JPH0529099B2 - - Google Patents
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- JPH0529099B2 JPH0529099B2 JP61098936A JP9893686A JPH0529099B2 JP H0529099 B2 JPH0529099 B2 JP H0529099B2 JP 61098936 A JP61098936 A JP 61098936A JP 9893686 A JP9893686 A JP 9893686A JP H0529099 B2 JPH0529099 B2 JP H0529099B2
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、平行光で被露光体に移動露光する露
光装置に関し、特に均一な積算光量と広い照射面
積が得られる平行光移動型露光装置に関する。
光装置に関し、特に均一な積算光量と広い照射面
積が得られる平行光移動型露光装置に関する。
印刷製版、あるいは印刷回路板等の露光焼付を
行なう場合、印刷マスクの画線が上記のワークへ
精密に再生されなければならない。このためには
露光装置として平行光を用いるのが望ましく、従
来は第４図イに示すような深いパラボラ型の放物
面鏡１０１内に点光源１０３とその直下に一枚の
遮光片１０２とを設けて、この遮光片１０２を球
面形状とし直射を反射または吸収除去して平行光
のみを得るとともに、この際必然的に生ずる遮光
片１０２の照射面に生ずる影像によつて、照射面
積を限定し、そこを通過するマスクやワークなど
の被露光体のいずれの部分も常に一定の光量で露
光されるようにしたものであつた。
行なう場合、印刷マスクの画線が上記のワークへ
精密に再生されなければならない。このためには
露光装置として平行光を用いるのが望ましく、従
来は第４図イに示すような深いパラボラ型の放物
面鏡１０１内に点光源１０３とその直下に一枚の
遮光片１０２とを設けて、この遮光片１０２を球
面形状とし直射を反射または吸収除去して平行光
のみを得るとともに、この際必然的に生ずる遮光
片１０２の照射面に生ずる影像によつて、照射面
積を限定し、そこを通過するマスクやワークなど
の被露光体のいずれの部分も常に一定の光量で露
光されるようにしたものであつた。
しかしながら、上記従来の技術においては下記
のような問題点があつた。第１に、反射を用いる
遮光片１０２では、光源１０３が理想の点光源で
はないことなどによる乱反射が生じ、平行光を乱
してしまうという欠点があつて実用にならなかつ
た。第２に、最適に直射を遮光し、かつ最適に積
算光量を得るための遮光片１０２は、その大きさ
と形状と光源からの配置とが互いに複雑に影響し
あつて、設計、調整が容易でなかつた。第３に、
点光源１０３は現実には点ではなく大きさや深さ
を有していて完全なる平行光でないために、正確
な露光面積を得るためには遮光片１０２を被露光
体に、より近づけなければならなかつた。このた
め直射光の遮光範囲が狭くなり、被露光体が直射
を避けるためには、被露光体を遮光片１０２から
遠ざけるか、またはおよび遮光片１０２を大きく
する必要があつた。以上の対策はいずれも光源１
０３の利用効率を低下させることとなつた。第４
に光源の利用効率が低いことから、光の収束率の
良い深いパラボラ型の放物面鏡を使用せざるを得
なくなつた。深いパラボラ型の放物面鏡１０１を
使用すると、第４図に示すように強弱の起伏の激
しい照度分布となり、積算光量の算出をむずかし
くし、利用できる露光面積を狭くしていた。
のような問題点があつた。第１に、反射を用いる
遮光片１０２では、光源１０３が理想の点光源で
はないことなどによる乱反射が生じ、平行光を乱
してしまうという欠点があつて実用にならなかつ
た。第２に、最適に直射を遮光し、かつ最適に積
算光量を得るための遮光片１０２は、その大きさ
と形状と光源からの配置とが互いに複雑に影響し
あつて、設計、調整が容易でなかつた。第３に、
点光源１０３は現実には点ではなく大きさや深さ
を有していて完全なる平行光でないために、正確
な露光面積を得るためには遮光片１０２を被露光
体に、より近づけなければならなかつた。このた
め直射光の遮光範囲が狭くなり、被露光体が直射
を避けるためには、被露光体を遮光片１０２から
遠ざけるか、またはおよび遮光片１０２を大きく
する必要があつた。以上の対策はいずれも光源１
０３の利用効率を低下させることとなつた。第４
に光源の利用効率が低いことから、光の収束率の
良い深いパラボラ型の放物面鏡を使用せざるを得
なくなつた。深いパラボラ型の放物面鏡１０１を
使用すると、第４図に示すように強弱の起伏の激
しい照度分布となり、積算光量の算出をむずかし
くし、利用できる露光面積を狭くしていた。
本発明は上記問題点を解決するものであつて、
露光面積が大きく取れ、被露光体を光源により近
づけることができ、さらに設計製作のし易い平行
光移動型露光装置を提供することを目的とする。
露光面積が大きく取れ、被露光体を光源により近
づけることができ、さらに設計製作のし易い平行
光移動型露光装置を提供することを目的とする。
本発明の上記目的の達成手段は、放物面鏡また
は近似の反射鏡の反射光によつて平行光を得る光
源を備え、光源と被露光体とを相対的に移動して
露光する露光装置であつて、前記被露光体に対し
て前記光源からの直射を防止する第１の遮光体
と、前記被露光体の各部の積算光量を均一な所定
値とする第２の遮光体とを備えた平行光移動型露
光装置である。
