JPH0528261B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、合成樹脂の安定化剤に関し、合成樹
脂の高温分解を抑制する新規な安定剤として有用
である。 本発明の安定剤を配合した樹脂組成物は、自動
車の外装材、中空容器、ビールクレート、シート
成形材料として有用である。 〔従来技術〕 一般に、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ABS等の合成樹脂は、押出成形、射出成形、圧
縮成形等の加熱成形加工を行う際に、熱及び酸素
を主体とする劣化をおこしやすい。これが原因と
なつて合成樹脂加工製品の機械的性質の低下等を
悪化を生じ易く、著しい不利益をまねく欠点をも
つている。 かかる欠点を除くために、一種又は数種の熱安
定剤を合成樹脂に添加して、加工工程における熱
劣化を抑制する必要がある。かかる目的のため
に、従来アルキルフエノール化合物の安定剤が合
成樹脂に配合され使用されている。しかしなが
ら、従来の安定剤は非常に苛酷な酸化条件下で
は、必ずしも充分には有効でない欠点が有る。 〔問題点を解決する具体的手段〕 従来の安定剤に随伴するかかる欠点を解決する
ために、本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、
フエノール残基を含有するある種のピラジン誘導
体を所望する合成樹脂に添加するならば、すぐれ
た熱安定性を有する合成樹脂が得られることを見
い出した。 (発明の構成) 本発明は、次の一般式()を有するピペラジ
ン誘導体よりなるポリオレフイン樹脂用の安定剤
を提供するものである。 〔式中、R及びR′は水素原子あるいは、炭素数
1〜6のアルキル基を示し、それぞれ異つてもよ
い。R1及びR2は水素原子あるいは炭素数1〜16
のアルキル基又はシクロアルキル基を示す。〕 上記式()で示される安定剤としての代表的
な化合物の示性式を次に示す。これらの化合物に
付した番号は、後記の実施例及び応用例中でこれ
らの化合物を指示するものとする。 N,N′−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−2−
ヒドロキシペンジル)ピペラジン (融点:約261−262℃) N,N′−ビス(3,5−ジ−ブチル−2−ヒド
ロキシベンジル)−2,5−ジメチルピペラジン N,N′−ビス(3−t−ブチル−5−メチル−
2−ヒドロキシベンジル)ピペラジン N,N′−ビス〔2−ヒドロキシ−3−(1−メチ
ルシクロヘキシル)−4−メチル−ベンジル〕ピ
ペラジン 〔式中、Xはターシヤリーブチル基を示す。〕 前記一般式()で表わされるピペラジン誘導
体は、合成樹脂100重量部に対して0.001〜10重量
部、好ましくは0.05〜2重量部の割合で用いる。 (他の添加剤) 本発明の安定剤を含有する合成樹脂に、加工成
形時あるいは製品となつた後の酸化劣化を防止す
る目的で、フエノール系酸化防止剤、ホスフアイ
ト系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等を適宜使用
できる。 かかるフエノール系酸化防止剤を具体例として
は、1,3,5−トリス〔3,5−ジ−t−ブチ
ルフエニル)ブタン、1,3,5−トリス(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
−2,4,6−トリメチルベンゼン、テトラキス
〔メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフエニル)プロピオネート〕メタン、
1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、
1,3,5−トリス〔(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフエニル)プロピロピオニルオ
キシエチル〕イソシアヌレート、2−オクチルチ
オ−4,6−ジ(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−
t−ブチル)フエノキシ−1,3,5−トリアジ
ン、4,4′−チオビス(6−t−ブチル−m−ク
レゾール)、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルフエニル)プロピオネー
ト等があげあれる。 オスフアイト系酸化防止剤の具体例としては、
ジフエニルデシルホスフアイト、トリフエニルホ
スフアイト、トリス−ノニルフエニルホスフアイ
ト、トリデシルホスフアイト、トリス(2−エチ
ルヘキシル)ホスフアイト、トリブチルホスフア
イト、ジラウリルアシドホスフアイト、ジブチル
アシドホスフアイト、トリス(ジノニルフエニ
ル)ホスフアイト、トリラウリルトリチオホスフ
アイト、トリラウリルホスフアイト、ビス(ネオ
