JPH05309301A - 硬基板塗布・プリベ−ク装置 - Google Patents
硬基板塗布・プリベ−ク装置Info
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- JPH05309301A JPH05309301A JP14096692A JP14096692A JPH05309301A JP H05309301 A JPH05309301 A JP H05309301A JP 14096692 A JP14096692 A JP 14096692A JP 14096692 A JP14096692 A JP 14096692A JP H05309301 A JPH05309301 A JP H05309301A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 塗布液槽に上部を残して水平に浸漬されたバ
−とその上方の押圧ロ−ルとを用いて塗布液をその下面
に塗布した硬基板を、間欠搬送手段を有する乾燥炉にお
いてプリベ−クする場合に、間欠搬送手段の支持材が基
板に接触することにより塗布が不均一になることを防止
し、品質を向上させる。 【構成】 乾燥炉に硬基板の非塗布面を第１および第２
の支持体により交互に下から支持し両支持体の相対移動
により前記硬基板を間欠的に送る間欠搬送手段を設け、
塗布部と乾燥炉との間に硬基板の塗布面を加熱せずに乾
燥する予備乾燥部を設けた。
−とその上方の押圧ロ−ルとを用いて塗布液をその下面
に塗布した硬基板を、間欠搬送手段を有する乾燥炉にお
いてプリベ−クする場合に、間欠搬送手段の支持材が基
板に接触することにより塗布が不均一になることを防止
し、品質を向上させる。 【構成】 乾燥炉に硬基板の非塗布面を第１および第２
の支持体により交互に下から支持し両支持体の相対移動
により前記硬基板を間欠的に送る間欠搬送手段を設け、
塗布部と乾燥炉との間に硬基板の塗布面を加熱せずに乾
燥する予備乾燥部を設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板を用いた液
晶表示板などの製造に用いられ、フォトレジストなどの
塗布液を硬基板に薄く均一に塗布した後、乾燥炉でプリ
ベ−クするための硬基板塗布・プリベ−ク装置に関する
ものである。
晶表示板などの製造に用いられ、フォトレジストなどの
塗布液を硬基板に薄く均一に塗布した後、乾燥炉でプリ
ベ−クするための硬基板塗布・プリベ−ク装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶板の製造工程の中には、ガラス基板
などの硬基板にフォトレジストなどの塗布液を薄く均一
な厚さに塗布する工程がある。例えばカラー液晶板の製
造においては、透明電極を予め形成したガラス基板に、
フォトレジストの機能を有する赤のカラ−モザイク液を
均一に塗布した後、露光して赤に対応するカラ−モザイ
クを硬化させ、余分の液を除去することにより赤のカラ
ーモザイクを形成している。そしてこれと同様な処理を
緑、青などの他の色について繰り返している。このよう
にフォトレジストとなる塗布液を塗布する場合、この液
は均一な厚さ（例えば２μ±５％程度）に厳密に管理し
て薄く塗布する必要がある。この塗布の厚さが不均一で
あると、光の透過率のむらが生じ、品質の低下を招くこ
とになるからである。
などの硬基板にフォトレジストなどの塗布液を薄く均一
な厚さに塗布する工程がある。例えばカラー液晶板の製
造においては、透明電極を予め形成したガラス基板に、
フォトレジストの機能を有する赤のカラ−モザイク液を
均一に塗布した後、露光して赤に対応するカラ−モザイ
クを硬化させ、余分の液を除去することにより赤のカラ
ーモザイクを形成している。そしてこれと同様な処理を
緑、青などの他の色について繰り返している。このよう
にフォトレジストとなる塗布液を塗布する場合、この液
は均一な厚さ（例えば２μ±５％程度）に厳密に管理し
て薄く塗布する必要がある。この塗布の厚さが不均一で
あると、光の透過率のむらが生じ、品質の低下を招くこ
とになるからである。
