JPH05287179A - ポリエーテルエステルブロック共重合体組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 弾性回復性における温度依存性の改善された
ポリエーテルエステルブロック共重合体組成物を得るこ
と。 【構成】 ポリエーテルエステルブロック共重合体およ
びアルキル基及び／又はオキシアルキレン基及び芳香族
基を有するスルホン酸塩を含有することを特徴とするポ
リエーテルエステルブロック共重合体組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なポリエーテルエ
ステルブロック共重合体組成物に関し、更に詳しくは弾
性的性能が優れ、永久歪が少なく、特にその性能が７０
℃程度の温度下でも著しく低下しないことを特徴とする
熱可塑性ポリエーテルエステルブロック共重合体組成物
に関する。また本発明ポリエーテルエステルブロック共
重合体組成物は、優れた弾性回復性を有しており、その
性能の温度による低下が少なく、且つ熱可塑性であるた
めに、繊維はもとよりフイルム、シート、コーティング
剤、その他成形体或るいは、接着剤などに用いることが
出来る。特に弾性性質を必要とする部位の接着剤として
は有用であり、詰物内の繊維間接着剤に適している。こ
の様に利用分野は広く、衣料用途のみならず産業資材用
途及び自動車、電気用途等、各分野で利用されるもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来から弾性体素材としては、ゴムやポ
リウレタン等が使用されているが、これらは弾性回復と
いう点では優れた特性を有しているものの、難燃性やリ
サイクル性、或るいは燃焼時の有毒ガス発生等の問題が
ある。他方、近年になってポリエーテルエステルブロッ
ク共重合体が弾性体として使用され、このポリマーは比
較的良好な弾性的性能を示し、熱可塑性であるために溶
融紡糸や成形が可能であるというメリットがある。特に
資源再利用の観点からリサイクル性が益々重視され、よ
り注目される素材である。

【０００３】しかしながら前記ポリエーテルエステルブ
ロック共重合体は、ポリウレタンやゴムと異なり、ハー
ドセグメントの結晶によって分子鎖を拘束しているた
め、変形後の永久歪が大きかったり、弾性的性質が劣る
等の問題がある。特に、結晶相による分子鎖拘束故に、
弾性回復性の温度依存性が大きく、現在知られているポ
リエーテルエステルブロック共重合体では７０℃程度で
も長時間変形後の回復性は著しく低下してしまうという
欠点がある。なお７０℃の弾性回復性は、弾性体の用途
を考える上で耐熱性の一つの尺度であり、この温度での
良好な弾性回復性は非常に重要である。従って、ポリエ
ーテルエステルブロック共重合体のかかる欠点は、産業
上の利用分野を著しく制限しており、この欠点の改善さ
れたポリエーテルエステルブロック共重合体が得られれ
ば、産業上の利用分野は飛躍的広がるはずである。

【０００４】上記欠点を改善するために、例えば弾性体
の構成成分としてスルホン酸塩を有するモノマーを共重
合する方法（特開平２−１１７９１８号公報、２−１１
７９４９号公報）が提案されている。しかし前記方法で
は、ポリエーテルエステルブロック共重合体の結晶性が
低下し、あらゆる点について満足する値は得られていな
い。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
弾性回復性の温度依存性の小さい、即ち７０℃の加熱下
長時間変形後も弾性回復性に大きな低下のないポリエー
テルエステルブロック共重合体組成物の開発が重要であ
るとの認識に立ち、上記欠点を解決することを本発明の
課題とした。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
本発明者らは鋭意研究、検討した結果、驚くべきことに
ポリエーテルエステルブロック共重合体にアルキル基及
び／又はオキシアルキレン基を有する芳香族スルホン酸
塩を配合することにより更に著しく改善されることを見
い出し、更に詳細な検討を重ねた結果、遂に本発明を完
成するに到った。即ち本発明は、ポリエーテルエステル
ブロック共重合体および下記一般式化２で示されるスル
ホン酸塩を含有することを特徴とするポリエーテルエス
テルブロック共重合体組成物である。

【０００７】

【化２】 （なお、化１中Ｚは炭素数６〜１８の芳香族炭化水素
基、Ｒ¹ は炭素数Ｌのアルキル基、Ｒ² は炭素数Ｎのア
ルキレン基、Ｍはアルカリ金属、ホスホニウムを示し、
ｋ＋ｎは２〜１４の整数、Ｌ、Ｎは１〜１８の整数、ｌ
は０〜８の整数、ｍは０又は１を示す。なおＬ、Ｍ、
Ｎ、ｌは下記数式数２を満足する。）

【０００８】

【数２】

【０００９】本発明においてポリエーテルエステルブロ
ック共重合体とは、芳香族ジカルボン酸又はそのエステ
ル形成性誘導体（Ａ成分）と、脂肪族グリコール又はそ
のエステル形成性誘導体（Ｂ成分）及びポリオキシアル
キレングリコール（Ｃ成分）を構成成分とし、還元比粘
度が１．２以上であるポリエーテルエステルブロック共
重合体であり、前記Ａ成分としては、芳香族ジカルボン
酸の６０モル％以上好ましくは７０モル％以上がテレフ
タル及び／又は２，６−ナフタレンジカルボン酸又はそ
れらのエステル形成性誘導体が好ましく、エステル形成
性誘導体としては、炭素数１〜４の低級アルキルエステ
ル、フェニルエステル等を挙げることが出来る。なおテ
レフタル酸及び２，６−ナフタレンジカルボン酸以外に
用いられるジカルボン酸としては、フタル酸、イソフタ
ル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、４，４′−ベ
ンゾフェノンジカルボン酸、ビス（４−カルボキシフェ
ニル）メタン、ビス（４−カルボキシフェニル）スルホ
ン、１，２−ビス（４−カルボキシフェニル）エタン、
ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸類、ア
ジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカル
ボン酸、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸類、１，４
−シクロヘキサンジカルボン酸、４，４′−ビス（４−
カルボキシシクロヘキシル）メタン等の脂環式ジカルボ
ン酸類、又はそれらの炭素数１〜４の低級アルキルエス
テル、フェニルエステル、シクロアルキルエステル、ヒ
ドロキシアルキルエステル等を挙げることが出来る。こ
れらは２種以上の混合物として用いても良い。

