JPH05285765A - 真空チャックによるワーク固定方法 - Google Patents

真空チャックによるワーク固定方法

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JPH05285765A
JPH05285765A JP9066492A JP9066492A JPH05285765A JP H05285765 A JPH05285765 A JP H05285765A JP 9066492 A JP9066492 A JP 9066492A JP 9066492 A JP9066492 A JP 9066492A JP H05285765 A JPH05285765 A JP H05285765A
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JP
Japan
Prior art keywords
work
chuck
vacuum chuck
chuck surface
vacuum
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9066492A
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English (en)
Inventor
Nobuo Yasunaga
暢男 安永
Kozo Abe
耕三 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 清浄なチャック面にワークを固定することが
でき、高精度の加工が可能な真空チャックによるワーク
固定方法を提供する。 【構成】 ワーク面が真空チャック11のチャック面に
近接した状態で、ワーク面とチャック面との間に真空チ
ャック11の通気孔13から清浄なガスを噴出させ、引
き続きワーク面とチャック面との間を通気孔13を通じ
て吸気し、ワークwを真空チャック面に吸着、固定す
る。パーティクルは清浄なガスにより除去されるので、
清浄なチャック面にワークwを固定することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、高精度で加工するワ
ークを真空チャックにより固定する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】コンプライアンスの大きなワークは、チ
ャックで保持すると、保持力により変形する。このよう
なワークはチャックより取り外したときに保持力より解
放されてワークがひずむ。したがって、高精度でワーク
を加工する場合、局部的な変形のない状態でワークを支
持する必要がある。このようなチャックとして、真空チ
ャックまたは電磁チャックが広く用いられている。シリ
コンウエハのような非磁性材料を加工する場合には、真
空チャックが用いられる。
【0003】真空チャックの場合、ワーク面とチャック
面との間にパーティクルあるいはダストが挟まった状態
でワークを加工すると、パーティクルが挟まった部分で
ワークが盛り上がるので、その部分は他の部分よりも多
く加工され、加工後は局部的に凹んでしまう。したがっ
て、パーティクルがあると、加工誤差の一因となる。こ
のために、従来ではチャック面を洗浄したのちにワーク
をチャック面近くまで搬送し、チャック面に静置し、吸
着、固定していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】チャック面を洗浄する
上記従来法では、チャック面を洗浄液を除去し、あるい
は乾燥したのちに、ワークをチャックにもってくるの
で、洗浄からワークの固定までに長時間がかかってい
た。このために、洗浄からワークの固定までの間に、チ
ャック面にパーティクルが付着し、高精度で加工するこ
とができなかった。
【0005】この発明は、清浄なチャック面にワークを
固定することができ、高精度の加工が可能な真空チャッ
クによるワーク固定方法を提供しようとするものであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明の真空チャック
によるワーク固定方法は、ワーク面が真空チャックのチ
ャック面に近接した状態で、ワーク面とチャック面との
間に真空チャックの通気孔から清浄なガスを噴出させ、
引き続きワーク面とチャック面との間を通気孔を通じて
吸気し、ワークを真空チャック面に吸着、固定する。
【0007】噴出するガスとして空気、窒素ガスなどが
用いられる。ワーク面とチャック面との間にガスを噴出
するときの両面の間隔ならびに噴出ガスの圧力および流
量は、両面の間からパーティクルが外部に吹き飛ばされ
るに十分な大きさでなければならない。ワークをチャッ
ク面に対して一定間隔で保持した状態で、あるいはワー
クをチャック面に近付けながらガスを噴出する。噴出す
るガスが空気の場合には、あらかじめフィルタを通して
清浄にする。ワーク面とチャック面との間の間隔は、工
作物の大きさおよびガスの圧力にもよるが、たとえば
0.5〜2 mm 程度である。また、ガスの噴出圧力は
0.1〜0.5kgf/cm2 程度である。通気孔はガスの噴
出と空気の吸引とを兼ねたものであることが、チャック
の構造を簡単にする上から望ましい。しかし、噴出用通
気孔と吸引用通気孔とをそれぞれ独立して設けてもよ
い。ガスの噴出と空気の吸引とは、シーケンス制御など
により自動的に行うことができる。
【0008】
【作用】ワーク面が真空チャックのチャック面に近接し
た状態で、通気孔からガスを噴出させると、ガスはワー
ク面とチャック面との間の狭い間隙を通って外部に流出
する。このとき、ワーク面またはチャック面に付着した
パーティクルは、ガス流により吹き飛ばされ、あるいは
ガス流に乗って外部に追い出される。
【0009】ガスが噴出しているときは、ワーク面とチ
ャック面とは近接しており、ガスの噴出停止後に直ぐに
ワークをチャック面に吸着するので、両面が清浄に保た
