JPH05235655A - 高周波用増幅回路 - Google Patents
高周波用増幅回路Info
- Publication number
- JPH05235655A JPH05235655A JP3217592A JP3217592A JPH05235655A JP H05235655 A JPH05235655 A JP H05235655A JP 3217592 A JP3217592 A JP 3217592A JP 3217592 A JP3217592 A JP 3217592A JP H05235655 A JPH05235655 A JP H05235655A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- high frequency
- bias line
- drain
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Amplifiers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】自己発振を防止して動作を安定化させると共
に、高密度実装を図る。 【構成】ハイブリッドIC等の基板21上に、高周波用
増幅素子であるFET22を実装すると共に、そのドレ
イン側バイアスライン28上にフェライト等の磁性体3
2を載置する。
に、高密度実装を図る。 【構成】ハイブリッドIC等の基板21上に、高周波用
増幅素子であるFET22を実装すると共に、そのドレ
イン側バイアスライン28上にフェライト等の磁性体3
2を載置する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばハイブリッドI
C(集積回路)上に実装される場合に好適な高周波用増
幅回路に係り、特に、高密度実装を図った高周波用増幅
回路に関する。
C(集積回路)上に実装される場合に好適な高周波用増
幅回路に係り、特に、高密度実装を図った高周波用増幅
回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のハイブリッドICの高周
波用増幅回路の一例としては図2に示すように構成され
たものがある。これは基板1の表面上に、例えば高周波
用増幅素子であるFET(電界効果型トランジスタ)2
を実装すると共に、そのゲート3に電気的に接続された
入力信号ライン4およびゲート側バイアスライン5と、
ドレイン6に電気的に接続された出力信号ライン7およ
びドレイン側バイアスライン8とをそれぞれ形成してい
る。
波用増幅回路の一例としては図2に示すように構成され
たものがある。これは基板1の表面上に、例えば高周波
用増幅素子であるFET(電界効果型トランジスタ)2
を実装すると共に、そのゲート3に電気的に接続された
入力信号ライン4およびゲート側バイアスライン5と、
ドレイン6に電気的に接続された出力信号ライン7およ
びドレイン側バイアスライン8とをそれぞれ形成してい
る。
【0003】また、複数のソース9を、複数のスルーホ
ール10をそれぞれ介して基板1の裏面側のグランドパ
ターン11に電気的に接続することによりアースしてお
り、図3に示すようにゲート3とドレイン6間にバイア
ス電圧を印加することにより、入力信号ライン4からの
入力信号を増幅して出力信号ライン7へ出力するように
なっている。
ール10をそれぞれ介して基板1の裏面側のグランドパ
ターン11に電気的に接続することによりアースしてお
り、図3に示すようにゲート3とドレイン6間にバイア
ス電圧を印加することにより、入力信号ライン4からの
入力信号を増幅して出力信号ライン7へ出力するように
なっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の高周波用増幅回路では、アースされたグラン
ドパターン11を大型化することにより、FET2のソ
ース9とグランドパターン11との間のインダクタンス
成分と、ゲート3とドレイン6との間の容量成分を小さ
くして、ドレイン6側からの信号が空中を伝搬してソー
ス9とゲート3に流入する信号を低減している。つま
り、自己発振を防止させて動作の安定化を図っている。
うな従来の高周波用増幅回路では、アースされたグラン
ドパターン11を大型化することにより、FET2のソ
ース9とグランドパターン11との間のインダクタンス
成分と、ゲート3とドレイン6との間の容量成分を小さ
くして、ドレイン6側からの信号が空中を伝搬してソー
ス9とゲート3に流入する信号を低減している。つま
り、自己発振を防止させて動作の安定化を図っている。
【0005】このために、ゲート3とドレイン6との間
に比較的大きなグランドパターン11を形成する必要が
あり、そのために実装密度が低下するという課題があ
る。
に比較的大きなグランドパターン11を形成する必要が
あり、そのために実装密度が低下するという課題があ
る。
【0006】そこで本発明はこのような事情を考慮して
なされたもので、その目的は自己発振を防止して増幅動
作を安定させると共に、高密度実装を図ることができる
高周波用増幅回路を提供することにある。
なされたもので、その目的は自己発振を防止して増幅動
作を安定させると共に、高密度実装を図ることができる
高周波用増幅回路を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために次のように構成される。
決するために次のように構成される。
【0008】つまり本発明は、高周波用増幅素子と、そ
の入・出力側のバイアスラインとを有する高周波用増幅
回路において、前記出力側バイアスライン上に、磁性体
を設置したことを特徴とする。
の入・出力側のバイアスラインとを有する高周波用増幅
回路において、前記出力側バイアスライン上に、磁性体
を設置したことを特徴とする。
【0009】
【作用】高周波増幅素子からの出力信号が出力側から空
