JPH081566B2 - インターフェース弁制御装置 - Google Patents

インターフェース弁制御装置

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JPH081566B2
JPH081566B2 JP21695392A JP21695392A JPH081566B2 JP H081566 B2 JPH081566 B2 JP H081566B2 JP 21695392 A JP21695392 A JP 21695392A JP 21695392 A JP21695392 A JP 21695392A JP H081566 B2 JPH081566 B2 JP H081566B2
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pressure
vacuum
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interface valve
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フォアーマン，ブライアン，イー．
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、タンク内の液体を真空
によって搬送する下水処理系に使用されるインターフェ
ース弁制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】下水の収集並びに処理の分野を含む多様
の分野において、液体は、配管の送出端に減圧、あるい
は真空を供給し、前記配管の他端がその中へ突出してい
るリザーバあるいはタンク内の大気圧によって液体を前
記配管中へ、あるいは該配管に沿って押しやることによ
って一方の場所（液体のリザーバ）から別の場所へ搬送
される。一時的な液体溜めとして、下水収集のために採
用されている典型的な設備では、液体がタンクへ送り込
まれる入口と、タンクから液体が排出される出口とを有
し、前記出口が一次弁即ちインターフェース弁を介して
真空源に接続されているタンクが使用されている。この
インターフェース弁は使用時、タンクが一杯になると、
あるいはタンクの液体が第１の所定のレベルに達すると
開弁して、供給された真空によりタンクが空になるま
で、あるいはタンク中に残された液体のレベルが別の下
位置の所定値まで低下してしまうまでタンク中の液体を
前記出口を介して「吸出」させ、前記の下位所定値にお
いて弁を閉じるように作動する弁制御装置を有する。
【０００３】一般に、真空により下水を含む液体を収集
する技術は周知であって、この技術に関する各種の特許
は過去１００年にわたり、リーナ（Ｌｉｅｒｎｕｒ）、
レ．マルシャン（Ｌｅ Ｍａｒｃｈａｎｄ）、リジェン
ダール（Ｌｉｌｊｅｎｄａｈｌ）、フォアマン（Ｆｏｒ
ｅｍａｎ）およびジョーンズ（Ｊｏｎｅｓ）他に発行さ
れてきた。前記技術の、ある局面は必要な真空インター
フェース弁制御装置を含み、多数の本技術が米国特許第
３，７７７，７７８号（ジャヌー：Ｊａｎｕ）、および
同第４，３７３，８３８号（フォアマンおよびグルーム
ズ：Ｆｏｒｅｍａｎ ａｎｄ Ｇｒｏｏｍｓ）並びに英
国特許第２，１４９，５３４号（サイクス：Ｓｙｋｅ
ｓ）において提供されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】液位制御装置と称され
ることもある前記の従来技術によるインターフェース弁
制御装置は、一般的に、頻繁に、かつ高価な保守を必要
とする多くの複雑な部材で構成され、液体を運ぶために
使用される真空が低レベルまで低下した時、下記の問題
に直面する。
【０００５】真空液体搬送装置は大気圧と収集配管中の
真空との間の差圧原理に基づき作動するので、収集配管
中の真空が高ければ高い程、液体の搬送速度はより速く
なる。例えば、１個もしくはそれ以上のインターフェー
ス弁が故障して開いたままのような非常状態において
は、収集配管中の真空は低レベルへ低下する。この低真
空レベルにおいて搬送装置におけるその他のインターフ
ェース弁が自動的に作動し続けるとすれば、収集配管内
の液体の速度は低下し、該配管は急速に完全に充満され
る。一旦配管が液体で充満されると、真空圧から得られ
るエネルギが急速に摩擦損失により使われてしまい液体
の搬送は停止する。この状態は「ウオータロギング（ｗ
ａｔｅｒｌｏｇｇｉｎｇ）」あるいは「ボッグダウン
（ｂｏｇ ｄｏｗｎ）」として知られており、その発生
の可能性は、もしインターフェース弁制御装置を、真空
がある限界値以下に低下した時、弁を閉鎖させてそれ以
上の液体の進入を阻止するよう修正すれば低減すること
ができる。
【０００６】本発明は、液体を運ぶために使用される搬
送装置の真空が低下すると、インターフェース弁を閉鎖
してウオータロギングやボッグダウン等の発生を低減す
ると共に、手操作の押し釦装置でインターフェース弁を
開成する場合も同様に搬送装置の真空が低下すると、イ
ンターフェース弁を開成することをできなくして、イン