【００１０】本発明において、前記Ｂ成分である脂肪族
グリコールとしては、低分子量グリコール又はそのエス
テル形成性誘導体がこのましく、低分子量グリコールと
しては、全体の７０モル％以上がエチレングリコール、
１，４−ブタンジオール、又はシクロヘキサンジメタノ
ール等の低分子量アルキレングリコールが好ましく、特
に１，４−ブタンジオールが望ましい。他に用いること
のできるグリコールとしては、トリメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、２，２−ビス［４−
（２−ヒドロキシ）フェニル］プロパン、ビス［４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］スルホン等分子
量が原則として４００以下のものが用いられる。なお難
燃性等種々の機能が要求される場合には、２，２−ビス
［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジブロモ
フェニル］プロパン、ビス［４−（２−ヒドロキシエト
キシ）３，５−ジブロモフェニル］スルホン等の含ハロ
ゲン化合物、あるいは各種のリン化合物等、比較的分子
量の大きいグリコール類も用いられる。これらは混合物
として用いてもよい。

【００１１】本発明において、前記Ｃ成分であるポリオ
キシアルキレングリコールとしては、平均分子量が約４
００〜６０００のポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリテトラメチレングリコール及びこ
れらの共重合体等が挙げられ、特にポリテトラメチレン
グリコール及びテトラメチレンオキシド単位を主成分と
するポリオキシアルキレングリコール共重合体が好まし
い。ポリオキシアルキレングリコールの平均分子量は４
００〜６０００であり、特に８００〜５０００が好まし
い。平均分子量が４００未満では、得られるポリエーテ
ルエステルブロック共重合体のブロック性が低下するた
め弾性的性能が著しく劣るため好ましくない。一方、ポ
リオキシアルキレングリコールの平均分子量が６０００
を越えると、生成ポリマーが相分離してブロック共重合
体となり難く、同様に弾性的性能が劣ってしまうので好
ましくない。

【００１２】本発明において目的とする弾性的性能を達
成するためには、該重合体のフェノールと１，１，２，
２−テトラクロロエタンを６０／４０の重量比で混合し
た溶液中０．２ｇ／１００ｍ の濃度、３０℃で測定し
た還元比粘度（ηｓｐ／ｃ）が１．２ｄＬ／ｇ以上とす
ることが必要であり、好ましくは１．４〜４．０、特に
１．７〜３．０が望ましい。還元比粘度が１．２ｄＬ／
ｇ未満では、弾性的性質を含む諸性質が低下してしま
い、目的とする共重合体が得られない。還元比粘度は
１．２ｄＬ／ｇ以上であれば良いが、余り高すぎると溶
融粘度が増大してしまい、成形加工に困難が生じるとと
もに、経済的にも不利である。

【００１３】本発明で用いられるブロック共重合体を製
造する方法としては、従来の共重合ポリエステルの製造
法を採用することができる。具体的には、例えば芳香族
ジカルボン酸及び／又はそのアルキルエステル（Ａ成
分）と脂肪族グリコール（Ｂ成分）及びポリオキシアル
キレングリコール（Ｃ成分）とを反応器に入れ、触媒の
存在下又は不存在下で直接エステル化或るいはエステル
交換反応し、更に高真空で重縮合反応を行なって所望の
重合度まで上げる方法である。

【００１４】本発明において配合される芳香族スルホン
酸塩としては、具体的にブチルベンゼンスルホン酸ナト
リウム、ペンチルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘキ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム、オクチルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ノニルベンゼンスルホン酸ナト
リウム、デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ウンデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、トリデシルベンゼンスルホン酸
ナトリウム、テトラデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム、ペンタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘキ
サデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘプタデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム、オクタデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウムなどのモノアルキルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム、ジ（ブチル）ベンゼンスルホン酸ナ
トリウム、ジ（ヘキシル）ベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム、ジ（ノニル）ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジ
（ウンデシル）ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジ（ト
リデシル）ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジ（ペンタ
デシル）ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジ（ヘプタデ
シル）ベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのジ（アルキ
ン）ベンゼンスルホン酸ナトリウム、トリ（ペンチル）
ベンゼンスルホン酸ナトリウム、トリ（オクチル）ベン
ゼンスルホン酸ナトリウム、トリ（デシル）ベンゼンス
ルホン酸ナトリウム、トリ（ドデシル）ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、トリ（テトラデシル）ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、トリ（ヘキサデシル）ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、トリ（オクタデシル）ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウムなどのトリ（アルキル）ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、ブチルベンゼンスルホン酸リチウム、
ペンチルベンゼンスルホン酸リチウム、ヘキシルベンゼ
ンスルホン酸リチウム、オクチルベンゼンスルホン酸リ
チウム、ノニルベンゼンスルホン酸リチウム、デシルベ
ンゼンスルホン酸リチウム、ウンデシルベンゼンスルホ
ン酸リチウム、ドデシルベンゼンスルホン酸リチウム、
トリデシルベンゼンスルホン酸リチウム、テトラデシル
ベンゼンスルホン酸リチウム、ペンタデシルベンゼンス
ルホン酸リチウム、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸リ
チウム、ヘプタデシルベンゼンスルホン酸リチウム、オ
クタデシルベンゼンスルホン酸リチウムなどのモノアル
キルベンゼンスルホン酸リチウム、ジ（ブチル）ベンゼ
ンスルホン酸リチウム、ジ（ヘキシル）ベンゼンスルホ
ン酸リチウム、ジ（ノニル）ベンゼンスン酸リチウム、
ジ（ウンデシル）ベンゼンスルホン酸リチウム、ジ（ト
リデシル）ベンゼンスルホン酸リチウム、ジ（ペンタデ
シル）ベンゼンスルホン酸リチウム、ジ（ヘプタデシ
ル）ベンゼンスルホン酸リチウムなどのジ（アルキル）
ベンゼンスルホン酸リチウム、トリ（ペンチル）ベンゼ
ンスルホン酸リチウム、トリ（オクチル）ベンゼンスル
ホン酸リチウム、トリ（デシル）ベンゼンスルホン酸リ
チウム、トリ（ドデシル）ベンゼンスルホン酸リチウ
ム、トリ（テトラデシル）ベンゼンスルホン酸リチウ
ム、トリ（ヘキサデシル）ベンゼンスルホン酸リチウ
ム、トリ（オクタデシル）ベンゼンスルホン酸リチウム
などのトリ（アルキル）ベンゼンスルホン酸リチウムな
どのアルキルベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩。