ペンチルグリコール)1,4−シクロヘキサンジ
メチレンホスフアイト、ジステアリルペンタエリ
スリトールジホスフアイト、ジイソデシルペンタ
エリスリトールジホスフアイト、ジフエニルアミ
ドホスフアイト、トリス(ラウリル−2−チオエ
チル)ホスフアイト、トリス(モノ−ジ混合ノニ
ルフエニル)ホスフアイト、水素化−4,4′−イ
ソプロピリデンジフエノールボリホスフアイト、
ジフエニル・ビス〔4,4′−n−ブチリデンビス
(2−第3ブチル−5−メチルフエノール)〕チオ
ジエタノールジホスフアイト、ビス(オクチルフ
エニル)・ビス〔4,4′−n−ブチリデンビス
(2−第3ブチル−5−メチルフエノール)〕1,
6ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニル・
4,4′−イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、フエニルジイソ
デシルホスフアイト、テトラトリデシル−4,
4′−n−ブチリデンビス(2−第3ブチル−5−
メチルフエノール)ジホスフアイト、テトラトリ
デシル−1,1,3−トリス(2′−メチル−5′−
第3ブチル−4′−オキシフエニル)ブタンジホス
フアイト、テトラ(C12〜C15混合アルキル)4,
4′−イソプロピリデンジフエニルジホスフアイ
ト、トリス(4−オキシ−2,5−ジ第3ブチル
フエニル)ホスフアイト、トリス(4−オキシ−
3,5−ジ−第3ブチルフエニル)ホスフアイ
ト、2−エチルヘキシルジフエニルホスフアイト
等があげられる。 硫黄系抗酸化剤としては、ジステアリルチオジ
プロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(β−ラウリル
プロピオネート)、1,3,5−トリス−β−ス
テアリルチオプロピオニルオキシエチルイソシア
ヌレート等があげられる。 これら安定剤は、合成樹脂100重量部に対し、
それぞれ0.1〜2重量部の割合で用いる。 その他に、使用に応じて、紫外線吸収剤をさら
に添加することにより耐候性を向上させうる。こ
れらには、ベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾー
ル系、サクシネート系、置換アクリロニトリル
系、ニツケル錯体などの化合物が包含される。 その他必要に応じて、顔料、充填剤、発泡剤、
帯電防止剤、防曇剤、表面処理剤、滑剤、難燃
剤、金属不活性剤、増核剤、金属石けん、透明化
剤、加工助剤、防黴剤、殺菌剤、離型剤などを合
成樹脂に配合してもよい。 (合成樹脂) 本発明の安定剤が配合される合成樹脂として
は、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン
等のα−オレフイン重合体及びエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体な
どのポリオレフイン及びこれらの共重合体であ
る。 次に、一般式()で示した化合物の合成例の
一部を記す。これらの製法は単なる一例であり、
これ以外の製法も可能であり、下記の製法によつ
て本発明は何ら制限を受けるものではない。 実施例 1 (例示化合物番号1) 四ツ口フラスコ内に、ホルマリン8.0g(37重
量%水溶液)とエタノール20mlを加え、窒素気流
中で撹拌し、2,4−ジ−t−ブチルフエノール
20gをエタノール60mlで溶かした溶液をゆつくり
滴下した。 滴下終了後、ピペラジン3.5gをエタノール20
mlに溶解し、その溶液をゆつくり滴下した。滴下
終了後、60〜65℃で4時間加熱すると、白色の結
晶が析出した。 この結晶を別し、シクロヘキサンより再結晶
を行い目的物16.5gを得た(収率63%)。 (分析値)1 H−NMR吸収スペクトル(CDCl3、δ(ppm)〕 1.28(18H、S)、1.42(18H、S)、2.63(8H、
S)、3.69(4H、S)、6.80(2H、d)、7.20(2H、
S)、10.56(2H、S) IR吸収スペクトル〔KBr、波数(cm-1)〕 2975、1481、1460、1438、1369、1255、1238 MS〔m/e、(相対強度)〕 523(33、M+)、507(32)、304(59)、303(62)、
276(27)、219(100)、203(62) 次に応用例によつて、本発明の化合物の安定化
効果を例示する。 応用例1〜2、比較応用例1〜2 135℃テトラリン中で測定した極限粘度が1.9で
アイソタクチツクなものが98%のポリプロピレン
粉末100重量部に安定剤を第1表に示す量添加し
てミキサーで充分混合した。そしてシリンダー温
度260℃で、L/D=20、20mm径の押出機によつ
て溶融混練して造粒した。 こうして得られたペレツトの230℃でのMFR
(JIS K−6758)を測定してMFR1とした。更に、
同上条件で押出機を繰り返して3回通し、得られ