は近似の反射鏡の反射光によつて平行光を得る光
源を備え、光源と被露光体とを相対的に移動して
露光する露光装置であつて、前記被露光体に対し
て前記光源からの直射を防止する第１の遮光体
と、前記被露光体の各部の積算光量を均一な所定
値とする第２の遮光体とを備えた平行光移動型露
光装置である。
第１の遮光体は平行光を得るだけの作用をなす
ものであるから、光源近くに最適な大きさで最適
に配置することが可能になり、直射光を広範囲に
遮光できるので被露光体を光源に近づけることが
できる。また第２の遮光体は移動露光時の被露光
体の各部に均一な積算光量を与える最適な形状と
必要最少の大きさで被露光体の近くに配置するこ
とが可能になり、露光面積を大きくすることが可
能になる。このように本発明では２つの機能要素
が独立しているので設計、調整が容易なものとな
る。また被露光体が光源に近づき、露光面積が大
きくなる結果、光源の利用効率が高くなる。また
光源の利用効率が高くなり、かつ広範囲に直射を
遮光できるので、浅いパラボラ型の放物面鏡の使
用が可能になり、照度分布が改善されて積算光量
の均一度を高めることができる。
ものであるから、光源近くに最適な大きさで最適
に配置することが可能になり、直射光を広範囲に
遮光できるので被露光体を光源に近づけることが
できる。また第２の遮光体は移動露光時の被露光
体の各部に均一な積算光量を与える最適な形状と
必要最少の大きさで被露光体の近くに配置するこ
とが可能になり、露光面積を大きくすることが可
能になる。このように本発明では２つの機能要素
が独立しているので設計、調整が容易なものとな
る。また被露光体が光源に近づき、露光面積が大
きくなる結果、光源の利用効率が高くなる。また
光源の利用効率が高くなり、かつ広範囲に直射を
遮光できるので、浅いパラボラ型の放物面鏡の使
用が可能になり、照度分布が改善されて積算光量
の均一度を高めることができる。
本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示す縦断面図であ
る。光源ランプ１は放物面鏡２の焦点に位置し、
これらはランプハウス３に収容される。ランプの
上部口金１ａおよび導線は放物面鏡２の凹部中央
の開口を通じ、更にランプハウス３の上端の開口
３ａを経て外部に導びかれる。ランプの下部口金
１ｂおよび導線は直下に設けられる第１の遮光体
４と共に適宜な支持杆によつてランプハウス３を
通じて外部に導く。ランプハウスの開口３ａは換
気冷却用の空気排出口を兼ねている。第１の遮光
体４はマスク６、ワーク７に対し直射を防止し、
平行光のみを露光する。第１の遮光体４の表面に
は、カーボン粒子等の光の吸収体を塗付し乱反射
を防止する。そのための温度上昇に対しては横方
向よりフアン等で空気を吹き付ける。マスク６の
近傍には第２の遮光体５がマスク６に相対して配
置され、適宜な支持杆でランプハウス３に支持さ
れている。本実施例では浅いパラボラ型の放物面
鏡を使用するので露光域外への放射光があり、こ
れが散乱しないように放物面鏡２の周辺部には、
この放射光を遮蔽吸収する筒状体８を設ける。こ
のことによりマスク６、ワーク７に対する露光
は、放物面鏡２の反射光のみとなり、ほぼ平行光
とすることができ、散乱光の影響による像鮮度の
低下を小さくする。浅いパラボラ型の放物面鏡２
を用いた結果は、第３図イ，ロに示すように従来
に比べより強弱起伏の少ない照度分布となり、広
い露光面積が利用できるとともに、積算光量の測
定、積算が容易になり、各部の積算光量の均一度
を高め得る。
る。光源ランプ１は放物面鏡２の焦点に位置し、
これらはランプハウス３に収容される。ランプの
上部口金１ａおよび導線は放物面鏡２の凹部中央
の開口を通じ、更にランプハウス３の上端の開口
３ａを経て外部に導びかれる。ランプの下部口金
１ｂおよび導線は直下に設けられる第１の遮光体
４と共に適宜な支持杆によつてランプハウス３を
通じて外部に導く。ランプハウスの開口３ａは換
気冷却用の空気排出口を兼ねている。第１の遮光
体４はマスク６、ワーク７に対し直射を防止し、
平行光のみを露光する。第１の遮光体４の表面に
は、カーボン粒子等の光の吸収体を塗付し乱反射
を防止する。そのための温度上昇に対しては横方
向よりフアン等で空気を吹き付ける。マスク６の
近傍には第２の遮光体５がマスク６に相対して配
置され、適宜な支持杆でランプハウス３に支持さ
れている。本実施例では浅いパラボラ型の放物面
鏡を使用するので露光域外への放射光があり、こ
れが散乱しないように放物面鏡２の周辺部には、
この放射光を遮蔽吸収する筒状体８を設ける。こ
のことによりマスク６、ワーク７に対する露光
は、放物面鏡２の反射光のみとなり、ほぼ平行光
とすることができ、散乱光の影響による像鮮度の
低下を小さくする。浅いパラボラ型の放物面鏡２
を用いた結果は、第３図イ，ロに示すように従来
に比べより強弱起伏の少ない照度分布となり、広
い露光面積が利用できるとともに、積算光量の測
定、積算が容易になり、各部の積算光量の均一度
を高め得る。
第２図は本発明の第２の遮光体の作用を説明す
る一実施例の上面から見た説明図である。本実施
例ではＯを移動中心して平行光源側を円周移動
し、その移動経路内にマスク６、ワーク７を載置
固定し、移動露光してその積算光量を何れの点に
おいても所定値となるようにする。そのためには
第２の遮光体５の形状を計算や各点に配置した積
算光量計による測定により調整決定する。
る一実施例の上面から見た説明図である。本実施
例ではＯを移動中心して平行光源側を円周移動