【００１５】ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、
ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナ
フタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、ノニルナフタレンスルホン酸ナト
リウム、デシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ウン
デシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ドデシルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム、トリデシルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、テトラデシルナフタレンスルホン
酸ナトリウム、ペンタデシルナフタレンスルホン酸ナト
リウム、ヘキサデシルナフタレンスルホン酸ナトリウ
ム、ヘプタデシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オ
クタデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのモノ
アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジ（ブチ
ル）ナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジ（ヘキシル）
ナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジ（ノニル）ナフタ
レンスルホン酸ナトリウム、ジ（ウンデシル）ナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム、ジ（トリデシル）ナフタレン
スルホン酸ナトリウム、ジ（ペンタデシル）ナフタレン
スルホン酸ナトリウム、ジ（ヘプタデシル）ナフタレン
スルホン酸ナトリウムなどのジ（アルキル）ナフタレン
スルホン酸ナトリウム、トリ（ペンチル）ナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、トリ（オクチル）ナフタレンスル
ホン酸ナトリウム、トリ（デシル）ナフタレンスルホン
酸ナトリウム、トリ（ドデシル）ナフタレンスルホン酸
ナトリウム、トリ（テトラデシル）ナフタレンスルホン
酸ナトリウム、トリ（ヘキサデシル）ナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、トリ（オクタデシル）ナフタレンスル
ホン酸ナトリウムなどのトリ（アルキル）ナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、ブチルナフタレンスルホン酸リチ
ウム、ペンチルナフタレンスルホン酸リチウム、ヘキシ
ルナフタレンスルホン酸リチウム、オクチルナフタレン
スルホン酸リチウム、ノニルナフタレンスルホン酸リチ
ウム、デシルナフタレンスルホン酸リチウム、ウンデシ
ルナフタレンスルホン酸リチウム、ドデシルナフタレン
スルホン酸リチウム、トリデシルナフタレンスルホン酸
リチウム、テトラデシルナフタレンスルホン酸リチウ
ム、ペンタデシルナフタレンスルホン酸リチウム、ヘキ
サデシルナフタレンスルホン酸リチウム、ヘプタデシル
ナフタレンスルホン酸リチウム、オクタデシルナフタレ
ンスルホン酸リチウムなどのモノアルキルナフタレンス
ルホン酸リチウム、ジ（ブチル）ナフタレンスルホン酸
リチウム、ジ（ヘキシル）ナフタレンスルホン酸リチウ
ム、ジ（ノニル）ナフタレンスルホン酸リチウム、ジ
（ウンデシル）ナフタレンスルホン酸リチウム、ジ（ト
リデシル）ナフタレンスルホン酸リチウム、ジ（ペンタ
デシル）ナフタレンスルホン酸リチウム、ジ（ヘプタデ
シル）ナフタレンスルホン酸リチウムなどのジ（アルキ
ル）ナフタレンスルホン酸リチウム、トリ（ペンチル）
ナフタレンスルホン酸リチウム、トリ（オクチル）ナフ
タレンスルホン酸リチウム、トリ（デシル）ナフタレン
スルホン酸リチウム、トリ（ドデシル）ナフタレンスル
ホン酸リチウム、トリ（テトラデシル）ナフタレンスル
ホン酸リチウム、トリ（ヘキサデシル）ナフタレンスル
ホン酸リチウム、トリ（オクタデシル）ナフタレンスル
ホン酸リチウムなどの（アルキル）ナフタレンスルホン
酸リチウム、などのアルキルナフタレンスルホン酸アル
カリ金属塩。

【００１６】ブチルベンゼンスルホン酸テトラブチルホ
スホニウム塩、ペンチルベンゼンスルホン酸テトラブチ
ルホスホニウム塩、ヘキシルベンゼンスルホン酸テトラ
ブチルホスホニウム塩、オクチルベンゼンスルホン酸テ
トラブチルホスホニウム塩、ノニルベンゼンスルホン酸
テトラブチルホスホニウム塩、デシルベンゼンスルホン
酸テトラブチルホスホニウム塩、ウンデシルベンゼンス
ルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、トリデシル
ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、テト
ラデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、ペンタデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホス
ホニウム塩、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸テトラブ
チルホスホニウム塩、ヘプタデシルベンゼンスルホン酸
テトラブチルホスホニウム塩、オクタデシルベンゼンス
ルホン酸テトラブチルホスホニウム塩などのモノアルキ
ルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ジ
（ブチル）ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウ
ム塩、ジ（ヘキシル）ベンゼンスルホン酸テトラブチル
ホスホニウム塩、ジ（ノニル）ベンゼンスルホン酸テト
ラブチルホスホニウム塩、ジ（ウンデシル）ベンゼンス
ルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ジ（トリデシ
ル）ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、
ジ（ペンタデシル）ベンゼンスルホン酸テトラブチルホ
スホニウム塩、ジ（ヘプタデシル）ベンゼンスルホン酸
テトラブチルホスホニウム塩などのジ（アルキル）ベン
ゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、トリ（ペ
ンチル）ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、トリ（オクチル）ベンゼンスルホン酸テトラブチル
ホスホニウム塩、トリ（デシル）ベンゼンスルホン酸テ
トラブチルホスホニウム塩、トリ（ドデシル）ベンゼン
スルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、トリ（テトラ
デシル）ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、トリ（ヘキサデシル）ベンゼンスルホン酸テトラブ
チルホスホニウム塩、トリ（オクタデシル）ベンゼンス
ルホン酸テトラブチルホスホニウム塩などのトリ（アル
キル）ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩。

