JPH0526136B2 - - Google Patents

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JPH0526136B2
JPH0526136B2 JP58065420A JP6542083A JPH0526136B2 JP H0526136 B2 JPH0526136 B2 JP H0526136B2 JP 58065420 A JP58065420 A JP 58065420A JP 6542083 A JP6542083 A JP 6542083A JP H0526136 B2 JPH0526136 B2 JP H0526136B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspected
pattern
defect inspection
repeating pattern
digital signal
Prior art date
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Application number
JP58065420A
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Japanese (ja)
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JPS59192943A (en
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Haruo Yoda
Yozo Oochi
Yutaka Sako
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS59192943A publication Critical patent/JPS59192943A/en
Publication of JPH0526136B2 publication Critical patent/JPH0526136B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Closed-Circuit Television Systems (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、繰返しパターンを含む部分が所定ピ
ツチにて配列された被検査物の欠陥を摘出する装
置に係り、特にウエハ上に集積された半導体メモ
リの外観検査に好適な繰返しパターンの欠陥検査
装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to an apparatus for extracting defects in an object to be inspected in which portions including repetitive patterns are arranged at a predetermined pitch, and in particular to a device for extracting defects in a semiconductor integrated on a wafer. The present invention relates to a repetitive pattern defect inspection device suitable for visual inspection of memory.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

従来、繰返しパターンの検査の対象とする被検
査物の1つに、半導体(シリコンなど)のウエハ
が挙げられる。ウエハは酸化、フオトレジスト加
工、拡散、薄膜の形成、蒸着などの各ウエハ処理
工程を経て、ウエハ上に回路のパターンが形成さ
れていく。
2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor (silicon or the like) wafer is one of the objects to be inspected for repetitive pattern inspection. A circuit pattern is formed on the wafer through various wafer processing steps such as oxidation, photoresist processing, diffusion, thin film formation, and vapor deposition.

特に、半導体メモリが作り込まれたウエハでは
繰返しパターンであるチツプが所定ピツチにて配
列されて形成される。そして、隣接し合うチツプ
の間には、ウエハを個々のチツプに分割するため
の切り代が等間隔で存在する。
In particular, a wafer on which a semiconductor memory is fabricated is formed with a repeating pattern of chips arranged at a predetermined pitch. Cutting margins for dividing the wafer into individual chips exist at equal intervals between adjacent chips.

従来、この種の検査装置は第1図に示すように
2台の撮像装置1a,1bを持ち、一方はある繰
返しパターン5aを、他方は同一のパターンを持
つ別の繰返しパターン5bを撮像し、その映像信
号2a,2bを比較回路3で比較して不一致部分
から欠陥部を推定するように構成していた。
Conventionally, this type of inspection apparatus has two imaging devices 1a and 1b as shown in FIG. 1, one of which images a certain repeating pattern 5a, and the other imaging another repeating pattern 5b of the same pattern. The video signals 2a and 2b are compared by a comparison circuit 3, and the defective portion is estimated from the mismatched portion.

しかし、このような装置では微細なパターンの
検査を行なうと、撮像系が精密高倍率になるにつ
れ、2つの撮像系間のわずかな位置ずれやピント
のずれ、またわずかな照明状態の違い、レンズ系
の歪状況の違いなどが映像信号の大きな違いとし
て現われ、そのため誤り検出(虚報)が避けられ
ず、検査装置として使えない、という問題点があ
つた。
However, when inspecting minute patterns with such equipment, as the imaging system becomes more precise and has a high magnification, there may be slight positional deviations or out-of-focus between the two imaging systems, slight differences in lighting conditions, or lens The problem was that differences in system distortion appeared as large differences in the video signals, and as a result, false detections (false alarms) were unavoidable and the system could not be used as an inspection device.

この種の技術に関する従来例としては、特開昭
54−19664号公報に記載されている。
As a conventional example of this type of technology,
It is described in Publication No. 54-19664.

また、被検査物には繰返しパターン以外の箇所
が存在する場合もある。例えば、被検査物がウエ
ハの場合には、個々のチツプに分割するための切
り代の部分がこれにあたる。この場合、繰返しパ
ターン以外の箇所を比較して不一致部分から欠陥
部を推定する必要はない。なぜなら、繰返しパタ
ーン以外の箇所は繰返しパターンが配列されてい
ないので、その箇所の不一致部分も欠陥としてい
まうと、誤り検出(虚報)を生ずる結果になるか
らである。
Furthermore, the object to be inspected may have locations other than the repeating pattern. For example, if the object to be inspected is a wafer, this corresponds to the cutting margin for dividing it into individual chips. In this case, there is no need to compare locations other than the repeated patterns and estimate the defective portion from the mismatched portions. This is because repeating patterns are not arranged in locations other than the repeating pattern, so if the non-matching portion at that location is also treated as a defect, an error detection (false alarm) will result.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上記実情にかんがみてなされたもので
あり、その目的とするところは、比較すべき2つ
の映像信号の撮像条件をできるだけ完全に一致さ
せ、本来検査すべき繰返しパターン同士のみを検
査することにより、比較的安価で微細なパターン
の検査が可能なパターン欠陥検査装置を提供する
ことである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to match the imaging conditions of two video signals to be compared as completely as possible, and to inspect only the repetitive patterns that should originally be inspected. Therefore, it is an object of the present invention to provide a pattern defect inspection device capable of inspecting fine patterns at a relatively low cost.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

そのため、本発明では検査の対象を、半導体メ
モリのウエハのように微細な繰返しパターンを含
む部分が所定ピツチにて繰返し配列される繰返し
パターンを有する被検査物とし、次のような構成
をとることで上記の目的を達成した。
Therefore, in the present invention, the object to be inspected is an object to be inspected that has a repeating pattern in which a portion including a fine repeating pattern is repeatedly arranged at a predetermined pitch, such as a semiconductor memory wafer, and has the following configuration. achieved the above objectives.

