき処理による表面凹凸を平滑化するととも
に、Ｎｉ-Ｐめっき基板の両面研磨による研磨剤や研磨
屑の付着物を除去するため、Ｎｉ-Ｐめっき基板の両面
研磨後に内外周部を研磨仕上げする。次に、内外周部の
清浄化とともに、基板表面の洗浄を施す。
Ｎｉ-Ｐめっき処理による表面凹凸を平滑化するととも
に、Ｎｉ-Ｐめっき基板の両面研磨による研磨剤や研磨
屑の付着物を除去するため、Ｎｉ-Ｐめっき基板の両面
研磨後に内外周部を研磨仕上げする。次に、内外周部の
清浄化とともに、基板表面の洗浄を施す。
【００１６】スパッタ基板の内外周部加工では、スパッ
タ形成において付着した汚れを除去するため、研磨テー
プを非常に小さな荷重で押圧し、表面をクリーニングす
る。したがって、薄膜をスパッタ形成する表面が平滑に
なっていることが重要であり、Ａｌ合金基板及びＮｉ-
Ｐめっき基板の状態で内外周部を平滑にしておく必要が
ある。
タ形成において付着した汚れを除去するため、研磨テー
プを非常に小さな荷重で押圧し、表面をクリーニングす
る。したがって、薄膜をスパッタ形成する表面が平滑に
なっていることが重要であり、Ａｌ合金基板及びＮｉ-
Ｐめっき基板の状態で内外周部を平滑にしておく必要が
ある。
【００１７】比較例として、Ａｌ合金基板の内周部及び
外周部が切削加工面の状態であり、研削や研磨加工を適
用しないＮｉ-Ｐめっき基板を用いた従来の磁気ディス
クにおける、外周部の表面形状を図５に示す。内周部も
同様の表面形状を示している。この場合には、Ｎｉ-Ｐ
めっき基板の両面研磨後の内外周部の周辺部の汚れが著
しく、洗浄によっても充分汚れを除去することが難し
い。このため、薄膜をスパッタ形成する際に、内外周部
の汚れや異物などの付着物が影響を及ぼし、成膜中に混
入したりする。このような磁気ディスクは、後工程での
研磨テープによる表面仕上げで欠陥となって現われ、不
良品となる。また、この欠陥は、磁気ディスク表面に微
小突起となり、磁気ヘッドの浮上性を劣化させる。
外周部が切削加工面の状態であり、研削や研磨加工を適
用しないＮｉ-Ｐめっき基板を用いた従来の磁気ディス
クにおける、外周部の表面形状を図５に示す。内周部も
同様の表面形状を示している。この場合には、Ｎｉ-Ｐ
めっき基板の両面研磨後の内外周部の周辺部の汚れが著
しく、洗浄によっても充分汚れを除去することが難し
い。このため、薄膜をスパッタ形成する際に、内外周部
の汚れや異物などの付着物が影響を及ぼし、成膜中に混
入したりする。このような磁気ディスクは、後工程での
研磨テープによる表面仕上げで欠陥となって現われ、不
良品となる。また、この欠陥は、磁気ディスク表面に微
小突起となり、磁気ヘッドの浮上性を劣化させる。
【００１８】また、他の比較例として、従来のガラス基
板を用いた磁気ディスクの外周部の表面形状を図６に示
す。従来のＮｉ-Ｐめっき基板を用いた磁気ディスクと
同様に内外周部における周辺部の汚れや異物の付着が著
しく、これらが磁気ヘッドを用いた浮上特性試験におい
て、ヘッド浮上性の劣化要因となっている。磁気ディス
クの回転中に磁気ディスクの製造工程で付着した汚れや
異物が脱落し、磁気ヘッドとディスク表面との間に介入
したと考えられる。
板を用いた磁気ディスクの外周部の表面形状を図６に示
す。従来のＮｉ-Ｐめっき基板を用いた磁気ディスクと
同様に内外周部における周辺部の汚れや異物の付着が著
しく、これらが磁気ヘッドを用いた浮上特性試験におい
て、ヘッド浮上性の劣化要因となっている。磁気ディス
クの回転中に磁気ディスクの製造工程で付着した汚れや
異物が脱落し、磁気ヘッドとディスク表面との間に介入
したと考えられる。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、磁気ディスクの内周部
及び外周部の表面が平滑であり、製造プロセスにおける
汚れや異物の付着物が少なく、各プロセスにおける洗浄
が効果的に行なわれるので、高品質の磁気ディスクを得
ることができる。この結果、磁気ヘッドの浮上特性を大
幅に向上でき、またＣＳＳ特性のヘッド摺動特性を改善
できる。
及び外周部の表面が平滑であり、製造プロセスにおける
汚れや異物の付着物が少なく、各プロセスにおける洗浄
が効果的に行なわれるので、高品質の磁気ディスクを得
ることができる。この結果、磁気ヘッドの浮上特性を大
幅に向上でき、またＣＳＳ特性のヘッド摺動特性を改善
できる。
【００２０】Ａｌ合金基板での内外周部の平滑加工で
は、この基板の両面研磨における研磨材の固着や付着汚
れを除去し、Ｎｉ-Ｐめっき処理の表面精度を改善させ
る効果がある。
は、この基板の両面研磨における研磨材の固着や付着汚
れを除去し、Ｎｉ-Ｐめっき処理の表面精度を改善させ
る効果がある。
【００２１】また、Ｎｉ-Ｐめっき基板の内外周部の平
滑研磨では、基板内外周部の平滑化とともにＮｉ-Ｐめ
っき基板の両面研磨における研磨剤の付着異物を除去す
る。この平滑化によって、スパッタ前洗浄で内外周部の
汚れの影響が低減し、高清浄な表面が得られ、高品質の
スパッタ成膜面が得られる。
滑研磨では、基板内外周部の平滑化とともにＮｉ-Ｐめ
っき基板の両面研磨における研磨剤の付着異物を除去す
る。この平滑化によって、スパッタ前洗浄で内外周部の
汚れの影響が低減し、高清浄な表面が得られ、高品質の
スパッタ成膜面が得られる。
【００２２】さらに、スパッタ基板の内外周部の清浄化
加工では、スパッタ時に付着した汚れを除去するので、
ディスク表面を研磨テープによってクリーニングする際
に、周辺部の汚れを巻き込むことがなく、高品質のディ
スク表面を得ることができる。
加工では、スパッタ時に付着した汚れを除去するので、
ディスク表面を研磨テープによってクリーニングする際
に、周辺部の汚れを巻き込むことがなく、高品質のディ
スク表面を得ることができる。
【００２３】以上のように、各製造工程において、基板
の内周部及び外周部を平滑加工し、かつ清浄化加工する
ので、後工程に汚れや異物を持ち込まず、品質の高い基
板表面を得、最終的にヘッド浮上特性の良い、ＣＳＳ特