【００１７】ブチルベンゼンスルホン酸テトラフェニル
ホスホニウム塩、ペンチルベンゼンスルホン酸テトラフ
ェニルホスホニウム塩、ヘキシルベンゼンスルホン酸テ
トラフェニルホスホニウム塩、オクチルベンゼンスルホ
ン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ノニルベンゼンス
ルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、デシルベンゼ
ンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ウンデシ
ルベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、
ドデシルベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウ
ム塩、トリデシルベンゼンスルホン酸テトラフェニルホ
スホニウム塩、テトラデシルベンゼンスルホン酸テトラ
フェニルホスホニウム塩、ペンタデシルベンゼンスルホ
ン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ヘキサデシルベン
ゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ヘプタ
デシルベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム
塩、オクタデシルベンゼンスルホン酸テトラフェニルホ
スホニウム塩などのモノアルキルベンゼンスルホン酸テ
トラフェニルホスホニウム塩、ジ（ブチル）ベンゼンス
ルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ジ（ヘキシ
ル）ベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム
塩、ジ（ノニル）ベンゼンスルホン酸テトラフェニルホ
スホニウム塩、ジ（ウンデシル）ベンゼンスルホン酸テ
トラフェニルホスホニウム塩、ジ（トリデシル）ベンゼ
ンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ジ（ペン
タデシル）ベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニ
ウム塩、ジ（ヘプタデシル）ベンゼンスルホン酸テトラ
フェニルホスホニウム塩などのジ（アルキル）ベンゼン
スルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、トリ（ペン
チル）ベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム
塩、トリ（オクチル）ベンゼンスルホン酸テトラフェニ
ルホスホニウム塩、トリ（デシル）ベンゼンスルホン酸
テトラフェニルホスホニウム塩、トリ（ドデシル）ベン
ゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、トリ
（テトラデシル）ベンゼンスルホン酸テトラフェニルホ
スホニウム塩、トリ（ヘキサデシル）ベンゼンスルホン
酸テトラフェニルホスホニウム塩、トリ（オクタデシ
ル）ベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩
などのトリ（アルキル）ベンゼンスルホン酸テトラフェ
ニルホスホニウム塩。

【００１８】ブチルベンゼンスルホン酸エチルトリブチ
ルホスホニウム塩、ペンチルベンゼンスルホン酸エチル
トリブチルホスホニウム塩、ヘキシルベンゼンスルホン
酸エチルトリブチルホスホニウム塩、オクチルベンゼン
スルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、ノニルベ
ンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、デ
シルベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム
塩、ウンデシルベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホ
スホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸エチルトリ
ブチルホスホニウム塩、トリデシルベンゼンスルホン酸
エチルトリブチルホスホニウム塩、テトラデシルベンゼ
ンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、ペンタ
デシルベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウ
ム塩、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸エチルトリブチ
ルホスホニウム塩、ヘプタデシルベンゼンスルホン酸エ
チルトリブチルホスホニウム塩、オクタデシルベンゼン
スルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩などのモノ
アルキルベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニ
ウム塩、ジ（ブチル）ベンゼンスルホン酸エチルトリブ
チルホスホニウム塩、ジ（ヘキシル）ベンゼンスルホン
酸エチルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ノニル）ベン
ゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、ジ
（ウンデシル）ベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホ
スホニウム塩、ジ（トリデシル）ベンゼンスルホン酸エ
チルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ペンタデシル）ベ
ンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、ジ
（ヘプタデシル）ベンゼンスルホン酸エチルトリブチル
ホスホニウム塩などのジ（アルキル）ベンゼンスルホン
酸エチルトリブチルホスホニウム塩、トリ（ペンチル）
ベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、
トリ（オクチル）ベンゼンスルホン酸エチルトリブチル
ホスホニウム塩、トリ（デシル）ベンゼンスルホン酸エ
チルトリブチルホスホニウム塩、トリ（ドデシル）ベン
ゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、トリ
（テトラデシル）ベンゼンスルホン酸エチルトリブチル
ホスホニウム塩、トリ（ヘキサデシル）ベンゼンスルホ
ン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、トリ（オクタデ
シル）ベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウ
ム塩などのトリ（アルキル）ベンゼンスルホン酸エチル
トリブチルホスホニウム塩。

【００１９】ブチルベンゼンスルホン酸フェニルトリブ
チルホスホニウム塩、ペンチルベンゼンスルホン酸フェ
ニルトリブチルホスホニウム塩、ヘキシルベンゼンスル
ホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、オクチルベ
ンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、
ノニルベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニ
ウム塩、デシルベンゼンスルホン酸フェニルトリブチル
ホスホニウム塩、ウンデシルベンゼンスルホン酸フェニ
ルトリブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、トリデシルベ
ンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、
テトラデシルベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホ
スホニウム塩、ペンタデシルベンゼンスルホン酸フェニ
ルトリブチルホスホニウム塩、ヘキサデシルベンゼンス
ルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、ヘプタデ
シルベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウ
ム塩、オクタデシルベンゼンスルホン酸フェニルトリブ
チルホスホニウム塩などのモノアルキルベンゼンスルホ
ン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ブチル）
ベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム
塩、ジ（ヘキシル）ベンゼンスルホン酸フェニルトリブ
チルホスホニウム塩、ジ（ノニル）ベンゼンスルホン酸
フェニルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ウンデシル）
ベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム
塩、ジ（トリデシル）ベンゼンスルホン酸フェニルトリ
ブチルホスホニウム塩、ジ（ペンタデシル）ベンゼンス
ルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ヘプ
タデシル）ベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホス
ホニウム塩などのジ（アルキル）ベンゼンスルホン酸フ
ェニルトリブチルホスホニウム塩、トリ（ペンチル）ベ
ンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、
トリ（オクチル）ベンゼンスルホン酸フェニルトリブチ
ルホスホニウム塩、トリ（デシル）ベンゼンスルホン酸
フェニルトリブチルホスホニウム塩、トリ（ドデシル）
ベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム
塩、トリ（テトラデシル）ベンゼンスルホン酸フェニル
トリブチルホスホニウム塩、トリ（ヘキサデシル）ベン
ゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、ト
リ（オクタデシル）ベンゼンスルホン酸フェニルトリブ
チルホスホニウム塩などのトリ（アルキル）ベンゼンス
ルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩。

