DE3627136C2 - Belichtungsvorrichtung - Google Patents
BelichtungsvorrichtungInfo
- Publication number
- DE3627136C2 DE3627136C2 DE3627136A DE3627136A DE3627136C2 DE 3627136 C2 DE3627136 C2 DE 3627136C2 DE 3627136 A DE3627136 A DE 3627136A DE 3627136 A DE3627136 A DE 3627136A DE 3627136 C2 DE3627136 C2 DE 3627136C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- light
- exposed
- light source
- reflector
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Belichtungsvorrich
tung, die dazu geeignet ist, ein Material mit Parallel
licht zu belichten, und zwar in einer Art und Weise, bei
der entweder das Material oder das Parallellicht bzw.
die Parallelichtquellen bewegt werden. Insbesondere be
zieht sich die Erfindung auf eine mit sich bewegendem
Parallellicht arbeitende Belichtungsvorrichtung, die in
der Lage ist, eine gleichförmige kumulierte Lichtmenge
über einen großen Strahlungsbereich hinweg zu liefern.
Wenn ein Werkstück, wie beispielsweise eine gedruckte
Schaltung oder eine Platine belichtet und durch Lichter
bzw. Lampen gebacken oder erwärmt werden, so ist es not
wendig, daß ein Bild der Druckmaske mit hoher Präzision
auf dem Werkstück reproduziert wird. Aus diesem Grunde
ist es zweckmäßig, eine Belichtungsvorrichtung zu ver
wenden, die Parallellichter oder kurz Parallelicht verwen
det. Die übliche Belichtungsvorrichtung ist in Fig. 4A
gezeigt. Dabei wird ein parabolischer Reflektor 101 mit
einer großen Tiefe verwendet, wobei in diesem Reflektor
eine Punktlichtquelle 103 zusammen mit einem Lichtab
schirmglied 102 vorgesehen ist, welches rechts neben der
Lichtquelle 103 angeordnet ist. Das Lichtabschirmglied
102 ist sphärisch ausgebildet, um die direkte Strahlung
durch Reflexion oder Absorption zu entfernen, um so nur
parallele Lichtstrahlen oder paralleles Licht zu erhal
ten. Durch den auf einer Bestrahlungsebene zu dieser Zeit
durch das Lichtabschirmglied 102 erzeugten Schatten wird
diese Bestrahlungsebene begrenzt und jeder Punkt auf einem
zu belichtenden Material, wie beispielsweise eine Maske
oder ein Werkstück, welches durch die Bestrahlungsebene
läuft, wird stets einer speziellen Lichtmenge ausgesetzt.
Bei dem oben beschriebenen alten Verfahren treten je
doch die folgenden Probleme auf. Da das Lichtabschirm
glied 102 eine Reflexion ausnützt, wird als erstes eine
unregelmäßige Reflexion erzeugt, und zwar infolge der
Tatsache, daß die Lichtquelle 103 nicht eine ideale Punkt
lichtquelle 103 ist. Dies stört die parallelen Licht
strahlen. Aus diesem Grunde war die Anwendung in der
Praxis unmöglich. Zum zweiten ist das zum Abschirmen
der direkten Strahlung in optimaler Weise und zum Erhalt
einer optimalen kumulierten Lichtmenge geeignete Ab
schirmglied 102 nicht leicht zu konstruieren oder ein
zustellen, weil Größe, Form und Abstand, gemessen von
der Lichtquelle einander in komplizierter Weise beein
flussen. Drittens ist die Punktlichtquelle 103 in der
Tat keine Punktlichtquelle, sondern hat eine gewisse
Größe und eine gewisse Tiefe, so daß die erhaltenen
Lichtstrahlen nicht vollständig parallele Lichtstrahlen
sind. Aus diesem Grunde war es zum Erhalt einer genauen
Belichtungsfläche erforderlich, das Lichtabschirmglied
an einer Stelle dichter zu dem zu belichtenden Material
hin anzuordnen. Dies hatte eine Abnahme des Gebiets oder
Zone zur Folge, in dem die direkte Bestrahlung abge
schirmt ist. Um zu vermeiden, daß das Material die di
rekte Bestrahlung empfängt, war es notwendig, das zu be
lichtende Material an einer Stelle anzuordnen, die weiter
wegliegt gegenüber der Stelle oder Position des Licht
abschirmglieds 102 und/oder das Lichtabschirmglied 102
mußte größer ausgebildet werden. Diese Gegenmaßnahmen
bewirken jedoch eine Verminderung der Ausnutzungseffe
zienz, mit der die Lichtquelle 103 verwendet werden kann.
