JPH05312847A - 電流検出用半導体装置 - Google Patents
電流検出用半導体装置Info
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- H01L2924/19105—Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
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- Measurement Of Current Or Voltage (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は、チップ抵抗体の半田付け接続部
の抵抗値が変化しても検出精度を損なうことのない高精
度の電流検出用半導体装置を得る。 【構成】 制御IC2とチップ抵抗体3の電極部3a及び
3bとをワイヤボンディングにより接続し、チップ抵抗体
3と制御IC2との回路接合を半田付け及びワイヤボン
ディングの併用で行い、チップ抵抗体3とリードフレー
ム1との半田付け接触抵抗値のドリフト量の影響を軽減
する。
の抵抗値が変化しても検出精度を損なうことのない高精
度の電流検出用半導体装置を得る。 【構成】 制御IC2とチップ抵抗体3の電極部3a及び
3bとをワイヤボンディングにより接続し、チップ抵抗体
3と制御IC2との回路接合を半田付け及びワイヤボン
ディングの併用で行い、チップ抵抗体3とリードフレー
ム1との半田付け接触抵抗値のドリフト量の影響を軽減
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半田付けによって回
路接合されたチップ抵抗体を含む電流検出用半導体装置
に関し、特にチップ抵抗体の半田付け接続抵抗値の変化
(ドリフト)に対する影響を無くして高精度化を実現した
電流検出用半導体装置に関するものである。
路接合されたチップ抵抗体を含む電流検出用半導体装置
に関し、特にチップ抵抗体の半田付け接続抵抗値の変化
(ドリフト)に対する影響を無くして高精度化を実現した
電流検出用半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4は従来の電流検出用半導体装置を示
す平面図であり、図において、1はトランジスタ等のパ
ワー素子(図示せず)が接続されたリードフレーム、2は
リードフレーム1上に半田付けにより接合された半導体
素子即ち制御ICである。3は両端の電極部3a及び3bを
介してリードフレーム1間に半田付けされたチップ抵抗
体であり、制御IC2と協動して電流検出用抵抗体とし
て機能する。4はリードフレーム1と制御IC2とを電
気的に接続する金線のワイヤである。
す平面図であり、図において、1はトランジスタ等のパ
ワー素子(図示せず)が接続されたリードフレーム、2は
リードフレーム1上に半田付けにより接合された半導体
素子即ち制御ICである。3は両端の電極部3a及び3bを
介してリードフレーム1間に半田付けされたチップ抵抗
体であり、制御IC2と協動して電流検出用抵抗体とし
て機能する。4はリードフレーム1と制御IC2とを電
気的に接続する金線のワイヤである。
【0003】図5は図4の電流検出用半導体装置の具体
的構成例を示す回路図であり、Rはチップ抵抗体3の抵
抗値である。5はパワー素子として機能するトランジス
タであり、エミッタがチップ抵抗体3の一端に接続さ
れ、ベースが制御IC2に接続されている。6はトラン
ジスタ5のコレクタに接続された電流検出用の高電位側
入力端子、7はチップ抵抗体3の他端に接続された電流
検出用の低電位側入力端子、8はトランジスタ5のベー
スに接続された制御端子である。
的構成例を示す回路図であり、Rはチップ抵抗体3の抵
抗値である。5はパワー素子として機能するトランジス
タであり、エミッタがチップ抵抗体3の一端に接続さ
れ、ベースが制御IC2に接続されている。6はトラン
ジスタ5のコレクタに接続された電流検出用の高電位側
入力端子、7はチップ抵抗体3の他端に接続された電流
検出用の低電位側入力端子、8はトランジスタ5のベー
スに接続された制御端子である。
【0004】次に、図4を参照しながら、図5に示した
従来の電流検出用半導体装置の動作について説明する。
まず、リードフレーム1上に制御IC2及びチップ抵抗
体3を半田付けにより接合し、続いて、リードフレーム
1と制御IC2とをワイヤ4でボンディグし、制御IC
