JPH05257539A - インターフェース弁制御装置 - Google Patents
インターフェース弁制御装置Info
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- JPH05257539A JPH05257539A JP4216953A JP21695392A JPH05257539A JP H05257539 A JPH05257539 A JP H05257539A JP 4216953 A JP4216953 A JP 4216953A JP 21695392 A JP21695392 A JP 21695392A JP H05257539 A JPH05257539 A JP H05257539A
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- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウオータロギングを防止する事ができるイン
ターフェース弁制御装置を提供する事。 【構成】 本発明のインターフェース弁制御装置は、ト
リガ圧力に応答運動する第1の圧力感応装置(34,3
5)と、室(40)と、該室に連通し、該室にパイロッ
ト圧力を供給するパイロット圧力通路(36,37,3
8,39;72,73,74,39)と、前記パイロッ
ト圧力通路を開閉する第1の弁装置であって、前記第1
の圧力感応装置によって押圧されることにより開放され
る第1の弁装置(20;70)と、前記室内のパイロッ
ト圧力に応答運動する第2の圧力感応装置(46,4
8)と、インターフェース弁へ真空を供給する真空通路
を開閉する第2の弁装置であって、前記第2の圧力感応
装置のパイロット圧力応答運動によって開閉される第2
の弁装置(42,43,44)と、前記室のパイロット
圧力を大気に解放するパイロット圧力解放通路装置(5
3,55,56,57,58,59)とを有している。
ターフェース弁制御装置を提供する事。 【構成】 本発明のインターフェース弁制御装置は、ト
リガ圧力に応答運動する第1の圧力感応装置(34,3
5)と、室(40)と、該室に連通し、該室にパイロッ
ト圧力を供給するパイロット圧力通路(36,37,3
8,39;72,73,74,39)と、前記パイロッ
ト圧力通路を開閉する第1の弁装置であって、前記第1
の圧力感応装置によって押圧されることにより開放され
る第1の弁装置(20;70)と、前記室内のパイロッ
ト圧力に応答運動する第2の圧力感応装置(46,4
8)と、インターフェース弁へ真空を供給する真空通路
を開閉する第2の弁装置であって、前記第2の圧力感応
装置のパイロット圧力応答運動によって開閉される第2
の弁装置(42,43,44)と、前記室のパイロット
圧力を大気に解放するパイロット圧力解放通路装置(5
3,55,56,57,58,59)とを有している。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、タンク内の液体を真空
によって搬送する下水処理系に使用される真空インター
フェース弁の制御装置に関する。
によって搬送する下水処理系に使用される真空インター
フェース弁の制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】下水の収集並びに処理の分野を含む多様
の分野において、液体は、配管の送出端に減圧、あるい
は真空を供給し、前記配管の他端がその中へ突出してい
るリザーバあるいはタンク内の大気圧によって液体を前
記配管中へ、あるいは該配管に沿って押しやることによ
って一方の場所(液体のリザーバ)から別の場所へ搬送
される。一時的な液体溜めとして、下水収集のために採
用されている典型的な設備では、液体がタンクへ送り込
まれる入口と、タンクから液体が排出される出口とを有
し、前記出口が一次弁即ちインターフェース弁を介して
真空源に接続されているタンクが使用されている。この
インターフェース弁は使用時、タンクが一杯になると、
あるいはタンクの液体が第1の所定のレベルに達すると
開弁して、供給された真空によりタンクが空になるま
で、あるいはタンク中に残された液体のレベルが別の下
位置の所定値まで低下してしまうまでタンク中の液体を
前記出口を介して「吸出」させ、前記の下位所定値にお
いて弁を閉じるように作動する弁制御装置を有する。
の分野において、液体は、配管の送出端に減圧、あるい
は真空を供給し、前記配管の他端がその中へ突出してい
るリザーバあるいはタンク内の大気圧によって液体を前
記配管中へ、あるいは該配管に沿って押しやることによ
って一方の場所(液体のリザーバ)から別の場所へ搬送
される。一時的な液体溜めとして、下水収集のために採
用されている典型的な設備では、液体がタンクへ送り込
まれる入口と、タンクから液体が排出される出口とを有
し、前記出口が一次弁即ちインターフェース弁を介して
真空源に接続されているタンクが使用されている。この
インターフェース弁は使用時、タンクが一杯になると、
あるいはタンクの液体が第1の所定のレベルに達すると
開弁して、供給された真空によりタンクが空になるま
で、あるいはタンク中に残された液体のレベルが別の下
位置の所定値まで低下してしまうまでタンク中の液体を
前記出口を介して「吸出」させ、前記の下位所定値にお
いて弁を閉じるように作動する弁制御装置を有する。
【0003】一般に、真空により下水を含む液体を収集
する技術は周知であって、この技術に関する各種の特許
は過去100年にわたり、リーナ(Liernur)、
レ.マルシャン(Le Marchand)、リジェン
ダール(Liljendahl)、フォアマン(For
eman)およびジョーンズ(Jones)他に発行さ
れてきた。前記技術の、ある局面は必要な真空インター
フェース弁制御装置を含み、多数の本技術が米国特許第
3,777,778号(ジャヌー:Janu)、および
同第4,373,838号(フォアマンおよびグルーム
ズ:Foreman and Grooms)並びに英
国特許第2,149,534号(サイクス:Syke
s)において提供されている。