Viertens und letztens macht es die Abnahme der Licht
quellenausnutzungseffizienz notwendig, einen großen
tiefen Parabolreflektor zu verwenden. Die Verwendung
eines solchen eine große Tiefe aufweisenden Parabol
reflektors hat jedoch eine Beleuchtungsverteilung zur
Folge, bei der die Lichtintensität stark ungleichmäßig
ist, wie dies in Fig. 4 gezeigt ist. Dies macht es
schwer, die kumulierte Lichtmenge zu berechnen und
gleichzeitig die brauchbare Belichtungsfläche schmal
zu machen.
Die vorliegende Erfindung
sieht eine Lösung für die obenerwähnten Probleme vor,
die dem Stand der Technik anhaften, und das Ziel der Er
findung besteht darin, eine Belichtungsvorrichtung mit
einem sich parallel bewegenden Licht vorsehen, wobei eine
große Belichtungsfläche oder ein großes Belichtungsgebiet
vorgesehen wird, und wobei ferner das zu belichtende Ma
terial an einer Position dichter zur Positon einer Licht
quelle anordenbar ist, und wobei schließlich gleichzeitig
der Aufbau und die Herstellung der Belichtungsvorrichtung
leicht und kostengünstig vonstatten geht.
Um die obigen Ziele zu erreichen, wird
eine Belichtungsvorrichtung
gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1
mit den Merkmalen des kennzeichnenden Teils vorgesehen.
Das erste Lichtabschirmglied dient nur als Mittel zum
Erhalt parallelen Lichts oder paralleler Lichtstrahlen.
Dieses erste Lichtabschirmglied kann daher mit einer
optimalen Größe in einer optimalen Position angeordnet
werden, und zwar insbesondere nahe zur Lichtquelle. Dies
macht es möglich, die direkten Lichtstrahlen oder das
direkte Licht über einen großen Bereich hinweg abzu
schirmen.
Infolgedessen wird es möglich, das zu belichtende Ma
terial in einer Position dichter zur Lichtquelle anzu
ordnen. Ferner ist es möglich, das zweite Lichtab
schirmglied in einer Position dicht zum zu belichtenden
Material anzuordnen, und zwar
mit einer optimalen Form und einer erforderlichen minimalen Größe,
wobei sowohl Form und Größe dazu beitragen,
eine gleichmäßige kumulierte Lichtmenge auf irgendeinen
Teil des zu belichtenden Materials auftreffen zu lassen,
wenn das Material während der Bewegungsbelichtung dem
Licht ausgesetzt ist. Auf diese Weise ist es möglich,
die Belichtungsfläche oder das Belichtungsgebiet groß
zu machen. Erfindungsgemäß wird durch das Vorhandensein
von zwei Lichtabschirmgliedern mit unabhängigen Funktio
nen die Konstruktion bzw. der Aufbau und auch die Ein
stellung leichter. Da ferner das zu belichtende Material
nahe der Position der Lichtquelle angeordnet ist und die
Belichtungsfläche groß ist, wird die Ausnutzungseffizienz
der Lichtquelle hoch. Da andererseits die Lichtquellen
abnutzungseffizienz hoch wird und dennoch die direkte Be
strahlung über einen großen Bereich hinweg verhindert
werden kann, wird es möglich, einen eine geringe Wölbung oder kleine Tiefe be
sitzenden Parabolreflektor zu verwenden. Auf diese Weise
wird die Beleuchtungsverteilung verbessert, um so die
Gleichförmigkeit zu erhöhen, mit der parallele Licht
strahlen auf dem zu belichtenden Material kumuliert und
angesammelt werden.