本願第1の発明は、被検査物を走査して映像信
号を得る撮像手段を備えて、繰返しパターンを含
む部分が所定ピツチにて配列された被検査物の外
観を検査する繰返しパターンの欠陥検査装置にお
いて、被検査物を固定し移動させる移動台と、撮
像手段により得た映像信号を多値のデイジタル信
号に変換する変換手段と、変換手段により変換さ
れた第1の多値のデイジタル信号と、変換手段に
て変換された少なくとも所定ピツチ前の第2の多
値のデイジタル信号とを比較する比較手段と、比
較手段により比較した結果を記憶する記憶手段
と、繰返しパターンの検査開始座標および検査終
了座標を記憶し、移動台に固定された被検査物が
移動して、繰返しパターンの検査開始座標になつ
たときに、記憶手段における記憶を開始させ、繰
返しパターンの検査終了座標になつたときに記憶
手段での記憶を終了される起動制御手段とを備
え、繰返しパターンの欠陥を検査するものであ
る。
The first invention of the present application is a repeating pattern defect inspection for inspecting the appearance of an inspected object in which portions including repeated patterns are arranged at a predetermined pitch, which is equipped with an imaging means that scans the inspected object and obtains a video signal. The apparatus includes: a movable table for fixing and moving an object to be inspected; a converting means for converting a video signal obtained by the imaging means into a multi-value digital signal; and a first multi-value digital signal converted by the converting means. , a comparison means for comparing the second multi-valued digital signal converted by the conversion means at least a predetermined pitch before, a storage means for storing the comparison result by the comparison means, and an inspection start coordinate of the repetitive pattern and the inspection. The end coordinates are memorized, and when the inspected object fixed on the movable stage moves and reaches the inspection start coordinates of the repeated pattern, storage in the storage means is started, and when the inspection end coordinates of the repeated pattern are reached. and an activation control means for terminating the storage in the storage means, and inspects the repeated pattern for defects.

さらに、本願第2の発明は、被検査物を走査し
て映像信号を得る撮像手段を備えて、繰返しパタ
ーンを含む部分が所定ピツチにて配列された被検
査物の外観を検査する繰返しパターンの欠陥検査
装置において、被検査物を固定し移動させる移動
台と、撮像手段により得た映像信号を多値のデイ
ジタル信号に変換する変換手段と、変換手段によ
り変換された多値のデイジタル信号を所定ピツチ
分遅らせる遅延手段と、変換手段により変換され
た第1の多値のデイジタル信号と、遅延手段によ
り所定ピツチ分遅らせた第2の多値のデイジタル
信号とを比較手段と、比較手段により比較した結
果を記憶する記憶手段と、繰返しパターンの検査
開始座標および検査終了座標を記憶し、移動台に
固定された被検査物が移動して、繰返しパターン
の検査開始座標になつたときに、記憶手段におけ
る記憶を開始させ、繰返しパターンの検査終了座
標になつたときに記憶手段での記憶を終了させる
起動制御手段とを備え、繰返しパターンの欠陥を
検査するものである。
Furthermore, the second invention of the present application is provided with an imaging means for scanning an object to be inspected and obtaining a video signal, and for inspecting the appearance of an object to be inspected in which portions including the repeating pattern are arranged at a predetermined pitch. A defect inspection device includes a movable table for fixing and moving an object to be inspected, a conversion means for converting a video signal obtained by an imaging means into a multi-value digital signal, and a converting means for converting the multi-value digital signal converted by the conversion means into a predetermined value. The comparison means compares the first multi-value digital signal converted by the delay means delayed by a pitch, the first multi-value digital signal converted by the conversion means, and the second multi-value digital signal delayed by a predetermined pitch by the delay means. A storage means for storing the results, and a storage means for storing the inspection start coordinates and inspection end coordinates of the repeated pattern, and when the inspected object fixed to the movable table moves and reaches the inspection start coordinates of the repeated pattern. and an activation control means for starting storage in the storage means and for terminating the storage in the storage means when the inspection end coordinate of the repeated pattern is reached, and the repeated pattern is inspected for defects.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明の一実施例を第2図〜第8図によ
つて説明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 2 to 8.

第2図は、本実施例の全体構成図である。4〜
10は被検査物を撮像して電気信号に変えるため
の撮像系であり、4は被検査物、5a,5bは被
検査物上の繰返しパターン、6は被検査物を固定
し移動させる移動台、7は位置検出器、8は移動
台制御回路、9は照明器、10は被検査物の像を
1次元的に走査して電気信号に変換するラインセ
ンサを示す。すなわち、被検査物4は移動台6上
に固定され、移動台は移動台制御回路8によつて
X方向に等速に移動される。繰返しパターン5a
は照明器9によつて照明され、その像はラインセ
ンサ10上に結像する。したがつて、ラインセン
サを繰返し駆動することにより、繰返しパターン
5aの像が映像信号S10として出力されること
になる。この時、5aと同一の繰返しパターン5
bがX方向に配置されているとすれば、全く同じ
映像信号が5aと5bの位置の差分だけ遅れて映
像信号S10として出力されることになる。一般
に、半導体メモリでは、同一の繰返しパターンを
含む部分が所定ピツチにて配列されているので、
前記の所定ピツチ分の時間遅らせた映像信号とそ
の時点での映像信号を比較すれば、不一致部分と
してパターン欠陥が検出できることになる。第2
図に示される回路ブロツクはこのような機能を実
現するためのものである。
FIG. 2 is an overall configuration diagram of this embodiment. 4~
10 is an imaging system for capturing an image of the object to be inspected and converting it into an electrical signal; 4 is the object to be inspected; 5a and 5b are repeating patterns on the object; 6 is a moving table for fixing and moving the object to be inspected; , 7 is a position detector, 8 is a moving table control circuit, 9 is an illuminator, and 10 is a line sensor that one-dimensionally scans the image of the object to be inspected and converts it into an electric signal. That is, the object to be inspected 4 is fixed on the moving table 6, and the moving table is moved at a constant speed in the X direction by the moving table control circuit 8. Repeat pattern 5a
is illuminated by an illuminator 9, and its image is formed on a line sensor 10. Therefore, by repeatedly driving the line sensor, the image of the repetitive pattern 5a is output as the video signal S10. At this time, the same repeating pattern 5 as 5a
If b is arranged in the X direction, the exact same video signal will be output as the video signal S10 with a delay of the difference between the positions of 5a and 5b. Generally, in semiconductor memory, parts containing the same repeating pattern are arranged at a predetermined pitch.
By comparing the video signal delayed by the predetermined pitch with the video signal at that point in time, a pattern defect can be detected as a mismatched portion. Second
The circuit blocks shown in the figure are for realizing such functions.