する技術は周知であって、この技術に関する各種の特許
は過去100年にわたり、リーナ(Liernur)、
レ.マルシャン(Le Marchand)、リジェン
ダール(Liljendahl)、フォアマン(For
eman)およびジョーンズ(Jones)他に発行さ
れてきた。前記技術の、ある局面は必要な真空インター
フェース弁制御装置を含み、多数の本技術が米国特許第
3,777,778号(ジャヌー:Janu)、および
同第4,373,838号(フォアマンおよびグルーム
ズ:Foreman and Grooms)並びに英
国特許第2,149,534号(サイクス:Syke
s)において提供されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】液位制御装置と称され
ることもある前記の従来技術によるインターフェース弁
制御装置は、一般的に、頻繁に、かつ高価な保守を必要
とする多くの複雑な部材、例えばシャフトシールから構
成されてきた。さらに、従来の真空による搬送装置は、
液体を運ぶために使用される真空が低レベルまで低下し
た時、問題に直面するものがある。その問題は以下の要
領で発生する。
ることもある前記の従来技術によるインターフェース弁
制御装置は、一般的に、頻繁に、かつ高価な保守を必要
とする多くの複雑な部材、例えばシャフトシールから構
成されてきた。さらに、従来の真空による搬送装置は、
液体を運ぶために使用される真空が低レベルまで低下し
た時、問題に直面するものがある。その問題は以下の要
領で発生する。
【0005】真空液体搬送装置は大気圧と収集配管中の
真空との間の差圧原理に基づき作動するので、収集配管
中の真空が高ければ高い程、液体の搬送速度はより速く
なる。例えば、1個もしくはそれ以上のインターフェー
ス弁が故障して開いたままのような非常状態において
は、収集配管中の真空は低レベルへ低下する。この低真
空レベルにおいて搬送装置におけるその他のインターフ
ェース弁が自動的に作動し続けるとすれば、収集配管内
の液体の速度は低下し、該配管は急速に完全に充満され
る。一旦配管が液体で充満されると、真空圧から得られ
るエネルギが急速に摩擦損失により使われてしまい液体
の搬送は停止する。この状態は「ウオータロギング(w
aterlogging)」あるいは「ボッグダウン
(bog down)」として知られており、その発生
の可能性は、もしインターフェース弁制御装置を、真空
がある限界値以下に低下した時、弁を閉鎖させてそれ以
上の液体の進入を阻止するよう修正すれば低減すること
ができる。
真空との間の差圧原理に基づき作動するので、収集配管
中の真空が高ければ高い程、液体の搬送速度はより速く
なる。例えば、1個もしくはそれ以上のインターフェー
ス弁が故障して開いたままのような非常状態において
は、収集配管中の真空は低レベルへ低下する。この低真
空レベルにおいて搬送装置におけるその他のインターフ
ェース弁が自動的に作動し続けるとすれば、収集配管内
の液体の速度は低下し、該配管は急速に完全に充満され
る。一旦配管が液体で充満されると、真空圧から得られ
るエネルギが急速に摩擦損失により使われてしまい液体
の搬送は停止する。この状態は「ウオータロギング(w
aterlogging)」あるいは「ボッグダウン
(bog down)」として知られており、その発生
の可能性は、もしインターフェース弁制御装置を、真空
がある限界値以下に低下した時、弁を閉鎖させてそれ以
上の液体の進入を阻止するよう修正すれば低減すること
ができる。
【0006】本発明はウオータロギングを防止する事が
できるインターフェース弁制御装置を提供する事を目的
としている。
できるインターフェース弁制御装置を提供する事を目的
としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のインターフェース弁制御装置は、トリガ圧
力に応答運動する第1の圧力感応装置と、室と、該室に
連通し、該室にパイロット圧力を供給するパイロット圧
力通路と、前記パイロット圧力通路を開閉する第1の弁
装置であって、前記第1の圧力感応装置によって押圧さ
れることにより開放される第1の弁装置と、前記室内の
パイロット圧力に応答運動する第2の圧力感応装置と、
インターフェース弁へ真空を供給する真空通路を開閉す
る第2の弁装置であって、前記第2の圧力感応装置のパ
イロット圧力応答運動によって開閉される第2弁装置
と、前記室のパイロット圧力を大気に解放するパイロッ
ト圧力解放通路装置とを有している。
に、本発明のインターフェース弁制御装置は、トリガ圧
力に応答運動する第1の圧力感応装置と、室と、該室に
連通し、該室にパイロット圧力を供給するパイロット圧
力通路と、前記パイロット圧力通路を開閉する第1の弁
装置であって、前記第1の圧力感応装置によって押圧さ
れることにより開放される第1の弁装置と、前記室内の
パイロット圧力に応答運動する第2の圧力感応装置と、
インターフェース弁へ真空を供給する真空通路を開閉す
る第2の弁装置であって、前記第2の圧力感応装置のパ
イロット圧力応答運動によって開閉される第2弁装置
と、前記室のパイロット圧力を大気に解放するパイロッ
ト圧力解放通路装置とを有している。
【0008】テスト目的のために、前記第1の圧力感応
装置に圧力を加える手操作の押し釦装置が設けられてい
ることが好ましい。前記第2の圧力感応装置は、前記室
を横切って設けられたダイヤフラム48と、該ダイヤフ
ラムを前記第2の弁装置の閉止方向に付勢する圧縮コイ
ルばね46とを有している。
装置に圧力を加える手操作の押し釦装置が設けられてい
ることが好ましい。前記第2の圧力感応装置は、前記室
を横切って設けられたダイヤフラム48と、該ダイヤフ
ラムを前記第2の弁装置の閉止方向に付勢する圧縮コイ
ルばね46とを有している。
【0009】インターフェース弁の開弁時間を制御する
空気タイマーが設けられてもよい。前記パイロット圧力
解放通路装置は、前記室と大気とを連通する通路と、該
通路を絞るニードル弁とを有するように構成しても良
い。その場合には、該ニードル弁のセッティングを変更
することによってインターフェース弁の開弁時間を制御