Weitere Vorteile, Ziele und Einzelheiten der Erfindung er
geben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispie
len sowie auch des Standes der Technik; in der Zeichnung
zeigt
Fig. 1 einen Vertikalschnitt einer erfindungsgemäßen
Belichtungsvorrichtung der Bauart mit Parallel
licht oder Parallellichtquelle;
Fig. 2 eine Ansicht eines zweiten Lichtabschirmglieds
gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 3A und 3B eine Vertikalschnittansicht bzw. eine
Ansicht der Belichtungsebene der erfindungsge
mäßen Belichtungsvorrichtung, wobei die Beleuch
tungsverteilung dargestellt ist und
Fig. 4A und 4B einen Vertikalschnitt bzw. eine Ansicht der
Belichtungsebene einer bekannten Belichtungsvor
richtung, wobei die Beleuchtungsverteilung der
selben dargestellt ist.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsbeispiele der
Erfindung beschrieben. Fig. 1 ist ein Vertikalschnitt
einer erfindungsgemäßen Belichtungsvorrichtung der Bauart
mit einem sich bewegenden Parallellicht bzw. einer Parallel
lichtquelle bzw. Parallellichtstrahlen. Eine Lampe 1 bildet
eine Lichtquelle und ist an einer Stelle angeordnet, die
dem Brennpunkt eines Parabolreflektors entspricht. Die
Lampe 1 und der Reflektor 2 sind innerhalb eines Lampen
gehäuses 3 aufgenommen. Ein oberer Sockel 1a und ein Zu
leitungsdraht führt über eine Öffnung in der Mitte eines
Ausnehmungsteils des Parabolreflektors 2 nach außen, und
zwar durch eine Öffnung 3a am oberen Ende des Lampenge
häuses 3. Ein unteres Mundstück der Lampe 1 und ein Zu
leitungsdraht sind zusammen mit einem erstenLichtabschirm
glied 4 unmittelbar unterhalb der Lampe angeordnet; diese
Ausführung erfolgt dabei durch das Lampengehäuse 3 und die
Halterung durch geeignete Stangen oder Stäbe. Die Öffnung
3a des Lampengehäuses dient gleichzeitig auch als eine Luft
auslaßöffnung, die zur Ventilation und Kühlung verwendet
wird. Das erste Lichtabschirmglied 4 verhindert, daß
Licht von der Lichtquelle direkt auf eine Maske 6 und
ein Werkstück 7 strahlt, auf welche Weise nur die Belich
tung mit parallelem Licht gestattet wird. Das erste Licht
abschirmglied 4 ist mit einem Lichtabsorptionsmittel ver
sehen, wie beispielsweise Kohlenstoffteilchen, um so eine
unregelmäßigere Reflexion vom Glied 4 zu verhindern. Ein
Temperaturanstieg infolge der Aufbringung des Lichtab
sorptionsmittels wird dadurch kompensiert, daß man Luft
beispielsweise mittels eines Ventilators aus einer seitli
chen Richtung anblasen läßt. In der Nähe der Maske 6 ist
ein zweites Lichtabschirmglied 5 entgegengesetzt zur Mas
ke 6 angeordnet. Dieses zweite Lichtabschirmglied 5 wird
innerhalb des Lampengehäuses 3 mittels geeigneter Stäbe
oder Stangen getragen.