ラインセンサ10の出力信号S10はAD変換
器11によつてデイジタル信号S11に変換され
る。これは、アナログ信号よりもデイジタル信号
の方が以下の処理が容易になるためである。デイ
ジタル製造信号11は遅れ回路12によつて前記
の所定ピツチ分だけ電気的に遅らされ、もとの信
号S11と比較回路13によつて比較される。比
較回路13は信号S11とS12の差をとりその
差がある閾値よりも大きい時に“1”、小さい時
に“0”となる2値映像信号S13を出力する回
路である。すなわち、映像信号S13は欠陥候補
領域だけが”1”となる欠陥映像信号である。
The output signal S10 of the line sensor 10 is converted into a digital signal S11 by an AD converter 11. This is because the following processing is easier with digital signals than with analog signals. The digital manufacturing signal 11 is electrically delayed by the aforementioned predetermined pitch by the delay circuit 12, and compared with the original signal S11 by the comparator circuit 13. The comparison circuit 13 is a circuit that takes the difference between the signals S11 and S12 and outputs a binary video signal S13 which is "1" when the difference is greater than a certain threshold value and "0" when it is smaller. That is, the video signal S13 is a defective video signal in which only the defective candidate area is "1".

欠陥映像信号S13には、実際には繰返しパタ
ーンの微小な形状バラツキや、位置合わせ誤差な
どにより、ノイズの含まれることが多い。欠陥判
定回路14はこのようなノイズを含む欠陥映像S
13の中から信頼すべき欠陥部のみを抽出する回
路である。この機能は例えば後に詳述するように
欠陥の面積がある閾値以上あることを判定するこ
とによつて実現できる。
In reality, the defective video signal S13 often contains noise due to minute variations in the shape of the repetitive pattern, alignment errors, and the like. The defect determination circuit 14 detects a defective image S containing such noise.
This circuit extracts only reliable defective parts from 13. This function can be realized, for example, by determining that the area of the defect is greater than or equal to a certain threshold, as will be described in detail later.

15は欠陥データ記憶回路であり、欠陥判定回
路からの欠陥検知信号S14を受け、その時点の
移動台位置及びラインセンサ内での走査座標yを
各々位置検出器7、タイミング回路16から入力
して記憶回路に記憶する回路である。この記憶デ
ータは、被検査物の映像入力が終了した後に、計
算機19に読み込まれて、欠陥位置データとして
オペレータに表示するなどの利用がなされる。
Reference numeral 15 denotes a defect data storage circuit, which receives the defect detection signal S14 from the defect determination circuit and inputs the moving table position at that time and the scanning coordinate y within the line sensor from the position detector 7 and the timing circuit 16, respectively. This is a circuit that stores data in a memory circuit. This stored data is read into the computer 19 after the input of the image of the object to be inspected is completed, and is used such as being displayed to the operator as defect position data.

16はタイミング発生回路であつて、ラインセ
ンサ10の同期信号など、装置各回路に必要な種
種のタイミングパルス、及びラインセンサ上の信
号走査座標yを作り出し、各回路に供給する回路
である。
Reference numeral 16 is a timing generation circuit that generates various timing pulses necessary for each circuit of the apparatus, such as a synchronization signal for the line sensor 10, and a signal scanning coordinate y on the line sensor, and supplies them to each circuit.

17は起動制御回路であり、あらかじめ計算機
19からセツトされた検査開始座標と検査終了座
標を記憶し、位置検出器7からの移動台位置Xが
開始座標に一致したとき“1”、終了座標に一致
した時“0”になる検査起動信号をタイミング発
生回路に与え、検査時刻を知らせる機能をもつて
いる。
Reference numeral 17 denotes a start control circuit, which stores the inspection start coordinates and inspection end coordinates set in advance from the computer 19, and outputs "1" when the movable table position X from the position detector 7 matches the start coordinates, and outputs "1" at the end coordinates. It has the function of giving a test activation signal that becomes "0" when a match occurs to the timing generation circuit to notify the test time.

以上の構成によれば、被検査物上の繰返しパタ
ーン5a,5bは次のように検査を実行すること
が可能である。まず、計算機19は繰返しパター
ンの位置から移動台の移動位置と検査の開始、終
了座標を計算し、移動台制御回路8によつて移動
台を動作させるとともに、起動制御回路17に検
査開始座標、終了座標をセツトする。タイミング
発生回路16は常時各回路に必要なタイミング信
号を送り回路を駆動させているが、起動制御回路
17から検査起動信号S17を受けると欠陥デー
タ記憶回路に対して欠陥データの記憶を開始させ
る。起動制御回路17は検査終了を検知すると、
計算機19に対して割り込みをかけ、検査が終了
したことを通知する。計算機19は、検査終了を
検知すると、欠陥データ記憶回路15から欠陥座
標を読出し、記録またはオペレータに対する表示
を行ない、1単位の検査動作を終了する。この一
連の動作を必要回数くり返せば、被検査物全面の
検査を行なうことが可能である。
According to the above configuration, the repeated patterns 5a and 5b on the object to be inspected can be inspected as follows. First, the computer 19 calculates the moving position of the moving table and the start and end coordinates of the inspection from the position of the repeating pattern, and operates the moving table by the moving table control circuit 8, and also sends the start control circuit 17 the inspection start coordinates, Set end coordinates. The timing generation circuit 16 always sends necessary timing signals to each circuit to drive the circuits, but when it receives an inspection activation signal S17 from the activation control circuit 17, it causes the defect data storage circuit to start storing defect data. When the startup control circuit 17 detects the end of the test,
An interrupt is issued to the computer 19 to notify that the test has been completed. When the computer 19 detects the completion of the inspection, it reads the defect coordinates from the defect data storage circuit 15, records them or displays them to the operator, and completes one unit of inspection operation. By repeating this series of operations a necessary number of times, it is possible to inspect the entire surface of the object to be inspected.

以上の説明においては、デイジタル映像信号S
11と、遅れ回路12を通過した信号S12と
が、位置的に完全に一致していると理想的に仮定
したが、現実には移動台の速度変動や、移動方向
の傾きなどによつて一致しない場合が多い。位置
ずれ検出回路18は、そのような場合に有効な付
加回路である。すなわち、位置にわずかの差があ
るときは、遅れ回路の遅れ時間を調節することで
補正が可能なので、後にさらに詳述する位置ずれ
検出回路によつて2つの映像の位置ずれ量を検出
し、遅れ回路12の遅れ量を補正すればよい。
In the above explanation, the digital video signal S
11 and the signal S12 that has passed through the delay circuit 12 are ideally assumed to be completely coincident in terms of position, but in reality, they may not coincide due to speed fluctuations of the moving platform, inclination of the moving direction, etc. Often not. The positional deviation detection circuit 18 is an effective additional circuit in such a case. In other words, if there is a slight difference in position, it can be corrected by adjusting the delay time of the delay circuit, so the amount of positional deviation between the two images is detected by a positional deviation detection circuit, which will be described in more detail later. What is necessary is to correct the amount of delay of the delay circuit 12.