2とチップ抵抗体3とを電気的に接続する。
従来の電流検出用半導体装置の動作について説明する。
まず、リードフレーム1上に制御IC2及びチップ抵抗
体3を半田付けにより接合し、続いて、リードフレーム
1と制御IC2とをワイヤ4でボンディグし、制御IC
2とチップ抵抗体3とを電気的に接続する。
【0005】このように一体成型により組立てられた電
流検出用半導体装置において、制御端子8又は制御IC
2から制御信号を印加してトランジスタ5をオンさせる
と、検出対象となる電流は、高電位側入力端子6からト
ランジスタ5及びチップ抵抗体3を介して、低電位側入
力端子7に流れる。従って、制御IC2は、チップ抵抗
体3の両端間の電圧値に基づいて、入力端子6から供給
された電流を検出することができる。
流検出用半導体装置において、制御端子8又は制御IC
2から制御信号を印加してトランジスタ5をオンさせる
と、検出対象となる電流は、高電位側入力端子6からト
ランジスタ5及びチップ抵抗体3を介して、低電位側入
力端子7に流れる。従って、制御IC2は、チップ抵抗
体3の両端間の電圧値に基づいて、入力端子6から供給
された電流を検出することができる。
【0006】ところで、電流検出用のチップ抵抗体3の
抵抗値Rは、通常30mΩ程度の低い値に設定されている
が、半田疲労や各部品間の応力疲労等により、リードフ
レーム1との間の接触抵抗値が変化することがある。
又、例えば検出電流の許容差が±5%の電流検出用半導
体装置の場合、30mΩの抵抗値Rに対する許容変化量
(ドリフト量)は1.5mΩ以下となる。
抵抗値Rは、通常30mΩ程度の低い値に設定されている
が、半田疲労や各部品間の応力疲労等により、リードフ
レーム1との間の接触抵抗値が変化することがある。
又、例えば検出電流の許容差が±5%の電流検出用半導
体装置の場合、30mΩの抵抗値Rに対する許容変化量
(ドリフト量)は1.5mΩ以下となる。
【0007】従って、上記のような半田付けによるチッ
プ抵抗体3の接合構造においては、ワイヤ4が半田付け
部分を介して制御IC2及びチップ抵抗体3を接続して
いるので、チップ抵抗体3を用いた電流検出は、正規の
抵抗値Rと半田付け部分の接触抵抗値のドリフト量とを
含めた抵抗値に基づいて行われることになる。
プ抵抗体3の接合構造においては、ワイヤ4が半田付け
部分を介して制御IC2及びチップ抵抗体3を接続して
いるので、チップ抵抗体3を用いた電流検出は、正規の
抵抗値Rと半田付け部分の接触抵抗値のドリフト量とを
含めた抵抗値に基づいて行われることになる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来の電流検出用半導
体装置は以上のように、チップ抵抗体3をリードフレー
ム1に半田付けにより接続しているのみなので、半田付
け接続抵抗値のドリフト量の影響を顕著に受け、製品と
しての初期の歩留りが悪いうえ、長期間の使用に対して
電流検出レベルが変動して満足した特性が得られず、高
精度化を実現することができないという問題点があっ
た。
体装置は以上のように、チップ抵抗体3をリードフレー
ム1に半田付けにより接続しているのみなので、半田付
け接続抵抗値のドリフト量の影響を顕著に受け、製品と
しての初期の歩留りが悪いうえ、長期間の使用に対して
電流検出レベルが変動して満足した特性が得られず、高
精度化を実現することができないという問題点があっ
た。
【0009】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、チップ抵抗体の半田付け接続部
の抵抗値が変化しても検出精度を損なうことのない高精
度の電流検出用半導体装置を得ることを目的とする。
ためになされたもので、チップ抵抗体の半田付け接続部
の抵抗値が変化しても検出精度を損なうことのない高精
度の電流検出用半導体装置を得ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項1に係
る電流検出用半導体装置は、制御ICとチップ抵抗体の
電極部とをワイヤボンディングにより接続したものであ
る。
る電流検出用半導体装置は、制御ICとチップ抵抗体の
電極部とをワイヤボンディングにより接続したものであ
る。
【0011】又、この発明の請求項2に係る電流検出用
半導体装置は、チップ抵抗体を、第1及び第2の電極部
間に形成された中間電極部と、第1及び第2の電極部間
に形成された第1のチップ抵抗体と、第1の電極部と中
間電極部に形成された第2のチップ抵抗体、及び、中間
電極部と第2の電極部との間に形成された第3のチップ
抵抗体からなる並列抵抗体とにより構成し、制御ICと
中間電極部及び第3の電極部とをワイヤボンディングに
より接続したものである。
半導体装置は、チップ抵抗体を、第1及び第2の電極部
間に形成された中間電極部と、第1及び第2の電極部間
に形成された第1のチップ抵抗体と、第1の電極部と中
間電極部に形成された第2のチップ抵抗体、及び、中間
電極部と第2の電極部との間に形成された第3のチップ
抵抗体からなる並列抵抗体とにより構成し、制御ICと
中間電極部及び第3の電極部とをワイヤボンディングに
より接続したものである。
【0012】
【作用】この発明の請求項1においては、チップ抵抗体
と制御ICとの回路接合を半田付け及びワイヤボンディ
ングの併用で行い、チップ抵抗体とリードフレームとの
半田付け接触抵抗値のドリフト量の影響を軽減すること
により、高精度に且つ安定にチップ抵抗体を形成する。
と制御ICとの回路接合を半田付け及びワイヤボンディ
ングの併用で行い、チップ抵抗体とリードフレームとの
半田付け接触抵抗値のドリフト量の影響を軽減すること
により、高精度に且つ安定にチップ抵抗体を形成する。
【0013】又、この発明の請求項2においては、第2
及び第3のチップ抵抗体からなる並列抵抗体を並設する
ことにより、第1のチップ抵抗体の抵抗値を大きく設定
できるようにし、半田付け接触抵抗値のドリフト量の影
響を更に軽減する。
及び第3のチップ抵抗体からなる並列抵抗体を並設する
ことにより、第1のチップ抵抗体の抵抗値を大きく設定
できるようにし、半田付け接触抵抗値のドリフト量の影
響を更に軽減する。
【0014】
実施例1.以下、この発明の実施例1を図について説明
する。図1はこの発明の実施例1を示す平面図であり、
1〜4は前述と同様のものである。この場合、制御IC
2とチップ抵抗体3とを接続するワイヤ4は、チップ抵
抗体3の電極部3a及び3b上に直接ボンディングされ
ている。
する。図1はこの発明の実施例1を示す平面図であり、
1〜4は前述と同様のものである。この場合、制御IC
2とチップ抵抗体3とを接続するワイヤ4は、チップ抵
抗体3の電極部3a及び3b上に直接ボンディングされ
ている。
【0015】図1に示したこの発明の実施例1の動作に
ついては、前述と同様なのでここでは説明しない。しか
し、制御IC2とチップ抵抗体3との回路接合は、半田
付けのみならず、ワイヤ4を介しているので、半田付け
接触抵抗値のドリフトの影響を軽減することができる。
従って、チップ抵抗体3の抵抗値Rに基づいて高精度に
電流検出を行うことができる。
ついては、前述と同様なのでここでは説明しない。しか
し、制御IC2とチップ抵抗体3との回路接合は、半田
付けのみならず、ワイヤ4を介しているので、半田付け
接触抵抗値のドリフトの影響を軽減することができる。
従って、チップ抵抗体3の抵抗値Rに基づいて高精度に
電流検出を行うことができる。
【0016】実施例2.尚、上記実施例では、従来と同
様の30mΩ程度のチップ抵抗体3を用いたが、チップ抵
抗体3と一体に並列抵抗体を形成した構造のチップ抵抗
体を用いてもよい。
様の30mΩ程度のチップ抵抗体3を用いたが、チップ抵
抗体3と一体に並列抵抗体を形成した構造のチップ抵抗
体を用いてもよい。
【0017】図2は並列抵抗体を併用したチップ抵抗体
を含むこの発明の実施例2を示す平面図である。30は並
列抵抗体併用型のチップ抵抗体であり、中間電極部3c
を有し、電極部3aと3bとの間のチップ抵抗体31と、
電極部3aと中間電極部3cとの間のチップ抵抗体32
と、中間電極部3cと電極部3bとの間のチップ抵抗体
33とから構成されている。ここで、チップ抵抗体31は前
述のチップ抵抗体3に対応し、チップ抵抗体32及び33は
並列抵抗体を構成している。
を含むこの発明の実施例2を示す平面図である。30は並
列抵抗体併用型のチップ抵抗体であり、中間電極部3c
を有し、電極部3aと3bとの間のチップ抵抗体31と、
電極部3aと中間電極部3cとの間のチップ抵抗体32
と、中間電極部3cと電極部3bとの間のチップ抵抗体
33とから構成されている。ここで、チップ抵抗体31は前
述のチップ抵抗体3に対応し、チップ抵抗体32及び33は
並列抵抗体を構成している。
【0018】図3は図2の具体的回路構成例を示す回路
図であり、各チップ抵抗体31〜33の抵抗値は、それぞ
れ、R1、R2及びR3に設定されている。この場合、並列抵
抗値R2及びR3が追加されているので、半田付け接触抵抗