【０００３】従来はこの塗布のためにスピンコータが用
いられていた。このスピンコータは回転させた基板の回
転中心付近に塗布液を滴下し、この液を遠心力を利用し
て飛散させることにより塗布するものである。しかしこ
のスピンコータを用いる方法では基板の交換に手間取り
作業能率が悪くなるばかりでなく、飛散して捨てられる
液の量が増えることになる。このためコストアップにな
るという問題があった。
いられていた。このスピンコータは回転させた基板の回
転中心付近に塗布液を滴下し、この液を遠心力を利用し
て飛散させることにより塗布するものである。しかしこ
のスピンコータを用いる方法では基板の交換に手間取り
作業能率が悪くなるばかりでなく、飛散して捨てられる
液の量が増えることになる。このためコストアップにな
るという問題があった。
【０００４】そこで水平に配設された上下一対のローラ
間に基板を挟んで塗布する装置を用いることが考えられ
ている。この装置は下のローラとなるバーの下部を塗布
液に浸漬し、このバーとこの上方に位置する押圧ロ−ル
との間に基板を挟んで送りながら、バーにより基板の下
面に塗布するものである。
間に基板を挟んで塗布する装置を用いることが考えられ
ている。この装置は下のローラとなるバーの下部を塗布
液に浸漬し、このバーとこの上方に位置する押圧ロ−ル
との間に基板を挟んで送りながら、バーにより基板の下
面に塗布するものである。
【０００５】またこのように塗布した硬基板は、乾燥炉
においてプリベ−クされてからラック（収納棚）にスト
ックされる。このプリベ−ク工程は、約９０℃の温度雰
囲気内で加熱して、塗布液の揮発性成分を除去するもの
である。なおこの硬基板は現像の前にもう一度ベ−クさ
れる。
においてプリベ−クされてからラック（収納棚）にスト
ックされる。このプリベ−ク工程は、約９０℃の温度雰
囲気内で加熱して、塗布液の揮発性成分を除去するもの
である。なおこの硬基板は現像の前にもう一度ベ−クさ
れる。
【０００６】このプリベ−ク工程において、硬基板の塗
布面を下にして下から複数のピンで支持しながら間欠的
に順送りする間欠搬送手段を用いることが考えられてい
る。この搬送手段によれば、所定時間ごとに硬基板を送
るので、パスロ−ルなどの連続搬送手段に比べてゴミの
発生が少なくなり、製品の歩止まりが向上するからであ
る。
布面を下にして下から複数のピンで支持しながら間欠的
に順送りする間欠搬送手段を用いることが考えられてい
る。この搬送手段によれば、所定時間ごとに硬基板を送
るので、パスロ−ルなどの連続搬送手段に比べてゴミの
発生が少なくなり、製品の歩止まりが向上するからであ
る。
【０００７】
【従来技術の問題点】しかしこのプリベ−ク工程では、
間欠搬送手段のピンなどの支持体が硬基板の下面に接触
したまま加熱されるため、硬基板はこの支持体の接触部
付近で温度分布が不均一になる。このために塗布が不均
一になり品質低下を招くという問題があった。
間欠搬送手段のピンなどの支持体が硬基板の下面に接触
したまま加熱されるため、硬基板はこの支持体の接触部
付近で温度分布が不均一になる。このために塗布が不均
一になり品質低下を招くという問題があった。
【０００８】なお前記スピンコ−タを用いた場合には高
速回転に伴って塗布面の自然乾燥が行われて半乾燥状態
となる。このため前記のような間欠搬送による問題はほ
とんど発生しない。しかし前記のロ−ラを用いた塗布の
場合にはこの問題が顕著になる。
速回転に伴って塗布面の自然乾燥が行われて半乾燥状態
となる。このため前記のような間欠搬送による問題はほ
とんど発生しない。しかし前記のロ−ラを用いた塗布の
場合にはこの問題が顕著になる。
【０００９】
【発明の目的】本発明はこのような事情に鑑みなされた
ものであり、バ−と押圧ロ−ルとを用いて塗布液を塗布
した後、間欠搬送手段を有する乾燥炉においてプリベ−
クする場合に、間欠搬送手段の支持材が基板に接触する
ことにより塗布が不均一になることを防止し、品質を向
上させることができる硬基板塗布・プリベ−ク装置を提
供することを目的とする。
ものであり、バ−と押圧ロ−ルとを用いて塗布液を塗布
した後、間欠搬送手段を有する乾燥炉においてプリベ−
クする場合に、間欠搬送手段の支持材が基板に接触する
ことにより塗布が不均一になることを防止し、品質を向
上させることができる硬基板塗布・プリベ−ク装置を提
供することを目的とする。
【００１０】
【発明の構成】本発明によればこの目的は、塗布液槽に
上部を残して水平に浸漬されたバーと、このバーの上方
に配設された押圧ロ−ルとの間に硬基板を挟持して送る
ことにより、前記硬基板の下面に塗布液を塗布する塗布
部と、前記硬基板をプリベ−クする乾燥炉とを備える硬
基板塗布・プリベ−ク装置において、前記乾燥炉に設け
られ前記硬基板の非塗布面を第１および第２の支持体に
より交互に下から支持し両支持体の相対移動により前記
硬基板を間欠的に送る間欠搬送手段と、前記塗布部と乾
燥炉との間に設けられ前記硬基板の塗布面を加熱せずに
乾燥する予備乾燥部とを備えることを特徴とする硬基板
塗布・プリベ−ク装置、により達成される。ここに予備
乾燥は、塗布した基板を所定時間待機させたり所定距離
移動させながら自然乾燥させることができる。また送風
機により塗布面を強制的に乾燥させるようにしてもよ
い。
上部を残して水平に浸漬されたバーと、このバーの上方
に配設された押圧ロ−ルとの間に硬基板を挟持して送る
ことにより、前記硬基板の下面に塗布液を塗布する塗布
部と、前記硬基板をプリベ−クする乾燥炉とを備える硬
基板塗布・プリベ−ク装置において、前記乾燥炉に設け
られ前記硬基板の非塗布面を第１および第２の支持体に
より交互に下から支持し両支持体の相対移動により前記
硬基板を間欠的に送る間欠搬送手段と、前記塗布部と乾
燥炉との間に設けられ前記硬基板の塗布面を加熱せずに
乾燥する予備乾燥部とを備えることを特徴とする硬基板
塗布・プリベ−ク装置、により達成される。ここに予備
乾燥は、塗布した基板を所定時間待機させたり所定距離
移動させながら自然乾燥させることができる。また送風
機により塗布面を強制的に乾燥させるようにしてもよ
い。
【００１１】
【実施例】図１は本発明の実施例を示す図、図２は間欠
搬送手段の概念を示す図である。
搬送手段の概念を示す図である。
【００１２】図１において符号１０はラックであり、一
定間隔を保持しつつ多数のガラス基板１２を収容する。
ガラス基板１２は搬入ロボット（図示せず）によって上
から１枚づつ取り出され（搬入Ａ）、反転装置（図示せ
ず）で表裏が反転される（反転Ｂ）。この反転されたガ
ラス基板１２はパスロ−ル１４によって塗布部１６に搬
送される。
定間隔を保持しつつ多数のガラス基板１２を収容する。
ガラス基板１２は搬入ロボット（図示せず）によって上
から１枚づつ取り出され（搬入Ａ）、反転装置（図示せ
ず）で表裏が反転される（反転Ｂ）。この反転されたガ
ラス基板１２はパスロ−ル１４によって塗布部１６に搬
送される。
【００１３】塗布部１６は本願の出願人が特願平３−１
３０７０号、同３−１３０７１、同３−１３０７２、同
３−１３０７３、同３−１３０７４等において提案した
ものと基本的には同じ構造を有する。すなわち小径のバ
−１８と、その上方に対向する大径の押圧ロ−ル２０
と、バ−１８の上部を残してほぼ全体が浸漬される塗布
液槽２２とを有する。ガラス基板１２はその下面の左右
縁をパスロ−ル１４のロ−ラに載せた状態で図１で左か
ら右に送られる。
３０７０号、同３−１３０７１、同３−１３０７２、同
３−１３０７３、同３−１３０７４等において提案した
ものと基本的には同じ構造を有する。すなわち小径のバ
−１８と、その上方に対向する大径の押圧ロ−ル２０
と、バ−１８の上部を残してほぼ全体が浸漬される塗布
液槽２２とを有する。ガラス基板１２はその下面の左右
縁をパスロ−ル１４のロ−ラに載せた状態で図１で左か
ら右に送られる。
【００１４】ここに用いる塗布液としては、例えばＥＣ
Ａ（エキル・セルソルブモノエチル・アセテ−ト）を溶
剤とし、２４〜２５重量％の顔料などを溶かし込んだカ
ラ−モザイク液が用いられる。
Ａ（エキル・セルソルブモノエチル・アセテ−ト）を溶
剤とし、２４〜２５重量％の顔料などを溶かし込んだカ
ラ−モザイク液が用いられる。
【００１５】バ−１８の一端は塗布液槽２２から突出
し、この突出端には自在継手を介して電動モ−タが接続
されている。このモ−タにより、バ−１８に接触して送
られるガラス基板１２の送り速度が、パスロ−ル１４と
同速になるように制御される。押圧ロ−ル２０の表面は
導電性ゴムで作られ、バ−１８との間にガラス基板１２
を所定の挟圧力で挟むように保持されている。
し、この突出端には自在継手を介して電動モ−タが接続
されている。このモ−タにより、バ−１８に接触して送
られるガラス基板１２の送り速度が、パスロ−ル１４と
同速になるように制御される。押圧ロ−ル２０の表面は
導電性ゴムで作られ、バ−１８との間にガラス基板１２
を所定の挟圧力で挟むように保持されている。
【００１６】従ってパスロ−ル１４により図１で左側か
ら右側へ送られるガラス基板１２は、バ−１８と押圧ロ
−ル２０との間に進入する。バ−１８の表面にはその回
転により塗布液槽２２の塗布液が付着しているから、こ
のバ−１８の回転に伴いガラス基板１２の下面にこの塗
布液が塗布されて行く。塗布液槽２２の液面のレベル
と、押圧ロ−ル２０による挟圧力とは一定に管理されて
いるから、ガラス基板１２の下面の塗布される液の厚さ
は十分に薄くかつ高精度に管理され得る（塗布Ｃ）。
ら右側へ送られるガラス基板１２は、バ−１８と押圧ロ
−ル２０との間に進入する。バ−１８の表面にはその回
転により塗布液槽２２の塗布液が付着しているから、こ
のバ−１８の回転に伴いガラス基板１２の下面にこの塗
布液が塗布されて行く。塗布液槽２２の液面のレベル
と、押圧ロ−ル２０による挟圧力とは一定に管理されて
いるから、ガラス基板１２の下面の塗布される液の厚さ
は十分に薄くかつ高精度に管理され得る（塗布Ｃ）。
【００１７】このように塗布液が塗布されると反転装置
によって再び表裏が反転される（反転Ｄ）。従って塗布
面が上に、非塗布面が下になる。この状態で予備乾燥部
２４に入る（予備乾燥Ｅ）。
によって再び表裏が反転される（反転Ｄ）。従って塗布
面が上に、非塗布面が下になる。この状態で予備乾燥部
２４に入る（予備乾燥Ｅ）。
【００１８】この予備乾燥部２４は塗布面を上にしたガ
ラス基板１２Ａの上方を覆うケ−ス２６と、このケ−ス
２６の上面に設けられ周囲の空気をケ−ス２６内に送り
込む送風機２８とを備える。この送風機２８は周囲の空
気すなわち非加熱空気をガラス基板１２Ａの塗布面に導
く。このため塗布部１６で塗布された直後のガラス基板
１２Ａから揮発成分を速やかに除去し、半乾燥状態にす
る。ここに送風機２８による風が塗布面上の塗布液に風
紋を発生させないように、風量や風の強さなどを設定す
る。
ラス基板１２Ａの上方を覆うケ−ス２６と、このケ−ス
２６の上面に設けられ周囲の空気をケ−ス２６内に送り
込む送風機２８とを備える。この送風機２８は周囲の空
気すなわち非加熱空気をガラス基板１２Ａの塗布面に導
く。このため塗布部１６で塗布された直後のガラス基板
１２Ａから揮発成分を速やかに除去し、半乾燥状態にす
る。ここに送風機２８による風が塗布面上の塗布液に風
紋を発生させないように、風量や風の強さなどを設定す
る。
【００１９】このようにして塗布液が半乾燥されたガラ
ス基板１２は乾燥炉３０に入る。この乾燥炉３０は間欠
搬送手段３２により間欠的に送られるガラス基板１２
を、赤外線ランプ等のヒ−タ３４によって加熱し乾燥す
る。この乾燥工程は約９０℃に加熱して行われ、露光前
のベ−クと区別するためプリベ−クという（Ｆ）。
ス基板１２は乾燥炉３０に入る。この乾燥炉３０は間欠
搬送手段３２により間欠的に送られるガラス基板１２
を、赤外線ランプ等のヒ−タ３４によって加熱し乾燥す
る。この乾燥工程は約９０℃に加熱して行われ、露光前
のベ−クと区別するためプリベ−クという（Ｆ）。
【００２０】間欠搬送手段３２は、図２に示すように、
ガラス基板１２の非塗布面（下面）を支持する第１の支
持材としての複数のピン３６と、第２の支持材としての
左右一対の可動ビ−ム３８とを有する。ピン３６は基台
と一体の支持板４０に植設され、１枚のガラス基板１２
は複数のピン３６で水平に支持される。
ガラス基板１２の非塗布面（下面）を支持する第１の支
持材としての複数のピン３６と、第２の支持材としての
左右一対の可動ビ−ム３８とを有する。ピン３６は基台
と一体の支持板４０に植設され、１枚のガラス基板１２
は複数のピン３６で水平に支持される。
【００２１】可動ビ−ム３８は支持板４０の両側に位置
し、全体が一体となって上下および前後進する。すなわ
ち左右の可動ビ−ム３８を貫通する適宜数のロッド４２
は、ガイドレ−ル４４上を前後進する一方、このガイド
レ−ル４４はカム４６によって上下動する。ここにガイ
ドレ−ル４４にはプ−リ４８、４８が取付けられ、ここ
に巻掛けたワイヤ５０がロッド４２に固定され、一方の
プ−リ４８がサ−ボモ−タ５２で回転駆動される。この
ためモ−タ５２、プ−リ４８の回転によりワイヤ５０が
往復動し、これと共にロッド４２、可動ビ−ム３８が前
後に往復動する。
し、全体が一体となって上下および前後進する。すなわ
ち左右の可動ビ−ム３８を貫通する適宜数のロッド４２
は、ガイドレ−ル４４上を前後進する一方、このガイド
レ−ル４４はカム４６によって上下動する。ここにガイ
ドレ−ル４４にはプ−リ４８、４８が取付けられ、ここ
に巻掛けたワイヤ５０がロッド４２に固定され、一方の
プ−リ４８がサ−ボモ−タ５２で回転駆動される。この
ためモ−タ５２、プ−リ４８の回転によりワイヤ５０が
往復動し、これと共にロッド４２、可動ビ−ム３８が前
後に往復動する。
【００２２】またガイドレ−ル４４の下面にはカム４
６、４６が接触し、両カム４６、４６はリンク５４によ
り同期して回動する。一方のカム４６はサ−ボモ−タ５
６により駆動される。従ってモ−タ５６により一方のカ
ム４６が回動すると他方のカム４６も同期して回動し、
ガイドレ−ル４４を水平に保ったまま上下動させる。
６、４６が接触し、両カム４６、４６はリンク５４によ
り同期して回動する。一方のカム４６はサ−ボモ−タ５
６により駆動される。従ってモ−タ５６により一方のカ
ム４６が回動すると他方のカム４６も同期して回動し、
ガイドレ−ル４４を水平に保ったまま上下動させる。
【００２３】このようにして可動ビ−ム３８は、図２に
矢印ａ、ｂ、ｃ、ｄで示すように、上昇、前進、下降、
後退の各動作を行う。この結果上昇ａでビ−ム３８は基
板１２の下面に接触して基板１２をピン３６から浮かせ
て持ち上げる。次の前進ｂではビ−ム３８と共に基板１
２が前進し、下降ｃではビ−ム３８は基板１２から離れ
基板１２を一定距離送り方向に離れたピン３６に支持さ
せる。そして基板１２をここに残してビ−ム３８は後退
ｄにおいて最初の位置に復帰する。以上のようにビ−ム
３８を移動させることにより基板１２を間欠的に送る。
矢印ａ、ｂ、ｃ、ｄで示すように、上昇、前進、下降、
後退の各動作を行う。この結果上昇ａでビ−ム３８は基
板１２の下面に接触して基板１２をピン３６から浮かせ
て持ち上げる。次の前進ｂではビ−ム３８と共に基板１
２が前進し、下降ｃではビ−ム３８は基板１２から離れ
基板１２を一定距離送り方向に離れたピン３６に支持さ
せる。そして基板１２をここに残してビ−ム３８は後退
ｄにおいて最初の位置に復帰する。以上のようにビ−ム
３８を移動させることにより基板１２を間欠的に送る。
【００２４】乾燥炉３０で約９０℃の雰囲気中でプリベ
−クされた基板１２は、ロボット（図示せず）によって
ラック５８に収納されストックされる（ストックＧ）。
このようにラック５８に入った基板は、さらにベ−クさ
れてから露光工程に入る。露光された後洗浄され所定パ
タ−ンのカラ−モザイクが形成される。
−クされた基板１２は、ロボット（図示せず）によって
ラック５８に収納されストックされる（ストックＧ）。
このようにラック５８に入った基板は、さらにベ−クさ
れてから露光工程に入る。露光された後洗浄され所定パ
タ−ンのカラ−モザイクが形成される。
【００２５】この実施例は予備乾燥部２４では送風機２
８により風を強制的に送って基板１２の塗布面を乾燥さ
せるから、予備乾燥に要する時間を短縮でき、装置の稼
働率を向上できる。しかし本発明は送風機２８を用いる
ことなく放置したり一定速度で移動させながら自然乾燥
させるものであってもよい。
８により風を強制的に送って基板１２の塗布面を乾燥さ
せるから、予備乾燥に要する時間を短縮でき、装置の稼
働率を向上できる。しかし本発明は送風機２８を用いる
ことなく放置したり一定速度で移動させながら自然乾燥
させるものであってもよい。
【００２６】図３はこのように自然乾燥させる実施例を
示す図である。この実施例において予備乾燥部２４Ａは
十分に長い搬送路６０を持ち、ここに基板１２を移動さ
せることにより自然乾燥させるものである。なおこの実
施例では予備乾燥（Ｅ）の後で基板１２を反転（Ｄ）さ
せているが、予備乾燥（Ｅ）の前に反転（Ｄ）させても
よい。
示す図である。この実施例において予備乾燥部２４Ａは
十分に長い搬送路６０を持ち、ここに基板１２を移動さ
せることにより自然乾燥させるものである。なおこの実
施例では予備乾燥（Ｅ）の後で基板１２を反転（Ｄ）さ
せているが、予備乾燥（Ｅ）の前に反転（Ｄ）させても
よい。
【００２７】
【実験例】３００ｍｍ×３００ｍｍの基板１２にカラ−
モザイク液をタクト３０秒で塗布する場合について実験
を行った。図３に示した自然乾燥の場合には予備乾燥部
２４Ａには約４．５ｍの距離（２４０秒に相当）を設け
ることにより均一な乾燥が可能であった。また図１に示
した送風機２８を用いた場合には、予備乾燥部２４は約
２．４ｍ（９０秒に相当）の距離で足りた。
モザイク液をタクト３０秒で塗布する場合について実験
を行った。図３に示した自然乾燥の場合には予備乾燥部
２４Ａには約４．５ｍの距離（２４０秒に相当）を設け
ることにより均一な乾燥が可能であった。また図１に示
した送風機２８を用いた場合には、予備乾燥部２４は約
２．４ｍ（９０秒に相当）の距離で足りた。
【００２８】
【発明の効果】請求項１の発明は以上のように、ロ−ラ
を用いた塗布部と、間欠搬送手段を用いた乾燥炉との間
に、加熱せずに塗布面を乾燥する予備乾燥部を設けたか
ら、間欠搬送手段の第１、第２の支持体が基板に接触す
ることにより不均一な温度分布が発生しても、塗布面が
不均一になることがなくなる。このため製品の品質を向
上できる。
を用いた塗布部と、間欠搬送手段を用いた乾燥炉との間
に、加熱せずに塗布面を乾燥する予備乾燥部を設けたか
ら、間欠搬送手段の第１、第２の支持体が基板に接触す
ることにより不均一な温度分布が発生しても、塗布面が
不均一になることがなくなる。このため製品の品質を向
上できる。
【００２９】ここに予備乾燥は、周囲の雰囲気中に所定
時間放置して自然乾燥させてもよいが（請求項２）、送
風機により風を強制的に当てれば乾燥時間は短縮でき装
置の稼働率が向上し生産性が向上する（請求項３）。
時間放置して自然乾燥させてもよいが（請求項２）、送
風機により風を強制的に当てれば乾燥時間は短縮でき装
置の稼働率が向上し生産性が向上する（請求項３）。
【００３０】
【図１】本発明の一実施例を示す図
【図２】間欠搬送手段を示す図
【図３】他の実施例を示す図
１２ ガラス基板 １６ 塗布部 １８ バ− ２０ 押圧ロ−ル ２２ 塗布液槽 ２４、２４Ａ 予備乾燥部 ２８ 送風機 ３０ 乾燥炉 ３２ 間欠搬送手段 ３６ 第１の支持材としてのピン ３８ 第２の支持材としての可動ビ−ム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０２ 7/26 7124−2Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/027 (72)発明者 尾崎 正文 神奈川県綾瀬市小園1005番地 富士マイク ログラフイックス株式会社内 (72)発明者 江本 辰弥 神奈川県綾瀬市小園1005番地 富士マイク ログラフイックス株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 塗布液槽に上部を残して水平に浸漬され
たバーと、このバーの上方に配設された押圧ロ−ルとの
間に硬基板を挟持して送ることにより、前記硬基板の下
面に塗布液を塗布する塗布部と、前記硬基板をプリベ−
クする乾燥炉とを備える硬基板塗布・プリベ−ク装置に
おいて、前記乾燥炉に設けられ前記硬基板の非塗布面を
第１および第２の支持体により交互に下から支持し両支
持体の相対移動により前記硬基板を間欠的に送る間欠搬
送手段と、前記塗布部と乾燥炉との間に設けられ前記硬
基板の塗布面を加熱せずに乾燥する予備乾燥部とを備え
ることを特徴とする硬基板塗布・プリベ−ク装置。 - 【請求項２】 予備乾燥部は塗布した硬基板を所定時間
自然乾燥する請求項１の硬基板塗布・プリベ−ク装置。 - 【請求項３】 予備乾燥部は、塗布面に非加熱風を送る
送風機を備える請求項１の硬基板塗布・プリベ−ク装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14096692A JP2888697B2 (ja) | 1992-05-06 | 1992-05-06 | 硬基板塗布・プリベ−ク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14096692A JP2888697B2 (ja) | 1992-05-06 | 1992-05-06 | 硬基板塗布・プリベ−ク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05309301A true JPH05309301A (ja) | 1993-11-22 |
| JP2888697B2 JP2888697B2 (ja) | 1999-05-10 |
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ID=15280966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14096692A Expired - Fee Related JP2888697B2 (ja) | 1992-05-06 | 1992-05-06 | 硬基板塗布・プリベ−ク装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2888697B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008311250A (ja) * | 2007-06-12 | 2008-12-25 | Tokyo Electron Ltd | リフローシステムおよびリフロー方法 |
| JP2011066318A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置 |
| JP2011120991A (ja) * | 2009-12-09 | 2011-06-23 | Tdk-Lambda Corp | 硬化装置 |
| WO2012008218A1 (ja) * | 2010-07-12 | 2012-01-19 | シャープ株式会社 | 塗布膜製造用加熱乾燥装置およびこれを備えた塗布膜製造装置ならびに塗布膜製造方法 |
| CN107321568A (zh) * | 2017-08-18 | 2017-11-07 | 嘉兴亿豪新材料有限公司 | 一种铝板分次滚涂装置 |
| CN110124931A (zh) * | 2019-05-29 | 2019-08-16 | 瑞安市佳源机械有限公司 | 防水板涂胶专用生产线 |
-
1992
- 1992-05-06 JP JP14096692A patent/JP2888697B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO2012008218A1 (ja) * | 2010-07-12 | 2012-01-19 | シャープ株式会社 | 塗布膜製造用加熱乾燥装置およびこれを備えた塗布膜製造装置ならびに塗布膜製造方法 |
| CN107321568A (zh) * | 2017-08-18 | 2017-11-07 | 嘉兴亿豪新材料有限公司 | 一种铝板分次滚涂装置 |
| CN110124931A (zh) * | 2019-05-29 | 2019-08-16 | 瑞安市佳源机械有限公司 | 防水板涂胶专用生产线 |
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|---|---|
| JP2888697B2 (ja) | 1999-05-10 |
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