【００２０】ブチルベンゼンスルホン酸エチルトリフェ
ニルホスホニウム塩、ペンチルベンゼンスルホン酸エチ
ルトリフェニルホスホニウム塩、ヘキシルベンゼンスル
ホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、オクチルベ
ンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、
ノニルベンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニ
ウム塩、デシルベンゼンスルホン酸エチルトリフェニル
ホスホニウム塩、ウンデシルベンゼンスルホン酸エチル
トリフェニルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、トリデシルベ
ンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、
テトラデシルベンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホ
スホニウム塩、ペンタデシルベンゼンスルホン酸エチル
トリフェニルホスホニウム塩、ヘキサデシルベンゼンス
ルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、ヘプタデ
シルベンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウ
ム塩、オクタデシルベンゼンスルホン酸エチルトリフェ
ニルホスホニウム塩などのモノアルキルベンゼンスルホ
ン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、ジ（ブチル）
ベンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム
塩、ジ（ヘキシル）ベンゼンスルホン酸エチルトリフェ
ニルホスホニウム塩、ジ（ノニル）ベンゼンスルホン酸
エチルトリフェニルホスホニウム塩、ジ（ウンデシル）
ベンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム
塩、ジ（トリデシル）ベンゼンスルホン酸エチルトリフ
ェニルホスホニウム塩、ジ（ペンタデシル）ベンゼンス
ルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、ジ（ヘプ
タデシル）ベンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホス
ホニウム塩などのジ（アルキル）ベンゼンスルホン酸エ
チルトリフェニルホスホニウム塩、トリ（ペンチル）ベ
ンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、
トリ（オクチル）ベンゼンスルホン酸エチルトリフェニ
ルホスホニウム塩、トリ（デシル）ベンゼンスルホン酸
エチルトリフェニルホスホニウム塩、トリ（ドデシル）
ベンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム
塩、トリ（テトラデシル）ベンゼンスルホン酸エチルト
リフェニルホスホニウム塩、トリ（ヘキサデシル）ベン
ゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、ト
リ（オクタデシル）ベンゼンスルホン酸エチルトリフェ
ニルホスホニウム塩などのトリ（アルキル）ベンゼンス
ルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩。

【００２１】ブチルナフタレンスルホン酸テトラブチル
ホスホニウム塩、ペンチルナフタレンスルホン酸テトラ
ブチルホスホニウム塩、ヘキシルナフタレンスルホン酸
テトラブチルホスホニウム塩、オクチルナフタレンスル
ホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ノニルナフタレン
スルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、デシルナフタ
レンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ウンデシ
ルナフタレンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、
ドデシルナフタレンスルホン酸テトラブチルホスホニウ
ム塩、トリデシルナフタレンスルホン酸テトラブチルホ
スホニウム塩、テトラデシルナフタレンスルホン酸テト
ラブチルホスホニウム塩、ペンタデシルナフタレンスル
ホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ヘキサデシルナフ
タレンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ヘプタ
デシルナフタレンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、オクタデシルナフタレンスルホン酸テトラブチルホ
スホニウム塩などのモノアルキルナフタレンスルホン酸
テトラブチルホスホニウム塩、ジ（ブチル）ナフタレン
スルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ジ（ヘキシ
ル）ナフタレンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、ジ（ノニル）ナフタレンスルホン酸テトラブチルホ
スホニウム塩、ジ（ウンデシル）ナフタレンスルホン酸
テトラブチルホスホニウム塩、ジ（トリデシル）ナフタ
レンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ジ（ペン
タデシル）ナフタレンスルホン酸テトラブチルホスホニ
ウム塩、ジ（ヘプタデシル）ナフタレンスルホン酸テト
ラブチルホスホニウム塩などのジ（アルキル）ナフタレ
ンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、トリ（ペン
チル）ナフタレンスルホン酸テトラブチルホスホニウム
塩、トリ（オクチル）ナフタレンスルホン酸テトラブチ
ルホスホニウム塩、トリ（デシル）ナフタレンスルホン
酸テトラブチルホスホニウム塩、トリ（ドデシル）ナフ
タレンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、トリ
（テトラデシル）ナフタレンスルホン酸テトラブチルホ
スホニウム塩、トリ（ヘキサデシル）ナフタレンスルホ
ン酸テトラブチルホスホニウム塩、トリ（オクタデシ
ル）ナフタレンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩
などのトリ（アルキル）ナフタレンスルホン酸テトラブ
チルホスホニウム塩。