中へ伝播する前に、出力側バイアスライン上の磁性体に
より吸収される。このために、高周波増幅素子からの出
力信号がその入力側へフィードバックして自己発振する
のを防止して動作を安定させることができる。
中へ伝播する前に、出力側バイアスライン上の磁性体に
より吸収される。このために、高周波増幅素子からの出
力信号がその入力側へフィードバックして自己発振する
のを防止して動作を安定させることができる。
【0010】また、本発明は従来例のようにグランドパ
ターンを増大させずに自己発振を防止することができる
ので、グランドパターンの小型化を図って実装密度を高
めることができる。
ターンを増大させずに自己発振を防止することができる
ので、グランドパターンの小型化を図って実装密度を高
めることができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1に基づいて説明
する。
する。
【0012】図1は本発明の一実施例の要部平面図であ
り、図において、高周波用増幅回路20はハイブリッド
IC等の基板21の表面上に、高周波用増幅素子である
例えばFET(電界効果型トランジスタ)22を実装す
ると共に、そのゲート23に電気的に接続された入力信
号ライン24およびゲート側バイアスライン25と、ド
レイン26に電気的に接続された出力信号ライン27お
よびドレイン側バイアスライン28とをそれぞれ形成し
ている。
り、図において、高周波用増幅回路20はハイブリッド
IC等の基板21の表面上に、高周波用増幅素子である
例えばFET(電界効果型トランジスタ)22を実装す
ると共に、そのゲート23に電気的に接続された入力信
号ライン24およびゲート側バイアスライン25と、ド
レイン26に電気的に接続された出力信号ライン27お
よびドレイン側バイアスライン28とをそれぞれ形成し
ている。
【0013】また、複数のソース29の少なくとも1つ
を単一のスルーホール30を介して基板21の裏面側の
単一で小型のグランドパターン31に電気的に接続する
ことによりアースしており、ゲート側バイアスライン2
5とドレイン側バイアスライン28とを介してゲート2
3とドレイン26間にバイアス電圧をそれぞれ印加する
ことにより、入力信号ライン24からの入力信号を増幅
して出力信号ライン27へ出力するようになっている。
を単一のスルーホール30を介して基板21の裏面側の
単一で小型のグランドパターン31に電気的に接続する
ことによりアースしており、ゲート側バイアスライン2
5とドレイン側バイアスライン28とを介してゲート2
3とドレイン26間にバイアス電圧をそれぞれ印加する
ことにより、入力信号ライン24からの入力信号を増幅
して出力信号ライン27へ出力するようになっている。
【0014】そして、出力側であるドレイン側バイアス
ライン28上に、フェライト等高周波帯によって損失の
大きな磁性体32を載置する。
ライン28上に、フェライト等高周波帯によって損失の
大きな磁性体32を載置する。
【0015】したがって、FET22の出力側から空中
へ伝搬しようとする信号がドレイン側バイアスライン2
8上の磁性体30により吸収される。
へ伝搬しようとする信号がドレイン側バイアスライン2
8上の磁性体30により吸収される。
【0016】このために、FET22の出力信号がその
ゲート23やソース29へ流れ込み、フィードバックす
るのを防止することができるので、FET22の自己発
振を防止して動作を安定させることができる。
ゲート23やソース29へ流れ込み、フィードバックす
るのを防止することができるので、FET22の自己発
振を防止して動作を安定させることができる。
【0017】また、本実施例では従来例のようにグラン
ドパターン31を大型化することにより自己発振を防止
していないので、図1に示すようにスルーホール30を
単一に減らすうえに、グランドパターン31を小型化し
て実装密度を高めることができる。
ドパターン31を大型化することにより自己発振を防止
していないので、図1に示すようにスルーホール30を
単一に減らすうえに、グランドパターン31を小型化し
て実装密度を高めることができる。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、高周波用
増幅素子の出力側から空中へ伝播しようとする出力信号
を、出力側バイアス回路上の磁性体により吸収するの
で、出力信号が入力側へフィードバックして自己発振す
るのを防止して動作を安定させることができる。
増幅素子の出力側から空中へ伝播しようとする出力信号
を、出力側バイアス回路上の磁性体により吸収するの
で、出力信号が入力側へフィードバックして自己発振す
るのを防止して動作を安定させることができる。
【0019】したがって本発明は、自己発振を防止する
ために、グランドパターンを大型化する必要がないの
で、そのグランドパターンを小型化して実装密度を高め
ることができる。
ために、グランドパターンを大型化する必要がないの
で、そのグランドパターンを小型化して実装密度を高め
ることができる。
【図1】本発明に係る高周波用増幅回路の要部平面図。
【図2】従来例の一部平面図。
【図3】図2で示す高周波用増幅回路の回路図。
20 高周波用増幅回路 21 基板 22 FET 23 ゲート 24 入力信号ライン 25 ゲート側バイアスライン 26 ドレイン 27 出力信号ライン 28 ドレイン側バイアスライン 29 ソース 30 スルーホール 31 グランドパターン 32 磁性体
Claims (1)
- 【請求項1】 高周波用増幅素子と、その入・出力側の
バイアスラインとを有する高周波用増幅回路において、
前記出力側バイアスライン上に、磁性体を設置したこと