れた状態でワークは真空チャック面に固定される。
【0010】
【実施例】図1〜図3は、この発明を実施する装置を示
すとともに、ワークを真空チャックに固定する工程を段
階的に示している。この実施例では、ワークはシリコン
ウエハであり、真空チャックは研削盤に装着されてい
る。
【0011】これら図面に示すように、真空チャック1
1は多数の通気孔13に通じる通気路12を備えてお
り、通気路12には配管15を介して圧縮空気容器1
6、圧力調節弁17、電磁切換弁18およびフィルタ1
9が接続されている。フィルタ19は真空チャック11
に供給する圧縮空気を清浄にする。また、電磁切換弁1
8には配管21を介して真空ポンプ22が接続されてい
る。
【0012】真空チャック11の上方には、キャリヤ2
5が配置されている。キャリヤ25は吸着式の保持金具
26およびガイド28を備えている。保持金具26には
配管29を介して上記真空ポンプ22および電磁切換弁
30が接続されている。キャリヤ25は、空気圧シリン
ダなどを含む駆動装置(図示しない)により昇降され
る。
【0013】キャリヤ25に隣接してリミットスイッチ
31が配置されている。リミットスイッチ31はキャリ
ヤ25の昇降を検出して、検出信号を制御装置(図示し
ない)に出力する。制御装置は電磁切換弁18,30お
よびキャリヤ25の作動を制御し、ワークを真空チャッ
クに自動的に固定する。
【0014】ここで、上記のように構成された装置によ
り、ワークを真空チャックに固定する方法について説明
する。ワークであるシリコンウエハの直径は150 mm
あるいは200 mm などであり、厚みは0.6〜0.7
mm 程度である。
【0015】図1は、清浄な空気を噴出してパーティク
ルを除去している状態を示している。保持金具26の吸
着部27は真空ポンプ22により吸気され、ワークwを
保持している。ワークwを保持したキャリヤ25が下降
して来てワーク面とチャック面との間隔が約1 mm とな
ると、リミットスイッチ31が作動してキャリヤ25は
下降を停止する。ついで、電磁切換弁18が作動して通
気孔13から清浄な空気が噴出する。噴出された空気
は、ワーク面とチャック面との間の狭い間隙を通って外
部に流出する。このとき、ワーク面およびチャック面に
付着したパーティクルは、空気流により吹き飛ばされ、
あるいは空気流に乗って外部に追い出される。空気の噴
出圧力は0.3kgf/cm2 であり、噴出時間は5秒程度で
ある。
【0016】図2は、上記パーティクル除去に続いてワ
ークwをチャック面に載せる状態を示している。パーテ
ィクル除去が終わると、直ぐに電磁切換弁18,30を
駆動し、真空チャック11への空気の供給を断つととも
に保持金具26の吸着部27の吸気を停止する。吸気の
停止により、ワークwは保持金具26を離れて落下し、
チャック面に載る。
【0017】図3は、チャック面に載せたワークwを吸
着、固定している状態を示している。ワークwがチャッ
ク面に載ると、電磁切換弁18を駆動して真空チャック
11内を真空ポンプ22により吸気して、ワークwをチ
ャック面に吸着、固定する。同時にキャリヤ25を上昇
させ、キャリヤ25が待機位置まで後退するとワークw
の研削を開始する。
【0018】この実施例では、すべての通気孔から一斉
に清浄な空気を噴出させていたが、中心部の通気孔から
外周寄りの通気孔へと順次段階的に空気(あるいはその
他のガス)を噴出させるようにしてもよい。この場合に
は、チャック面は中心部から外周部に向かって順次段階
的に清浄になって行く。
【0019】
【発明の効果】この発明では、ワーク面が真空チャック
のチャック面に近接した状態で清浄なガスを噴出させて
パーティクルを除去し、直ちにワークをチャック面に固
定する。したがって、清浄なチャック面にワークを固定
することができ、高精度でワークを加工することができ
る。
【0020】また、清浄なガスの供給源を設置するだけ
でよいので、既設の設備であってもこの発明を容易に実
施することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の方法を説明するもので、空気を噴出
してパーティクルを除去している状態を示す図面であ
る。
【図2】上記パーティクル除去に続いてワークをチャッ
ク面に載せる状態を示す図面である。
【図3】チャック面に載せたワークを吸着、固定してい
る状態を示す図面である。
【符号の説明】
11 真空チャック 12 通気路 13 通気孔 16 圧縮空気容器 17 圧力調節弁 18 電磁切換弁 19 フィルタ 22 真空ポンプ 25 キャリヤ 26 保持金具 28 ガイド 30 電磁切換弁

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワーク面が真空チャックのチャック面に
    近接した状態で、ワーク面とチャック面との間に真空チ
    ャックの通気孔から清浄なガスを噴出させ、引き続きワ
    ーク面とチャック面との間を通気孔を通じて吸気し、ワ
    ークをチャック面に吸着、固定することを特徴とする真
    空チャックによるワーク固定方法。
JP9066492A 1992-04-10 1992-04-10 真空チャックによるワーク固定方法 Withdrawn JPH05285765A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6202292B1 (en) * 1998-08-26 2001-03-20 Micron Technology, Inc. Apparatus for removing carrier film from a semiconductor die
JP2007152438A (ja) * 2005-11-30 2007-06-21 Nec Electronics Corp 半導体製造装置及びその製造方法

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