性の信頼性の高い磁気ディスクディスクを達成すること
ができる。
の内周部及び外周部を平滑加工し、かつ清浄化加工する
ので、後工程に汚れや異物を持ち込まず、品質の高い基
板表面を得、最終的にヘッド浮上特性の良い、ＣＳＳ特
性の信頼性の高い磁気ディスクディスクを達成すること
ができる。
【００２４】基板の内周部及び外周部の平滑加工に、砥
石やポリシャの回転工具を用いた加工方法を示したが、
研磨テープを用いたりあるいは塑性加工やレーザなどの
ビーム加工による方法を適用しても同様の効果がある。
石やポリシャの回転工具を用いた加工方法を示したが、
研磨テープを用いたりあるいは塑性加工やレーザなどの
ビーム加工による方法を適用しても同様の効果がある。
【００２５】また、基板の内周部あるいは外周部のいず
れかを平滑加工しても、同様の効果がある。
れかを平滑加工しても、同様の効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す磁気ディスク用基板の
内外周部の平滑加工方法を示す図である。
内外周部の平滑加工方法を示す図である。
【図２】内外周部を平滑加工する工具を示す図である。
【図３】本発明による磁気ディスクの内外周部の表面形
状を表面粗さ計で測定した結果の一例を示す図である。
状を表面粗さ計で測定した結果の一例を示す図である。
【図４】本発明を適用した磁気ディスクの製造プロセス
を示す図である。
を示す図である。
【図５】従来のＮｉ-Ｐめっき基板を用いた磁気ディス
クの内外周部の表面形状を示す図である。
クの内外周部の表面形状を示す図である。
【図６】従来のガラス基板を用いた磁気ディスクディス
クの内外周部の表面形状を示す図である。
クの内外周部の表面形状を示す図である。
１…磁気ディスク用基板（Ａｌ合金基板）、２…回転ロ
ーラ、３，５…回転工具、６，７…供給ノズル、９…Ｎ
ｉ-Ｐめっき基板、１０…スパッタ基板、１２…スパッ
タ磁気ディスク。
ーラ、３，５…回転工具、６，７…供給ノズル、９…Ｎ
ｉ-Ｐめっき基板、１０…スパッタ基板、１２…スパッ
タ磁気ディスク。
Claims (6)
- 【請求項１】磁性媒体をスパッタリングにより形成する
磁気ディスクにおいて、磁気ディスクの外周部及び内周
部を平滑にしたことを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項２】磁気ディスクおよび磁気ヘッドから成る磁
気ディスク装置において、請求項１記載の磁気ディスク
を用いたことを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項３】アルミニウム合金円板にＮｉ-Ｐめっきし
た基板やガラス基板などの磁気ディスク用基板の表面に
磁性膜，保護膜，潤滑膜を形成した磁気ディスクに関
し、砥石や研磨テープあるいは遊離砥粒により磁気ディ
スク用基板の外周部および内周部を表面加工し、外周部
および内周部の表面を平滑にし、この基板面に磁性膜，
保護膜，潤滑膜を成膜したことを特徴とする磁気ディス
ク。 - 【請求項４】アルミニウム合金円板にＮｉ-Ｐめっきし
た基板やガラス基板などの磁気ディスク用基板の表面に
磁性膜，保護膜，潤滑膜を形成した磁気ディスクに関
し、研磨テープや遊離砥粒により磁気ディスク用基板の
外周部あるいは内周部を研磨加工し、外周部あるいは内
周部の表面を表面凹凸が0.1μｍ以下の平滑面にし、こ
の基板面に磁性膜，保護膜，潤滑膜を成膜したことを特
徴とする磁気ディスク。 - 【請求項５】アルミニウム合金円板の外周部および内周
部を砥石及びポリシャによって表面加工し平滑面とし、
Ｎｉ-Ｐめっきした基板の外周部および内周部を砥石及
びポリシャによって表面加工し、基板の外周部および内
周部を平滑面とし、さらにこの磁気ディスク用基板の表
面に磁性膜，保護膜を形成した磁気ディスクの外周部お
よび内周部をポリシャによって表面加工し清浄化した
後、潤滑膜を成膜したことを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項６】アルミニウム合金円板にＮｉ-Ｐめっきし
た基板やガラス基板などの磁気ディスク用基板の表面に
磁性膜，保護膜，潤滑膜を形成した磁気ディスクに関
し、磁気ディスク用基板の外周部および内周部を表面加
工する方法に関し、基板を回転するローラ、砥石や研磨
テープあるいは遊離砥粒を固着したポリシャから成る回
転工具、この回転工具を基板の外周部および内周部に押
圧し、回転させると同時に基板の回転軸方向に揺動させ
る駆動機構、加工液や研磨剤を供給するノズルからなる
ことを特徴とする磁気ディスクの表面加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4115795A JPH05314474A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 磁気ディスク及びその表面加工方法並びに磁気ディスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4115795A JPH05314474A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 磁気ディスク及びその表面加工方法並びに磁気ディスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05314474A true JPH05314474A (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=14671267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4115795A Pending JPH05314474A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 磁気ディスク及びその表面加工方法並びに磁気ディスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05314474A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11349354A (ja) * | 1998-06-08 | 1999-12-21 | Nikon Corp | 情報記録媒体用基板及びその製造方法 |
| US6049522A (en) * | 1996-05-27 | 2000-04-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laminated optical disc and turntable for the laminated optical disc |
| US7399422B2 (en) | 2005-11-29 | 2008-07-15 | Asml Holding N.V. | System and method for forming nanodisks used in imprint lithography and nanodisk and memory disk formed thereby |
| US7409759B2 (en) * | 2004-12-16 | 2008-08-12 | Asml Holding N.V. | Method for making a computer hard drive platen using a nano-plate |
| US7740767B2 (en) | 2005-06-24 | 2010-06-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method and apparatus for manufacturing patterned media |
| US7882780B2 (en) | 2004-12-16 | 2011-02-08 | Asml Holding N.V. | System and method for patterning both sides of a substrate utilizing imprint lithography |
| CN103247304A (zh) * | 2011-12-30 | 2013-08-14 | Hoya株式会社 | 基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法 |
-
1992
- 1992-05-08 JP JP4115795A patent/JPH05314474A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6049522A (en) * | 1996-05-27 | 2000-04-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laminated optical disc and turntable for the laminated optical disc |
| US6212159B1 (en) | 1996-05-27 | 2001-04-03 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laminated optical disc and turntable for the laminated optical disc |
| JPH11349354A (ja) * | 1998-06-08 | 1999-12-21 | Nikon Corp | 情報記録媒体用基板及びその製造方法 |
| US7409759B2 (en) * | 2004-12-16 | 2008-08-12 | Asml Holding N.V. | Method for making a computer hard drive platen using a nano-plate |
| US7882780B2 (en) | 2004-12-16 | 2011-02-08 | Asml Holding N.V. | System and method for patterning both sides of a substrate utilizing imprint lithography |
| US7740767B2 (en) | 2005-06-24 | 2010-06-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method and apparatus for manufacturing patterned media |
| US7399422B2 (en) | 2005-11-29 | 2008-07-15 | Asml Holding N.V. | System and method for forming nanodisks used in imprint lithography and nanodisk and memory disk formed thereby |
| US7701668B2 (en) | 2005-11-29 | 2010-04-20 | Asml Holding Nv | System and method for forming nanodisks used in imprint lithography and nanodisk and memory disk formed thereby |
| CN103247304A (zh) * | 2011-12-30 | 2013-08-14 | Hoya株式会社 | 基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法 |
| CN103247304B (zh) * | 2011-12-30 | 2017-08-01 | Hoya株式会社 | 基板的制造方法及磁盘的制造方法 |
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