ターフェース弁制御装置を保護するだけでなく、プラン
ジャの開きによる溜め 内への液体の逆流を防止して溜め
内の逆流による液位上昇をなくし、液体搬送装置そのも
のを保護すると共に、それら構造をコンパクトにして信
頼の高いインターフェース弁装置を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るインターフェース弁制御装置は、トリ
ガ圧力に応答運動する第１の圧力感応装置を有する第１
圧力感応室と、パイロット圧力通路のパイロット圧力に
応答運動する第２の圧力感応装置を有する第２圧力感応
室と、前記第１の圧力感応装置によって前記パイロット
圧力通路を前記第２圧力感応室に開閉する第１の弁装置
と、インターフェース弁へ真空を供給する真空通路を前
記第２の圧力感応装置のパイロット圧力応答運動によっ
て開閉される第２の弁装置と、前記第２圧力感応室のパ
イロット圧力を大気に解放するパイロット圧力解放通路
装置と、前記第１の圧力感応装置に圧力を加える手操作
の押し釦装置とを有することを特徴とする。
【０００８】前記第１の圧力感応装置に圧力を加える手
操作の押し釦装置はテスト目的のために、設けられてい
る。前記第２の圧力感応装置は、前記第２圧力感応室を
横切って設けられたダイヤフラム４８と、該ダイヤフラ
ムを前記第２の弁装置の閉止方向に付勢する圧縮コイル
ばね４６とを有している。
【０００９】インターフェース弁の開弁時間を制御する
空気タイマーが設けられてもよい。前記パイロット圧力
解放通路装置は、前記第２圧力感応室と大気とを連通す
る通路と、該通路を絞るニードル弁とを有するように構
成しても良い。その場合には、該ニードル弁のセッティ
ングを変更することによってインターフェース弁の開弁
時間を制御する事が可能となる。
【００１０】前記第１の弁装置は周知の弁装置で良い
が、前記第１の圧力感応装置に当接された弾性スリーブ
と、該弾性スリーブ内に封入されたリード弁とから成る
弁である事が好ましい。あるいは、前記第１の圧力感応
装置に当接されたスナップアクション弁であってもよ
い。
【００１１】
【作用】従って本発明に係るインターフェース弁制御装
置は、液体を運ぶために使用される搬送装置の真空が低
下すると、インターフェース弁を閉鎖してウオータロギ
ングやボッグダウン等の発生を低減すると共に、手操作
の押し釦装置でインターフェース弁を開成する場合も同
様に搬送装置の真空が低下すると、インターフェース弁
を開成することができなくなる。 しかし液体を運ぶため
に使用される搬送装置の真空が低下しない時は、第１の
圧力感応装置の所定のトリガ圧力、例えば、一時的液体
溜め及び搬送装置の液位の上昇によるタンク内の上昇圧
力が作用すると、第１の圧力感応装置は第１の弁装置を
押圧し、これを開放する。それにより、パイロット圧力
通路が開放され、パイロット圧力が室に供給され、第２
の圧力感応装置を運動させる。第２の圧力感応装置は第
２の弁装置を開放し、真空供給通路が開かれる。真空が
インターフェース弁へ供給され、インターフェース弁が
開かれ、タンク内の液体がタンク内の圧力と真空圧力と
の差圧により、タンク外へ排出される。
【００１２】液体排出によりタンク内の圧力が所定値に
下降すると、第１の圧力感応装置が元位置に復帰する。
これにより、第１の弁装置は閉じられ、室への真空供給
が停止される。第２の圧力感応装置が元位置に復帰し、
第２の弁装置が閉止され、真空供給通路が閉止される。
インターフェース弁への真空供給が停止され、インター
フェース弁が閉止され、液体の排出が停止される。
【００１３】
【実施例】地面より上方あるいは下方に位置させうる図
１に示す一時的な液体溜め装置は、タンク２の下半分お
よび床４とにより限定される小さい溜め３へ開放してい
る少なくとも１個の重力による収集配管１を含む。また
真空吸引配管５が前記溜め３へ開放し、かつ真空インタ
ーフェース弁６を介して真空収集配管７に接続されてい
る。真空収集配管７はタンク２の外側に位置した真空源
（図示せず）に接続されている。
【００１４】真空インターフェース弁６は、真空吸引配
管５と真空収集配管７との間の通路を開閉する可動プラ
ンジャ１２と、供給された真空によって、可動プランジ
ャ１２を駆動するシャフト１４及び転動ダイヤフラム作
動器１３とを有している。真空インターフェース弁には
インターフェース弁制御装置１１が取り付けられてい
る。インターフェース弁制御装置１１には、インターフ
ェース弁６の下流から真空ポート２６（図３に示す）ま
でつながるホース１０により真空が供給される。前記制
御装置１１は、また、ホース１５と虫よけ網１６とを介
して大気と連通する大気圧ポート２７（図５参照）を有
する。
【００１５】下端で開放している液位検出配管８が溜め
３中へ垂直方向に突出している。液位検出配管８の他端
はホース９によりインターフェース弁制御装置１１の液
位検出ポート２５（図３に示す）に接続されている。
【００１６】図２と図３とを参照すれば、インターフェ
ース弁制御装置１１の液位検出ポート２５は円形室２９