Da in diesem Ausführungsbeispiel ein eine geringe Wölbung oder kleine Tiefe
aufweisender Parabolreflektor verwendet wird, werden die
Lichtstrahlen von der Lichtquelle aus einer
Belichtungszone herausgestrahlt. Um zu verhindern, daß dieses
Licht oder diese Lichtstrahlen gestreut werden, ist ein
Zylinderglied 8 vorgesehen, welches dazu dient, solche
Lichtstrahlen abzuschirmen und zu absorbieren, wobei
dieses zylindrische Glied 8 am Außenumfang des Parabol
reflektors 2 vorgesehen ist. Infolgedessen werden Maske 6
und Werkstück 7 nur von den Lichstrahlen belichtet, die
vom Parabolreflektor 2 reflektiert werden. Das heißt
also, die Maske 6 und das Werkstück 7 werden nur von im
wesentlichen parallelem Licht oder parallelen Lichtstrah
len belichtet. Dies verhindert eine Verschlechterung
der Klarheit oder Schärfe des Bildes infolge der Einwir
kung des gestreuten Lichts. Die Verwendung des eine geringe Wölbung
oder kleine Tiefe aufweisenden Parabolreflektors 2 hat die
folgenden Vorteile: die Beleuchtungsverteilung ist weni
ger ungleichmäßig hinsichtlich der Lichtintensität als
dies beim Stand der Technik gemäß den Fig. 3A und 3B der
Fall ist. Es wird somit möglich, eine größere Belich
tungsfläche zu verwenden und gleichzeitig wird die Mes
sung der kumulierten Lichtmenge und der kumulierten
Lichtenergie einfacher, wodurch es möglich ist, die
Gleichförmigkeit zu erhöhen, mit der das Licht oder die
Lichtstrahlen auf den Punkten des Werkstücks kumuliert
werden.
Fig. 2 ist eine Ansicht eines zweiten Lichtabschirmglieds
gemäß der Erfindung von oben. Diese Ansicht sei zur Erläu
terung der Wirkungsweise dieses Gliedes besprochen. In
diesem Ausführungsbeispiel wird die Parallellichtquelle
umfangsmäßig um eine Mitte O bewegt, und auf diesem Bewe
gungspfad des Parallellichts oder der Parallellichtstrah
len sind die Maske 6 und das Werkstück 7 angeordnet und
derart befestigt, daß eine fortlaufende oder sich bewe
gende Belichtung von Maske und Werkstück bewirkt wird.
Dieser Vorgang zielt darauf hin, zu erreichen, daß die
an jedem Punkt der Belichtungsebene kumulierte Licht
menge einen bestimmten Wert annimmt. Zu diesem Zweck ist die
Form des zweiten Lichtabschirmglieds 5 bestimmt durch
die Berechnung der kumulierten Lichtmenge oder durch Mes
sung derselben unter Verwendung von kumulierenden Licht
mengen-Meßvorrichtungen, die an verschiedenen in
Frage kommenden Positionen angeordnet sind.
Aus der vorstehenden Beschreibung ergibt sich, daß das
erste Lichtabschirmglied 4 und das zweite Lichtabschirm
glied 5 ihre entsprechenden unabhängigen Funktionen aus
führen. Aus diesem Grund kann Position und Form dieser
Glieder nach den optimalen Verhältnissen bestimmt werden,
und zwar durch entsprechende Konstruktion oder Einstel
lung, ohne daß die eine Funktion durch die andere Funktion
beeinflußt wird.
Die Erfindung ist nicht auf die oben beschriebenen Aus
führungsbeispiele beschränkt, sondern läßt verschiedene
Abwandlungen zu. Beispielsweise wurde in Fig. 2 die Be
lichtung durch eine sich bewegende Lichtquelle ausge
führt. Die Erfindung gestattet jedoch auch eine Bewegung
des Materials zum Zwecke der Belichtung oder aber die
Lichtquelle oder das Werkstück können auch linear bewegt
werden.
Ferner ist die Lichtquelle nicht auf eine Punktlicht
quelle beschränkt, sondern es ist auch die Verwendung
einer Linear-Lichtquelle möglich. In diesem Falle kann
ein halbzylindrischer Reflektor als Reflektor verwendet
werden. Ferner ist der Reflektor nicht auf einen Parabol
reflektor beschränkt, sondern es kann auch ein ähnlich
ausgebildeter Reflektor eingesetzt werden.