【００２２】ブチルナフタレンスルホン酸テトラフェニ
ルホスホニウム塩、ペンチルナフタレンスルホン酸テト
ラフェニルホスホニウム塩、ヘキシルナフタレンスルホ
ン酸テトラフェニルホスホニウム塩、オクチルナフタレ
ンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ノニルナ
フタレンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、デ
シルナフタレンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム
塩、ウンデシルナフタレンスルホン酸テトラフェニルホ
スホニウム塩、ドデシルナフタレンスルホン酸テトラフ
ェニルホスホニウム塩、トリデシルナフタレンスルホン
酸テトラフェニルホスホニウム塩、テトラデシルナフタ
レンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ペンタ
デシルナフタレンスルホン酸テトラフェニルホスホニウ
ム塩、ヘキサデシルナフタレンスルホン酸テトラフェニ
ルホスホニウム塩、ヘプタデシルナフタレンスルホン酸
テトラフェニルホスホニウム塩、オクタデシルナフタレ
ンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩などのモノ
アルキルナフタレンスルホン酸テトラフェニルホスホニ
ウム塩、ジ（ブチル）ナフタレンスルホン酸テトラフェ
ニルホスホニウム塩、ジ（ヘキシル）ナフタレンスルホ
ン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ジ（ノニル）ナフ
タレンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ジ
（ウンデシル）ナフタレンスルホン酸テトラフェニルホ
スホニウム塩、ジ（トリデシル）ナフタレンスルホン酸
テトラフェニルホスホニウム塩、ジ（ペンタデシル）ナ
フタレンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、ジ
（ヘプタデシル）ナフタレンスルホン酸テトラフェニル
ホスホニウム塩などのジ（アルキル）ナフタレンスルホ
ン酸テトラフェニルホスホニウム塩、トリ（ペンチル）
ナフタレンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、
トリ（オクチル）ナフタレンスルホン酸テトラフェニル
ホスホニウム塩、トリ（デシル）ナフタレンスルホン酸
テトラフェニルホスホニウム塩、トリ（ドデシル）ナフ
タレンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、トリ
（テトラデシル）ナフタレンスルホン酸テトラフェニル
ホスホニウム塩、トリ（ヘキサデシル）ナフタレンスル
ホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、トリ（オクタデ
シル）ナフタレンスルホン酸テトラフェニルホスホニウ
ム塩。

【００２３】ブチルナフタレンスルホン酸エチルトリブ
チルホスホニウム塩、ペンチルナフタレンスルホン酸エ
チルトリブチルホスホニウム塩、ヘキシルナフタレンス
ルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、オクチルナ
フタレンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、
ノニルナフタレンスルホン酸エチルトリブチルホスホニ
ウム塩、デシルナフタレンスルホン酸エチルトリブチル
ホスホニウム塩、ウンデシルナフタレンスルホン酸エチ
ルトリブチルホスホニウム塩、ドデシルナフタレンスル
ホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、トリデシルナ
フタレンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、
テトラデシルナフタレンスルホン酸エチルトリブチルホ
スホニウム塩、ペンタデシルナフタレンスルホン酸エチ
ルトリブチルホスホニウム塩、ヘキサデシルナフタレン
スルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、ヘプタデ
シルナフタレンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウ
ム塩、オクタデシルナフタレンスルホン酸エチルトリブ
チルホスホニウム塩などのモノアルキルナフタレンスル
ホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ブチル）
ナフタレンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム
塩、ジ（ヘキシル）ナフタレンスルホン酸エチルトリブ
チルホスホニウム塩、ジ（ノニル）ナフタレンスルホン
酸エチルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ウンデシル）
ナフタレンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム
塩、ジ（トリデシル）ナフタレンスルホン酸エチルトリ
ブチルホスホニウム塩、ジ（ペンタデシル）ナフタレン
スルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ヘプ
タデシル）ナフタレンスルホン酸エエチルトリブチルホ
スホニウム塩などのジ（アルキル）ナフタレンスルホン
酸エチルトリブチルホスホニウム塩、トリ（ペンチル）
ナフタレンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム
塩、トリ（オクチル）ナフタレンスルホン酸エチルトリ
ブチルホスホニウム塩、トリ（デシル）ナフタレンスル
ホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、トリ（ドデシ
ル）ナフタレンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウ
ム塩、トリ（テトラデシル）ナフタレンスルホン酸エチ
ルトリブチルホスホニウム塩、トリ（ヘキサデシル）ナ
フタレンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、
トリ（オクタデシル）ナフタレンスルホン酸エチルトリ
ブチルホスホニウム塩などのトリ（アルキル）ナフタレ
ンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩。

【００２４】ブチルナフタレンスルホン酸フェニルトリ
ブチルホスホニウム塩、ペンチルナフタレンスルホン酸
フェニルトリブチルホスホニウム塩、ヘキシルナフタレ
ンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、オク
チルベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウ
ム塩、ノニルナフタレンスルホン酸フェニルトリブチル
ホスホニウム塩、デシルナフタレンスルホン酸フェニル
トリブチルホスホニウム塩、ウンデシルナフタレンスル
ホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、ドデシルナ
フタレンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム
塩、トリデシルナフタレンスルホン酸フェニルトリブチ
ルホスホニウム塩、テトラデシルナフタレンスルホン酸
フェニルトリブチルホスホニウム塩、ペンタデシルナフ
タレンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、
ヘキサデシルナフタレンスルホン酸フェニルトリブチル
ホスホニウム塩、ヘプタデシルナフタレンスルホン酸フ
ェニルトリブチルホスホニウム塩、オクタデシルナフタ
レンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩など
のモノアルキルナフタレンスルホン酸フェニルトリブチ
ルホスホニウム塩、ジ（ブチル）ナフタレンスルホン酸
フェニルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ヘキシル）ナ
フタレンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム
塩、ジ（ノニル）ナフタレンスルホン酸フェニルトリブ
チルホスホニウム塩、ジ（ウンデシル）ナフタレンスル
ホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、ジ（トリデ
シル）ナフタレンスルホン酸フェニルトリブチルホスホ
ニウム塩、ジ（ペンタデシル）ナフタレンスルホン酸フ
ェニルトリブチルホスホニウム塩、ジ（ヘプタデシル）
ナフタレンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム
塩などのジ（アルキル）ナフタレンスルホン酸フェニル
トリブチルホスホニウム塩、トリ（ペンチル）ナフタレ
ンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、トリ
（オクチル）ナフタレンスルホン酸フェニルトリブチル
ホスホニウム塩、トリ（デシル）ナフタレンスルホン酸
フェニルトリブチルホスホニウム塩、トリ（ドデシル）
ナフタレンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム
塩、トリ（テトラデシル）ナフタレンスルホン酸フェニ
ルトリブチルホスホニウム塩、トリ（ヘキサデシル）ナ
フタレンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム
塩、トリ（オクタデシル）ナフタレンスルホン酸フェニ
ルトリブチルホスホニウム塩などのトリ（アルキル）ナ
フタレンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム
塩。