と連通している。該室は軟質のゴム製の円形ダイヤフラ
ム３１により（図示のように）上の領域と下の領域とに
分割されている。ダイヤフラム３１はその縁部の近くに
小さい孔３０を有し、該孔は空気が前記室２９の上の領
域から下の領域へ漏れることができるようにしている。
通路３２が前記室２９の下の領域を、第２の円形ダイヤ
フラム３４を収容している第２の円形室３３に接続して
いる。ダイヤフラム３４のすぐ下方の空洞は通路５３と
大気圧ポート２７とを介して大気と連通している（図５
参照）。
【００１７】ダイヤフラム３４の下側はプランジャ３５
と接触しており、該プランジャの下部はフランジ付弾性
スリーブ２１に当接している。該スリーブ内には弾性の
リード弁２０が封入されている（図６および図７参
照）。リード弁２０の一側２２に真空を、他側２３に大
気圧を加えると、ダッグビルは閉鎖したままである。し
か しながら、矢印２４で示す方向に、「ピンチング」圧
をスリーブの外側へ（図７に示すように）加えること
は、スリーブを変形させ、リード弁が相互に開成するこ
とを防止し、そのため弁を開き、加えられたピンチング
圧が除去されるまでリード弁を通して真空を供給できる
ようにする。
【００１８】リード弁装置の一側２２は通路４１に接続
され、該通路は真空ポート２６に接続されている。リー
ド弁装置の反対の側２３は通路３６，３７および３８並
びにチューブ３９を介して円筒形の室４０と連通してい
る。（図４のみに示す）通路５５と５８とはダイヤフラ
ム３４のすぐ下方の空洞から通路５９，５７を介して室
４０へ、通路５８と５９との間に介装されたねじ調整可
能のニードル弁５６により規定される速度で空気が流れ
ることを許している。
【００１９】室４０は円形ダイヤフラム４８により隣接
の円筒形室４９から分離されている。前記ダイヤフラム
４８はその両面に１個づつカップ４７を支持している。
上方のカップは圧縮ばね４６の端部を保持し、前記ばね
の他端は室４０の頂部に当接し、ダイヤフラム４８を下
方に押圧している。下方のカップ４７は二重円錐弁４２
に接続されている。該弁４２は円形の室５０内に位置
し、ダイヤフラム４８の位置に応じて下方の固定シール
４３あるいは上方の固定シール４４のいずれかに載置さ
れる。
【００２０】前記室４９は通路５４により通路５３に接
続されている（図５参照）。二重円錐弁４２を下方のシ
ール４３に当接させると、空気は通路４５を介して室４
９から室５０まで進むことができる。通路４１は二重円
錐弁４２のすぐ下方の空洞において終る。二重円錐弁４
２がシール４４に当接すると、空気は室５０から通路４
１へ流れることができる。
【００２１】室５０は、スロット５２を含む通路５１を
介してインターフェース弁６と連通する。タンクおよび
制御装置の一般的な作動原理は以下の通りである。液体
は重力による収集配管１によりタンク２へ入る。それに
つれて、溜め３において液位が上がり、ホース９により
インターフェース弁制御装置１１と連通している配管８
に空気圧を発生させる。ホース１０は真空源から真空を
インターフェース弁制御装置１１へ供給する。
【００２２】ホース９内の圧力がインターフェース弁制
御装置１１を作動させ、該制御装置１１はホース１０か
ら転動ダイヤフラム作動器１３のダイヤフラムに真空を
供給し、そのときインターフェース弁６が開く。所定の
時間間隔に調整されている系においては、インターフェ
ース弁制御装置１１の空気タイマが始動し、液体は予め
セットした時間が経過するまで吸引配管５を介して収集
配管７へ吸引され、前記時間の経過時プランジャ１２が
閉じてインターフェース弁制御装置１１は待機位置まで
復帰する。
【００２３】前述のように、溜め３において液位が上昇
することにより発生する圧力はホース９と液位検出ポー
ト２５とを介して室２９へ供給される。圧力がゆっくり
と上昇することにより、空気は軟質のゴムダイヤフラム
３１の小さい孔３０を介して流出し、通路３２を通って
室３３へ入る。ここで圧力がダイヤフラム３４に付加さ
れる。ダイヤフラム３４の下側の空気圧は大気に接続さ
れている通路５３と大気圧ポート２７とを介して開放さ
れ、ダイヤフラム３４は撓み、プランジャ３５に圧力を
加え、プランジャはスリーブ２１に横方向の湾曲変形の
力を付加する。前記力が増加するにつれて、リード弁２
０が開き、真空ポート２６からの真空がリード弁２０を
通って通路３６，３７および３８並びにチューブ３９を
介して室４０へ流れる。
【００２４】また、真空ポート２６からの真空は通路４
１を介して二重円錐弁４２の下側へも供給され、二重円
錐弁４２が開くとこの真空は室５０へ送られ、次いで前
述のように通路５１を介してインターフェース弁６へ送
られる。しかしながら、通常二重円錐弁４２はダイヤフ
ラム４８に装着されたカップ４７を介して作用するばね
４６により、かつ二重円錐弁の頭を固定シール４３に対
して吸引する真空の作用により閉鎖位置に保たれてい
る。もし真空ポート２６（したがって室４０）における
真空が不十分であり、従って収集配管７における真空が
十分な液体搬送速度を保証するに不十分である場合、二