Claims (3)
1. Belichtungsvorrichtung mit einer Lichtquelle (1), die
Parallellichtstrahlen durch Reflexion an einem parabolischen
oder ähnlich geformten Reflektor (2) erzeugt, wobei
die Lichtquelle (1) und ein zu belichtendes Material (7)
relativ zueinander bewegt werden, um die Belichtung auszuführen,
gekennzeichnet durch:
eine erste Lichtabschirmung (4), welche zwischen der Lichtquelle (1) und dem zu belichtenden Material (7) vorgesehen ist und das zu belichtende Material (7) vor nicht parallelen, direkten Lichtstrahlen von der Lichtquelle (1) abschirmt, und
eine zweite Lichtabschirmung (5), welche zwischen der ersten Lichtabschirmung (4) und dem zu belichtenden Material (7) vorgesehen ist und eine größere Fläche als die erste Lichtabschirmung (4) aufweist und diese vollständig gegenüber dem zu belichtenden Material (7) abdeckt, wobei die Fläche der zweiten Lichtabschirmung (5) entsprechend der Reflektorform so ausgebildet ist, daß eine gleichförmige Verteilung der zeitlich kumulierten Lichtmenge auf dem zu belichtenden Material (7) erreicht wird.
eine erste Lichtabschirmung (4), welche zwischen der Lichtquelle (1) und dem zu belichtenden Material (7) vorgesehen ist und das zu belichtende Material (7) vor nicht parallelen, direkten Lichtstrahlen von der Lichtquelle (1) abschirmt, und
eine zweite Lichtabschirmung (5), welche zwischen der ersten Lichtabschirmung (4) und dem zu belichtenden Material (7) vorgesehen ist und eine größere Fläche als die erste Lichtabschirmung (4) aufweist und diese vollständig gegenüber dem zu belichtenden Material (7) abdeckt, wobei die Fläche der zweiten Lichtabschirmung (5) entsprechend der Reflektorform so ausgebildet ist, daß eine gleichförmige Verteilung der zeitlich kumulierten Lichtmenge auf dem zu belichtenden Material (7) erreicht wird.
2. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Reflektor (2) in Richtung des zu
belichtenden Materials gerichtet ist und eine geringe
Wölbung aufweist und daß an dessen Außenumfang ein zylinderförmiges
Abschirmelement (8) vorgesehen ist, das
die nicht auf den Reflektor (2) treffenden Lichtstrahlen
abschirmt und absorbiert.
3. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Lichtabschirmung (5) nahe einer
Maske (6) für das zu belichtende Material (7) angeordnet
ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61098936A JPS62254137A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 平行光移動型露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3627136A1 DE3627136A1 (de) | 1987-10-29 |
DE3627136C2 true DE3627136C2 (de) | 1994-03-03 |
Family
ID=14233006
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3627136A Expired - Fee Related DE3627136C2 (de) | 1986-04-28 | 1986-08-09 | Belichtungsvorrichtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4707773A (de) |
JP (1) | JPS62254137A (de) |
DE (1) | DE3627136C2 (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4907029A (en) * | 1988-08-11 | 1990-03-06 | Actinic Systems, Inc. | Uniform deep ultraviolet radiant source for sub micron resolution systems |
US6334700B2 (en) * | 1996-01-23 | 2002-01-01 | Advanced Optical Technologies, L.L.C. | Direct view lighting system with constructive occlusion |
US5915828A (en) * | 1997-02-03 | 1999-06-29 | Buckley; John | Motion picture lighting fixture |
FI101138B (fi) * | 1997-02-06 | 1998-04-30 | Softeco Oy | Sovitelma tuulilasin välikalvon muotoilulaitteistossa |
JP2001093197A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-04-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学的記録媒体製造装置 |
AU2002331039A1 (en) * | 2001-08-09 | 2003-02-24 | Henkel Loctite Corporation | Continuous path, variable width light attenuation device for electromagnetic energy spot cure system |
