JPH01278033A - 半導体集積回路のパッド配置構造 - Google Patents
半導体集積回路のパッド配置構造Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、半導体集積回路のパッド配置構造に関し、特
に、入力端子及び出力端子等の信号端子に大電流が流れ
るバイポーラ型半導体集積回路に好適のパッド配置構造
に関する。
に、入力端子及び出力端子等の信号端子に大電流が流れ
るバイポーラ型半導体集積回路に好適のパッド配置構造
に関する。
[従来の技術]
従来、バイポーラ型半導体集積回路のパッド配置構造は
、第3図に示すように半導体集積回路チップ21の縁部
に、複数の信号用ボンディングパッド22と、電源用ボ
ンディングパッド23と、この電源用ボンディングパッ
ド23に接続された電源用センスパッド24とが配置さ
れた構造となっていた。
、第3図に示すように半導体集積回路チップ21の縁部
に、複数の信号用ボンディングパッド22と、電源用ボ
ンディングパッド23と、この電源用ボンディングパッ
ド23に接続された電源用センスパッド24とが配置さ
れた構造となっていた。
この半導体集積回路チップ21のウェハテストは、これ
らの信号用ボンディングパッド22と電源用ボンディン
グパッド23と電源用センスパッド24とに夫々プロー
ブカードの探針25,26゜27を接触させることによ
って行われる。
らの信号用ボンディングパッド22と電源用ボンディン
グパッド23と電源用センスパッド24とに夫々プロー
ブカードの探針25,26゜27を接触させることによ
って行われる。
ところで、バイポーラ型半導体集積回路の゛ウェハテス
トでは高レベルの入出力電圧等を測定することから大電
流を流すことが多い。従って、ボンディングパッドとプ
ローブカードの探針間の接触抵抗やプローブカードの探
針と接続するテ反トシステム(図示せず)の直列抵抗等
が原因となって測定に大きな誤差が生じる虞れがある。
トでは高レベルの入出力電圧等を測定することから大電
流を流すことが多い。従って、ボンディングパッドとプ
ローブカードの探針間の接触抵抗やプローブカードの探
針と接続するテ反トシステム(図示せず)の直列抵抗等
が原因となって測定に大きな誤差が生じる虞れがある。
このため、従来の半導体集積回路では、上述のように電
源用ボンディングパッド23に電源用センスパッド24
を接続させた構造を採っている。即ち、電源用センスパ
ッド24とプローブの探針27を介して電源用ボンディ
ングパッド23の電圧を測定する。
源用ボンディングパッド23に電源用センスパッド24
を接続させた構造を採っている。即ち、電源用センスパ
ッド24とプローブの探針27を介して電源用ボンディ
ングパッド23の電圧を測定する。
また、この測定された電圧はフィードバックされ、これ
により半導体集積回路チップ21に供給される電源電圧
値が所望の値に設定されるようになっている。
により半導体集積回路チップ21に供給される電源電圧
値が所望の値に設定されるようになっている。
[発明が解決しようとする課題]
上述したように従来の半導体集積回路のパッド配置構造
は、信号用ボンディングパッド22が半導体集積回路チ
ップ21の縁部に相互に独立して配置された構造となっ
ている。このため、ウェハテスト時に大電流を流した場
合に、信号用ボンディングパッド22とプローブカード
の探針25との間の接触抵抗やプローブカードの探針と
接続されるテストシステムの直列抵抗等が原因となって
、信号用ボンディングパッド22における電圧測定に誤
差が生じ、そのため正確な測定ができないという欠点が
ある。例えば、ECL出力等の高レベルの電圧を測定す
る際には、20mA程度の電流が信号用ボンディングパ
ッド22を介して流出されるため、信号用ボンディング
パッド22とプローブカードの探針25との間の接触抵
抗にO乃至5Ωのバラツキがあると、測定される電圧の
最大誤差は100mAという大きなものとなる。この結
果、ウェハテスト時に良品の半導体集積回路チップ21
を不良品として判定しやすいという問題点があった。
は、信号用ボンディングパッド22が半導体集積回路チ
ップ21の縁部に相互に独立して配置された構造となっ
ている。このため、ウェハテスト時に大電流を流した場
合に、信号用ボンディングパッド22とプローブカード
の探針25との間の接触抵抗やプローブカードの探針と
接続されるテストシステムの直列抵抗等が原因となって