重円錐弁４２の開弁を阻止するように選択されたばね係
数をばね４６は有している。ばね４６のばね係数は装置
によって変りうるが、通常真空が０．２５バールあるい
はそれ以上の程度である場合、通常二重円錐弁４２が開
弁できるようにする（勿論０．２５バールというこの数
字は確定的ではない）。
【００２５】真空チューブ３９を介して室４０へ入る
際、ダイヤフラム４８に溜まったいかなる凝縮物あるい
は水分は通路３８，３７および３６、リード弁２０並び
に真空ポート２６を介して真空収集配管７へ吸出され
る。ばね４６の力と通路４１を介して二重円錐井４２の
頭に作用する吸引力とを上廻るに十分なレベルの真空が
得られると、ダイヤフラム４８とカップ４７とは、二重
円錐弁４２が上方の固定シール４４と当接するまで上方
へ撓み、二重円錐弁４２を下方の固定シール４３から持
ち上げる。このため室４９を室５０から閉鎖し、通路４
１からの真空が室５０へ流入し、かつ通路５１を介して
インターフェース弁６の上方の作動器へ流入する（図１
参照）。そのときインターフェース弁６が開く。インタ
ーフェース弁６の作動器が全開位置にあると、通路５１
の下端はインターフェース弁６の作動器の運動を停止す
る停止部材として作用する。通路５１におけるスロット
５２はインターフェース弁６の閉止を助けるサクション
ブレーカとして構成されている。インターフェース弁６
の作動器に集められうるいかなる水あるいは凝縮物も通
路５２，４１および真空ポート２６を介して真空収集配
管７へ吸出される。
【００２６】インターフェース弁６が開放するにつれ
て、真空が吸引配管５を通り、溜め３の中の液体を吸出
し始める。液位が液位検出配管８中の圧力を低下させ、
そのためプランジャ３５から圧力２４を除去するに十分
低減すると、リード弁２０は真空２２の力により閉鎖す
る。これは、二重円錐弁４２を開いた状態に保持する室
４０の真空によりリード弁２０を閉じたままにする。通
路５５と５８とは通路５３と大気圧ポート２７とを介し
て大気に接続される。調節可能のニードル弁５６が通路
５５と５８とを介して大気圧を通路５９，５７を介して
室４０へ供給する。十分な大気圧が室４０へ吸引される
と、低下しつつある真空圧ではばね４６を圧縮状態に保
つには不十分であって、二重円錐弁４２はシール４３に
当接するまでシール４４から下方向へ運動する。大気圧
ポート２７と通路５３および５４から大気圧は室４９へ
入り、かつ通路４５を介して室５０へ入り、次いで通路
５１を介してインターフェース弁６の作動器へ入ってイ
ンターフェース弁６を閉鎖させる。
【００２７】二重円錐弁４２の開放時間は、スクリュド
ライバを用いてニードル弁５６のセッティングを調整す
ることにより増減できる。従って、真空収集配管中の空
気対液体の比率を制御するインターフェース弁の開放時
間はニードル弁５６により制御される。一時的な溜めタ
ンク２は地下水面の高い地面に設置されうるので、その
ためホース１５に接続される配管は通常地面より上方に
設置され、虫よけ網１６を嵌合させている。微細なダス
トや砂が多く吹いたり、浮遊している地域においては、
大気圧ポート２７に目の細かいフィルタ９０を装着して
ニードル弁５６の定期点検頻度を低減（点検間隔を増
す）することが望ましい。
【００２８】ある場合には、一時的な溜めタンク２にシ
ールしたカバーを設ける必要がある。そのような配備に
おいては、インターフェース弁６が開放した時真空吸引
配管５を介して吸引される大量の空気は重力による収集
配管１と抽気配管とを介して吸出されなければならな
い。インターフェース弁６が閉鎖すると、重力収集配管
１を激しく流れる空気がシールされたタンク２内の圧力
を急激に鋭く増加させる。この圧力増加は液位検出配管
８とホース９とを介して弁制御装置１１の液位検出ポー
ト２５に連絡され、該制御装置１１はダイヤフラム３１
を通路３２に対してシールさせ、ダイヤフラム３４が二
重円錐弁４２の、従ってインターフェース弁６の第２回
目の作動サイクルを起動させるのを阻止し、インターフ
ェース弁６を閉鎖状態に保持する。
【００２９】試験目的に対して、図３に示すように転動
ダイヤフラムでシールされた押釦装置が設けられてい
る。ダイヤフラム６０は押釦６１を被覆し、かつシール
している。ばね６２は押釦６１を「オフ」位置に保持す
る。ねじ６４により適所に保持されたプレート６３は本
押釦装置を適所でシールし、かつ保持する。
【００３０】ダイヤフラム６０に指で圧力を加えること
により押釦６１を下方に押し、ダイヤフラム３４に圧力
を加え、該ダイヤフラム３４がインターフェース弁制御
装置１１を作動させる。
【００３１】図８に示す装置の場合、リード弁２０はス
ナップアクションスイッチ７０で代替されるが、該スイ
ッチはサイクス：Ｓｙｋｅｓの英国特許第２，１４９，
５３４号明細書に示すスナップアクションスイッチと類
似である。
【００３２】スイッチ７０は合成組立体である。該スイ
ッチは室７２を画定しているケーシング７１を含む。ポ
ート７３がケーシング７１に形成されており、室７２が
チューブ３９を介して室４０と連通できるようにする。
また、ポート７４がケーシング７１に形成され、かつ通
