JPH05306274A

JPH05306274A - アルキルアミノスルホンアミド誘導体、その製造法及び除草剤

Info

Publication number: JPH05306274A
Application number: JP14979592A
Authority: JP
Inventors: Takaaki Abe; 敬章安部; Yuji Akiyoshi; 祐二穐吉; Hiroshi Shiraishi; 泰士白石; Ikuo Shiraishi; 郁雄白石; Koji Hayama; 孝司葉山
Original assignee: Ube Industries Ltd
Current assignee: Ube Corp
Priority date: 1992-04-24
Filing date: 1992-04-24
Publication date: 1993-11-19

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】優れた除草活性を有する新規なアルキルアミノ
スルホンアミド誘導体の提供。【構成】一般式（Ｉ）で示される化合物、その製造法な
らびに式（Ｉ）の化合物を有効成分とする除草剤。な
お、式（Ｉ）の化合物は、式（II）の化合物と式（II
I）の化合物とを反応させることにより製造される。〔Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は低級アルキル基、或いはＲ^２とＲ
^３は結合してＮと共にシクロアミノ基；ＸはＯ又はＳ；
ＺはＣＨ又はＮ〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なアルキルアミノ
スルホンアミド誘導体を有効成分とする除草剤に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術の説明】これまでに、農作業の省力化，農
産物の生産性向上を計るために多くの除草剤が開発され
ている。しかし、従来の除草剤は、ワタなどの作物に対
する選択性及び除草効果が十分とはいえず、また、生物
に対する安全性に関する問題を十分に満足させていると
もいい難い。そこで、これらの課題を解決できる新規な
除草剤の開発が試みられているが、本発明のようなアル
キルアミノスルホンアミド誘導体は知られていなかっ
た。

【０００３】

【発明が解決すべき課題】本発明の目的は、除草剤とし
て有用な新規なアルキルアミノスルホンアミド誘導体及
びその製造法を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の問
題点を解決するために鋭意研究した結果、新規なアルキ
ルアミノスルホンアミド誘導体が一年生の広葉雑草など
に対して優れた除草効果を示し、ワタなどの作物に対し
て選択性を有し、かつ高収率で得られる製造法を見出し
て、本発明を完成させるに至った。即ち、本発明は次の
通りである。第１の発明は、次式（Ｉ）：

【０００５】

【化４】

【０００６】（式中、Ｒ^１は低級アルキル基を表し；Ｒ
^２，Ｒ^３は互いに独立して低級アルキル基を表し；或い
は又、Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合し，これらが結合した
Ｎと共にシクロアミノ基を表し；Ｘは酸素原子又は硫黄
原子を表し；ＺはＣＨ又はＮを表す。）で示されるアル
キルアミノスルホンアミド誘導体に関するものである。
第２の発明は、次式（ＩＩ）：

【０００７】

【化５】

【０００８】（式中、Ｒ^１，Ｘ及びＺは前記の記載と同
義である。）で示される化合物と次式（ＩＩＩ）：

【０００９】

【化６】

【００１０】（式中、Ｒ^２及びＲ^３は前記の記載と同義
であり；Ｍはアルカリ金属を表す。）で示される化合物
とを反応させることを特徴とする前記記載の式（Ｉ）で
示されるアルキルアミノスルホンアミド誘導体の製造法
に関するものである。第３の発明は、前記記載の式
（Ｉ）で示されるアルキルアミノスルホンアミド誘導体
を有効成分とする除草剤に関するものである。

【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。前記の目
的化合物である新規なアルキルアミノスルホンアミド誘
導体〔化合物（Ｉ）〕及びその製造原料〔化合物（Ｉ
Ｉ）〜化合物（Ｖ）〕において、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，
Ｘ，Ｚ及びＭは次の通りである。

【００１２】Ｒ^１としては、炭素原子数１〜６個の直鎖
状又は分岐状のアルキル基を挙げることができるが；好
ましくは１〜４個のものがよく；さらに好ましくは２〜
４個のもの（例えば、エチル基，ｎ−プロピル基，ｉ−
プロピル基，ｔ−ブチル基など）がよい。

【００１３】Ｒ^２としては、炭素原子数１〜６個の直鎖
状又は分岐状のアルキル基を挙げることができるが；好
ましくは１〜３個のものがよく；さらに好ましくはメチ
ル基などがよい。

【００１４】Ｒ^３としては、炭素原子数１〜６個の直鎖
状又は分岐状のアルキル基を挙げることができるが；好
ましくは１〜３個のものがよく；さらに好ましくはメチ
ル基などがよい。或いは又、Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合
し，これらが結合したＮと共に炭素原子数２〜１０個の
シクロアミノ基を表すことができ；炭素原子数は好まし
くは２〜７個、さらに好ましくは２〜５個のもの（例え
ば、ピペリジル基など）がよい。

【００１５】Ｘとしては、酸素原子，硫黄原子などを挙
げることができる。Ｚとしては、ＣＨ，Ｎなどを挙げる
ことができる。Ｍとしては、ナトリウム金属，カリウム
金属を挙げることができる。

【００１６】目的化合物である新規なアルキルアミノス
ルホンアミド誘導体〔化合物（Ｉ）〕としては、不斉炭
素原子に基づく光学異性体も挙げることができる。化合
物（Ｉ）は、例えば、以下に示す製造法１又は２によっ
て製造することができる。（製造法１）

【００１７】

【化７】

【００１８】（式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｘ，Ｚ及びＭ
は前記の記載と同義である。）化合物（Ｉ）は、通常、
化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＩＩ）とを溶媒中で反応さ
せることによって製造することができる。化合物（Ｉ
Ｉ）は、対応するカルボン酸と市販のＮ，Ｎ−カルボニ
ルジイミダゾールとをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，
ジエチルエーテル，ジオキサン，ＴＨＦ，塩化メチレ
ン，クロロホルム，トルエンなどの溶媒中で反応させる
ことによって製造することができる。

【００１９】化合物（ＩＩ）としては、例えば、表１及
び２中に示した化合物１〜８に対応した各置換基の種類
からなる各化合物（ＩＩ）〔各々、化合物（ＩＩ）_１〜
（ＩＩ）_８と称する。例えば、化合物（ＩＩ）_１とは化
合物（ＩＩ）におけるＲ^１がｎ−Ｃ_３Ｈ_７、Ｘが硫黄原
子、ＺがＣＨであることを意味する。〕を挙げることで
きる。

【００２０】化合物（ＩＩＩ）は、市販品のスルホンア
ミド及び実験化学講座（丸善），ＩＩＩ巻，１８０６頁
に記載の方法などによって製造したスルホニルクロライ
ドとアンモニアとを反応させることによって得ることが
できるスルホンアミドとアルカリ水溶液（又はアルカリ
金属アルコキサイド）とを反応させることによって製造
することができる。

【００２１】化合物（ＩＩＩ）としては、例えば、表１
及び２中に示した化合物１〜８中に対応した各置換基の
種類からなる各化合物（ＩＩＩ）〔各々、化合物（ＩＩ
Ｉ）_１〜（ＩＩＩ）_８と称する。例えば、化合物（ＩＩ
Ｉ）_１とは化合物（ＩＩＩ）におけるＲ^２及びＲ^３がＣ
Ｈ_３、Ｍはアルカリ金属であることを意味する。〕を挙
げることできる。

【００２２】化合物（Ｉ）の合成で用いる溶媒として
は、本反応に直接関与しないものであれば特に限定され
ず、例えば、ジエチルエーテル，テトラヒドロフラン，
ジオキサンなどのエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド，ジメチルスルホキシドなどの双極性非プロトン
溶媒類；アセトニトリルなどのニトリル類；それらの混
合溶媒などを挙げることができる。

【００２３】化合物（Ｉ）の製造法は、反応濃度が５〜
８０％で行うことができる。その製造法において、原料
の化合物（ＩＩ）と（ＩＩＩ）とを用いる割合は、化合
物（ＩＩ）１モルに対して、化合物（ＩＩＩ）０．５〜
２モルの割合で加えることがでるが、好ましくは１〜
１．５モルがよい。

【００２４】その反応温度は、使用する溶媒の沸点以下
で行う限り特に限定されないが、通常、−５〜３０℃で
行うことができる。その反応時間は、前記の濃度、温度
によって変化するが、通常１〜２４時間で行うことがで
きる。（製造法２）

【００２５】

【化８】

【００２６】（式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｘ及びＺは前
記の記載と同義である。）化合物（Ｉ）は、通常、原料の化合物（ＩＶ）と化合物
（Ｖ）とを、脱水縮合剤存在下、溶媒中で反応させるこ
とによって製造することができる。化合物（ＩＶ）は、
例えば、特開平２−８５２６２号記載の方法で製造する
ことができる。

【００２７】化合物（ＩＶ）としては、例えば、表１及
び２中に示した化合物１〜８中に対応した各置換基の種
類からなる各化合物（ＩＶ）〔各々、化合物（ＩＶ）_１
〜（ＩＶ）_８と称する。例えば、化合物（ＩＶ）_３とは
化合物（ＩＶ）におけるＲ^１がｉ−Ｃ_３Ｈ_７、Ｘが硫黄
原子、ＺがＣＨであることを意味する。〕を挙げること
できる。

【００２８】化合物（Ｖ）は、市販品，又は前記の製造
法１に記載の方法によって合成したスルホニルクロライ
ドとアンモニアとを反応させることによって製造するこ
とができる。化合物（Ｖ）としては、例えば、表１及び
２中に示した化合物１〜８中に対応した各置換基の種類
からなる各化合物（Ｖ）〔各々、化合物（Ｖ）_１〜
（Ｖ）_８と称する。例えば、化合物（Ｖ）_３とは化合物
（Ｖ）におけるＲ^２及びＲ^３がＣＨ_３であることを意味
する。〕を挙げることできる。

【００２９】脱水縮合剤としては、ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド（ＤＣＣ），１−エチル−３−（３−ジメ
チルアミノプロピル）カルボジイミドハイドロクロラ
イド（同人化学研究製の商品名；ＷＳＣ）などを挙げる
ことができる。化合物（Ｉ）の合成で用いる溶媒として
は、本反応に直接関与しないものであれば特に限定され
ず、例えば、ジエチルエーテル，テトラヒドロフラン，
ジオキサンなどのエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド，ジメチルスルホキシドなどの双極性非プロトン
溶媒類；アセトニトリルなどのニトリル類；塩化メチレ
ン，クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼ
ン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水素類などを
挙げることができる。

【００３０】化合物（Ｉ）の製造法は、反応濃度が５〜
８０％で行うことができる。その製造法において、化合
物（ＩＶ）と化合物（Ｖ）とを用いる割合は、化合物
（ＩＶ）の１モルに対して化合物（Ｖ）を０．５〜２モ
ル、好ましくは１〜１．５モルがよい。その反応温度
は、使用する溶媒の沸点以下で行う限り特に限定されな
いが、通常、１０〜６０℃で行うことができる。その反
応時間は、前記の濃度，温度によって変化するが、通
常、１〜２４時間で行うことができる。

【００３１】これらの製造法１又は２で製造した化合物
（Ｉ）としては、例えば、表１及び２中に示した化合物
１〜８を挙げることできる〔例えば、化合物３とは化合
物（Ｉ）におけるＲ^１がｉ−Ｃ_３Ｈ_７、Ｒ^２及びＲ^３が
ＣＨ_３、Ｘが硫黄原子、ＺがＣＨであることを意味す
る。〕。