する事が可能となる。
空気タイマーが設けられてもよい。前記パイロット圧力
解放通路装置は、前記室と大気とを連通する通路と、該
通路を絞るニードル弁とを有するように構成しても良
い。その場合には、該ニードル弁のセッティングを変更
することによってインターフェース弁の開弁時間を制御
する事が可能となる。
【0010】前記第1の弁装置は周知の弁装置で良い
が、前記第1の圧力感応装置に当接された弾性スリーブ
と、該弾性スリーブ内に封入されたリード弁とから成る
ダックビル弁である事が好ましい。あるいは、前記第1
の圧力感応装置に当接されたスナップアクション弁であ
ってもよい。
が、前記第1の圧力感応装置に当接された弾性スリーブ
と、該弾性スリーブ内に封入されたリード弁とから成る
ダックビル弁である事が好ましい。あるいは、前記第1
の圧力感応装置に当接されたスナップアクション弁であ
ってもよい。
【0011】
【作用】第1の圧力感応装置の所定のトリガ圧力、例え
ば、一時的液体溜め及び搬送装置の液位の上昇によるタ
ンク内の上昇圧力が作用すると、第1の圧力感応装置は
第1の弁装置を押圧し、これを開放する。それにより、
パイロット圧力通路が開放され、パイロット圧力が室に
供給され、第2の圧力感応装置を運動させる。第2の圧
力感応装置は第2の弁装置を開放し、真空供給通路が開
かれる。真空がインターフェース弁へ供給され、インタ
ーフェース弁が開かれ、タンク内の液体がタンク内の圧
力と真空圧力との差圧により、タンク外へ排出される。
ば、一時的液体溜め及び搬送装置の液位の上昇によるタ
ンク内の上昇圧力が作用すると、第1の圧力感応装置は
第1の弁装置を押圧し、これを開放する。それにより、
パイロット圧力通路が開放され、パイロット圧力が室に
供給され、第2の圧力感応装置を運動させる。第2の圧
力感応装置は第2の弁装置を開放し、真空供給通路が開
かれる。真空がインターフェース弁へ供給され、インタ
ーフェース弁が開かれ、タンク内の液体がタンク内の圧
力と真空圧力との差圧により、タンク外へ排出される。
【0012】液体排出によりタンク内の圧力が所定値に
下降すると、第1の圧力感応装置が元位置に復帰する。
これにより、第1の弁装置は閉じられ、室への真空供給
が停止される。第2の圧力感応装置が元位置に復帰し、
第2の弁装置が閉止され、真空供給通路が閉止される。
インターフェース弁への真空供給が停止され、インター
フェース弁が閉止され、液体の排出が停止される。
下降すると、第1の圧力感応装置が元位置に復帰する。
これにより、第1の弁装置は閉じられ、室への真空供給
が停止される。第2の圧力感応装置が元位置に復帰し、
第2の弁装置が閉止され、真空供給通路が閉止される。
インターフェース弁への真空供給が停止され、インター
フェース弁が閉止され、液体の排出が停止される。
【0013】
【実施例】地面より上方あるいは下方に位置させうる図
1に示す一時的な液体溜め装置は、タンク2の下半分お
よび床4とにより限定される小さい溜め3へ開放してい
る少なくとも1個の重力による収集配管1を含む。また
真空吸引配管5が前記溜め3へ開放し、かつ真空インタ
ーフェース弁6を介して真空収集配管7に接続されてい
る。真空収集配管7はタンク2の外側に位置した真空源
(図示せず)に接続されている。
1に示す一時的な液体溜め装置は、タンク2の下半分お
よび床4とにより限定される小さい溜め3へ開放してい
る少なくとも1個の重力による収集配管1を含む。また
真空吸引配管5が前記溜め3へ開放し、かつ真空インタ
ーフェース弁6を介して真空収集配管7に接続されてい
る。真空収集配管7はタンク2の外側に位置した真空源
(図示せず)に接続されている。
【0014】真空インターフェース弁6は、真空吸引配
管5と真空収集配管7との間の通路を開閉する可動プラ
ンジャ12と、供給された真空によって、可動プランジ
ャ12を駆動するシャフト14及び転動ダイヤフラム作
動器13とを有している。真空インターフェース弁には
インターフェース弁制御装置11が取り付けられてい
る。インターフェース弁制御装置11には、インターフ
ェース弁6の下流から真空ポート26(図3に示す)ま
でつながるホース10により真空が供給される。前記制
御装置11は、また、ホース15と虫よけ網16とを介
して大気と連通する大気圧ポート27(図5参照)を有
する。
管5と真空収集配管7との間の通路を開閉する可動プラ
ンジャ12と、供給された真空によって、可動プランジ
ャ12を駆動するシャフト14及び転動ダイヤフラム作
動器13とを有している。真空インターフェース弁には
インターフェース弁制御装置11が取り付けられてい
る。インターフェース弁制御装置11には、インターフ
ェース弁6の下流から真空ポート26(図3に示す)ま
でつながるホース10により真空が供給される。前記制
御装置11は、また、ホース15と虫よけ網16とを介
して大気と連通する大気圧ポート27(図5参照)を有
する。
【0015】下端で開放している液位検出配管8が溜め
3中へ垂直方向に突出している。液位検出配管8の他端
はホース9によりインターフェース弁制御装置11の液
位検出ポート25(図3に示す)に接続されている。
3中へ垂直方向に突出している。液位検出配管8の他端
はホース9によりインターフェース弁制御装置11の液
位検出ポート25(図3に示す)に接続されている。
【0016】図2と図3とを参照すれば、インターフェ
ース弁制御装置11の液位検出ポート25は円形室29
と連通している。該室は軟質のゴム製の円形ダイヤフラ
ム31により(図示のように)上の領域と下の領域とに
分割されている。ダイヤフラム31はその縁部の近くに
小さい孔30を有し、該孔は空気が前記室29の上の領
域から下の領域へ漏れることができるようにしている。
通路32が前記室29の下の領域を、第2の円形ダイヤ
フラム34を収容している第2の円形室33に接続して
いる。ダイヤフラム34のすぐ下方の空洞は通路53と
大気圧ポート27とを介して大気と連通している(図5
参照)。ダイヤフラム34の下側はプランジャ35と接
触しており、該プランジャの下部はフランジ付弾性スリ
ーブ21に当接している。該スリーブ内には弾性の「ダ
ックビル」即ちリードタイプの弁20が封入されている
(図6および図7参照)。ダックビル弁20の一側22
に真空を、他側23に大気圧を加えると、ダックビルは
閉鎖したままである。しかしながら、矢印24で示す方
向に、「ピンチング」圧をスリーブの外側へ(図7に示
すように)加えることは、スリーブを変形させ、ダック
ビルのフラップが相互にシールすることを防止し、その
ため弁を開き、加えられたピンチング圧が除去されるま
でダックビル弁を通して真空を供給できるようにする。
ース弁制御装置11の液位検出ポート25は円形室29
と連通している。該室は軟質のゴム製の円形ダイヤフラ
ム31により(図示のように)上の領域と下の領域とに
分割されている。ダイヤフラム31はその縁部の近くに
小さい孔30を有し、該孔は空気が前記室29の上の領
域から下の領域へ漏れることができるようにしている。
通路32が前記室29の下の領域を、第2の円形ダイヤ
フラム34を収容している第2の円形室33に接続して
いる。ダイヤフラム34のすぐ下方の空洞は通路53と
大気圧ポート27とを介して大気と連通している(図5
参照)。ダイヤフラム34の下側はプランジャ35と接
触しており、該プランジャの下部はフランジ付弾性スリ
ーブ21に当接している。該スリーブ内には弾性の「ダ
ックビル」即ちリードタイプの弁20が封入されている
(図6および図7参照)。ダックビル弁20の一側22
に真空を、他側23に大気圧を加えると、ダックビルは
閉鎖したままである。しかしながら、矢印24で示す方
向に、「ピンチング」圧をスリーブの外側へ(図7に示
すように)加えることは、スリーブを変形させ、ダック
ビルのフラップが相互にシールすることを防止し、その
ため弁を開き、加えられたピンチング圧が除去されるま
でダックビル弁を通して真空を供給できるようにする。
【0017】ダックビル弁装置の一側22は通路41に
接続され、該通路は真空ポート26に接続されている。
ダックビル弁装置の反対の側23は通路36,37およ
び38並びにチューブ39を介して円筒形の室40と連
通している。(図4のみに示す)通路55と58とはダ
イヤフラム34のすぐ下方の空洞から通路59,57を
介して室40へ、通路58と59との間に介装されたね
じ調整可能のニードル弁56により規定される速度で空
気が流れることを許している。
接続され、該通路は真空ポート26に接続されている。
ダックビル弁装置の反対の側23は通路36,37およ
び38並びにチューブ39を介して円筒形の室40と連
通している。(図4のみに示す)通路55と58とはダ
イヤフラム34のすぐ下方の空洞から通路59,57を
介して室40へ、通路58と59との間に介装されたね
じ調整可能のニードル弁56により規定される速度で空
気が流れることを許している。
【0018】室40は円形ダイヤフラム48により隣接
の円筒形室49から分離されている。前記ダイヤフラム
48はその両面に1個づつカップ47を支持している。
上方のカップは圧縮ばね46の端部を保持し、前記ばね
の他端は室40の頂部に当接し、ダイヤフラム48を下
方に押圧している。下方のカップ47は二重円錐弁42
に接続されている。該弁42は円形の室50内に位置
し、ダイヤフラム48の位置に応じて下方の固定シール
43あるいは上方の固定シール44のいずれかに載置さ
れる。
の円筒形室49から分離されている。前記ダイヤフラム
48はその両面に1個づつカップ47を支持している。
上方のカップは圧縮ばね46の端部を保持し、前記ばね
の他端は室40の頂部に当接し、ダイヤフラム48を下
方に押圧している。下方のカップ47は二重円錐弁42
に接続されている。該弁42は円形の室50内に位置
し、ダイヤフラム48の位置に応じて下方の固定シール
43あるいは上方の固定シール44のいずれかに載置さ
れる。
【0019】前記室49は通路54により通路53に接
続されている(図5参照)。二重円錐弁42を下方のシ
ール43に当接させると、空気は通路45を介して室4
9から室50まで進むことができる。通路41は二重円
錐弁42のすぐ下方の空洞において終る。二重円錐弁4
2がシール44に当接すると、空気は室50から通路4
1へ流れることができる。
続されている(図5参照)。二重円錐弁42を下方のシ
ール43に当接させると、空気は通路45を介して室4
9から室50まで進むことができる。通路41は二重円
錐弁42のすぐ下方の空洞において終る。二重円錐弁4
2がシール44に当接すると、空気は室50から通路4
1へ流れることができる。
【0020】室50は、スロット52を含む通路51を
介してインターフェース弁6と連通する。タンクおよび
制御装置の一般的な作動原理は以下の通りである。液体
は重力による収集配管1によりタンク2へ入る。それに
つれて、溜め3において液位が上がり、ホース9により
インターフェース弁制御装置11と連通している配管8
に空気圧を発生させる。ホース10は真空源から真空を
インターフェース弁制御装置11へ供給する。
介してインターフェース弁6と連通する。タンクおよび
制御装置の一般的な作動原理は以下の通りである。液体
は重力による収集配管1によりタンク2へ入る。それに
つれて、溜め3において液位が上がり、ホース9により
インターフェース弁制御装置11と連通している配管8
に空気圧を発生させる。ホース10は真空源から真空を
インターフェース弁制御装置11へ供給する。
【0021】ホース9内の圧力がインターフェース弁制
御装置11を作動させ、該制御装置11はホース10か
ら転動ダイヤフラム作動器13のダイヤフラムに真空を
供給し、そのときインターフェース弁6が開く。所定の
時間間隔に調整されている系においては、インターフェ
ース弁制御装置11の空気タイマが始動し、液体は予め
セットした時間が経過するまで吸引配管5を介して収集
配管7へ吸引され、前記時間の経過時プランジャ12が
閉じてインターフェース弁制御装置11は待機位置まで
復帰する。
御装置11を作動させ、該制御装置11はホース10か
ら転動ダイヤフラム作動器13のダイヤフラムに真空を
供給し、そのときインターフェース弁6が開く。所定の
時間間隔に調整されている系においては、インターフェ
ース弁制御装置11の空気タイマが始動し、液体は予め
セットした時間が経過するまで吸引配管5を介して収集
配管7へ吸引され、前記時間の経過時プランジャ12が
閉じてインターフェース弁制御装置11は待機位置まで
復帰する。
【0022】前述のように、溜め3において液位が上昇
することにより発生する圧力はホース9と液位検出ポー
ト25とを介して室29へ供給される。圧力がゆっくり
と上昇することにより、空気は軟質のゴムダイヤフラム
31の小さい孔30を介して流出し、通路32を通って
室33へ入る。ここで圧力がダイヤフラム34に付加さ
れる。ダイヤフラム34の下側の空気圧は大気に接続さ
れている通路53と大気圧ポート27とを介して開放さ
れ、ダイヤフラム34は撓み、プランジャ35に圧力を
加え、プランジャはスリーブ21に横方向の湾曲変形の
力を付加する。前記力が増加するにつれて、ダックビル
弁20が開き、真空ポート26からの真空がダックビル
弁20を通って通路36,37および38並びにチュー
ブ39を介して室40へ流れる。
することにより発生する圧力はホース9と液位検出ポー
ト25とを介して室29へ供給される。圧力がゆっくり
と上昇することにより、空気は軟質のゴムダイヤフラム
31の小さい孔30を介して流出し、通路32を通って
室33へ入る。ここで圧力がダイヤフラム34に付加さ
れる。ダイヤフラム34の下側の空気圧は大気に接続さ
れている通路53と大気圧ポート27とを介して開放さ
れ、ダイヤフラム34は撓み、プランジャ35に圧力を
加え、プランジャはスリーブ21に横方向の湾曲変形の
力を付加する。前記力が増加するにつれて、ダックビル
弁20が開き、真空ポート26からの真空がダックビル
弁20を通って通路36,37および38並びにチュー
ブ39を介して室40へ流れる。
【0023】また、真空ポート26からの真空は通路4
1を介して二重円錐弁42の下側へも供給され、二重円
錐弁42が開くとこの真空は室50へ送られ、次いで前
述のように通路51を介してインターフェース弁6へ送
られる。しかしながら、通常二重円錐弁42はダイヤフ
ラム48に装着されたカップ47を介して作用するばね
46により、かつ二重円錐弁の頭を固定シール43に対
して吸引する真空の作用により閉鎖位置に保たれてい
る。もし真空ポート26(したがって室40)における
真空が不十分であり、従って収集配管7における真空が
十分な液体搬送速度を保証するに不十分である場合、二
重円錐弁42の開弁を阻止するように選択されたばね係
数をばね46は有している。ばね46のばね係数は装置
によって変りうるが、通常真空が0.25バールあるい
はそれ以上の程度である場合、通常二重円錐弁42が開
弁できるようにする(勿論0.25バールというこの数
字は確定的ではない)。
1を介して二重円錐弁42の下側へも供給され、二重円
錐弁42が開くとこの真空は室50へ送られ、次いで前
述のように通路51を介してインターフェース弁6へ送
られる。しかしながら、通常二重円錐弁42はダイヤフ
ラム48に装着されたカップ47を介して作用するばね
46により、かつ二重円錐弁の頭を固定シール43に対
して吸引する真空の作用により閉鎖位置に保たれてい
る。もし真空ポート26(したがって室40)における
真空が不十分であり、従って収集配管7における真空が
十分な液体搬送速度を保証するに不十分である場合、二
重円錐弁42の開弁を阻止するように選択されたばね係
数をばね46は有している。ばね46のばね係数は装置
によって変りうるが、通常真空が0.25バールあるい
はそれ以上の程度である場合、通常二重円錐弁42が開
弁できるようにする(勿論0.25バールというこの数
字は確定的ではない)。
【0024】真空チューブ39を介して室40へ入る
際、ダイヤフラム48に溜まったいかなる凝縮物あるい
は水分は通路38,37および36、ダックビル弁20
並びに真空ポート26を介して真空収集配管7へ吸出さ
れる。ばね46の力と通路41を介して二重円錐弁42
の頭に作用する吸引力とを上廻るに十分なレベルの真空
が得られると、ダイヤフラム48とカップ47とは、二
重円錐弁42が上方の固定シール44と当接するまで上
方へ撓み、二重円錐弁42を下方の固定シール43から
持ち上げる。このため室49を室50から閉鎖し、通路
41からの真空が室50へ流入し、かつ通路51を介し
てインターフェース弁6の上方の作動器へ流入する(図
1参照)。そのときインターフェース弁6が開く。イン
ターフェース弁6の作動器が全開位置にあると、通路5
1の下端はインターフェース弁6の作動器の運動を停止
する停止部材として作用する。通路51におけるスロッ
ト52はインターフェース弁6の閉止を助けるサクショ
ンブレーカとして構成されている。インターフェース弁
6の作動器に集められうるいかなる水あるいは凝縮物も
通路52,41および真空ポート26を介して真空収集
配管7へ吸出される。
際、ダイヤフラム48に溜まったいかなる凝縮物あるい
は水分は通路38,37および36、ダックビル弁20
並びに真空ポート26を介して真空収集配管7へ吸出さ
れる。ばね46の力と通路41を介して二重円錐弁42
の頭に作用する吸引力とを上廻るに十分なレベルの真空
が得られると、ダイヤフラム48とカップ47とは、二
重円錐弁42が上方の固定シール44と当接するまで上
方へ撓み、二重円錐弁42を下方の固定シール43から
持ち上げる。このため室49を室50から閉鎖し、通路
41からの真空が室50へ流入し、かつ通路51を介し
てインターフェース弁6の上方の作動器へ流入する(図
1参照)。そのときインターフェース弁6が開く。イン
ターフェース弁6の作動器が全開位置にあると、通路5
1の下端はインターフェース弁6の作動器の運動を停止
する停止部材として作用する。通路51におけるスロッ
ト52はインターフェース弁6の閉止を助けるサクショ
ンブレーカとして構成されている。インターフェース弁
6の作動器に集められうるいかなる水あるいは凝縮物も
通路52,41および真空ポート26を介して真空収集
配管7へ吸出される。
【0025】インターフェース弁6が開放するにつれ