路４１に接続されている。
【００３３】室７２はシール７６を有するスナップアク
ション機構７５を収容しており、該機構を図８に示す適
所に位置させてポート７４に対してシールする。押棒７
７は前記機構７５に対して当接し、かつケーシング７１
の開口を通して突出している。前記押棒７７の上部分は
転動ダイヤフラム７８内に密閉され、該ダイヤフラムは
押棒７７並びにダイヤフラム３４の下方の空洞からの開
口とをシールするよう作用する。圧縮ばね７９がダイヤ
フラム７８内に収容されており、押棒７７のフランジと
ケーシング７１との間で作用し押棒７７に上方への弾圧
力を加える。
【００３４】押棒７７の頂部はダイヤフラム３４の下側
に隣接して位置しており、液位検出ポート２５を介して
室２９へ適当な圧力が加えられると、ダイヤフラム３４
は撓み、押棒７７をばね７９の作用に抗して押し下げ
る。押棒７７が所定の位置を通るにつれて、スナップア
クション機構は、シール７６がもはやポート７６と当接
しない開放位置へ運動する。このため、室７２、および
室４０とが通路７４と４１並びに真空ポート２６を介し
て真空にされる。真空ポート２６に十分な真空が供給さ
れるとすれば、制御装置は、前述した第１の形態の制御
装置と同様にインターフェース弁６を開放させる。
【００３５】液位検出ポート２５内の圧力が低下するに
つれて、ばね７９が押棒７７を持ち上げ、そのためスナ
ップアクション機構が図８に示す位置まで復帰させる。
【００３６】その他の全ての局面において、図８に示す
弁制御装置は第１の形態の弁制御装置と同じであって、
使用時、対応する通路およびポートを介して一時的な液
体溜めおよび搬送装置の残りの部分に接続されている。
【００３７】一時的な液体溜めおよび搬送装置は、イン
ターフェース弁６が開弁した回数を記録するサイクルカ
ウンタを含んでもよい。
【００３８】図９を参照すれば、前記のカウンタは、イ
ンターフェース弁６のケーシングに取り付けられた磁気
作動のカウンタ１００でよい。インターフェース弁６が
開弁する毎に、カウンタ１００は、転動ダイヤフラム作
動器１３の一部を形成するピストン１０２に装着された
磁石１０１によりカウント数を進められる。
【００３９】磁気作動のカウンタは周知の種類のもので
都合よく、リードスイッチに接続されたＬＣＤカウンタ
から構成してもよい。適当なＬＣＤカウンタの二例とし
ては、ＲＥＤＬＩＯＮ ＣＯＮＴＲＯＬＳという商標で
（ＣＵＢ３Ｌと称される）販売されているもの、および
ＨＥＮＧＳＴＬＥＲ７０６という商標で販売されている
ものである。これらは、２個の入力端子を有し、その２
個の端子が電気的に接触させられるとカウントが１回分
進むよう構成されているリセット可能のバッテリ作動の
カウンタである。従って、前記カウンタは、インターフ
ェース弁６が開弁する毎にリードスイッチが入力端子を
電気接触させるよう磁石に対して位置している強磁性リ
ードスイッチと関連して使用できる。
【００４０】代替的に、前記カウンタ１００はＨＥＮＧ
ＳＴＬＥＲ ＧＢ Ｌｔｄにより製作され、ＣＯＬＩＢ
ＲＩという商標で販売されている種類の機械的な磁気作
動のカウンタでもよい。このカウンタはピストン１０２
上の磁石１０１によって作動される。
【００４１】
【発明の効果】従って本発明に係るインターフェース弁
制御装置は、液体を運ぶために使用される搬送装置の真
空が低下すると、インターフェース弁を閉鎖してウオー
タロギングやボッグダウン等の発生を低減すると共に、
手操作の押し釦装置でインターフェース弁を開成する場
合も同様に搬送装置の真空が低下すると、インターフェ
ース弁を開成することができなくなり、インターフェー
ス弁制御装置を保護するだけでなく、プランジャの開き
による溜め内への液体の逆流を防止して溜め内の逆流に
よる液位上昇をなくし、液体搬送装置そのものを保護す
ると共に、それら構造をコンパクトにして信頼の高いも
のとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるインターフェース弁制御装置を組
み入れた、一時的な液体溜めおよび搬送装置の破断図。
【図２】インターフェース弁制御装置の平面図。
【図３】図２の線Ｃ−Ｃに沿って見たインターフェース
弁制御装置の断面図。
【図４】図２の線Ａ−Ａに沿って見た第２の部分断面
図。
【図５】図２の線Ｂ−Ｂに沿って見た第３の断面図。
【図６】インターフェース弁制御装置に用いるゴム製の
リード弁の水平断面図。
【図７】インターフェース弁制御装置に用いるゴム製の
リード弁の垂直断面図。
【図８】インターフェース弁制御装置の代替形態を示
し、図３のものに対応する図。
【図９】サイクルカウンタを備えたインターフェース弁
を示す図。
【符号の説明】
３４，３５ 第１の圧力感応装置 ４０ 室 ３６，３７，３８，３９；７２，７３，７４ パイロッ
ト圧力通路 ２０；７０ 第１の弁装置 ４６，４８ 第２の圧力感応装置 ４１，５１，５２ 真空通路 ４２，４３，４４ 第２の弁装置 ５３，５５，５６，５７，５８，５９ パイロット圧力
解放通路 ６０，６１，６２，６３ 押し釦装置