値のドリフトに直接影響されるチップ抵抗値R1を従来よ
り大きく設定することができる。従って、30mΩの場合
に±1.5mΩの初期許容抵抗値を要するのに対し、抵
抗値を大きくすれば、許容範囲を広げても±5%の検出
電流許容公差を得ることができる。
図であり、各チップ抵抗体31〜33の抵抗値は、それぞ
れ、R1、R2及びR3に設定されている。この場合、並列抵
抗値R2及びR3が追加されているので、半田付け接触抵抗
値のドリフトに直接影響されるチップ抵抗値R1を従来よ
り大きく設定することができる。従って、30mΩの場合
に±1.5mΩの初期許容抵抗値を要するのに対し、抵
抗値を大きくすれば、許容範囲を広げても±5%の検出
電流許容公差を得ることができる。
【0019】又、実施例2の構成においても、半田付け
接触抵抗値のドリフトの影響を受けにくくなる。更に、
チップ抵抗体30に対して抵抗値の調整用トリミングを行
う場合においても、抵抗値R1が大きいので、測定プロー
ブの接触抵抗値のバラツキを抑制することができる。
接触抵抗値のドリフトの影響を受けにくくなる。更に、
チップ抵抗体30に対して抵抗値の調整用トリミングを行
う場合においても、抵抗値R1が大きいので、測定プロー
ブの接触抵抗値のバラツキを抑制することができる。
【0020】上記各実施例では、チップ抵抗体に接続さ
れる半導体素子が制御IC2の場合を示したが、他の半
導体素子又はパワー素子等の場合でも同等の効果を奏す
ることは言うまでもない。
れる半導体素子が制御IC2の場合を示したが、他の半
導体素子又はパワー素子等の場合でも同等の効果を奏す
ることは言うまでもない。
【0021】
【発明の効果】以上のようにこの発明の請求項1によれ
ば、制御ICとチップ抵抗体の電極部とをワイヤボンデ
ィングにより接続し、チップ抵抗体と制御ICとの回路
接合を半田付け及びワイヤボンディングの併用で行い、
チップ抵抗体とリードフレームとの半田付け接触抵抗値
のドリフト量の影響を軽減するようにしたので、チップ
抵抗体の半田付け接続部の抵抗値が変化しても検出精度
を損なうことのない高精度の電流検出用半導体装置が得
られる効果がある。
ば、制御ICとチップ抵抗体の電極部とをワイヤボンデ
ィングにより接続し、チップ抵抗体と制御ICとの回路
接合を半田付け及びワイヤボンディングの併用で行い、
チップ抵抗体とリードフレームとの半田付け接触抵抗値
のドリフト量の影響を軽減するようにしたので、チップ
抵抗体の半田付け接続部の抵抗値が変化しても検出精度
を損なうことのない高精度の電流検出用半導体装置が得
られる効果がある。
【0022】又、この発明の請求項2によれば、チップ
抵抗体を、第1及び第2の電極部間に形成された中間電
極部と、第1及び第2の電極部間に形成された第1のチ
ップ抵抗体と、第1の電極部と中間電極部に形成された
第2のチップ抵抗体、及び、中間電極部と第2の電極部
との間に形成された第3のチップ抵抗体からなる並列抵
抗体とにより構成すると共に、制御ICと中間電極部及
び第3の電極部とをワイヤボンディングにより接続し、
第1のチップ抵抗体の抵抗値を大きく設定できるように
したので、半田付け接触抵抗値のドリフト量の影響を更
に軽減することができ、チップ抵抗体の半田付け接続部
の抵抗値が変化しても検出精度を損なうことのない高精
度の電流検出用半導体装置が得られる効果がある。
抵抗体を、第1及び第2の電極部間に形成された中間電
極部と、第1及び第2の電極部間に形成された第1のチ
ップ抵抗体と、第1の電極部と中間電極部に形成された
第2のチップ抵抗体、及び、中間電極部と第2の電極部
との間に形成された第3のチップ抵抗体からなる並列抵
抗体とにより構成すると共に、制御ICと中間電極部及
び第3の電極部とをワイヤボンディングにより接続し、
第1のチップ抵抗体の抵抗値を大きく設定できるように
したので、半田付け接触抵抗値のドリフト量の影響を更
に軽減することができ、チップ抵抗体の半田付け接続部
の抵抗値が変化しても検出精度を損なうことのない高精
度の電流検出用半導体装置が得られる効果がある。
【図1】この発明の実施例1を示す平面図である。
【図2】この発明の実施例2を示す平面図である。
【図3】この発明の実施例2の具体的回路構成例を示す
回路図である。
回路図である。
【図4】従来の電流検出用半導体装置を示す平面図であ
る。
る。
【図5】従来の電流検出用半導体装置の具体的回路構成
例を示す回路図である。
例を示す回路図である。