たペレツトの230℃でのMFRをMFR4とした。
MFRは分子量の一つの指標であり、MFRが大き
いということは分子量が小さいことに対応する。
即ち、MFR1およびMFR4が小さく、MFR1と
MFR4の差が小さいということは、押出機中での
酸化劣化による分子量の低下が小さいということ
であり、安定剤を用いている場合には安定剤の効
果が大きいということである。結果は第1表に示
す通りである。 【表】
脂の高温分解を抑制する新規な安定剤として有用
である。 本発明の安定剤を配合した樹脂組成物は、自動
車の外装材、中空容器、ビールクレート、シート
成形材料として有用である。 〔従来技術〕 一般に、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ABS等の合成樹脂は、押出成形、射出成形、圧
縮成形等の加熱成形加工を行う際に、熱及び酸素
を主体とする劣化をおこしやすい。これが原因と
なつて合成樹脂加工製品の機械的性質の低下等を
悪化を生じ易く、著しい不利益をまねく欠点をも
つている。 かかる欠点を除くために、一種又は数種の熱安
定剤を合成樹脂に添加して、加工工程における熱
劣化を抑制する必要がある。かかる目的のため
に、従来アルキルフエノール化合物の安定剤が合
成樹脂に配合され使用されている。しかしなが
ら、従来の安定剤は非常に苛酷な酸化条件下で
は、必ずしも充分には有効でない欠点が有る。 〔問題点を解決する具体的手段〕 従来の安定剤に随伴するかかる欠点を解決する
ために、本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、
フエノール残基を含有するある種のピラジン誘導
体を所望する合成樹脂に添加するならば、すぐれ
た熱安定性を有する合成樹脂が得られることを見
い出した。 (発明の構成) 本発明は、次の一般式()を有するピペラジ
ン誘導体よりなるポリオレフイン樹脂用の安定剤
を提供するものである。 〔式中、R及びR′は水素原子あるいは、炭素数
1〜6のアルキル基を示し、それぞれ異つてもよ
い。R1及びR2は水素原子あるいは炭素数1〜16
のアルキル基又はシクロアルキル基を示す。〕 上記式()で示される安定剤としての代表的
な化合物の示性式を次に示す。これらの化合物に
付した番号は、後記の実施例及び応用例中でこれ
らの化合物を指示するものとする。 N,N′−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−2−
ヒドロキシペンジル)ピペラジン (融点:約261−262℃) N,N′−ビス(3,5−ジ−ブチル−2−ヒド
ロキシベンジル)−2,5−ジメチルピペラジン N,N′−ビス(3−t−ブチル−5−メチル−
2−ヒドロキシベンジル)ピペラジン N,N′−ビス〔2−ヒドロキシ−3−(1−メチ
ルシクロヘキシル)−4−メチル−ベンジル〕ピ
ペラジン 〔式中、Xはターシヤリーブチル基を示す。〕 前記一般式()で表わされるピペラジン誘導
体は、合成樹脂100重量部に対して0.001〜10重量
部、好ましくは0.05〜2重量部の割合で用いる。 (他の添加剤) 本発明の安定剤を含有する合成樹脂に、加工成
形時あるいは製品となつた後の酸化劣化を防止す
る目的で、フエノール系酸化防止剤、ホスフアイ
ト系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等を適宜使用
できる。 かかるフエノール系酸化防止剤を具体例として
は、1,3,5−トリス〔3,5−ジ−t−ブチ
ルフエニル)ブタン、1,3,5−トリス(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
−2,4,6−トリメチルベンゼン、テトラキス
〔メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフエニル)プロピオネート〕メタン、
1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、
1,3,5−トリス〔(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフエニル)プロピロピオニルオ
キシエチル〕イソシアヌレート、2−オクチルチ
オ−4,6−ジ(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−
t−ブチル)フエノキシ−1,3,5−トリアジ
ン、4,4′−チオビス(6−t−ブチル−m−ク
レゾール)、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルフエニル)プロピオネー
ト等があげあれる。 オスフアイト系酸化防止剤の具体例としては、
ジフエニルデシルホスフアイト、トリフエニルホ
スフアイト、トリス−ノニルフエニルホスフアイ