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 トリガ圧力に応答運動する第１の圧力感
    応装置（３４，３５）を有する第１圧力感応室（３３）
    と、パイロット圧力通路（３６，３７，３８，３９；７
    ２，７４，７３，３９）のパイロット圧力に応答運動す
    る第２の圧力感応装置（４６，４８）を有する第２圧力
    感応室（４０）と、前記第１の圧力感応装置によって前
    記パイロット圧力通路を前記第２圧力感応室に開閉する
    第１の弁装置（２０；７０）と、インターフェース弁
    （６）へ真空を供給する真空通路（４１，５１，５２）
    を前記第２の圧力感応装置のパイロット圧力応答運動に
    よって開閉される第２の弁装置（４２，４３，４４）
    と、前記第２圧力感応室のパイロット圧力を大気に解放
    するパイロット圧力解放通路装置（５３，５６，５７，
    ５８，５９）と、前記第１の圧力感応装置に圧力を加え
    る手操作の押し釦装置（６０，６１，６２，６３）とを
    有することを特徴とするインターフェース弁制御装置。
  2. 【請求項２】 前記第２の圧力感応装置は、前記第２圧
    力感応室を横切って設けられたダイヤフラム（４８）
    と、該ダイヤフラムを前記第２の弁装置の閉止方向に付
    勢する圧縮コイルばね（４６）とを有している請求項１
    のインターフェース弁制御装置。
  3. 【請求項３】 前記インターフェース弁の開弁時間を制
    御する空気タイマーが設けられている請求項１又は請求
    項２記載のインターフェース弁制御装置。
  4. 【請求項４】 前記パイロット圧力解放通路装置は、前
    記第２圧力感応室と大気とを連通する通路（５３，５
    ５，５７，５８，５９）と、該通路を絞るニードル弁
    （５６）とを有している請求項１又は請求項２記載のイ
    ンターフェース弁制御装置。
  5. 【請求項５】 前記第１の弁装置は、前記第１の圧力感
    応装置に当接された弾性スリーブ（２１）と、該弾性ス
    リーブ内に封入されたリード弁（２０，２１）である請
    求項１から請求項４のいずれか１項記載のインターフェ
    ース弁制御装置。
  6. 【請求項６】 前記第１の弁装置は、前記第１の圧力感
    応装置に当接されたスナップアクション弁（７０）であ
    る請求項１から請求項４のいずれか１項記載のインター
    フェース弁制御装置。
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Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH062786A (ja) * 1992-06-18 1994-01-11 Sekisui Chem Co Ltd 真空弁
JPH062777A (ja) * 1992-06-18 1994-01-11 Sekisui Chem Co Ltd 真空弁
US5275216A (en) * 1992-08-07 1994-01-04 Haedt Christopher R Liquid overflow shut-off valve
AU679736B2 (en) * 1993-06-07 1997-07-10 Sekisui Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Vacuum valve control device and vacuum valve
JPH06346975A (ja) * 1993-06-07 1994-12-20 Sekisui Chem Co Ltd 真空弁
JP2816524B2 (ja) * 1993-09-22 1998-10-27 株式会社荏原製作所 真空弁
JP3079411B2 (ja) * 1994-04-19 2000-08-21 株式会社荏原製作所 真空式下水道システムの真空弁制御装置
NL1000494C2 (nl) * 1995-06-02 1996-12-03 Spiro Research Bv Werkwijze voor expansiebeheersing in een gesloten vloeistofcirculatie- systeem met variërende temperatuur alsmede een gesloten vloeistofcircu- latiesysteem voor het uitvoeren van een dergelijke werkwijze.
US5678600A (en) * 1995-06-07 1997-10-21 Locke; Randal D. Filling valve
JP3690547B2 (ja) * 1995-09-27 2005-08-31 株式会社小松製作所 下水管作業用循環排水装置
JP3286535B2 (ja) * 1996-08-26 2002-05-27 株式会社荏原製作所 真空弁制御装置