以下、遅れ回路12、位置ずれ検出回路18、
起動制御回路17、欠陥判定回路14、欠陥デー
タ記憶回路15の詳しい実施例を説明し、本発明
が実施可能であることを明らかにする。
Below, the delay circuit 12, the positional deviation detection circuit 18,
Detailed embodiments of the activation control circuit 17, the defect determination circuit 14, and the defect data storage circuit 15 will be described to clarify that the present invention can be implemented.

まず、第3図と第4図を用いて遅れ回路12の
詳しい実施例を説明する。
First, a detailed embodiment of the delay circuit 12 will be described using FIGS. 3 and 4.

デイジタル映像信号S11はシフトレジスタ2
1a〜21dに図示していないクロツク信号
CLKによつて1データずつ入力される。この各
シフトレジスタの出力信号はタイミングパルスS
124によつて、4クロツク毎にレジスタ22a
〜22dにセツトされ、さらにそれに引きつづく
タイミング信号S122によつて、記憶回路23
に書込まれる。この時の書込み番号は信号S12
3で与えられるが、S123はタイミング信号S
120と選択回路27の動作によりカウンタ29
の内容と一致する。カウンタ29はタイミング信
号S121によつて、4クロツクに1回の割で+
1される。すなわち、これらの動作により、入力
信号S11のデータは連続する4個ずつにまとめ
られ、並列的に記憶回路23に順次書込まれるこ
とになる。
Digital video signal S11 is sent to shift register 2
Clock signals not shown in 1a to 21d
Data is input one by one using CLK. The output signal of each shift register is a timing pulse S
124, register 22a every four clocks.
~22d, and the subsequent timing signal S122 causes the memory circuit 23 to
written to. The write number at this time is signal S12
3, but S123 is given by the timing signal S
120 and the selection circuit 27, the counter 29
matches the content of The counter 29 is clocked once every four clocks by the timing signal S121.
1 will be given. That is, by these operations, the data of the input signal S11 is grouped into four consecutive data items and sequentially written in parallel to the memory circuit 23.

データの読出しは、記憶回路からの読出しデー
タがタイミング信号S124の立上り時にシフト
レジスタ24a〜24dに並列にセツトされ、図
示していないクロツク信号CLKによつてシフト
されながら、信号S125として出力され、別の
シフトレジスタ25a〜25dへと入力される。
記憶回路23からシフトレジスタへの読出しはタ
イミングパルスS124により4クロツクに1回
なので、ちようどシフトレジスタが密になると同
時に4データが入力されることになる。シフトレ
ジスタ25a〜25dからの並列出力は、選択回
路26により選択された遅れ回路出力信号S12
として出力される。読出し時の記憶回路のアドレ
スS123は、外部からの遅れ量指定データS1
8の下位2bitを除く上位ビツトのデータをカウン
タ29の内容から減算して得られる。下位2bitを
除く上位ビツトのデータとは、遅れ量を4で割つ
て、その余りを切り捨てた数であり、カウンタ内
容から減算することによりちようど記憶回路内で
遅れ時間分だけ先行して書かれたデータのアドレ
スを示すことになる。下位2bitは選択回路26の
選択信号として入力することにより、3クロツク
以下のデータ遅れ量の補正に用いる。このように
すれば、入力信号S11は遅れ量指定データS1
8に8クロツク分加えた量だけ正確に遅れて出力
信号S12として出力される。8クロツク分の余
分な遅れは、使用時に8クロツク少ない量を指定
することにすれば全く問題にならない。この実施
例においては、データを4クロツク分ずつまとめ
て並列に読出し書込みするようにしたが、このよ
うにすると記憶回路の速度がデータのクロツクよ
りも遅くて済む利点があり、より実際的である。
もちろん、データクロツクがより速い場合には、
並列データ数を増加すれば対処できることは明ら
かである。
To read data, the read data from the storage circuit is set in parallel in the shift registers 24a to 24d at the rising edge of the timing signal S124, and is output as a signal S125 while being shifted by a clock signal CLK (not shown). are input to shift registers 25a to 25d.
Since reading from the memory circuit 23 to the shift register is performed once every four clocks by the timing pulse S124, four data are inputted just as the shift register becomes denser. The parallel outputs from the shift registers 25a to 25d are the delay circuit output signal S12 selected by the selection circuit 26.
is output as Address S123 of the storage circuit at the time of reading is external delay amount designation data S1
It is obtained by subtracting the data of the upper bits of 8 excluding the lower 2 bits from the contents of the counter 29. The upper bit data excluding the lower 2 bits is the number obtained by dividing the delay amount by 4 and rounding down the remainder, and by subtracting it from the counter contents, it is written in advance in the memory circuit by the delay time. This indicates the address of the written data. The lower 2 bits are inputted as a selection signal to the selection circuit 26 and used to correct data delay amount of 3 clocks or less. In this way, the input signal S11 becomes the delay amount designation data S1.
8 plus 8 clocks, and is outputted as the output signal S12. The extra delay of 8 clocks will not be a problem at all if the amount of delay of 8 clocks is specified at the time of use. In this embodiment, the data is read and written in parallel in groups of four clocks, but this has the advantage that the speed of the storage circuit is slower than the data clock, and is more practical. .
Of course, if the data clock is faster,
It is clear that this problem can be solved by increasing the number of parallel data.