【００３２】化合物（Ｉ）を有効成分とする除草剤は、
ワタなどに高い選択性を有し、かつ優れた除草効果を示
すものである。即ち、本発明の除草剤は、水田，畑など
に発生する一年生雑草及び多年生雑草に対して優れた除
草効果を示し、その除草効果は、特に、一年生の禾本科
雑草（例えば、メヒシバ，ノビエ，エノコログサな
ど），一年生の広葉雑草（例えば、アサガオ，シロザ，
イヌビユ，イチビ，オナモミなど）及び多年生雑草（例
えば、ジョンソングラス，ホタルイ，ミズガヤツリな
ど）で顕著である。

【００３３】また、本発明の除草剤は、前記の雑草に対
して優れた除草効果を示すが、そのような処理濃度では
畑作物（例えば、ワタなど）に対して殆ど薬害を示さな
いものである。本発明の除草剤は、化合物（Ｉ）の１種
以上を有効成分として含有するものである。化合物
（Ｉ）は、単独で使用することもできるが、通常は常法
によって、担体，界面活性剤，分散剤，補助剤などを配
合（例えば、粉剤，乳剤，微粒剤，粒剤，水和剤，油性
の懸濁液，エアゾールなどの組成物として調製する。）
して使用することが好ましい。

【００３４】担体としては、例えば、タルク，雲母，ベ
ントナイト，クレー，カオリン，ケイソウ土，ホワイト
カーボン，バーミキュライト，ドロマイト，ゼオライ
ト，消石灰，ケイ砂，無水ケイ酸，硫安，尿素，木粉，
澱粉，セルロースなどの固体担体；炭化水素（ケロシ
ン，鉱油など），芳香族炭化水素（ベンゼン，トルエ
ン，キシレンなど），塩素化炭化水素（クロロホルム，
四塩化炭素など），エーテル類（ジオキサン，テトラヒ
ドロフランなど），ケトン類（アセトン，シクロヘキサ
ノン，イソホロンなど），エステル類（酢酸エチル，エ
チレングリコールアセテート，マレイン酸ジブチルな
ど），アルコール類（メタノール，ｎ−ヘキサノール，
エチレングリコールなど），極性溶媒（ジメチルホルム
アミド，ジメチルスルホキシドなど），水などの液体担
体；空気，窒素，炭酸ガス，フレオンなどの気体担体
（この場合には、混合噴射することができる）などを挙
げることがでる。

【００３５】本剤の植物への付着，吸収の向上，薬剤の
分散，乳化，展着などの性能を向上させるために使用で
きる界面活性剤としては、非イオン系，陰イオン系，陽
イオン系，両性イオン系などの界面活性剤（例えば、ア
ルコール硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、リグ
ニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエー
テルなど）を挙げることができる。そして、その製剤の
性状を改善するためには、カルボキシメチルセルロー
ス，ポリエチレングリコール，アラビアゴムなどを補助
剤として用いることができる。本剤の製造では、前記の
担体，界面活性剤，分散剤，補助剤などの他に、その他
の農薬（殺菌剤，殺虫剤など），肥料，土壌改良剤など
をそれぞれの目的に応じて、各々単独で又は適当に組み
合わせて使用することができる。

【００３６】本発明の化合物（Ｉ）を製剤化した場合の
有効成分濃度は、乳剤では通常１〜５０重量％，粉剤で
は通常０．３〜２５重量％，水和剤では通常１〜９０重
量％，粒剤では通常０．５〜５重量％，油剤では通常
０．５〜５重量％，エアゾールでは通常０．１〜５重量
％である。これらの製剤を適当な濃度に希釈して、それ
ぞれの目的に応じて、植物茎葉，土壌，水田の水面に散
布するか、又は直接施用することによって各種の用途に
供することができる。