を特徴とする高周波用増幅回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3217592A JPH05235655A (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | 高周波用増幅回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3217592A JPH05235655A (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | 高周波用増幅回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05235655A true JPH05235655A (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=12351605
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3217592A Pending JPH05235655A (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | 高周波用増幅回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05235655A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0736902A2 (en) * | 1995-04-05 | 1996-10-09 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Integrated circuit device and method for fabricating integrated circuit device |
EP0739034A3 (en) * | 1995-04-20 | 1999-07-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Integrated circuit device and fabricating method thereof |
-
1992
- 1992-02-19 JP JP3217592A patent/JPH05235655A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0736902A2 (en) * | 1995-04-05 | 1996-10-09 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Integrated circuit device and method for fabricating integrated circuit device |
EP0736902A3 (en) * | 1995-04-05 | 1997-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | Integrated circuit arrangement and manufacturing process |
EP1059666A1 (en) * | 1995-04-05 | 2000-12-13 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Monolithic semiconductor integrated circuit device |
EP0739034A3 (en) * | 1995-04-20 | 1999-07-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Integrated circuit device and fabricating method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH11177344A (ja) | 変調回路 | |
JPH05235655A (ja) | 高周波用増幅回路 | |
JPS63219210A (ja) | Fet増幅器 | |
JP3250314B2 (ja) | マイクロ波半導体集積回路 | |
JP3064939B2 (ja) | 高周波増幅器 | |
JP3137223B2 (ja) | 高周波増幅器およびその発振防止方法 | |
JPS61272958A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH0846446A (ja) | ゲートバイアス回路 | |
JPH0366201A (ja) | 半導体装置 | |
JPS60140907A (ja) | 半導体集積回路 | |
JPH0946141A (ja) | バイアス回路 | |
JPS5915313A (ja) | マイクロ波増幅器 | |
JP2558750B2 (ja) | 高周波機器用集積回路 | |
JP3147597B2 (ja) | モノリシック集積回路 | |
JPS6213112A (ja) | 混成集積回路 | |
JPH04159732A (ja) | 電界効果トランジスタ | |
JPS59174007A (ja) | 帰還型増幅回路 | |
JPH04271505A (ja) | 高周波増幅回路 | |
JPS6380608A (ja) | マイクロ波半導体増幅器 | |
JPH0226112A (ja) | バイアス供給素子 | |
JPH09270609A (ja) | マイクロ波伝送線路 | |
JPH04113653A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0279607A (ja) | マイクロ波増幅器 | |
JPH077159A (ja) | 電界効果トランジスタバイアス回路 | |
JPS6119205A (ja) | 増幅回路 |