次に、第5図と第6図によつて、位置ずれ検出
回路18のより詳細な実施例を説明する。第5図
において左側に2系統の空間微分回路があり、右
側に位置ずれ検出回路がある。まず空間微分回路
から説明する。ブロツク31a〜31cはライン
センサの1走査分の画素数を持つ1ラインシフト
レジスタを、32a〜32c、33a〜33cは
各々1画素分のシフトレジスタを示す。1画素分
のシフトレジスタは、入力信号が多値のデイジタ
ル信号であるので入力信号のビツト数分のフリツ
プフロツプから構成される。この回路に入力映像
信号S11を入力し、各シフトレジスタを図示し
ていないラインセンサのサンプリングクロツクで
駆動すると、各シフトレジスタの出力である9個
の信号は映像面内の3×3画素からなる2次元局
所映像の各画素の信号に相当する。しかも、この
3×3画素の局所領域は入力映像信号と同期して
前映像面を走査する。したがつて、この3×3画
素の周辺8画素のデータを加算回路34で全加算
し、中心画素のデータを8倍回路35を通して得
た信号S35と減算回路36で差をとることによ
り、空間微分すなわち明暗変化点の強調を行うこ
とができる。この空間微分信号S36を閾値θと
比較回路37で比較し、信号S36が閾値θより
も大のとき“1”となるように2値化すれば、信
号S37は映像中の明暗境界部分だけが“1”と
なる微分2値化信号になる。一方、もうひとつの
入力映像信号S12も全く同様な回路によつて微
分2値化映像信号S57に変換される。位置ずれ
検出はこの一方の微分2値化信号の画面上の位置
を少しずらせたものと一致度を調べ、最も良く一
致している映像のずらし量を検出することで行な
われる。
Next, a more detailed embodiment of the positional deviation detection circuit 18 will be described with reference to FIGS. 5 and 6. In FIG. 5, there are two systems of spatial differentiation circuits on the left side, and a positional deviation detection circuit on the right side. First, the spatial differentiation circuit will be explained. Blocks 31a to 31c represent one line shift registers having the number of pixels for one scan of the line sensor, and blocks 32a to 32c and 33a to 33c each represent shift registers for one pixel. Since the input signal is a multi-value digital signal, the shift register for one pixel is composed of flip-flops as many as the number of bits of the input signal. When the input video signal S11 is input to this circuit and each shift register is driven by a sampling clock of a line sensor (not shown), the nine signals output from each shift register are generated from 3×3 pixels in the image plane. This corresponds to the signal of each pixel of a two-dimensional local image. Moreover, this 3×3 pixel local area scans the previous image plane in synchronization with the input video signal. Therefore, the data of the peripheral eight pixels of this 3×3 pixel are completely added in the adder circuit 34, and the difference between the data of the center pixel and the signal S35 obtained through the 8x circuit 35 and the subtracter circuit 36 is calculated. Differentiation, that is, points of change in brightness and darkness can be emphasized. If this spatially differentiated signal S36 is compared with the threshold value θ by the comparison circuit 37, and the signal S36 is binarized so that it becomes “1” when it is larger than the threshold value θ, the signal S37 will be generated only at the bright and dark boundary portion in the video. It becomes a differential binary signal that becomes "1". On the other hand, the other input video signal S12 is also converted into a differential binary video signal S57 by a completely similar circuit. Positional shift detection is performed by checking the degree of coincidence with one of the differential binarized signals whose position on the screen is slightly shifted, and detecting the amount of shift of the image that most closely matches.

次に右側の位置ずれ検出回路について説明す
る。図において38a〜38c、58a,58b
は1ラインシフトレジスタ、39a〜39c,4
0a,59aは1画素シフトレジスタである。ま
た41a〜41fはEOR(排他的論理和)ゲー
ト、42a〜42fはANDゲート、43a〜4
3fはカウンタである。このようにすると、空間
微分回路の説明で述べたと同じ理由により信号S
39a,S39c,S38b,S40aはS39
bを中心として映像上で4方向に隣接する画素信
号を表わす。ここでS39bとS59aとは、シ
フトレジスタによつて時間的に全く同じだけ遅ら
されているので、入力信号S11とS12が全く
同じものであれば全く同じ信号となり、またS3
9a,S39c,S38a,S40aはそれぞれ
S39bを空間的に1画素ずらした映像の出力信
号になる。したがつて、EORゲート41a〜4
1fによつて各々S59aと一致をとり不一致の
画素すなわち“1”の数をある一定時間カウンタ
43a〜43fで計数すれば計数値の最も小さい
パターンが最もよく一致したパターンであるの
で、計数値最小のカウンタの位置を調べることに
より、信号S11とS12の最ももつともらしい
ずれ量を知ることができる。制御信号S181,
S182はカウンタを一定周期で動かすための制
御信号であり、たとえば第6図にあるような信号
である。すなわち、S182によつてカウンタを
リセツトし、次にS181によつてある一定時間
ゲート42a〜42fをあけてEORゲート41
a〜41fの出力の“1”の数を計数する。S1
83は次にのべるレジスタ48への結果のセツト
信号であり、位置ずれ検出の最終結果をセツトす
る。
Next, the positional deviation detection circuit on the right side will be explained. In the figure, 38a to 38c, 58a, 58b
is a 1-line shift register, 39a to 39c, 4
0a and 59a are one-pixel shift registers. In addition, 41a to 41f are EOR (exclusive OR) gates, 42a to 42f are AND gates, and 43a to 4
3f is a counter. By doing this, the signal S
39a, S39c, S38b, S40a are S39
It represents pixel signals adjacent in four directions on the image with b as the center. Here, S39b and S59a are delayed by the same amount in time by the shift register, so if the input signals S11 and S12 are exactly the same, they will be the same signal, and S3
9a, S39c, S38a, and S40a are video output signals obtained by spatially shifting S39b by one pixel. Therefore, EOR gates 41a-4
1f, and the number of mismatched pixels, that is, "1", is counted by the counters 43a to 43f for a certain period of time. Since the pattern with the smallest counted value is the most matched pattern, the counted value is the smallest. By checking the position of the counter, it is possible to know the amount of deviation between the signals S11 and S12. Control signal S181,
S182 is a control signal for moving the counter at a constant cycle, such as the one shown in FIG. 6, for example. That is, the counter is reset in S182, and then the EOR gate 41 is opened by opening the gates 42a to 42f for a certain period of time in S181.
Count the number of "1" outputs from a to 41f. S1
83 is a result set signal to the next register 48, which sets the final result of positional deviation detection.