し、その移動経路内にマスク６、ワーク７を載置
固定し、移動露光してその積算光量を何れの点に
おいても所定値となるようにする。そのためには
第２の遮光体５の形状を計算や各点に配置した積
算光量計による測定により調整決定する。
以上の第１の遮光体４、第２の遮光体５のいず
れも各々独立な機能を果すので、その位置や形状
の決定は互いに他の機能に影響されることなく、
設計、調整によつて最適に行なうことができる。
れも各々独立な機能を果すので、その位置や形状
の決定は互いに他の機能に影響されることなく、
設計、調整によつて最適に行なうことができる。
本発明は上記実施例に限るものではなく本発明
の主旨に沿つて種々の実施態様を取り得る。第２
図では光源を移動したが被露光体を移動しても良
いし、直線移動でも良いことは勿論である。また
光源も点光源に限定するものではなく、線光源で
も可能である。この場合、反射鏡としては半割筒
状体とすればよい。反射鏡は放物面の他にそれと
近似のものでも良い。
の主旨に沿つて種々の実施態様を取り得る。第２
図では光源を移動したが被露光体を移動しても良
いし、直線移動でも良いことは勿論である。また
光源も点光源に限定するものではなく、線光源で
も可能である。この場合、反射鏡としては半割筒
状体とすればよい。反射鏡は放物面の他にそれと
近似のものでも良い。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、移動露光に
おける積算光量を均一にする第２の遮光体を設け
たので、第１の遮光体は光源に近づけて遮光範囲
を広くすることができた。その結果光源の利用効
率が高まり、浅い放物面鏡の使用が可能になると
ともに、広い露光面積が得られた。また第１の遮
光体と第２の遮光体とは独立の作用を果すので、
それぞれ設計製作が容易となつて、より均一な露
光が可能になつた。
おける積算光量を均一にする第２の遮光体を設け
たので、第１の遮光体は光源に近づけて遮光範囲
を広くすることができた。その結果光源の利用効
率が高まり、浅い放物面鏡の使用が可能になると
ともに、広い露光面積が得られた。また第１の遮
光体と第２の遮光体とは独立の作用を果すので、
それぞれ設計製作が容易となつて、より均一な露
光が可能になつた。
第１図は本発明の一実施例を示す縦断面図、第
２図は本発明の第２遮光体を説明する実施例の説
明図、第３図イ，ロは本実施例の照度分布を示す
縦断面図と露光面図、第４図イ，ロは従来例とそ
の照度分布を示す縦断面図と露光面図。 １……光源、２……放物面鏡、４……第１の遮
光体、５……第２の遮光体、６……マスク（被露
光体）、７……ワーク（被露光体）。
２図は本発明の第２遮光体を説明する実施例の説
明図、第３図イ，ロは本実施例の照度分布を示す
縦断面図と露光面図、第４図イ，ロは従来例とそ
の照度分布を示す縦断面図と露光面図。 １……光源、２……放物面鏡、４……第１の遮
光体、５……第２の遮光体、６……マスク（被露
光体）、７……ワーク（被露光体）。
１ 写真記録したマイクロフイルムを後方から照
明して、該マイクロフイルムの画像を結像レンズ
により複製用写真フイルムに投影して複写するマ
イクロフイルム複製装置において、 照明ランプ、該照明ランプの放射光を集め、拡
大結像する第１集光レンズ系、該第１集光レンズ
系の結像位置に配置された散光部材、および該散
光部材により所定形状に散光された照明光束を集
光する第２集光レンズ系から形成し、 上記第２集光レンズ系で集光された照明光束を
拡大して上記結像レンズの有効口径全域にわたり
均一光量をもつて入射するようにしたことを特徴
とするマイクロフイルム複製用光源装置。
明して、該マイクロフイルムの画像を結像レンズ
により複製用写真フイルムに投影して複写するマ
イクロフイルム複製装置において、 照明ランプ、該照明ランプの放射光を集め、拡
大結像する第１集光レンズ系、該第１集光レンズ
系の結像位置に配置された散光部材、および該散
光部材により所定形状に散光された照明光束を集
光する第２集光レンズ系から形成し、 上記第２集光レンズ系で集光された照明光束を
拡大して上記結像レンズの有効口径全域にわたり
均一光量をもつて入射するようにしたことを特徴
とするマイクロフイルム複製用光源装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61098936A JPS62254137A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 平行光移動型露光装置 |
| US06/894,917 US4707773A (en) | 1986-04-28 | 1986-08-08 | Parallel light moving type exposure apparatus |
| DE3627136A DE3627136C2 (de) | 1986-04-28 | 1986-08-09 | Belichtungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61098936A JPS62254137A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 平行光移動型露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62254137A JPS62254137A (ja) | 1987-11-05 |
| JPH0529099B2 true JPH0529099B2 (ja) | 1993-04-28 |