【００２５】ブチルナフタレンスルホン酸エチルトリフ
ェニルホスホニウム塩、ペンチルナフタレンスルホン酸
エチルトリフェニルホスホニウム塩、ヘキシルナフタレ
ンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、オク
チルナフタレンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニ
ウム塩、ノニルナフタレンスルホン酸エチルトリフェニ
ルホスホニウム塩、デシルナフタレンスルホン酸エチル
トリフェニルホスホニウム塩、ウンデシルナフタレンス
ルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、ドデシル
ナフタレンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム
塩、トリデシルナフタレンスルホン酸エチルトリフェニ
ルホスホニウム塩、テトラデシルナフタレンスルホン酸
エチルトリフェニルホスホニウム塩、ペンタデシルナフ
タレンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、
ヘキサデシルナフタレンスルホン酸エチルトリフェニル
ホスホニウム塩、ヘプタデシルナフタレンスルホン酸エ
チルトリフェニルホスホニウム塩、オクタデシルナフタ
レンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩など
のモノアルキルナフタレンスルホン酸エチルトリフェニ
ルホスホニウム塩、ジ（ブチル）ナフタレンスルホン酸
エチルトリフェニルホスホニウム塩、ジ（ヘキシル）ナ
フタレンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム
塩、ジ（ノニル）ナフタレンスルホン酸エチルトリフェ
ニルホスホニウム塩、ジ（ウンデシル）ナフタレンスル
ホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、ジ（トリデ
シル）ナフタレンスルホン酸エチルトリフェニルホスホ
ニウム塩、ジ（ペンタデシル）ナフタレンスルホン酸エ
チルトリフェニルホスホニウム塩、ジ（ヘプタデシル）
ナフタレンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム
塩などのジ（アルキル）ナフタレンスルホン酸エチルト
リフェニルホスホニウム塩、トリ（ペンチル）ナフタレ
ンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、トリ
（オクチル）ナフタレンスルホン酸エチルトリフェニル
ホスホニウム塩、トリ（デシル）ナフタレンスルホン酸
エチルトリフェニルホスホニウム塩、トリ（ドデシル）
ナフタレンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム
塩、トリ（テトラデシル）ベンゼンスルホン酸エチルト
リフェニルホスホニウム塩、トリ（ヘキサデシル）ナフ
タレンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、
トリ（オクタデシル）ナフタレンスルホン酸エチルトリ
フェニルホスホニウム塩などのトリ（アルキル）ナフタ
レンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩。

【００２６】その他３，６，９，１２−テトラオキサド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム３，６，９，１２
−テトラオキサドデシルベンゼンスルホン酸リチウム、
３，６，９，１２−テトラオキサドデシルベンゼンスル
ホン酸テトラブチルホスホニウム塩、３，６，９，１２
−テトラオキサドデシルベンゼンスルホン酸テトラフェ
ニルホスホニウム塩、３，６，９−トリオキサノニルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム、３，６，９−トリオキサ
ノニルベンゼンスルホン酸リチウム、３，６，９−トリ
オキサノニルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニ
ウム塩、３，６，９−トリオキサノニルベンゼンスルホ
ン酸テトラフェニルホスホニウム塩などが挙げられる。

【００２７】本発明において前記Ｄ成分を配合する方法
としては、該Ｄ成分であるスルホン酸塩をポリマーの製
造過程で添加混合する方法、製造されたポリマーのチッ
プに付着させた後、溶融混合する方法等を挙げることが
出来る。

【００２８】本発明におけるポリエーテルエステルブロ
ック共重合体は公知の共重合ポリエステルの製造方法に
より製造しうるものである。故に、該スルホン酸塩をポ
リマーの重縮合中に添加混合せしめる方法を採用する場
合は、スルホン酸塩を粉末又は適当な溶媒に溶解した溶
液を添加、常圧で所定時間攪拌混合し、その後減圧とし
重縮合を行う。なおスルホン酸塩の添加量は、ポリエー
テルエステルブロック共重合体１００重量部に対して
０．０１〜１０重量部好ましくは０．０５〜８重量部で
ある。添加量が少ない場合は添加効果がなく、量を多く
すると、結晶性が著しく低下させるため好ましくない。
また、量が多いと重合時に激しく発泡が起こることがあ
るので好ましくない。

【００２９】本発明ポリエステルブロック共重合体組成
物には、通常のポリエステルと同じく、艶消剤、顔料、
例えばカーボンブラック等、ヒンダードアミン化合物、
リン系化合物、紫外線吸収剤、例えばベンゾフェノン化
合物、ベンゾトリアゾール化合物、サクシレート化合物
等、また場合によっては架橋性基を持つ化合物などを本
発明ブロック共重合体の性質を損わない限り、含んでい
ても何ら差し支えない。

【００３０】

【作用】本発明において配合されるＤ成分であるスルホ
ン酸塩はアルキル基及び／又はオキシアルキレン基及び
芳香族基からなっているので、アルキル基及び／又はオ
キシアルキレン基はソフトセグメント部と、また芳香族
基はハードセグメント部と相溶性が良く、それ故に分子
鎖の運動を容易にし、ハードセグメント部の結晶性を増
大させるが、一方スルホン酸塩の核剤効果により結晶の
完全度が高くなるのではなく、完全度が同じか多少低い
結晶が多量生成するため、結晶融点は上昇しないものと
考えられる。

【００３１】

【実施例】以下に実施例をもって本発明を具体的に示す
が、これらでもって本発明が限定されるものではない。
なお実施例における「部」は全て重量部を示す。また実
施例、比較例で得られるポリエーテルエステルブロック
共重合体の特性は、下記方法によって測定した。