ブロツク44a,44bは最小位置検出回路で
ありカウンタの中で最小の値を示すカウンタの位
置を検出して出力する回路である。たとえば最小
位置検出回路44aはカウンタ43aの値が最も
小さければ“−1”を、43bならば“0”を、
43cならば“+1”をそれぞれ信号S44aと
して出力するもので、その結果はたて方向への位
置ずれ量を示している。同様に44bはよこ方向
の位置ずれ量を信号S44bとして“−1”、
“0”、“+1”で出力する。ブロツク45と46
は、たてよこ2次元位置ずれ量を1次元位置ずれ
量に換算する回路であり、たて方向位置ずれ量に
1ラスタ分の画素数を定数倍回路45によつて乗
算し、さらによこ方向位置ずれ量をカウンタ回路
46によつて加算する。ブロツク47と48は
各々加算回路レジスタであり、レジスタ48に記
憶されている現時点での位置ずれ量に新たに検出
された位置ずれ量を加算して新しい位置ずれ量を
レジスタ48にセツトする回路である。レジスタ
48は制御信号S183によつてセツトされ、そ
の内容はS18として前述のごとく遅れ回路12
へ入力される。以上の回路により、一定時間毎に
2つの映像S11とS12の間の位置ずれ量が検
出され、S11とS12が一致するように遅れ量
を調整することが可能になる。
Blocks 44a and 44b are minimum position detection circuits that detect and output the position of the counter that indicates the minimum value among the counters. For example, the minimum position detection circuit 44a outputs "-1" if the value of the counter 43a is the smallest, and "0" if the value of the counter 43b is the smallest.
43c, "+1" is output as the signal S44a, and the result indicates the amount of positional deviation in the vertical direction. Similarly, 44b is "-1" as signal S44b indicating the amount of positional deviation in the horizontal direction;
Output as “0” and “+1”. Blocks 45 and 46
is a circuit that converts the vertical and horizontal two-dimensional positional deviation amount into a one-dimensional positional deviation amount, which multiplies the vertical positional deviation amount by the number of pixels for one raster by a constant multiplier circuit 45, and then converts the vertical and horizontal positional deviation amount into a one-dimensional positional deviation amount. The amount of positional deviation is added by a counter circuit 46. Blocks 47 and 48 are adder circuit registers, which add the newly detected positional deviation amount to the current positional deviation amount stored in the register 48 and set the new positional deviation amount in the register 48. be. The register 48 is set by the control signal S183, and its contents are set as S18 by the delay circuit 12 as described above.
is input to. With the above circuit, the amount of positional deviation between the two images S11 and S12 is detected at regular intervals, and it becomes possible to adjust the amount of delay so that S11 and S12 match.

第7図は起動制御回路17のより詳細な実施例
である。ブロツク63,64はレジスタであり、
検査に先立つて計算機19から信号S191とし
て、検査スタート座標XS、検査ストツプ座標XE
が書込まれる。S7は位置検出器の出力信号であ
り、移動台の現在位置Xが常時S7として一致回
路61,62に入力されている。ブロツク65は
一致回路の出力信号S61,S62によつてセツ
ト、リセツトされるフリツプフロツプである。検
査開始とともに移動合がX方向に移動を開始し、
S7の位置Xがレジスタ63の検査スタート座標
XSに一致すると、フリツプフロツプ65がセツ
トされ出力信号S17が“1”となりタイミング
発生回路16に検査中であることを知らせる。移
動台がさらに移動しレジスタ64の検査ストツプ
座標XEに一致するとフリツプフロツプ65がリ
セツトされS17が“0”となりタイミング発生
回路に検査停止中であることを通知する。このよ
うにして全体検査回路の起動が制御される。
FIG. 7 shows a more detailed embodiment of the activation control circuit 17. Blocks 63 and 64 are registers,
Prior to the inspection, the computer 19 sends the inspection start coordinate X S and the inspection stop coordinate X E as a signal S191.
is written. S7 is an output signal of the position detector, and the current position X of the moving table is always inputted to the matching circuits 61 and 62 as S7. Block 65 is a flip-flop which is set and reset by output signals S61 and S62 of the coincidence circuit. As the inspection begins, the moving unit starts moving in the X direction,
Position X of S7 is the inspection start coordinate of register 63
When it matches X S , the flip-flop 65 is set and the output signal S17 becomes "1" to inform the timing generation circuit 16 that the test is being performed. When the movable table moves further and matches the inspection stop coordinate XE of the register 64, the flip-flop 65 is reset and S17 becomes "0", notifying the timing generation circuit that the inspection is being stopped. In this way, activation of the overall inspection circuit is controlled.

第8図は欠陥判定回路14と欠陥データ記憶回
路15のより詳細な実施例である。図において、
71a〜71eは1ラインシフトレジスタを、7
2a〜72e,73a〜73e,74a〜74
e,75a〜75eは1画素シフトレジスタであ
る。この回路をラインセンササンプリングクロツ
クで起動すれば、“欠陥”映像信号S13を入力
して5×5局所領域映像信号を並列に出力するこ
とができる。ブロツク76a〜76e及び77は
加算器であり、並列出力された5×5画素の局所
映像の中から“1”の数を総和する。入力信号S
13は欠陥部分が“1”となる“欠陥”映像であ
るので“1”の数は5×5局所映像内の欠陥面積
を示す。そこで、欠陥面積信号S77を閾値S7
81と比較器78で比較すれば、検知信号S78
はある程度以上欠陥が大きい場合のみ“1”、他
は“0”になりわずかなノイズによつて生ずる
“欠陥信号”を欠陥と誤まることもなく、安定し
た欠陥判定ができることになる。欠陥判定回路に
よつて“1”が出力されるとその時点での移動台
座標信号S7(X,Y)とラインセンサ走査位置
信号yがレジスタ79にセツトされ、さらにワン
シヨツト回路80によつてタイミングがとられて
記憶回路81に記憶される。ワンシヨツト回路8
0によつてS78の立上がり時のみ記憶回路81
に記憶されるため、大きな欠陥の各画素座標が連
続して記憶回路81に書込まれることは防止され
る。記憶回路の内容は信号S191として計算機
19によつて読みとられる。
FIG. 8 shows a more detailed embodiment of the defect determination circuit 14 and the defect data storage circuit 15. In the figure,
71a to 71e are 1 line shift registers, 71a to 71e are 1 line shift registers,
2a-72e, 73a-73e, 74a-74
e, 75a to 75e are one-pixel shift registers. If this circuit is activated by the line sensor sampling clock, it can input the "defect" video signal S13 and output 5.times.5 local area video signals in parallel. Blocks 76a to 76e and 77 are adders that sum up the number of "1"s from the 5.times.5 pixel local images output in parallel. Input signal S
Since 13 is a "defect" image in which the defective portion is "1", the number of "1"s indicates the defect area within the 5×5 local image. Therefore, the defect area signal S77 is set to the threshold value S7.
81 and the comparator 78, the detection signal S78
is set to "1" only when the defect is larger than a certain level, and becomes "0" otherwise, so that a "defect signal" caused by a slight noise is not mistaken as a defect, and stable defect determination can be performed. When the defect determination circuit outputs "1", the moving platform coordinate signal S7 (X, Y) and the line sensor scanning position signal y at that time are set in the register 79, and the timing is further set by the one shot circuit 80. is taken and stored in the storage circuit 81. One shot circuit 8
By 0, the memory circuit 81 is activated only at the rising edge of S78.
Therefore, the pixel coordinates of large defects are prevented from being continuously written into the storage circuit 81. The contents of the memory circuit are read by the computer 19 as a signal S191.

以上の説明により、本発明が具体的に実施可能
であることは明示された。
The above explanation clearly shows that the present invention can be implemented concretely.

なお、本発明には前記実施例の他に種々変形例
が考えられる。たとえば、第2図における遅れ回
路を単なる記憶回路とし、事前に被検査パターン
を記憶して検査時にそれをくり返し読出す方式で
も実現できる。また、繰返しパターンの間に別の
パターンがはさまれている場合には、設計データ
から計算される移動台座標によつてシフトレジス
タのクロツクを一時停止する機能を付加し、別パ
ターンの入力を無視して検査できるようにするこ
ともできる。また、撮像装置としてラインセンサ
を用いる代わりに、細く絞つた光または電子線を
被検査パターン上に1次元的に走査し、その反射
光量あるいは反射電子量を検知するようにしても
同じ効果が得られる。
It should be noted that various modifications of the present invention are possible in addition to the above-mentioned embodiments. For example, the delay circuit in FIG. 2 may be replaced with a mere memory circuit, and the pattern to be tested may be stored in advance and read out repeatedly during testing. In addition, if another pattern is sandwiched between repeating patterns, a function has been added to temporarily stop the shift register clock based on the moving table coordinates calculated from the design data, allowing the input of another pattern to be added. It is also possible to ignore it and perform the inspection. Alternatively, instead of using a line sensor as an imaging device, the same effect can be obtained by scanning a narrowly focused light or electron beam one-dimensionally over the pattern to be inspected and detecting the amount of reflected light or reflected electrons. It will be done.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、全く同一の撮像条件下での
2つの映像を比較することが可能になること、
繰返しパターン以外の箇所を比較せずにすむこ
と、により、従来技術よりもはるかに精密に2つ
の繰返しパターンを比較することが可能になり、
超LSIなどの微細パターンの欠陥を抽出すること
が可能になる。
According to the present invention, it is possible to compare two images under exactly the same imaging conditions;
By eliminating the need to compare parts other than the repeating patterns, it is possible to compare two repeating patterns much more precisely than with conventional technology.
It becomes possible to extract defects in fine patterns such as VLSI.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来技術の説明図、第2図は本発明の
実施例を示す全体構成図、第3図から第8図は全
体構成図中の各ブロツクの詳細説明図である。第
3図は遅れ回路12の説明図、第4図はその制御
信号のタイミングを示す図、第5図は位置ずれ検
出回路18の詳細説明図、第6図はその制御信号
のタイミングを示す図、第7図は起動制御回路1
7の詳細説明図、第8図は欠陥判定回路14と欠
陥データ記憶回路15の詳細説明図である。 1a,1b……撮像装置、3……比較回路、4
……被検査物、5a,5b……繰返しパターン、
6……移動台、7……位置検出器、9……照明
器、10……ラインセンサ、S10……映像信
号、11……AD変換器、12……遅れ回路、1
3……比較回路、14……欠陥判定回路、15…
…欠陥データ記憶回路、16……タイミング発生
回路、17……起動制御回路、18……位置ずれ
検出回路、19……計算機。
FIG. 1 is an explanatory diagram of the prior art, FIG. 2 is an overall configuration diagram showing an embodiment of the present invention, and FIGS. 3 to 8 are detailed explanatory diagrams of each block in the overall configuration diagram. FIG. 3 is an explanatory diagram of the delay circuit 12, FIG. 4 is a diagram showing the timing of its control signal, FIG. 5 is a detailed diagram of the positional deviation detection circuit 18, and FIG. 6 is a diagram showing the timing of its control signal. , Figure 7 shows the startup control circuit 1.
7 is a detailed explanatory diagram, and FIG. 8 is a detailed explanatory diagram of the defect determination circuit 14 and the defect data storage circuit 15. 1a, 1b...imaging device, 3...comparison circuit, 4
...Object to be inspected, 5a, 5b...Repetitive pattern,
6...Moving table, 7...Position detector, 9...Illuminator, 10...Line sensor, S10...Video signal, 11...AD converter, 12...Delay circuit, 1
3... Comparison circuit, 14... Defect determination circuit, 15...
. . . defect data storage circuit, 16 . . . timing generation circuit, 17 . . . startup control circuit, 18 .