Family
ID=14233006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61098936A Granted JPS62254137A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 平行光移動型露光装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4707773A (ja) |
| JP (1) | JPS62254137A (ja) |
| DE (1) | DE3627136C2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4907029A (en) * | 1988-08-11 | 1990-03-06 | Actinic Systems, Inc. | Uniform deep ultraviolet radiant source for sub micron resolution systems |
| US6334700B2 (en) * | 1996-01-23 | 2002-01-01 | Advanced Optical Technologies, L.L.C. | Direct view lighting system with constructive occlusion |
| US5915828A (en) * | 1997-02-03 | 1999-06-29 | Buckley; John | Motion picture lighting fixture |
| FI101138B (fi) * | 1997-02-06 | 1998-04-30 | Softeco Oy | Sovitelma tuulilasin välikalvon muotoilulaitteistossa |
| JP2001093197A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-04-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学的記録媒体製造装置 |
| AU2002331039A1 (en) * | 2001-08-09 | 2003-02-24 | Henkel Loctite Corporation | Continuous path, variable width light attenuation device for electromagnetic energy spot cure system |
| JP2004152015A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Digital Fashion Ltd | 画像処理装置、画像処理プログラム、そのプログラムを記録する記録媒体、画像処理方法、シェーディング情報取得装置及びデータ構造 |
| KR101016577B1 (ko) * | 2004-03-13 | 2011-02-22 | 삼성전자주식회사 | 노광 장치 및 방법 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH20828A (de) * | 1899-08-18 | 1901-03-31 | Paul Haenlein | Antriebsvorrichtung an Automobilen |
| US2198014A (en) * | 1937-07-22 | 1940-04-23 | Harry G Ott | Optical system |
| DE1067748B (de) * | 1956-05-05 | 1959-10-29 | Philips Nv | Scheinwerfer mit Spiegeloptik |
| DE6916241U (de) * | 1969-04-23 | 1969-08-28 | Wolf Gmbh Hermann | Flaechenbelichtungsgeraet fuer kopierzwecke |
| FR2434407A1 (fr) * | 1978-06-19 | 1980-03-21 | Ciba Geigy Ag | Lanterne d'eclairage pour obtention d'epreuves sur papier photographiques |
-
1986
- 1986-04-28 JP JP61098936A patent/JPS62254137A/ja active Granted
- 1986-08-08 US US06/894,917 patent/US4707773A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-08-09 DE DE3627136A patent/DE3627136C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3627136A1 (de) | 1987-10-29 |
| JPS62254137A (ja) | 1987-11-05 |
| DE3627136C2 (de) | 1994-03-03 |
| US4707773A (en) | 1987-11-17 |
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