【００３２】１．還元比粘度：下記条件下で測定した。 溶媒 フェノール／１，１，２，２−テトラクロロエ
タン ６０／４０重量比 濃度 ５０ｍｇ／２５ｍｌ 温度 ３０℃

【００３３】２．結晶融点の評価：パーキンエルマー社
製ＤＳＣ−７型示差走査型熱量計により、試料量１０ｍ
ｇ、窒素気流下２０℃／分の昇降速度で３０℃から２５
０℃まで昇温し、２５０℃で３分間保持した後、３０℃
まで降温した。この様にして熱履歴を消した試料を再び
２５０℃まで昇温し、その過程で得られる吸熱ピークの
ピークトップ温度を結晶融点（Ｔｍ）とする。またイン
ジウムで補正し、融解熱を求めた。融解熱が大きいほど
結晶性が高いことを示す。

【００３４】３．粘弾性挙動の評価：トーヨーボールド
ウィン社製 レオ−２０００ＤＤＶ−II−ＥＡ型バイブ
ロンにより、周波数１１０Ｈｚ、昇温速度１℃／分で測
定した。ソフトセグメントに起因する低温側の分散をβ
分散とし、β分散での正接損失ｔａｎδのピーク温度を
Ｔｓとする。Ｔｓが高いほどソフトセグメントが拘束さ
れていることを示す。

【００３５】４．弾性回復性評価：ヒートプレス法によ
り厚さ０．４〜０．６ｍｍ、幅１０ｍｍの短冊状試験片
を作製し、この試験片を熱風乾燥機内で１３０℃、３分
熱処理を行なった後、トーヨーボールドウィン社製テン
シロンII型にチャッ間距離６０ｍｍとなる様セットし
た。初期荷重３ｇをかけ、２０分かけて雰囲気温度を７
０℃にし、引張速度１００ｍｍ／分で引張歪長６ｍｍに
なる迄引っ張り、この状態で２２時間放置した。歪を０
に戻し、５分間放置後、上記条件にて再伸長し、応力−
ひずみ曲線から得た値より、弾性回復率（％）として算
出した。

【００３６】実施例１ ２リットルの撹拌機、温度計、メタノール流出管付反応
器に、テレフタル酸ジメチル（Ａ成分）４８５部、１，
４−ブタンジオール（Ｂ成分）３３７部及びテトラブチ
ルチタネート３部を供給し、徐々に昇温して、エステル
交換反応を行なった。エステル交換反応終了後２３０℃
に加温し、平均分子量３０００のポリテトラメチレング
リコール１４９７部を入れたオートクレーブにドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム１０部と１，３，５−ト
リス（４−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチル
ベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン４部を加
えた。窒素気流下、攪拌し、反応混合物とフェニルホス
ホン酸のエチレングリコール溶液３２．２ｍｌ（濃度５
０ｇ／ｌ）をオートクレーブに移し、５分間攪拌した。
次いで徐々に昇温し、６０分間で２５０℃まで昇温する
と同時に圧力を０．１ｍｍＨｇまで減圧にした。そのま
まで所定の溶融粘度に到達するまで重縮合をつづけた
後、窒素ガスにより常圧にもどし、オートクレーブ下部
に設置した細孔から窒素ガス圧によりポリマーを水中に
押し出しカッターを用いてチップ状に成形した。得られ
たポリマーの還元比粘度は２．９１ｄＬ／ｇであり、Ｔ
ｍは１７４℃、ΔＨは９．６Ｊ／ｇ、Ｔｓは−５１．０
℃であった。また弾性回復率は７９％であり良好であっ
た。

【００３７】比較例１ 実施例１において、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウムを配合しない以外は、全て実施例１と同様にして共
重合体を得た。得られた共重合体のの還元比粘度２．５
１ｄＬ／ｇであり、Ｔｍは１８４℃、ΔＨは７．１Ｊ／
ｇ、Ｔｓは−５１．２℃であった。また弾性回復率は７
５％であった。

【００３８】実施例２〜７ 実施例１において、スルホン酸塩の種類、配合量を表１
に示す量に代えた以外は全て実施例１と同様にして共重
合体を得た。その結果を表１に示す。

【００３９】

【表１】

【００４０】実施例８、９、比較例２ テレフタル酸ジメチル（Ａ成分）４５３部、１，４−ブ
タンジオール（Ｂ成分）３１６部及び平均分子量２００
０のポリテトラメチレングリコール１５５６部を使用し
た以外は全て実施例１及び比較例１と同様にして共重合
体組成物を得た。その結果を表２に示す。

【００４１】

【表２】

【００４２】

【発明の効果】表１及び表２より明らかなように、本発
明ブロック共重合体組成物は弾性回復率が優れ、温度に
よる影響をほとんど受けていないことが判る。またこの
様に本発明ブロック共重合体組成物は弾性回復率が優れ
ているので、その利用範囲は大巾に広がり、繊維はもと
よりフイルム、シート、コーティング剤、その他成形体
或るいは、接着剤などに用いることが出来る。特に弾性
性質を必要とする部位の接着剤としては有用であり、詰
物内の繊維間接着剤に適している。この様に利用分野は
広く、衣料用途のみならず産業資材用途及び自動車、電
気用途等、各分野で利用されるので、産業界に寄与する
こと大である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリエーテルエステルブロック共重合体
   および下記一般式化１で示されるスルホン酸塩を含有す
   ることを特徴とするポリエーテルエステルブロック共重
   合体組成物。 【化１】 （なお、化１中Ｚは炭素数６〜１８の芳香族炭化水素
   基、Ｒ¹ は炭素数Ｌのアルキル基、Ｒ² は炭素数Ｎのア
   ルキレン基、Ｍはアルカリ金属、ホスホニウムを示し、
   ｋ＋ｎは２〜１４の整数、Ｌ、Ｎは１〜１８の整数、ｌ
   は０〜８の整数、ｍは０又は１を示す。なおＬ、Ｍ、
   Ｎ、ｌは下記数式数１を満足する。） 【数１】