1 リードフレーム 2 制御IC(半導体素子) 3、30〜33 チップ抵抗体 3a、3b 電極部 3c 中間電極部 4 ワイヤ
Claims (2)
- 【請求項1】 リードフレーム上に電極部を介して半田
付けされたチップ抵抗体と、このチップ抵抗体に電気的
に接続された半導体素子とを有する電流検出用半導体装
置において、 前記半導体素子と前記チップ抵抗体の電極部とをワイヤ
ボンディングにより接続したことを特徴とする電流検出
用半導体装置。 - 【請求項2】 リードフレーム上に第1及び第2の電極
部を介して半田付けされたチップ抵抗体と、このチップ
抵抗体に電気的に接続された半導体素子とを有する電流
検出用半導体装置において、 前記チップ抵抗体は、 前記第1及び第2の電極部間に形成された中間電極部
と、 前記第1及び第2の電極部間に形成された第1のチップ
抵抗体と、 前記第1の電極部と前記中間電極部に形成された第2の
チップ抵抗体、及び、前記中間電極部と前記第2の電極
部との間に形成された第3のチップ抵抗体からなる並列
抵抗体と、 を備え、 前記半導体素子と前記中間電極部及び前記第3の電極部
とをワイヤボンディングにより接続したことを特徴とす
る電流検出用半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4115942A JP2824360B2 (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 電流検出用半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4115942A JP2824360B2 (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 電流検出用半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05312847A true JPH05312847A (ja) | 1993-11-26 |
JP2824360B2 JP2824360B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=14674992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4115942A Expired - Fee Related JP2824360B2 (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 電流検出用半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2824360B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6489693B1 (en) | 1999-02-15 | 2002-12-03 | Isabellenhutte Heusler Gmbh Kg | Method and device for current monitoring in a current supply system |
JP2019021944A (ja) * | 2018-11-07 | 2019-02-07 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置および計測装置 |
US10267824B2 (en) | 2014-09-03 | 2019-04-23 | Denso Corporation | Shunt resistor |
-
1992
- 1992-05-08 JP JP4115942A patent/JP2824360B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6489693B1 (en) | 1999-02-15 | 2002-12-03 | Isabellenhutte Heusler Gmbh Kg | Method and device for current monitoring in a current supply system |
US10267824B2 (en) | 2014-09-03 | 2019-04-23 | Denso Corporation | Shunt resistor |
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