JP2004152015A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Digital Fashion Ltd | 画像処理装置、画像処理プログラム、そのプログラムを記録する記録媒体、画像処理方法、シェーディング情報取得装置及びデータ構造 |
KR101016577B1 (ko) * | 2004-03-13 | 2011-02-22 | 삼성전자주식회사 | 노광 장치 및 방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH20828A (de) * | 1899-08-18 | 1901-03-31 | Paul Haenlein | Antriebsvorrichtung an Automobilen |
US2198014A (en) * | 1937-07-22 | 1940-04-23 | Harry G Ott | Optical system |
DE1067748B (de) * | 1956-05-05 | 1959-10-29 | Philips Nv | Scheinwerfer mit Spiegeloptik |
DE6916241U (de) * | 1969-04-23 | 1969-08-28 | Wolf Gmbh Hermann | Flaechenbelichtungsgeraet fuer kopierzwecke |
FR2434407A1 (fr) * | 1978-06-19 | 1980-03-21 | Ciba Geigy Ag | Lanterne d'eclairage pour obtention d'epreuves sur papier photographiques |
-
1986
- 1986-04-28 JP JP61098936A patent/JPS62254137A/ja active Granted
- 1986-08-08 US US06/894,917 patent/US4707773A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-08-09 DE DE3627136A patent/DE3627136C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62254137A (ja) | 1987-11-05 |
DE3627136A1 (de) | 1987-10-29 |
US4707773A (en) | 1987-11-17 |
JPH0529099B2 (de) | 1993-04-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2105259A1 (de) | Gerat fur die Röntgenstrahlenfotografie | |
DE2535144B2 (de) | Schlitzbeleuchtungseinrichtung für ein Kopiergerät | |
DE2246430C2 (de) | Verfahren zum Herstellen des Leuchtschirmes einer Kathodenstrahlröhre und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens | |
DE3627136C2 (de) | Belichtungsvorrichtung | |
DE2339594C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Bildschirmes einer Farbbild-Kathodenstrahlröhre | |
DE4420830A1 (de) | Medizinisches Röntgengerät, Bestrahlungsröhre, positionsanzeigendes medizinisches Gerät und Lichtquelle-Steuerschaltung zur Verwendung in Kombination mit den vorstehend genannten Vorrichtungen | |
DE3430395C2 (de) | ||
DE7330229U (de) | Vorrichtung zum einstellen der lage und groesse des bestrahlungsfeldes eines roentgengeraetes | |
DE2405979A1 (de) | Belichtungseinrichtung | |
DE2744140B2 (de) | Beleuchtungsvorrichtung für ärztliche, insbesondere zahnärztliche Zwecke | |
DE2514931C3 (de) | Fernsehaufnahmeröhre mit einer Zusatzbeleuchtungsanordnung | |
DE2829117C2 (de) | UV-Bestrahlungsgerät | |
DE2430653C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen eines photoleitfähigen Materials aus mindestens zwei Elementen auf ein Substrat | |
DE2421852A1 (de) | Geraet zum erzeugen von reproduktionen | |
DE3723129C2 (de) | Beleuchtungssystem für einen Schreibprojektor | |
DE635481C (de) | Verfahren zur Herstellung von Reflexkopien | |
EP0582253B1 (de) | Nachbehandlungsgerät für bildmässig belichtete Druckplatten | |
DE1134769B (de) | Vorrichtung zur Kompensation des OEffnungsfehlers einer rotations-symmetrischen, raumladungsfreien elektronenoptischen Linse | |
DE1294182B (de) | Blitzgeraet fuer mit einer Belichtungsregeleinrichtung ausgestattete fotografische Kameras | |
EP0090391B1 (de) | Vorrichtung zum Entwickeln von Lochkartenmikrofilmen | |
DE3510479C2 (de) | Verfahren zur nacheinanderfolgenden Belichtung kleiner Abschnitte eines Halbleiterwafers | |
DE1797441B2 (de) | Roehrenfoermige gluehlampe | |
DE6603111U (de) | Vorrichtung zur erhoehung der empfindlichkeit von tastkoepfen. | |
DE19541082A1 (de) | Vorrichtung zum Belichten der Innenfläche einer Farbkathodenstrahlröhre | |
DE1539354C3 (de) | Fuoreszenzstrahlungsquelle |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: G03B 27/10 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |