JPH05253754A - 放電加工用電極 - Google Patents

放電加工用電極

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JPH05253754A
JPH05253754A JP4050947A JP5094792A JPH05253754A JP H05253754 A JPH05253754 A JP H05253754A JP 4050947 A JP4050947 A JP 4050947A JP 5094792 A JP5094792 A JP 5094792A JP H05253754 A JPH05253754 A JP H05253754A
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JP
Japan
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electrode
needle
electric discharge
discharge machining
shape
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JP4050947A
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Inventor
Takayuki Tominaga
隆行 冨永
Michio Hisanaga
道夫 久永
Tadashi Hattori
服部　　正
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Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
    • B23H1/04—Electrodes specially adapted therefor or their manufacture

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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】被加工材の加工精度を向上することができると
ともに、放電電極あるいは被加工材の走査機構を不要に
することができ、さらに加工時間を短縮する。 【構成】電極基板５ａの表面に複数の針状電極１２を形
成し、隣接する針状電極１２を相互の放電痕内に存在さ
せる。又、複数の針状電極１２を複数個集合した一つの
針状電極群１３を形成し、この電極群１３の表面形状を
被加工材１１の所望する加工形状に合わせて形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は放電作用を用いて被加工
材を加工する放電加工装置に使用される放電加工用電極
の構造に関し、特に微細な部品を加工することが可能な
放電加工用電極に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、被加工材を微細加工する技術とし
て、半導体加工に用いられているフォトリソグラフィ技
術を用いる方法、ＬＩＧＡプロセスと呼ばれるシンクロ
トロン放射光を用いて感光材料を成形した後にメッキを
行い所定の形状に加工する方法、あるいは放電加工を利
用し被加工材を所定の形状に加工する方法がある。
【０００３】以下に放電加工について説明する。放電加
工用電極としては、以下の三種類が上げられる。第一
に、図１１に示す複数の穴２０ａを有する平板電極２０
は、それと対向して被加工材２１を配置し、放電加工用
電源２２の電圧により平板電極２０から放電によって被
加工材２１を加工する作業に用いられる。
【０００４】第二に、図１３に示す単一針状電極２３
は、それと被加工材２１の間に電圧を印加することによ
り生じる放電を利用して被加工材２１に穴をあける加工
に用いられる。又、電極２３先端の面積が、平板電極２
０に比べ微小なため一回の放電エネルギーが少なく加工
精度の向上が可能である。
【０００５】第三に、図１４に示すワイヤ電極２４は、
それと被加工材２１の間に電圧を印加するとともに被加
工材２１を回転させることにより、被加工材を針状に加
工する作業に用いられる。又、加工中にワイヤ電極２４
を送ることにより、放電による電極の消耗を抑え、かつ
加工精度の向上効果を達成している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
加工方法においては、図１２に示すように被加工材２１
の表面に対し、微小領域、つまり微小円柱状部２１ａを
残して加工することに対して種々の不都合が生じる。
【０００７】半導体加工に用いられるエッチングを主体
とするフォトリソグラフィ技術を用いる方法において
は、図１２に示される円柱状部２１ａの高さ方向に寸法
が数十ミクロンとなった場合、横方向へのエッチングが
生じることにより寸法精度が得られない。
【０００８】又、ＬＩＧＡプロセスにおいては、シンク
ロトロン放射光を用いるため非常に高価となる。さら
に、従来の放電加工を利用した方法においては、加工精
度及び加工時間について問題が生じる。以下に前述した
各電極構造についてその問題を述べる。
【０００９】第１に、図１１に示す平板電極２０を用い
た場合、電極面積が大きいため一回の放電で発生するエ
ネルギーが大きくなり、穴２０ａにより形成される円柱
状部２１ａ外周表面に凹凸が生じ易く加工精度が望めな
い。
【００１０】第２に、図１３に示す単一針状電極２３を
用いた場合、針状電極２３あるいは被加工材２１を走査
することによって図１２に示される円柱状部２１ａの加
工精度を向上することは可能であるが、加工時間が増大
し、針状電極２３あるいは被加工材２１を走査するため
の機構と針状電極２３の消耗対策が必要である。
【００１１】第３に、図１４に示すワイヤ電極２４を用
いた場合、電極の消耗は抑えられるが加工時間の増大及
びワイヤ電極あるいは被加工材を走査する機構が必要と
なるとともに、針状電極２３に比べ先端の放電領域が広
いため加工精度は針状電極２３に比べ低下する。
【００１２】この発明の第１の目的は、加工精度を従来
の単一針状電極と同等に保ちながら、電極あるいは被加
工材を走査する複雑な機構を必要としない放電加工用電
極を提供することにある。
【００１３】この発明の第２の目的は、上記第１の目的
に加え、被加工材に所定形状の凸部を精度良く加工する
ことができる放電加工用電極を提供することにある。こ
の発明の第３の目的は、上記第１の目的に加え、被加工
材に所定形状の凹部を精度良く加工することができる放
電加工用電極を提供することにある。
【００１４】この発明の第４の目的は、上記第１の目的
に加え、被加工材に高低差を有する所定形状を精度良く
加工することができる放電加工用電極を提供することに
ある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るために請求項１記載の発明は、電極基板の表面を複数
の針状電極からなる針状電極群にて構成し、隣接する針
状電極を相互の放電痕内に存在させるという手段をとっ
ている。
【００１６】又、請求項２記載の発明は、前記第２の目
的を達成するため、請求項１において、前記電極基板及
び針状電極群の内部に放電痕よりも大きい穴を形成する
という手段をとっている。
【００１７】又、請求項３記載の発明は、前記第３の目
的を達成するため、請求項１において、前記針状電極群
を複数箇所に、かつ隣接する針状電極群の放電痕が離隔
するように配設するという手段をとっている。
【００１８】又、請求項４記載の発明は、前記第４の目
的を達成するため、請求項１において、前記針状電極群
に高低差を形成するという手段をとっている。
【００１９】
【作用】本発明の放電加工用電極を放電加工に用いた場
合、放電はその直前に最も放電し易い状況にあった針状
電極の先端から開始され、その針状電極と被加工材の距
離が放電により増大することにより他の放電し易い針状
電極が次に放電する。このように放電が順次繰り返され
ることにより被加工材が加工される。このとき加工され
る被加工材は、隣接した針状電極の放電痕が重なるため
針状電極の形状を反映することはなく、複数の針状電極
により構成された電極群の形状を反映した形状となる。
【００２０】又、針状電極の先端面積が小さいので、針
状電極の先端と被加工材の間の電気容量に比例する放電
エネルギーも小さく、従って、被加工材の加工精度が向
上する。さらに、針状電極の表面積が平板電極に比べて
大きいことから放電加工中に絶縁油が針状電極相互の間
隙を通るので、放熱性に優れ、この点からも加工精度が
向上する。
【００２１】さらに、針状電極ごとに放電が順次繰り返
されて針状電極群全体に波及するため、放電加工用電極
あるいは被加工材を走査する機構が不要になる。請求項
２記載の発明は、請求項１記載の発明の作用に加えて、
被加工材に対し、針状電極群の内側に形成した穴の形状
と同じ形状の凸部が同時に精度良く加工される。
【００２２】請求項３記載の発明は、請求項１記載の発
明の作用に加えて、被加工材に対し、複数の独立した針
状電極群の形状と同じ形状の凹部が同時に精度良く加工
される。
【００２３】さらに、請求項４記載の発明は、請求項１
記載の発明の作用に加えて、被加工材に対し、針状電極
群の高低差を有する形状と同じ形状が同時に精度良く加
工される。
【００２４】
【実施例】以下、請求項１，２記載の発明を図１〜図６
に示す第１実施例に基づいて説明する。
【００２５】図３に示すように、ベッド１には支柱２が
立設され、この支柱２の上端部には支持アーム３が水平
に支持されている。又、この支持アーム３の下面には支
持板４が垂下固定され、該支持板４の下端部にはこの発
明の放電加工用電極５が取り外し可能に支持されてい
る。
【００２６】一方、前記ベッド１の上面には支持台６が
固定され、該支持台６には加工槽８が昇降用モータ７に
より昇降動作可能に装着されている。この加工槽８の内
部には水平支持板９と絶縁油Ｏが収容され、この支持板