、信号用ボンディングパッド22における電圧測定に誤
差が生じ、そのため正確な測定ができないという欠点が
ある。例えば、ECL出力等の高レベルの電圧を測定す
る際には、20mA程度の電流が信号用ボンディングパ
ッド22を介して流出されるため、信号用ボンディング
パッド22とプローブカードの探針25との間の接触抵
抗にO乃至5Ωのバラツキがあると、測定される電圧の
最大誤差は100mAという大きなものとなる。この結
果、ウェハテスト時に良品の半導体集積回路チップ21
を不良品として判定しやすいという問題点があった。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
半導体集積回路チップの面積を増大させることなく、電
圧等を高精度で測定することができる半導体集積回路の
パッド配置構造を提供することを目的とする。
半導体集積回路チップの面積を増大させることなく、電
圧等を高精度で測定することができる半導体集積回路の
パッド配置構造を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る半導体集積回路のパッド配置構造は、半導
体集積回路チップの縁部に沿って配置された複数の信号
用ボンディングパッドと、これらの信号用ボンディング
パッドに夫々電気的に接続された複数の電圧測定用セン
スパッドとを有し、この電圧測定用センスパッドと前記
信号用ボンディングパッドとは前記半導体集積回路チッ
プの外辺に実質的に直交する方向に配置されていること
を特徴とする。
体集積回路チップの縁部に沿って配置された複数の信号
用ボンディングパッドと、これらの信号用ボンディング
パッドに夫々電気的に接続された複数の電圧測定用セン
スパッドとを有し、この電圧測定用センスパッドと前記
信号用ボンディングパッドとは前記半導体集積回路チッ
プの外辺に実質的に直交する方向に配置されていること
を特徴とする。
[作用]
本発明に係る半導体集積回路のパッド配置構造によれば
、ウェハテスト時に信号用ボンディングパッドに大電流
を流した場合には、この信号用ボンディングパッドに電
気的に接続された電圧測定用センスパッドにプローブの
探針を接触させて信号用ボンディングパッドの電圧を測
定する。これにより、信号用ボンディングパッドの電圧
が正確に測定される。
、ウェハテスト時に信号用ボンディングパッドに大電流
を流した場合には、この信号用ボンディングパッドに電
気的に接続された電圧測定用センスパッドにプローブの
探針を接触させて信号用ボンディングパッドの電圧を測
定する。これにより、信号用ボンディングパッドの電圧
が正確に測定される。
また、この電圧測定用センスパッドと信号用ボンディン
グパッドとは、半導体集積回路チップの外辺に対して直
交する方向に配置されているため、半導体集積回路チッ
プの面積の増加を極力抑制することができる。
グパッドとは、半導体集積回路チップの外辺に対して直
交する方向に配置されているため、半導体集積回路チッ
プの面積の増加を極力抑制することができる。
[実施例]
次に、添付の図面を参照して本発明の実施例について具
体的に説明する。
体的に説明する。
第1図は本発明の実施例に係る半導体集積回路のパッド
配置構造を示す平面図である。
配置構造を示す平面図である。
半導体集積回路チップ1の縁部1aには、半導体集積回
路チップ1の信号が入出力される複数の信号用ボンディ
ングパッド2が辺1bに沿って互いに所定の間隔を保っ
て配置されている。各信号用ボンディングパッド2は略
矩形状をなし、その1対の辺が縁部1aの外辺1bに対
して平行になるように配置されている。
路チップ1の信号が入出力される複数の信号用ボンディ
ングパッド2が辺1bに沿って互いに所定の間隔を保っ
て配置されている。各信号用ボンディングパッド2は略
矩形状をなし、その1対の辺が縁部1aの外辺1bに対
して平行になるように配置されている。
また、各信号用ボンディングパッド2に対し、縁部1a
の外辺1bに実質的に直交する方向に離隔して電圧測定
用センスパッド4が配置されている。そして、各信号用
ボンディングパッド2と電圧測定用センスパッド4とは
導電性の連結部3により電気的に接続されている。
の外辺1bに実質的に直交する方向に離隔して電圧測定
用センスパッド4が配置されている。そして、各信号用
ボンディングパッド2と電圧測定用センスパッド4とは
導電性の連結部3により電気的に接続されている。
電圧測定用センスパッド4は、信号用ボンディングパッ
ド2と前記縁部1aの外辺1bとの間に信号用ボンディ
ングパッド2と対向するように配置されている。この電
圧測定用センスパッド4は、信号用ボンディングパッド
2の電圧を測定するためのパッドであり、その形状は略
矩形状をなし、且つ、その面積はプローブカードの探針
5を接触させることができる程度の小さな値に設定しで
ある。
ド2と前記縁部1aの外辺1bとの間に信号用ボンディ
ングパッド2と対向するように配置されている。この電
圧測定用センスパッド4は、信号用ボンディングパッド
2の電圧を測定するためのパッドであり、その形状は略
矩形状をなし、且つ、その面積はプローブカードの探針
5を接触させることができる程度の小さな値に設定しで
ある。
なお、第1図には図示していないが、第3図に示した電
源用ボンディングパッド及びこの電源用ボンディングパ
ッドに対して電気的に接続された電源用センスパッドは
本実施例の半導体集積回路チップにおいても設けられて
いることは勿論である。
源用ボンディングパッド及びこの電源用ボンディングパ
ッドに対して電気的に接続された電源用センスパッドは
本実施例の半導体集積回路チップにおいても設けられて
いることは勿論である。
本実施例の半導体集積回路テープが上述のような構成を
採ることにより、ウェハテスト時に大電流を流した場合
であっても、プローブカードの探針5,6を夫々電圧測
定用センスパッド4と信号用ボンディングパッド2に接
触させることにより電圧測定用センスパッド4とプロー
ブの探針5を介して信号用ボンディングパッド2の電圧
を正確に測定することができる。即ち、例えば、ECL
出力等の高レベルの電圧を測定する場合に、信号用ボン
ディングパッド2とプローブカードの探針6との間の接
触抵抗が0乃至5Ωの範囲でバラツキがあったとしても
、測定電圧の誤差は高々3mVと極めて小さくなる。
採ることにより、ウェハテスト時に大電流を流した場合
であっても、プローブカードの探針5,6を夫々電圧測
定用センスパッド4と信号用ボンディングパッド2に接
触させることにより電圧測定用センスパッド4とプロー
ブの探針5を介して信号用ボンディングパッド2の電圧
を正確に測定することができる。即ち、例えば、ECL
出力等の高レベルの電圧を測定する場合に、信号用ボン
ディングパッド2とプローブカードの探針6との間の接
触抵抗が0乃至5Ωの範囲でバラツキがあったとしても
、測定電圧の誤差は高々3mVと極めて小さくなる。
また、電圧測定用センスパッド4が信号用ボンディング
パッド2と外辺1bとの間に配置されているため、半導
体集積回路チップ1の面積をあまり大きくすることなく
信号用ボンディングパッド2に電圧測定用センスパッド
4を接続させることができる。
パッド2と外辺1bとの間に配置されているため、半導
体集積回路チップ1の面積をあまり大きくすることなく
信号用ボンディングパッド2に電圧測定用センスパッド
4を接続させることができる。
なお、半導体集積回路チップ1をTAB方式で組立てる
場合には、TABの端部が接触することを防止するため
に信号用ボンディングパッド2の外側に補助的なパッド
を配置することがある。このような場合には、信号用ボ
ンディングパッド2と前記補助的パッドとを電気的に接
続させると共に、補助的パッドを電圧測定用センスパッ
ド4として用いることにより、上述の構成と略同様の構
成を達成することができる。かかる構成によれば、−層
半導体集積回路チツブ1の面積の無駄をなくすごとがで
きる。
場合には、TABの端部が接触することを防止するため
に信号用ボンディングパッド2の外側に補助的なパッド
を配置することがある。このような場合には、信号用ボ
ンディングパッド2と前記補助的パッドとを電気的に接
続させると共に、補助的パッドを電圧測定用センスパッ
ド4として用いることにより、上述の構成と略同様の構
成を達成することができる。かかる構成によれば、−層
半導体集積回路チツブ1の面積の無駄をなくすごとがで
きる。
第2図は本発明の他の実施例に係る半導体集積回路のパ
ッド配置構造を示す平面図である。
ッド配置構造を示す平面図である。
先の実施例にあっては、信号用ボンディングパッド2と
半導体集積回路1の外辺1bとの間に電圧測定用センス
パッド4を配置するようにしたが、本実施例では、半導
体集積回路チップ11の縁部11aに複数並べて配置し
た信号用ボンディングパッド12とこの信号用ボンディ
ングパッド12が接続される内部素子11cとの間に電
圧測定用センスパッド14が配置されている。
半導体集積回路1の外辺1bとの間に電圧測定用センス
パッド4を配置するようにしたが、本実施例では、半導
体集積回路チップ11の縁部11aに複数並べて配置し
た信号用ボンディングパッド12とこの信号用ボンディ
ングパッド12が接続される内部素子11cとの間に電
圧測定用センスパッド14が配置されている。
信号用ボンディングパッド12は、縁部11aの外辺1
1bの近傍に配置されており、その面積は、プローブカ
ードの探針16の大きさを考慮して約100μm2に設
定されている。また、この信号用ボンディングパッド1
2には電圧測定用センスパッド14がその辺を重ねて配
置されている。
1bの近傍に配置されており、その面積は、プローブカ
ードの探針16の大きさを考慮して約100μm2に設
定されている。また、この信号用ボンディングパッド1
2には電圧測定用センスパッド14がその辺を重ねて配
置されている。
また、この電圧測定用センスパッド14の他端部は、内
部素子11cと接続されている。この電圧測定用センス
パッド14の面積は、約8oJim2に設定されている
。これにより、電圧測定用センスパッド14と信号用ボ
ンディングパッド12との中心間の距離が90μmに保
たれ、プローブカードの探針15.16の各パッド14
.12との間の接触が十分可能である。
部素子11cと接続されている。この電圧測定用センス
パッド14の面積は、約8oJim2に設定されている
。これにより、電圧測定用センスパッド14と信号用ボ
ンディングパッド12との中心間の距離が90μmに保
たれ、プローブカードの探針15.16の各パッド14
.12との間の接触が十分可能である。
本実施例の半導体集積回路チップ11は上述のように構
成されているため、半導体集積回路チップ11の面積を
殆んど通常の大きさに保持したまま、電圧測定用センス
パッド14を設けることができる。即ち、通常電圧測定
用センスパッド14が設けられていない半導体集積回路
チップにあっては、ボンディングワイヤ先端と内部素子
との短絡を防止するため、信号用ボンディングパッドと
内部素子との間の距離を約50μmに設定しである。こ
れに対して、本実施例の半導体集積回路チップ11にあ
っては、半導体集積回路チップ11の広がりが高々60
μm増えたに過ぎず、その大きさは殆んど通常の半導体
集積回路チップの大きさと変わりがない。
成されているため、半導体集積回路チップ11の面積を
殆んど通常の大きさに保持したまま、電圧測定用センス
パッド14を設けることができる。即ち、通常電圧測定
用センスパッド14が設けられていない半導体集積回路
チップにあっては、ボンディングワイヤ先端と内部素子
との短絡を防止するため、信号用ボンディングパッドと
内部素子との間の距離を約50μmに設定しである。こ
れに対して、本実施例の半導体集積回路チップ11にあ
っては、半導体集積回路チップ11の広がりが高々60
μm増えたに過ぎず、その大きさは殆んど通常の半導体
集積回路チップの大きさと変わりがない。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、半導体集積回路チ
ップの縁部に配置された信号用ボンディングパッドに夫
々電圧測定用センスパッドを電気的に接続させるように
したため、ウェハテスト時に大電流を流した場合であっ
ても、電圧測定用センスパッドとプローブカードの探針
とを介して信号用ボンディングパッドの電圧を正確に測
定することができる。
ップの縁部に配置された信号用ボンディングパッドに夫
々電圧測定用センスパッドを電気的に接続させるように
したため、ウェハテスト時に大電流を流した場合であっ
ても、電圧測定用センスパッドとプローブカードの探針
とを介して信号用ボンディングパッドの電圧を正確に測
定することができる。
また、電圧測定用センスパッドを、信号用ボンディング
パッドに対して半導体集積回路チップの外辺に直交する
方向に並置させたので、半導体集積回路チップの面積の
増大を抑制しつつ電圧測定用センスパッドを設けること
ができるという効果を奏する。
パッドに対して半導体集積回路チップの外辺に直交する
方向に並置させたので、半導体集積回路チップの面積の
増大を抑制しつつ電圧測定用センスパッドを設けること
ができるという効果を奏する。
第1図は本発明の実施例に係る半導体集積回路のパッド
配置構造を示す平面図、第2図は本発明の他の実施例に
係る半導体集積回路のパッド配置構造を示す平面図、第
3図は従来の半導体集積回路のパッド配置構造を示す平
面図である。 1.11,21:半導体集積回路チップ、la。 11a;縁部、lb、llb;外辺、2,12゜22;
信号用ボンディングパッド、4,14;電圧測定用セン
スパッド
配置構造を示す平面図、第2図は本発明の他の実施例に
係る半導体集積回路のパッド配置構造を示す平面図、第
3図は従来の半導体集積回路のパッド配置構造を示す平
面図である。 1.11,21:半導体集積回路チップ、la。 11a;縁部、lb、llb;外辺、2,12゜22;
信号用ボンディングパッド、4,14;電圧測定用セン
スパッド
Claims (1)
- (1)半導体集積回路チップの縁部に沿って配置された
複数の信号用ボンディングパッドと、これらの信号用ボ
ンディングパッドに夫々電気的に接続された複数の電圧
測定用センスパッドとを有し、この電圧測定用センスパ
ッドと前記信号用ボンディングパッドとは前記半導体集
積回路チップの外辺に実質的に直交する方向に配置され
ていることを特徴とする半導体集積回路のパッド配置構
造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63106881A JPH01278033A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 半導体集積回路のパッド配置構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63106881A JPH01278033A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 半導体集積回路のパッド配置構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01278033A true JPH01278033A (ja) | 1989-11-08 |
Family
ID=14444847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63106881A Pending JPH01278033A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 半導体集積回路のパッド配置構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01278033A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0454134A2 (en) * | 1990-04-25 | 1991-10-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device |
JP2012182223A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Panasonic Corp | 半導体装置 |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP63106881A patent/JPH01278033A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0454134A2 (en) * | 1990-04-25 | 1991-10-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device |
US5386127A (en) * | 1990-04-25 | 1995-01-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device having groups of pads which receive the same signal |
JP2012182223A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Panasonic Corp | 半導体装置 |
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