て、真空が吸引配管5を通り、溜め3の中の液体を吸出
し始める。液位が液位検出配管8中の圧力を低下させ、
そのためプランジャ35から圧力24を除去するに十分
低減すると、ダックビル弁20は真空22の力により閉
鎖する。これは、二重円錐弁42を開いた状態に保持す
る室40の真空によりダックビル弁20を閉じたままに
する。通路55と58とは通路53と大気圧ポート27
とを介して大気に接続される。調節可能のニードル弁5
6が通路55と58とを介して大気圧を通路59,57
を介して室40へ供給する。十分な大気圧が室40へ吸
引されると、低下しつつある真空圧ではばね46を圧縮
状態に保つには不十分であって、二重円錐弁42はシー
ル43に当接するまでシール44から下方向へ運動す
る。大気圧ポート27と通路53および54から大気圧
は室49へ入り、かつ通路45を介して室50へ入り、
次いで通路51を介してインターフェース弁6の作動器
へ入ってインターフェース弁6を閉鎖させる。
て、真空が吸引配管5を通り、溜め3の中の液体を吸出
し始める。液位が液位検出配管8中の圧力を低下させ、
そのためプランジャ35から圧力24を除去するに十分
低減すると、ダックビル弁20は真空22の力により閉
鎖する。これは、二重円錐弁42を開いた状態に保持す
る室40の真空によりダックビル弁20を閉じたままに
する。通路55と58とは通路53と大気圧ポート27
とを介して大気に接続される。調節可能のニードル弁5
6が通路55と58とを介して大気圧を通路59,57
を介して室40へ供給する。十分な大気圧が室40へ吸
引されると、低下しつつある真空圧ではばね46を圧縮
状態に保つには不十分であって、二重円錐弁42はシー
ル43に当接するまでシール44から下方向へ運動す
る。大気圧ポート27と通路53および54から大気圧
は室49へ入り、かつ通路45を介して室50へ入り、
次いで通路51を介してインターフェース弁6の作動器
へ入ってインターフェース弁6を閉鎖させる。
【0026】二重円錐弁42の開放時間は、スクリュド
ライバを用いてニードル弁56のセッティングを調整す
ることにより増減できる。従って、真空収集配管中の空
気対液体の比率を制御するインターフェース弁の開放時
間はニードル弁56により制御される。一時的な溜めタ
ンク2は地下水面の高い地面に設置されうるので、その
ためホース15に接続される配管は通常地面より上方に
設置され、虫よけ網16を嵌合させている。微細なダス
トや砂が多く吹いたり、浮遊している地域においては、
大気圧ポート27に目の細かいフィルタ90を装着して
ニードル弁56の定期点検頻度を低減(点検間隔を増
す)することが望ましい。
ライバを用いてニードル弁56のセッティングを調整す
ることにより増減できる。従って、真空収集配管中の空
気対液体の比率を制御するインターフェース弁の開放時
間はニードル弁56により制御される。一時的な溜めタ
ンク2は地下水面の高い地面に設置されうるので、その
ためホース15に接続される配管は通常地面より上方に
設置され、虫よけ網16を嵌合させている。微細なダス
トや砂が多く吹いたり、浮遊している地域においては、
大気圧ポート27に目の細かいフィルタ90を装着して
ニードル弁56の定期点検頻度を低減(点検間隔を増
す)することが望ましい。
【0027】ある場合には、一時的な溜めタンク2にシ
ールしたカバーを設ける必要がある。そのような配備に
おいては、インターフェース弁6が開放した時真空吸引
配管5を介して吸引される大量の空気は重力による収集
配管1と抽気配管とを介して吸出されなければならな
い。インターフェース弁6が閉鎖すると、重力収集配管
1を激しく流れる空気がシールされたタンク2内の圧力
を急激に鋭く増加させる。この圧力増加は液位検出配管
8とホース9とを介して弁制御装置11の液位検出ポー
ト25に連絡され、該制御装置11はダイヤフラム31
を通路32に対してシールさせ、ダイヤフラム34が二
重円錐弁42の、従ってインターフェース弁6の第2回
目の作動サイクルを起動させるのを阻止し、インターフ
ェース弁6を閉鎖状態に保持する。
ールしたカバーを設ける必要がある。そのような配備に
おいては、インターフェース弁6が開放した時真空吸引
配管5を介して吸引される大量の空気は重力による収集
配管1と抽気配管とを介して吸出されなければならな
い。インターフェース弁6が閉鎖すると、重力収集配管
1を激しく流れる空気がシールされたタンク2内の圧力
を急激に鋭く増加させる。この圧力増加は液位検出配管
8とホース9とを介して弁制御装置11の液位検出ポー
ト25に連絡され、該制御装置11はダイヤフラム31
を通路32に対してシールさせ、ダイヤフラム34が二
重円錐弁42の、従ってインターフェース弁6の第2回
目の作動サイクルを起動させるのを阻止し、インターフ
ェース弁6を閉鎖状態に保持する。
【0028】試験目的に対して、図3に示すように転動
ダイヤフラムでシールされた押釦装置が設けられてい
る。ダイヤフラム60は押釦61を被覆し、かつシール
している。ばね62は押釦61を「オフ」位置に保持す
る。ねじ64により適所に保持されたプレート63は本
押釦装置を適所でシールし、かつ保持する。
ダイヤフラムでシールされた押釦装置が設けられてい
る。ダイヤフラム60は押釦61を被覆し、かつシール
している。ばね62は押釦61を「オフ」位置に保持す
る。ねじ64により適所に保持されたプレート63は本
押釦装置を適所でシールし、かつ保持する。
【0029】ダイヤフラム60に指で圧力を加えること
により押釦61を下方に押し、ダイヤフラム34に圧力
を加え、該ダイヤフラム34がインターフェース弁制御
装置11を作動させる。
により押釦61を下方に押し、ダイヤフラム34に圧力
を加え、該ダイヤフラム34がインターフェース弁制御
装置11を作動させる。
【0030】図8に示す装置の場合、ダックビル弁20
はスナップアクションスイッチ70で代替されるが、該
スイッチはサイクス:Sykesの英国特許第2,14
9,534号明細書に示すスナップアクションスイッチ
と類似である。
はスナップアクションスイッチ70で代替されるが、該
スイッチはサイクス:Sykesの英国特許第2,14