９と前記支持板４との間には放電加工用電源を有する放
電回路１０が接続されている。そして、前記水平支持板
９の上面に被加工材１１を載置した状態で、両支持板
４，９に放電回路１０により所定の電圧を引加し被加工
材１１を加工槽８とともに上昇させて放電加工用電極５
側へ接近することにより、被加工材１１の放電加工を行
うことができるようにしている。
【００２７】図４は前記放電加工用電極５の断面図であ
り、図５は電極５の表面構造を示した図である。電極５
の基板５ａの表面には多数の針状電極１２を所定の密度
で密集した針状電極群１３が形成されている。この実施
例では一つの電極群１３に所定の形状を形成することに
より、被加工材１１に所望する形状を放電加工するもの
である。
【００２８】図４，図５に示す放電加工用電極５は次の
ようして作製される。まず、電極基板５ａの放電面を半
導体プロセスに用いられるフォトリソグラフィ技術を用
いて、図１に示すように針状電極１２の深さＨが５ミク
ロン、針状電極１２の直径Ｄが２ミクロン、各針状電極
１２相互の間隙ｇが１ミクロンとなるように針状電極群
１３を作成する。次に、電極基板５ａの裏面から放電加
工によって直径Ｌが数ミリの円形の穴１４の加工を行う
ことによって得た。
【００２９】ここで、電極５の作製方法を詳述すると、
タングステン（Ｗ）の電極基板５ａの放電面となる面に
感光樹脂（例えばフォトレジスト）を塗布する。次に、
所定の形状を持つフォトマスクを用い感光樹脂を感光さ
せ、これを現像することにより感光樹脂に針状電極群１
３の作製用フォトマスクの形状を転写する。
【００３０】さらに、感光樹脂をマスク材として、電極
基板５ａをエッチングすることにより、基板５ａの放電
面全体に針状電極群１３を加工する。その後、電極基板
５ａの放電面の裏面から所定の形状の抜き穴１４を放電
加工により作製する。なお、前述のエッチング及び以下
に述べるエッチングには液体を用いたウェットエッチと
プラズマガスを用いたドライエッチがあるが、いずれで
もよい。
【００３１】得られた放電加工用電極５を図３に示す放
電加工装置に装着するとともに、加工したい被加工材１
１に対し所定の距離をおいて対向するように配置し、放
電回路１０により電圧を印加し、昇降用モータ７により
加工槽８を上昇することにより、図２に示す加工動作を
経て、被加工材１１を図６に示す形状に加工した。この
とき図２に示すように、針状電極１２の先端が電界集中
を生じて放電し易くなっているため、針状電極１２の先
端で放電が生じ、穴１４により被加工材１１に円柱状部
１１ａを残す放電加工が走査機構を使用することなく一
回の作業により行われる。又、針状電極１２は隣接する
針状電極１２の放電痕内に存在するため針状電極１２の
形状を被加工材１１に転写することはない。言い換えれ
ば針状電極１２相互間には被加工材１１が入り込まな
い。
【００３２】ところで、針状電極１２の単発放電エネル
ギーＥ（ジュール）は、電気容量Ｃ、印加電圧Ｖから次
の式で表される。
【００３３】
【数１】Ｅ＝（１／２）・Ｃ・Ｖ2 ここで、電気容量Ｃは、絶縁油Ｏの比誘電率ε、真空の
誘電率εo 、針状電極１２の先端面の面積Ｓ、針状電極
１２と被加工材１１の距離ｄ等により次の式で表され
る。
【００３４】
【数２】Ｃ＝ε・εo ・（Ｓ／ｄ） 従って、前記針状電極１２の先端面の面積Ｓを小さくす
ることにより、放電エネルギーＥを小さくすることがで
き、このため被加工材１１の加工精度を向上することが
できる。
【００３５】この第１実施例の放電加工用電極５は、放
電を起こしたい領域を針状電極群１３とすることによ
り、各針状電極１２の先端部と被加工材１１との間で放
電が生じ易く、放電をさせたくない領域、つまり最外側
に位置する針状電極１２の側面と被加工材の間での放電
を抑えることが可能となり、この点からも加工精度が向
上する。
【００３６】又、放電加工用電極５の表面を針状電極群
１３とすることにより、電極表面積が増大し、かつ電極
１２相互の間隙ｇに絶縁油Ｏが進入するので、放電の際
に生じる熱を効果的に放熱することができ、この点から
も加工精度が向上する。加えて、針状電極群１３の間隙
ｇにより放電の際に生じるスラッジ（加工屑）を排出す
る効果が高くなる。
【００３７】次に、請求項３記載の発明を具体化した第
２実施例を図７及び図８に基づいて説明する。図７はこ
の第２実施例の針状電極群１３を持つ放電加工用電極５
の要部断面図である。この放電加工用電極５は、フォト
リソグラフィ技術を用いて放電加工用電極基板５ａの表
面に深さＨ１が１００ミクロンの円柱状部５ｂを加工し
た後に再度フォトリソグフィ技術を用いて、基板５ａ及
び円柱状部５ｂの先端面に針状電極１２よりなる針状電
極群１３を形成する。この電極群１３も前述した第１実
施例の電極群１３と同様に、この針状電極１２の深さＨ
が５ミクロン、針状電極１２の直径Ｄが２ミクロン、針
状電極１２相互の間隙ｇが１ミクロンとなるように作製
される。
【００３８】さらに、電極の作製方法を詳述すると、タ
ングステン基板５ａの放電面となる面に感光樹脂（例え