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 被検査物を走査して映像信号を得る撮像手段
を備えて、繰返しパターンを含む部分が所定ピツ
チにて配列された被検査物の外観を検査する繰返
しパターンの欠陥検査装置において、 上記被検査物を固定し移動させる移動台と、 上記撮像手段により得た映像信号を多値のデイ
ジタル信号に変換する変換手段と、 上記変換手段により変換された第1の多値のデ
イジタル信号と、上記変換手段にて変換された少
なくとも上記所定ピツチ前の第2の多値のデイジ
タル信号とを比較する比較手段と、 上記比較手段により比較した結果を記憶する記
憶手段と、 上記繰返しパターンの検査開始座標および検査
終了座標を記憶し、上記移動台に固定された上記
被検査物が移動して、上記繰返しパターンの検査
開始座標になつたときに、上記記憶手段における
記憶を開始させ、上記繰返しパターンの検査終了
座標になつたときに上記記憶手段での記憶を終了
させる起動制御手段とを備え、 上記繰返しパターンの欠陥を検査することを特
徴とする繰返しパターンの欠陥検査装置。 2 特許請求の範囲第1項において、上記撮像手
段は、ラインセンサであることを特徴とする繰返
しパターンの欠陥検査装置。 3 特許請求の範囲第1項において、上記撮像手
段は、電子線により上記被検査物上を走査して、
上記電子線の照射により発生する反射電子量を検
知することにより上記被検査物の映像信号を得る
ことを特徴とする繰返しパターンの欠陥検査装
置。 4 特許請求の範囲第1項において、上記繰返し
パターンは、規則的に配列された半導体メモリの
パターンであることを特徴とする繰返しパターン
の欠陥検査装置。 5 特許請求の範囲第1項において、上記比較手
段は、上記第1および上記第2の多値のデイジタ
ル信号同士の差をとり、その差が所定の閾値より
も大きいか小さいかを判定して2値のデイジタル
信号を出力することを特徴とする繰返しパターン
の欠陥検査装置。 6 被検査物を走査して映像信号を得る撮像手段
を備えて、繰返しパターンを含む部分が所定ピツ
チにて配列された被検査物の外観を検査する繰返
しパターンの欠陥検査装置において、 上記被検査物を固定し移動させる移動台と、 上記撮像手段により得た映像信号を多値のデイ
ジタル信号に変換する変換手段と、 上記変換手段により変換された多値のデイジタ
ル信号を上記所定ピツチ分遅らせる遅延手段と、 上記変換手段により変換された第1のデイジタ
ル信号と、上記遅延手段により上記所定ピツチ分
遅らせた第2の多値のデイジタル信号とを比較す
る比較手段と、 上記比較手段により比較した結果を記憶する記
憶手段と、 上記繰返しパターンの検査開始座標および検査
終了座標を記憶し、上記移動台に固定された上記
被検査物が移動して、上記繰返しパターンの検査
開始座標になつたときに上記記憶手段における記
憶を開始させ、上記繰返しパターンに対する検査
終了座標になつたときに上記記憶手段における記
憶を終了させる起動制御手段とを備え、 上記繰返しパターンの欠陥を検査することを特
徴とする繰返しパターンの欠陥検査装置。 7 特許請求の範囲第6項において、上記撮像手
段は、ラインセンサであることを特徴とする繰返
しパターンの欠陥検査装置。 8 特許請求の範囲第6項において、上記撮像手
段は、電子線により上記被検査物上を走査して、
上記電子線の照射により発生する反射電子量を検
知することにより上記被検査物の映像信号を得る
ことを特徴とする繰返しパターンの欠陥検査装
置。 9 特許請求の範囲第6項において、上記繰返し
パターンは、規則的に配列された半導体メモリの
パターンであることを特徴とする繰返しパターン
の欠陥検査装置。 10 特許請求の範囲第6項において、上記遅延
手段は、シフトレジスタを用いて上記多値のデイ
ジタル信号を遅らせることを特徴とする繰返しパ
ターンの欠陥検査装置。 11 特許請求の範囲第9項において、上記遅延
手段は、上記規則的に配列された半導体メモリの
パターンを含む部分のピツチ分遅らせることを特
徴とする繰返しパターンの欠陥検査装置。
[Scope of Claims] 1. Defect inspection for repeated patterns, which inspects the appearance of an object to be inspected in which portions including repetitive patterns are arranged at a predetermined pitch, which is equipped with an imaging means that scans the object to obtain a video signal. The apparatus includes a movable table for fixing and moving the object to be inspected, a converting means for converting the video signal obtained by the imaging means into a multi-value digital signal, and a first multi-value digital signal converted by the converting means. Comparing means for comparing the digital signal and a second multi-valued digital signal converted by the converting means at least by the predetermined pitch before the digital signal; storage means for storing the comparison result by the comparing means; and repeating the above. An inspection start coordinate and an inspection end coordinate of the pattern are memorized, and when the inspected object fixed to the movable stage moves and reaches the inspection start coordinate of the repeating pattern, storage in the storage means is started. , and activation control means for terminating storage in the storage means when the inspection end coordinates of the repetitive pattern are reached, and a defect inspection apparatus for a repetitive pattern, characterized in that the defect inspection apparatus inspects for defects in the repetitive pattern. 2. The repeating pattern defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the imaging means is a line sensor. 3. In claim 1, the imaging means scans the object to be inspected with an electron beam,
A repetitive pattern defect inspection apparatus characterized in that a video signal of the object to be inspected is obtained by detecting an amount of reflected electrons generated by irradiation with the electron beam. 4. The repeating pattern defect inspection device according to claim 1, wherein the repeating pattern is a regularly arranged semiconductor memory pattern. 5. In claim 1, the comparison means calculates the difference between the first and second multi-value digital signals and determines whether the difference is larger or smaller than a predetermined threshold. A repeating pattern defect inspection device characterized by outputting a binary digital signal. 6. In a repeating pattern defect inspection apparatus that is equipped with an imaging means for scanning the inspected object and obtaining a video signal, and inspects the appearance of the inspected object in which parts including repeated patterns are arranged at a predetermined pitch, a moving table for fixing and moving an object; a converting means for converting the video signal obtained by the imaging means into a multi-value digital signal; and a delay for delaying the multi-value digital signal converted by the converting means by the predetermined pitch. means for comparing the first digital signal converted by the converting means and a second multi-value digital signal delayed by the predetermined pitch by the delaying means; and a comparison result by the comparing means. a storage means for storing an inspection start coordinate and an inspection end coordinate of the repeating pattern, and storing the inspection start coordinate and the inspection end coordinate of the repeating pattern, when the inspected object fixed to the movable table moves and reaches the inspection start coordinate of the repeating pattern; and activation control means for starting the storage in the storage means and for terminating the storage in the storage means when the inspection end coordinates for the repeating pattern are reached, the repeating method characterized in that the repeating pattern is inspected for defects in the repeating pattern. Pattern defect inspection device. 7. The repeating pattern defect inspection apparatus according to claim 6, wherein the imaging means is a line sensor. 8. In claim 6, the imaging means scans the object to be inspected with an electron beam,
A repetitive pattern defect inspection apparatus characterized in that a video signal of the object to be inspected is obtained by detecting an amount of reflected electrons generated by irradiation with the electron beam. 9. The repeating pattern defect inspection apparatus according to claim 6, wherein the repeating pattern is a regularly arranged semiconductor memory pattern. 10. The repetitive pattern defect inspection apparatus according to claim 6, wherein the delay means delays the multi-value digital signal using a shift register. 11. The repetitive pattern defect inspection apparatus according to claim 9, wherein the delay means delays by a pitch of a portion including the pattern of the regularly arranged semiconductor memory.
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