US6152656A (en) * 1997-06-19 2000-11-28 J. A. Jones Environmental Services Company Material delivery system
IL123227A0 (en) * 1998-02-08 1998-09-24 3By Ltd Check valve
US6206042B1 (en) 1998-03-06 2001-03-27 Chemical Engineering Corporation Modular control apparatus for water treatment system
US5979486A (en) 1998-10-01 1999-11-09 Euroiseki Ltd. Internal breathing for vacuum interface valve of vacuum sewage system
US6467497B1 (en) * 1999-04-21 2002-10-22 Evac International Oy Buffer box for use in a vacuum drainage system
DE10006028C1 (de) * 2000-02-10 2001-05-23 Roediger Vakuum & Haustechnik Verfahren und Anordnung zum Belüften eines Flüssigkeit aufnehmenden Behälters
US7124913B2 (en) 2003-06-24 2006-10-24 Air Products And Chemicals, Inc. High purity chemical container with diptube and level sensor terminating in lowest most point of concave floor
JP4972031B2 (ja) * 2008-05-22 2012-07-11 積水化学工業株式会社 真空弁装置の取付構造及び真空弁付き汚水ます
CN102428235B (zh) * 2009-04-03 2013-10-23 株式会社酉岛制作所 真空阀的控制装置
US8032256B1 (en) * 2009-04-17 2011-10-04 Sje-Rhombus Liquid level control systems
US8556135B2 (en) * 2009-11-05 2013-10-15 Dometic Corporation 360° dip tube pick-up adapter
DE102010000609B4 (de) * 2010-03-02 2015-03-12 Roediger Vacuum Gmbh Steueranordnung
TWI450064B (zh) * 2011-06-27 2014-08-21 Autoaqua Technologies Co Ltd 分離式液位控制裝置
GB201309700D0 (en) * 2013-05-30 2013-07-17 Vistaplan Internat Ltd A container and method of use thereof
US10001787B2 (en) 2014-06-02 2018-06-19 Aqseptence Group, Inc. Controller for vacuum sewage system
US9580293B2 (en) 2014-06-24 2017-02-28 Air Products And Chemicals, Inc. Diptube design for a host ampoule
US10550845B2 (en) 2015-07-22 2020-02-04 S. J. Electro Systems, Inc. Liquid level sensing system
US10584473B2 (en) * 2017-12-08 2020-03-10 Legend Energy Advisors Controlling a vacuum sewer system
US11299878B2 (en) * 2019-03-21 2022-04-12 Aqseptence Group, Inc. Vacuum sewage system with sump breather apparatus
CN112013152B (zh) * 2020-08-05 2022-03-15 国能龙源环保有限公司 一种液位控制阀及液位控制系统及液位控制方法
US11598080B2 (en) 2020-10-15 2023-03-07 Vincent LEPORE Sump overflow protector

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4373838A (en) 1981-02-13 1983-02-15 Burton Mechanical Contractors Inc. Vacuum sewage transport system