ばフォトレジスト）を塗布する。そして、所定の形状、
つまり円柱状部５ｂの形状を持つフォトマスクを用い感
光樹脂を感光させ、これを現像することにより感光樹脂
にフォトマスクの形状を転写する。
【００３９】次に、感光樹脂をマスク材として、タング
ステン基板５ａをエッチングすることにより、タングス
テン基板５ａに複数の円柱状部５ｂを加工する。さら
に、前記基板５ａ及び複数の円柱状部５ｂの放電面に感
光樹脂（例えばフォトレジスト）を再度塗布する。そし
て、所定の形状、つまり針状電極群１３作製用の形状を
持つフォトマスクを用い感光樹脂を感光させ、これを現
像することにより感光樹脂に針状電極群１３作製用フォ
トマスクの形状を転写する。さらに、感光樹脂をマスク
材として、タングステン基板５ａ及び複数の円柱状部５
ｂの先端面をエッチングすることにより、所定の針状電
極群１３を作製する。
【００４０】得られた放電加工用電極５を用いて放電加
工を行うことにより、図８に示すように被加工材１１に
円形の複数の穴１１ｂを精度良く加工することが可能で
ある。
【００４１】次に、請求項４記載の発明を具体化した第
３実施例を図９及び図１０に基づいて説明する。図９は
針状電極群１３を持つ放電加工用電極５の要部断面図で
あり、表面構造は表面が全て針状電極群１３で覆われた
構造となっている。又、形状は針状電極１２で構成され
た一つの電極群１３になだらかな高低差をつけることに
よって構成されている。
【００４２】図９に示す放電加工用電極５は、針状放電
電極を走査して放電加工することにより放電加工用電極
表面に複雑な三次元形状を作製した後にフォトリソグラ
フィ技術を用いて放電加工用電極の表面に電極１２の深
さＨが５ミクロン、電極１２の直径Ｄが２ミクロン、針
状電極１２相互の間隙ｇが１ミクロンとなるように針状
電極群１３を作製して得た。さらに、詳述すると、図１
３に示した放電加工機を用いて、タングステン基板５ａ
の放電面になだらかな高低差の山形状部５ｃを複数箇所
に作製する。そして、基板５ａ及び山形状部５ｃの放電
面に感光樹脂（フォトレジスト）を塗布する。次に、所
定の形状、つまり針状電極群１３作製用の形状を持つフ
ォトマスクを用い感光樹脂を感光させ、これを現像する
ことにより感光樹脂に針状電極群１３作製用フォトマス
クの形状を転写する。
【００４３】最後に、感光樹脂をマスク材として、タン
グステン基板をエッチングすることにより、所定の針状
電極群１３をタングステン基板５ａ及び山形状部５ｃの
放電面に加工する。
【００４４】得られた放電加工用電極５を用いて放電加
工を行うことにより、図１０に示すように被加工材１１
の表面になだらかな高低差の山形状部１１ｃを一度に精
度良く加工することが可能である。
【００４５】なお、本実施例では針状電極１２の直径Ｄ
を２ミクロンとしたが、加工方法を変えることによっ
て、さらに細い針状電極１２を作り電極として用いるこ
とにより加工精度をさらに向上させることも可能であ
る。
【００４６】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項１記載の発
明は、従来の平板電極に比べ電気容量を減少させること
ができるため単発放電エネルギーを小さくでき、かつ電
界集中効果により針状電極群の先端面で放電が生じ、側
面での放電を抑制することができ、このため放電加工精
度を従来の単一針状電極と同等に保持することができる
とともに、電極あるいは被加工材を走査する複雑な機構
を省略することができ、放電加工装置を小型、軽量化す
ることもできる。被加工材を一回の放電加工で加工でき
るので、放電加工時間を短縮して生産性を向上すること
ができる。
【００４７】又、請求項１記載の発明は、放電面の表面
積が増大することにより、電極冷却効果及び洗浄効果が
高められ、電極の耐久性が向上するとともに、被加工材
の加工精度を向上することができる。
【００４８】又、請求項２記載の発明は、請求項１記載
の発明の効果に加えて、被加工材に対し、針状電極群の
内側に形成した穴の形状と同じ形状の凸部を同時に精度
良く加工することができる効果がある。
【００４９】請求項３記載の発明は、請求項１記載の発
明の効果に加えて、被加工材に対し、複数の独立した針
状電極群の形状と同じ形状の凹部を同時に精度良く加工
することができる効果がある。
【００５０】さらに、請求項４記載の発明は、請求項１
記載の発明の効果に加えて、被加工材に対し、針状電極
群の所定の凹凸形状を同時に精度良く加工することがで
きる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】放電加工前の針状電極群と被加工材の関係を示
す要部拡大図である。
【図２】放電加工中の針状電極群と被加工材の関係を示
す要部拡大図である。
【図３】放電加工装置全体を示す正面図である。
【図４】電極群に穴を形成してなる放電加工用電極の断
面図である。
【図５】電極群に穴を形成してなる放電加工用電極の表
面図である。
【図６】図４の放電加工用電極による加工後の被加工材
の形状を示す斜視図である。