9,534号明細書に示すスナップアクションスイッチ
と類似である。
【0031】スイッチ70は合成組立体である。該スイ
ッチは室72を画定しているケーシング71を含む。ポ
ート73がケーシング71に形成されており、室72が
チューブ39を介して室40と連通できるようにする。
また、ポート74がケーシング71に形成され、かつ通
路41に接続されている。
ッチは室72を画定しているケーシング71を含む。ポ
ート73がケーシング71に形成されており、室72が
チューブ39を介して室40と連通できるようにする。
また、ポート74がケーシング71に形成され、かつ通
路41に接続されている。
【0032】室72はシール76を有するスナップアク
ション機構75を収容しており、該機構を図8に示す適
所に位置させてポート74に対してシールする。押棒7
7は前記機構75に対して当接し、かつケーシング71
の開口を通して突出している。前記押棒77の上部分は
転動ダイヤフラム78内に密閉され、該ダイヤフラムは
押棒77並びにダイヤフラム34の下方の空洞からの開
口とをシールするよう作用する。圧縮ばね79がダイヤ
フラム78内に収容されており、押棒77のフランジと
ケーシング71との間で作用し押棒77に上方への弾圧
力を加える。
ション機構75を収容しており、該機構を図8に示す適
所に位置させてポート74に対してシールする。押棒7
7は前記機構75に対して当接し、かつケーシング71
の開口を通して突出している。前記押棒77の上部分は
転動ダイヤフラム78内に密閉され、該ダイヤフラムは
押棒77並びにダイヤフラム34の下方の空洞からの開
口とをシールするよう作用する。圧縮ばね79がダイヤ
フラム78内に収容されており、押棒77のフランジと
ケーシング71との間で作用し押棒77に上方への弾圧
力を加える。
【0033】押棒77の頂部はダイヤフラム34の下側
に隣接して位置しており、液位検出ポート25を介して
室29へ適当な圧力が加えられると、ダイヤフラム34
は撓み、押棒77をばね79の作用に抗して押し下げ
る。押棒77が所定の位置を通るにつれて、スナップア
クション機構は、シール76がもはやポート76と当接
しない開放位置へ運動する。このため、室72、および
室40とが通路74と41並びに真空ポート26を介し
て真空にされる。真空ポート26に十分な真空が供給さ
れるとすれば、制御装置は、前述した第1の形態の制御
装置と同様にインターフェース弁6を開放させる。
に隣接して位置しており、液位検出ポート25を介して
室29へ適当な圧力が加えられると、ダイヤフラム34
は撓み、押棒77をばね79の作用に抗して押し下げ
る。押棒77が所定の位置を通るにつれて、スナップア
クション機構は、シール76がもはやポート76と当接
しない開放位置へ運動する。このため、室72、および
室40とが通路74と41並びに真空ポート26を介し
て真空にされる。真空ポート26に十分な真空が供給さ
れるとすれば、制御装置は、前述した第1の形態の制御
装置と同様にインターフェース弁6を開放させる。
【0034】液位検出ポート25内の圧力が低下するに
つれて、ばね79が押棒77を持ち上げ、そのためスナ
ップアクション機構が図8に示す位置まで復帰させる。
つれて、ばね79が押棒77を持ち上げ、そのためスナ
ップアクション機構が図8に示す位置まで復帰させる。
【0035】その他の全ての局面において、図8に示す
弁制御装置は第1の形態の弁制御装置と同じであって、
使用時、対応する通路およびポートを介して一時的な液
体溜めおよび搬送装置の残りの部分に接続されている。
弁制御装置は第1の形態の弁制御装置と同じであって、
使用時、対応する通路およびポートを介して一時的な液
体溜めおよび搬送装置の残りの部分に接続されている。
【0036】一時的な液体溜めおよび搬送装置は、イン
ターフェース弁6が開弁した回数を記録するサイクルカ
ウンタを含んでもよい。
ターフェース弁6が開弁した回数を記録するサイクルカ
ウンタを含んでもよい。
【0037】図9を参照すれば、前記のカウンタは、イ
ンターフェース弁6のケーシングに取り付けられた磁気
作動のカウンタ100でよい。インターフェース弁6が
開弁する毎に、カウンタ100は、転動ダイヤフラム作
動器13の一部を形成するピストン102に装着された
磁石101によりカウント数を進められる。
ンターフェース弁6のケーシングに取り付けられた磁気
作動のカウンタ100でよい。インターフェース弁6が
開弁する毎に、カウンタ100は、転動ダイヤフラム作
動器13の一部を形成するピストン102に装着された
磁石101によりカウント数を進められる。
【0038】磁気作動のカウンタは周知の種類のもので
都合よく、リードスイッチに接続されたLCDカウンタ
から構成してもよい。適当なLCDカウンタの二例とし
ては、REDLION CONTROLSという商標で
(CUB3Lと称される)販売されているもの、および
HENGSTLER706という商標で販売されている
ものである。これらは、2個の入力端子を有し、その2
個の端子が電気的に接触させられるとカウントが1回分
進むよう構成されているリセット可能のバッテリ作動の
カウンタである。従って、前記カウンタは、インターフ
ェース弁6が開弁する毎にリードスイッチが入力端子を
電気接触させるよう磁石に対して位置している強磁性リ
ードスイッチと関連して使用できる。
都合よく、リードスイッチに接続されたLCDカウンタ
から構成してもよい。適当なLCDカウンタの二例とし
ては、REDLION CONTROLSという商標で
(CUB3Lと称される)販売されているもの、および
HENGSTLER706という商標で販売されている
ものである。これらは、2個の入力端子を有し、その2
個の端子が電気的に接触させられるとカウントが1回分
進むよう構成されているリセット可能のバッテリ作動の
カウンタである。従って、前記カウンタは、インターフ
ェース弁6が開弁する毎にリードスイッチが入力端子を
電気接触させるよう磁石に対して位置している強磁性リ
ードスイッチと関連して使用できる。
【0039】代替的に、前記カウンタ100はHENG
STLER GB Ltdにより製作され、COLIB
RIという商標で販売されている種類の機械的な磁気作
動のカウンタでもよい。このカウンタはピストン102
上の磁石101によって作動される。
STLER GB Ltdにより製作され、COLIB
RIという商標で販売されている種類の機械的な磁気作
動のカウンタでもよい。このカウンタはピストン102
上の磁石101によって作動される。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、一時的な液体溜め及び
搬送装置のタンク内の圧力が所定値に達した時、インタ
ーフェース弁を閉止し、ウオータロギングを防止するこ
とができるインターフェース弁制御装置が提供される。
さらに、押し釦装置を手で押す事により、インターフェ
ース弁のテストを容易に行う事ができる。また、第2の
圧力感応装置には第2の弁装置の閉止方向にダイヤフラ
ムを付勢する圧縮コイルばねが設けられているので、何
等かの理由でインターフェース弁制御装置が故障した場
合に、第2の弁装置は常に閉止され、インターフェース
弁も閉止される。これにより、ウオータロギングの防止
と共に真空の浪費が防止される。空気タイマーあるいは
パイロット圧力解放通路装置のニードル弁を設けること
により、インターフェース弁の開弁時間を容易に制御す
ることが可能となる。
搬送装置のタンク内の圧力が所定値に達した時、インタ
ーフェース弁を閉止し、ウオータロギングを防止するこ
とができるインターフェース弁制御装置が提供される。
さらに、押し釦装置を手で押す事により、インターフェ
ース弁のテストを容易に行う事ができる。また、第2の
圧力感応装置には第2の弁装置の閉止方向にダイヤフラ
ムを付勢する圧縮コイルばねが設けられているので、何
等かの理由でインターフェース弁制御装置が故障した場
合に、第2の弁装置は常に閉止され、インターフェース
弁も閉止される。これにより、ウオータロギングの防止
と共に真空の浪費が防止される。空気タイマーあるいは
パイロット圧力解放通路装置のニードル弁を設けること
により、インターフェース弁の開弁時間を容易に制御す
ることが可能となる。
【図1】本発明によるインターフェース弁制御装置を組
み入れた、一時的な液体溜めおよび搬送装置の破断図。
み入れた、一時的な液体溜めおよび搬送装置の破断図。
【図2】インターフェース弁制御装置の平面図。
【図3】図2の線C−Cに沿って見たインターフェース
弁制御装置の断面図。
弁制御装置の断面図。
【図4】図2の線A−Aに沿って見た第2の部分断面
図。
図。
【図5】図2の線B−Bに沿って見た第3の断面図。
【図6】インターフェース弁制御装置に用いるゴム製の
ダックビル弁の水平断面図。
ダックビル弁の水平断面図。
【図7】インターフェース弁制御装置に用いるゴム製の
ダックビル弁の垂直断面図。
ダックビル弁の垂直断面図。
【図8】インターフェース弁制御装置の代替形態を示
し、図3のものに対応する図。
し、図3のものに対応する図。
【図9】サイクルカウンタを備えたインターフェース弁
を示す図。
を示す図。
34,35 第1の圧力感応装置 40 室 36,37,38,39;72,73,74 パイロッ
ト圧力通路 20;70 第1の弁装置 46,48 第2の圧力感応装置 41,51,52 真空通路 42,43,44 第2の弁装置 53,55,56,57,58,59 パイロット圧力
解放通路 60,61,62,63 押し釦装置
ト圧力通路 20;70 第1の弁装置 46,48 第2の圧力感応装置 41,51,52 真空通路 42,43,44 第2の弁装置 53,55,56,57,58,59 パイロット圧力
解放通路 60,61,62,63 押し釦装置
Claims (7)
- 【請求項1】 トリガ圧力に応答運動する第1の圧力感
応装置(34,35)と、 室(40)と、 該室に連通し、該室にパイロット圧力を供給するパイロ
ット圧力通路(36,37,38,39;72,74,
73,39)と、 前記パイロット圧力通路を開閉する第1の弁装置であっ
て、前記第1の圧力感応装置によって押圧されることに
より開放される第1の弁装置(20;70)と、前記室
(40)内のパイロット圧力に応答運動する第2の圧力
感応装置(46,48)と、 インターフェース弁(6)へ真空を供給する真空通路
(41,51,52)を開閉する第2の弁装置であっ
て、前記第2の圧力感応装置のパイロット圧力応答運動
によって開閉される第2の弁装置(42,43,44)
と、 前記室のパイロット圧力を大気に解放するパイロット圧
力解放通路装置(53,56,57,58,59)とを
有しているインターフェース弁制御装置。 - 【請求項2】 前記第1の圧力感応装置に圧力を加える
手操作の押し釦装置(60,61,62,63)が設け
られている請求項1記載のインターフェース弁制御装
置。 - 【請求項3】 前記第2の圧力感応装置は、前記室を横
切って設けられたダイヤフラム(48)と、該ダイヤフ
ラムを前記第2の弁装置の閉止方向に付勢する圧縮コイ
ルばね(46)とを有している請求項1又は2記載のイ
ンターフェース弁制御装置。 - 【請求項4】 インターフェース弁の開弁時間を制御す
る空気タイマーが設けられている請求項1から3のいず
れか1項記載のインターフェース弁制御装置。 - 【請求項5】 前記パイロット圧力解放通路装置は、前
記室と大気とを連通する通路(53,55,57,5
8,59)と、該通路を絞るニードル弁(56)とを有
している請求項1から3のいずれか1項記載のインター
フェース弁制御装置。 - 【請求項6】 前記第1の弁装置は、前記第1の圧力感
応装置に当接された弾性スリーブ(21)と、該弾性ス
リーブ内に封入されたリード弁とから成るダックビル弁
(20,21)である請求項1から5のいずれか1項記
載のインターフェース弁制御装置。 - 【請求項7】 前記第1の弁装置は、前記第1の圧力感
応装置に当接されたスナップアクション弁(70)であ
る請求項1から5のいずれか1項記載のインターフェー
ス弁制御装置。
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