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1303709A (en) * 1919-05-13 Wrench
US2755060A (en) * 1951-12-03 1956-07-17 Twyman L Raymond Reinforced flexible wall valve structure
SE334849B (ja) * 1969-09-08 1971-05-03 Electrolux Ab
JPS4887428A (ja) * 1972-02-22 1973-11-17
SE365027B (ja) * 1972-04-26 1974-03-11 Electrolux Ab
US3777778A (en) * 1972-08-30 1973-12-11 Johnson Service Co Two-position liquid level controller
US3912247A (en) * 1974-01-02 1975-10-14 Potter Electric Signal Pneumatic retard having stroke-accelerating valve
JPS515620A (ja) * 1974-07-04 1976-01-17 Howa Sangyo Kk Gasugabanatsukitaishingasushadansochi
JPS52107592A (en) * 1976-03-05 1977-09-09 Japan Storage Battery Co Ltd Connector with counter
US3998736A (en) * 1976-05-12 1976-12-21 Greenleaf Jr John W Sewage disposal system
US4188968A (en) * 1977-10-28 1980-02-19 Johnson Controls, Inc. Flow system with pressure level responsive air admission control
US4179371A (en) * 1978-03-20 1979-12-18 Burton Mechanical Contractors, Inc. Vacuum sewage system
US4268383A (en) * 1979-03-26 1981-05-19 Johnson Controls, Inc. Flow system control with time delay override means
US4518145A (en) * 1982-09-28 1985-05-21 Empire Abrasive Equipment Corporation Valve for regulating the pressurized flow of abrasives, in particular blast media
GB2149534B (en) * 1983-11-08 1986-12-10 Cowells Sewerage Systems Limit Liquid level control system
US4691731A (en) * 1983-12-08 1987-09-08 Burton Mechanical Contractors, Inc. Vacuum sewerage system with in pit breather
JPS60157018A (ja) * 1984-01-27 1985-08-17 Yasushi Ishii 流量計
SE449883B (sv) * 1984-02-10 1987-05-25 Waertsilae Oy Ab Anordning vid ett vakuumtransportsystem for vetskor t ex vakuumavloppssystem
JPS6114520A (ja) * 1984-06-29 1986-01-22 Omron Tateisi Electronics Co 回転数、速度等の検出装置
JPS61109234A (ja) * 1984-10-31 1986-05-27 自動車機器株式会社 液面警報装置の作動確認装置
JPS61133936U (ja) * 1985-02-12 1986-08-21
JPS62102862U (ja) * 1985-12-19 1987-06-30
JPH0355655Y2 (ja) * 1986-06-27 1991-12-11

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4373838A (en) 1981-02-13 1983-02-15 Burton Mechanical Contractors Inc. Vacuum sewage transport system

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