【図７】この発明の第２実施例の放電加工用電極の断面
図である。
【図８】図７の放電加工用電極による加工後の被加工材
の形状を示す斜視図である。
【図９】この発明の第３実施例の放電加工用電極の断面
図である。
【図１０】図９の放電加工用電極による加工後の被加工
材の形状を示す斜視図である。
【図１１】従来の平板電極の断面図である。
【図１２】図１１に示す電極による加工後の被加工材の
形状を示す斜視図である。
【図１３】従来の単一針状電極の断面図である。
【図１４】従来のワイヤ電極の断面図である。
【符号の説明】
５ 放電加工用電極、１１ 被加工材、１２ 針状電
極、１３ 針状電極群、１４ 穴、Ｈ 針状電極の高
さ、Ｄ 針状電極の直径、ｇ 針状電極相互の間隙。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 電極基板の表面が複数の針状電極からな
    る針状電極群により成り、隣接する針状電極は相互の放
    電痕内に存在することを特徴とする放電加工用電極。
  2. 【請求項２】 請求項１において、前記電極基板及び針
    状電極群はその内部に放電痕よりも大きい穴を有するこ
    とを特徴とする放電加工用電極。
  3. 【請求項３】 請求項１において、前記針状電極群は複
    数箇所に、かつ隣接する針状電極群の放電痕が離隔する
    ように配設されていることを特徴とする放電加工用電
    極。
  4. 【請求項４】 請求項１において、前記針状電極群は高
    低差を有することを特徴とする放電加工用電極。
JP4050947A 1992-03-09 1992-03-09 放電加工用電極 Pending JPH05253754A (ja)

Priority Applications (2)

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JP4050947A JPH05253754A (ja) 1992-03-09 1992-03-09 放電加工用電極
US08/027,532 US5357073A (en) 1992-03-09 1993-03-08 Electrical discharge machine

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07266142A (ja) * 1994-03-29 1995-10-17 Sakae Denshi Kogyo Kk 小径穴加工装置及びそれを使用する小径穴加工方法
JPH0847819A (ja) * 1994-08-02 1996-02-20 Nuclear Fuel Ind Ltd 燃料集合体におけるアダプタープレートの放電加工による孔明け方法
JP2007203452A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 United Technol Corp <Utc> 放電加工用電極およびその製造方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5605639A (en) * 1993-12-21 1997-02-25 United Technologies Corporation Method of producing diffusion holes in turbine components by a multiple piece electrode
US6627835B1 (en) 2000-02-02 2003-09-30 Purdue Research Foundation Three dimensional object fabrication techniques
AU2002305357A1 (en) * 2001-05-01 2002-11-11 Second Sight, Llc High-density array of micro-machined electrodes for neural stimulation
US6624377B2 (en) * 2001-06-01 2003-09-23 Wisconsin Alumni Research Foundation Micro-electro-discharge machining method and apparatus
CN1320975C (zh) * 2005-03-24 2007-06-13 上海交通大学 可内冲液式电火花加工集束成型电极
US8563889B2 (en) * 2009-06-09 2013-10-22 Pratt & Whitney Services Pte Ltd Electrical discharge assembly and method for repairing diffusion cooling passages
CN101966614B (zh) * 2010-09-02 2012-05-09 上海交通大学 集束成形电极的数字化制备装置及其制备方法