ト、トリデシルホスフアイト、トリス(2−エチ
ルヘキシル)ホスフアイト、トリブチルホスフア
イト、ジラウリルアシドホスフアイト、ジブチル
アシドホスフアイト、トリス(ジノニルフエニ
ル)ホスフアイト、トリラウリルトリチオホスフ
アイト、トリラウリルホスフアイト、ビス(ネオ
ペンチルグリコール)1,4−シクロヘキサンジ
メチレンホスフアイト、ジステアリルペンタエリ
スリトールジホスフアイト、ジイソデシルペンタ
エリスリトールジホスフアイト、ジフエニルアミ
ドホスフアイト、トリス(ラウリル−2−チオエ
チル)ホスフアイト、トリス(モノ−ジ混合ノニ
ルフエニル)ホスフアイト、水素化−4,4′−イ
ソプロピリデンジフエノールボリホスフアイト、
ジフエニル・ビス〔4,4′−n−ブチリデンビス
(2−第3ブチル−5−メチルフエノール)〕チオ
ジエタノールジホスフアイト、ビス(オクチルフ
エニル)・ビス〔4,4′−n−ブチリデンビス
(2−第3ブチル−5−メチルフエノール)〕1,
6ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニル・
4,4′−イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、フエニルジイソ
デシルホスフアイト、テトラトリデシル−4,
4′−n−ブチリデンビス(2−第3ブチル−5−
メチルフエノール)ジホスフアイト、テトラトリ
デシル−1,1,3−トリス(2′−メチル−5′−
第3ブチル−4′−オキシフエニル)ブタンジホス
フアイト、テトラ(C12〜C15混合アルキル)4,
4′−イソプロピリデンジフエニルジホスフアイ
ト、トリス(4−オキシ−2,5−ジ第3ブチル
フエニル)ホスフアイト、トリス(4−オキシ−
3,5−ジ−第3ブチルフエニル)ホスフアイ
ト、2−エチルヘキシルジフエニルホスフアイト
等があげられる。 硫黄系抗酸化剤としては、ジステアリルチオジ
プロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(β−ラウリル
プロピオネート)、1,3,5−トリス−β−ス
テアリルチオプロピオニルオキシエチルイソシア
ヌレート等があげられる。 これら安定剤は、合成樹脂100重量部に対し、
それぞれ0.1〜2重量部の割合で用いる。 その他に、使用に応じて、紫外線吸収剤をさら
に添加することにより耐候性を向上させうる。こ
れらには、ベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾー
ル系、サクシネート系、置換アクリロニトリル
系、ニツケル錯体などの化合物が包含される。 その他必要に応じて、顔料、充填剤、発泡剤、
帯電防止剤、防曇剤、表面処理剤、滑剤、難燃
剤、金属不活性剤、増核剤、金属石けん、透明化
剤、加工助剤、防黴剤、殺菌剤、離型剤などを合
成樹脂に配合してもよい。 (合成樹脂) 本発明の安定剤が配合される合成樹脂として
は、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン
等のα−オレフイン重合体及びエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体な
どのポリオレフイン及びこれらの共重合体であ
る。 次に、一般式()で示した化合物の合成例の
一部を記す。これらの製法は単なる一例であり、
これ以外の製法も可能であり、下記の製法によつ
て本発明は何ら制限を受けるものではない。 実施例 1 (例示化合物番号1) 四ツ口フラスコ内に、ホルマリン8.0g(37重
量%水溶液)とエタノール20mlを加え、窒素気流
中で撹拌し、2,4−ジ−t−ブチルフエノール
20gをエタノール60mlで溶かした溶液をゆつくり
滴下した。 滴下終了後、ピペラジン3.5gをエタノール20
mlに溶解し、その溶液をゆつくり滴下した。滴下
終了後、60〜65℃で4時間加熱すると、白色の結
晶が析出した。 この結晶を別し、シクロヘキサンより再結晶
を行い目的物16.5gを得た(収率63%)。 (分析値)1 H−NMR吸収スペクトル(CDCl3、δ(ppm)〕 1.28(18H、S)、1.42(18H、S)、2.63(8H、
S)、3.69(4H、S)、6.80(2H、d)、7.20(2H、
S)、10.56(2H、S) IR吸収スペクトル〔KBr、波数(cm-1)〕 2975、1481、1460、1438、1369、1255、1238 MS〔m/e、(相対強度)〕 523(33、M+)、507(32)、304(59)、303(62)、
276(27)、219(100)、203(62) 次に応用例によつて、本発明の化合物の安定化
効果を例示する。 応用例1〜2、比較応用例1〜2 135℃テトラリン中で測定した極限粘度が1.9で
アイソタクチツクなものが98%のポリプロピレン
粉末100重量部に安定剤を第1表に示す量添加し