【００３７】

【実施例】以下、本発明を実施例によって示す。なお、
これらの実施例は、本発明の範囲を限定するものではな
い。実施例１（１）２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）チオ−３，３−ジメチル−Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノ）スルホニルブタン酸アミド（化合物６）の合成（製造法１）に記載の方法によって化合物（Ｉ）を合成
した。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（１０ｍｌ）
にナトリウムＮ，Ｎ−ジメチルアミノスルホンアミド
（１．４６ｇ、０．０１ｍｏｌ）を懸濁し、１−〔２−
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）チオ−
３，３−ジメチルブチリル〕イミダゾール（３．３６
ｇ、０．１ｍｏｌ）を溶解したＤＭＦ溶液（１０ｍｌ）
を０℃で滴下した。滴下終了後、０℃で２時間攪拌した
後、室温（２０℃）で３時間攪拌した。

【００３８】得られた反応液に飽和クエン酸水溶液（３
０ｍｌ）を加えて酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を
飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、酢酸エ
チルを減圧下で留去して得られた残渣をカラムクロマト
グラフィー（洞海化学工業社製のＭｓｇｅｌＤ−１
５０−６０Ａ、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル：メタノール
＝１：１：０．０５溶出）によって単離し、白色の結
晶である目的化合物を２．９４ｇ（収率は７５％）得
た。

【００３９】（２）２−（４，６−ジメトキシピリミジ
ン−２−イル）チオ−Ｎ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）
スルホニル−３−メチルブタン酸アミド（化合物３）の
合成（製造法２）に記載の方法によって化合物（Ｉ）を合成
した。塩化メチレン（２０ｍｌ）にＮ，Ｎ−ジメチルアミノス
ルホンアミド（１．４６ｇ、０．０１ｍｏｌ）と２−
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）チオ−３
−メチルブタン酸（２．７２ｇ、０．１ｍｏｌ）とを溶
解した。さらに、１−エチル−３−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）カルボジイミドハイドロクロライド（同
人化学研究製の商品名；ＷＳＣ）（１．９１ｇ、０．１
ｍｏｌ）を加え、室温（２０℃）で２時間攪拌した。

【００４０】反応液を水で水洗後、硫酸ナトリウムで乾
燥し、塩化メチレンを減圧下で留去した。得られた残渣
をカラムクロマトグラフィー（和光純薬製のワコーゲル
Ｃ−２００、トルエン：酢酸エチル＝９：１溶出）に
よって単離し、白色の油状物である目的化合物を３．０
ｇ（収率は８０％）得た。

【００４１】（３）表１及び２中のその他の化合物
（Ｉ）の合成前記のいずれかの合成方法に準じて、表１及び２中に示
したような目的化合物（Ｉ）を得た。

【００４２】

【表１】

【００４３】

【表２】

【００４４】実施例２（１）〔粒剤の調製〕化合物１を８重量部、ベントナイト３０重量部、タルク
５９重量部、ネオペレックスパウダー（商品名；花王株
式会社製）１重量部及びリグニンスルホン酸ソーダ２重
量部を均一に混合し、次いで少量の水を添加して混練し
た後、造粒，乾燥して粒剤を得た。

【００４５】（２）〔水和剤の調製〕化合物２を５０重量部、カオリン４６重量部、ネオペレ
ックスパウダー（商品名；花王株式会社製）２重量部及
びデモールＮ（商品名；花王株式会社製）２重量部を均
一に混合し、次いで粉砕して水和剤を得た。

【００４６】（３）〔乳剤の調製〕化合物３を３０重量部、キシレン６０重量部、ジメチル
ホルムアミド５重量部及びソルポール３００５Ｘ（商品
名；東邦化学工業製）５重量部を加えて均一に混合し、
溶解して乳剤を得た。

【００４７】（４）〔粉剤の調製〕化合物６を５重量部、タルク５０重量部及びクレー４５
重量部を均一に混合して粉剤を得た。

【００４８】実施例３（１）〔水田除草試験〕１／５０００アールのワグネルポットに宇部土壌（沖積
埴壌土）を充填し、雑草（ノビエ，ホタルイ，ミズガヤ
ツリ）の種子又は塊茎を植え、水を加えて水深３ｃｍの
湛水状態にした。実施例２に準じて調製した表１及び２
に示す目的化合物（Ｉ）の水和剤を、水で希釈し、ノビ
エ１葉期に、これらの各薬液中における化合物（Ｉ）の
有効濃度が２０ｇ／ａとなるようにピペットを用いて滴
下処理した。そして、平均気温２５℃のガラス室で３週
間管理した後に、それらの除草効果を調査した。薬剤効
果の評価は、無処理区の状態と比較して、６段階〔０：
無害（正常発育），１：僅少害，２：小害，３：中害，
４：大害，５：完全枯死）で示した。その結果を表３に
示す。

【００４９】

【表３】

【００５０】（２）〔畑作土壌処理試験〕１／５０００アールのワグネルポットに宇部土壌（沖積
埴壌土）を充填し、ワタ，メヒシバ，ノビエ，イチビ，
シロザ，イヌビユの種子を播種して覆土した。実施例２
に準じて調製した表１及び２に示す目的化合物（Ｉ）の
水和剤を、水で希釈し、これらの各薬液中における化合
物（Ｉ）の有効濃度が２０ｇ／ａとなるように各土壌表
層に均一に噴霧した。そして、平均気温２５℃のガラス
室で３週間管理した後に、それらの除草効果を調査し
た。その薬剤効果の判定結果を、前記の水田除草効果試
験（１）に記載の評価方法で、表４に示す。

【００５１】

【表４】

【００５２】（３）〔畑作茎葉処理試験〕１／５０００アールのワグネルポットに火山灰土壌を充
填し、ワタ，イチビ，アサガオ，オナモミの種子を播種
して覆土し、２週間育成した。実施例２に準じて調製し
た表１及び２に示す目的化合物（Ｉ）の水和剤を、展着
剤であるネオステリン（クミアイ化学社製）（５００ｐ
ｐｍ）を含む水で２０００ｐｐｍに希釈し、前記の各植
物体に均一に噴霧した。そして、平均気温２５℃のガラ
ス室で３週間管理した後に、それらの除草効果を調査し
た。その薬剤効果の判定結果を、前記の水田除草効果試
験（１）に記載の評価方法で、表５に示す。

【００５３】

【表５】

【００５４】

【発明の効果】本発明の新規なアルキルアミノスルホン
アミド誘導体は、一年生の禾本科雑草，一年生の広葉雑
草，多年生雑草年生などに対して優れた除草効果を有
し、また、ワタなどの作物に対して選択性を有する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者白石郁雄山口県宇部市大字小串1978番地の５宇部興産株式会社宇部研究所内 (72)発明者葉山孝司山口県宇部市大字小串1978番地の５宇部興産株式会社宇部研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】次式：【化１】（式中、Ｒ^１は低級アルキル基を表し；Ｒ^２，Ｒ^３は互
いに独立して低級アルキル基を表し；或いは又、Ｒ^２と
Ｒ^３とが互いに結合し，これらが結合したＮと共にシク
ロアミノ基を表し；Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表し；
ＺはＣＨ又はＮを表す。）で示されるアルキルアミノス
ルホンアミド誘導体。
【請求項２】次式：【化２】（式中、Ｒ^１，Ｘ及びＺは請求項１の記載と同義であ
る。）で示される化合物と次式：【化３】（式中、Ｒ^２及びＲ^３は請求項１の記載と同義であり；
Ｍはアルカリ金属を表す。）で示される化合物とを反応
させることを特徴とする請求項１記載の式（Ｉ）で示さ
れるアルキルアミノスルホンアミド誘導体の製造法。
【請求項３】請求項１記載の式（Ｉ）で示されるアル
キルアミノスルホンアミド誘導体を有効成分とする除草
剤。