US10556282B2 (en) * 2012-11-08 2020-02-11 Smaltec International, Llc Portable micro-deburring component using micro-electrical discharge machining process
CN104625261B (zh) * 2013-11-11 2017-04-05 富泰华精密电子（郑州）有限公司 电解加工装置及其加工方法
CN109332831B (zh) * 2018-11-20 2019-11-19 广东工业大学 一种表面微织构加工装置
CN109848649B (zh) * 2019-01-28 2021-01-08 昆山明佰精密模塑有限公司 一种塑胶模具精加工方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1569561A (en) * 1975-10-15 1980-06-18 Amchem Co Ltd Electrical discharge machining apparatus
JPS5467532A (en) * 1977-11-10 1979-05-31 Zenbee Taniguchi Fabrication of microporous electrode for electric dischage processing
JPS5565032A (en) * 1978-11-02 1980-05-16 Toshihiko Furukawa Electric discharge machining method
JPS56156763A (en) * 1980-05-02 1981-12-03 Tohoku Metal Ind Ltd Finely working method and apparatus by plasma sputtering
DE3045259C2 (de) * 1980-12-01 1982-09-09 Fa. Carl Freudenberg, 6940 Weinheim Vorrichtung zur Behandlung der aus thermoplastischem Kunststoff bestehenden Oberfläche von Formkörpern durch Koronaentladung
JPS57194826A (en) * 1981-05-25 1982-11-30 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk Electrode for electrospark machining and manufacture thereof
JPH0616971B2 (ja) * 1985-01-30 1994-03-09 株式会社井上ジャパックス研究所 穴明放電加工装置
JPS6284920A (ja) * 1985-10-09 1987-04-18 Fanuc Ltd 放電加工用加工電極
GB2200581B (en) * 1987-01-08 1991-01-30 Amchem Co Ltd Electrode shaping
SU1463411A1 (ru) * 1987-05-04 1989-03-07 Тульский Политехнический Институт Способ изготовлени сложнофасонного электрода-инструмента
JPH02131825A (ja) * 1988-11-11 1990-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細穴プレス加工方法およびその装置
US5286944A (en) * 1992-03-25 1994-02-15 Panasonic Technologies, Inc. Method of manufacturing a multiple microelectrode assembly

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07266142A (ja) * 1994-03-29 1995-10-17 Sakae Denshi Kogyo Kk 小径穴加工装置及びそれを使用する小径穴加工方法
JPH0847819A (ja) * 1994-08-02 1996-02-20 Nuclear Fuel Ind Ltd 燃料集合体におけるアダプタープレートの放電加工による孔明け方法
JP2007203452A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 United Technol Corp <Utc> 放電加工用電極およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5357073A (en) 1994-10-18

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