てミキサーで充分混合した。そしてシリンダー温
度260℃で、L/D=20、20mm径の押出機によつ
て溶融混練して造粒した。 こうして得られたペレツトの230℃でのMFR
(JIS K−6758)を測定してMFR1とした。更に、
同上条件で押出機を繰り返して3回通し、得られ
たペレツトの230℃でのMFRをMFR4とした。
MFRは分子量の一つの指標であり、MFRが大き
いということは分子量が小さいことに対応する。
即ち、MFR1およびMFR4が小さく、MFR1と
MFR4の差が小さいということは、押出機中での
酸化劣化による分子量の低下が小さいということ
であり、安定剤を用いている場合には安定剤の効
果が大きいということである。結果は第1表に示
す通りである。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式、 〔式中、R及びR′は水素原子あるいは、炭素数
1〜6のアルキル基を示し、それぞれ異つてもよ
い。R1及びR2は、水素原子あるいは炭素数1〜
16のアルキル基またはシクロアルキル基を示す。〕 で表わされるピペラジン誘導体よりなるポリオレ
フイン樹脂用の安定剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16910285A JPS6230134A (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | 合成樹脂用安定剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16910285A JPS6230134A (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | 合成樹脂用安定剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6230134A JPS6230134A (ja) | 1987-02-09 |
JPH0528261B2 true JPH0528261B2 (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=15880343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16910285A Granted JPS6230134A (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | 合成樹脂用安定剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6230134A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02153827A (ja) * | 1988-12-02 | 1990-06-13 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | ガラス溶融槽のノズル部に於けるガラス吐出流量調整方法 |
ATE184582T1 (de) * | 1993-02-25 | 1999-10-15 | Owens Brockway Glass Container | Glasspeisevorrichtung mit mehreren öffnungen |
KR980700953A (ko) * | 1994-12-22 | 1998-04-30 | 가마쿠라 아키오 | 페놀 화합물 및 그의 용도(Phenolic compounds and uses thereof) |
WO2009078394A1 (ja) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | 4-ヒドロキシフェニルアルキルアミン誘導体 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3549587A (en) * | 1967-01-06 | 1970-12-22 | Ici Ltd | Stabilisation of polymers |
-
1985
- 1985-07-31 JP JP16910285A patent/JPS6230134A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3549587A (en) * | 1967-01-06 | 1970-12-22 | Ici Ltd | Stabilisation of polymers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6230134A (ja) | 1987-02-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |