JPH05216231A - 硬化性樹脂組成物 - Google Patents
硬化性樹脂組成物Info
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- JPH05216231A JPH05216231A JP1912992A JP1912992A JPH05216231A JP H05216231 A JPH05216231 A JP H05216231A JP 1912992 A JP1912992 A JP 1912992A JP 1912992 A JP1912992 A JP 1912992A JP H05216231 A JPH05216231 A JP H05216231A
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- resin composition
- curable resin
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レジスト、特にカラーフィルター用の平坦化
膜、保護膜等に有用な硬化性樹脂組成物を提供する。 【構成】 ポリグリシジルメタクリレート類、一般式
（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子又はアルキル基を、Ｒ2 はアル
キル基等を、各々表わす。〕で示される化合物及び式
（ＩＩ） で示される基を含み、且つフェノール性水酸基を有しな
い環状化合物を含有する硬化性樹脂組成物。
膜、保護膜等に有用な硬化性樹脂組成物を提供する。 【構成】 ポリグリシジルメタクリレート類、一般式
（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子又はアルキル基を、Ｒ2 はアル
キル基等を、各々表わす。〕で示される化合物及び式
（ＩＩ） で示される基を含み、且つフェノール性水酸基を有しな
い環状化合物を含有する硬化性樹脂組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は硬化性樹脂組成物に関
し、さらに詳しくはレジスト、特にカラーフィルター用
途における保護膜又は平坦化膜等に使用される硬化性樹
脂組成物に関する。
し、さらに詳しくはレジスト、特にカラーフィルター用
途における保護膜又は平坦化膜等に使用される硬化性樹
脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、２次元画像を電気信号に変換する
ために、固体撮像素子が用いられ、カラービデオカメラ
の軽量化および高解像度化が進んでいる。例えばＣＣＤ
（チャージカップルドデバイス）と呼ばれる固体撮像素
子では、チップ上に微細に分割された多数の受光部の上
に直接カラーフィルターを設ける方向で、高解像度化が
進んでいる。ここで、カラーフィルターの被染色膜形成
材料としては、６価クロム化合物を光架橋剤とするゼラ
チンなどの天然高分子からなるネガ型の感光性組成物が
広く用いられている。このような感光性組成物を、ＣＣ
Ｄ基板上にスピンコートで塗布した後、マスク露光によ
り所定の受光面上の染色部のみを露光し、現像を行う。
このようにして得られた透明パターンを染色液に浸漬し
て染色を行う。次に染色パターン上にアクリル系の樹脂
等で保護膜を形成する。以上の操作を繰り返すことによ
り、混染することなく多色のカラーフィルターが作成さ
れる。
ために、固体撮像素子が用いられ、カラービデオカメラ
の軽量化および高解像度化が進んでいる。例えばＣＣＤ
（チャージカップルドデバイス）と呼ばれる固体撮像素
子では、チップ上に微細に分割された多数の受光部の上
に直接カラーフィルターを設ける方向で、高解像度化が
進んでいる。ここで、カラーフィルターの被染色膜形成
材料としては、６価クロム化合物を光架橋剤とするゼラ
チンなどの天然高分子からなるネガ型の感光性組成物が
広く用いられている。このような感光性組成物を、ＣＣ
Ｄ基板上にスピンコートで塗布した後、マスク露光によ
り所定の受光面上の染色部のみを露光し、現像を行う。
このようにして得られた透明パターンを染色液に浸漬し
て染色を行う。次に染色パターン上にアクリル系の樹脂
等で保護膜を形成する。以上の操作を繰り返すことによ
り、混染することなく多色のカラーフィルターが作成さ
れる。
【０００３】ところで、上記の保護膜には一般には次の
ような性能が要求される。 （１）保護機能を有する。被染色層（ゼラチン等）を保
護し水溶性の染料の浸透を防ぐ（各層間の混色を防
ぐ）。 （２）染色、モールデイング等の熱処理時に膨張・収縮
を起こさない。 （３）基板及び染色層との密着性がよい。 （４）リソグラフィーが可能である（保護膜の一部を分
解し，配線を採る工程があるため）。 （５）可視光を透過する。
ような性能が要求される。 （１）保護機能を有する。被染色層（ゼラチン等）を保
護し水溶性の染料の浸透を防ぐ（各層間の混色を防
ぐ）。 （２）染色、モールデイング等の熱処理時に膨張・収縮
を起こさない。 （３）基板及び染色層との密着性がよい。 （４）リソグラフィーが可能である（保護膜の一部を分
解し，配線を採る工程があるため）。 （５）可視光を透過する。
【０００４】従来、以上の保護膜の条件を満たすものと
して、電子線レジストとして知られるポリグリシジルメ
タクリレート（特公昭４９−７４９５号）が用いられて
いた。上記ポリグリシジルメタクリレートは、未硬化の
状態で使われており、高分子量化により耐熱性と硬度を
付与している。しかしながら、いずれも未だ不十分であ
り、例えば２００℃以上で熱分解が起こり、さらに熱処
理時に収縮が起きて保護膜層間の被染色層のパターンの
ズレを引き起こす等の問題があった。
して、電子線レジストとして知られるポリグリシジルメ
タクリレート（特公昭４９−７４９５号）が用いられて
いた。上記ポリグリシジルメタクリレートは、未硬化の
状態で使われており、高分子量化により耐熱性と硬度を
付与している。しかしながら、いずれも未だ不十分であ
り、例えば２００℃以上で熱分解が起こり、さらに熱処
理時に収縮が起きて保護膜層間の被染色層のパターンの
ズレを引き起こす等の問題があった。
【０００５】また、特開平２−973 号公報には、例えば
ポリグリシジルメタクリレート類と、一般式（Ｖ）
ポリグリシジルメタクリレート類と、一般式（Ｖ）
【０００６】
【化８】
【０００７】（式中、Ｒ1 は水素原子又は低級アルキル
基を、Ｒ2 は水素原子、低級アルキル基又は−ＣＨ2 Ｎ
（Ｒ3 ）2 を各々表わす。Ｒ3 は水素原子又は低級アル
キル基を表わす。）で示される化合物及び一般式（Ｖ
Ｉ）
基を、Ｒ2 は水素原子、低級アルキル基又は−ＣＨ2 Ｎ
（Ｒ3 ）2 を各々表わす。Ｒ3 は水素原子又は低級アル
キル基を表わす。）で示される化合物及び一般式（Ｖ
Ｉ）
【０００８】
【化９】
【０００９】（式中、Ｒ4 〜Ｒ6 はフェノール性水酸
基、炭素数１〜６のアルキル基、アラルキル基、又はフ
ェニル基を表わし、Ｒ4 〜Ｒ6 の中少なくとも１つはフ
ェノール性水酸基を表わす。）で示される化合物を組合
わせた硬化剤とを含む硬化性樹脂組成物が記載されてい
る。しかしながら、この硬化性樹脂組成物を用いてリソ
グラフィーを行う場合、感度の点で未だ不十分であっ
た。
基、炭素数１〜６のアルキル基、アラルキル基、又はフ
ェニル基を表わし、Ｒ4 〜Ｒ6 の中少なくとも１つはフ
ェノール性水酸基を表わす。）で示される化合物を組合
わせた硬化剤とを含む硬化性樹脂組成物が記載されてい
る。しかしながら、この硬化性樹脂組成物を用いてリソ
グラフィーを行う場合、感度の点で未だ不十分であっ
た。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は耐熱性、耐溶
剤性、熱硬化性、及びリソグラフィー時における感度等
の諸性能のバランスに優れた硬化性樹脂組成物を提供す
る。
剤性、熱硬化性、及びリソグラフィー時における感度等
の諸性能のバランスに優れた硬化性樹脂組成物を提供す
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）
【００１２】
【化１０】
【００１３】〔式中、Ｒ1 は水素原子又は置換されてい
てもよいアルキル基を、Ｒ2 は水素原子、置換されてい
てもよいアルキル基又は−ＣＨ2 Ｎ（Ｒ3 ）2 を各々表
わし、Ｒ3 は水素原子又は置換されていてもよいアルキ
ル基を表わす。〕で示される化合物、式（ＩＩ）
てもよいアルキル基を、Ｒ2 は水素原子、置換されてい
てもよいアルキル基又は−ＣＨ2 Ｎ（Ｒ3 ）2 を各々表
わし、Ｒ3 は水素原子又は置換されていてもよいアルキ
ル基を表わす。〕で示される化合物、式（ＩＩ）
【００１４】
【化１１】
【００１５】で示される基を含み、且つフェノール性水
酸基を有しない環状化合物、及びポリグリシジルメタク
リレート類を含有してなる硬化性樹脂組成物である。
酸基を有しない環状化合物、及びポリグリシジルメタク
リレート類を含有してなる硬化性樹脂組成物である。
【００１６】一般式（Ｉ）において、Ｒ1 〜Ｒ3 で表わ
されるアルキル基としては直鎖又は分岐状の炭素数１〜
５のものが、好ましくはメチル又はエチル基が、各々挙
げられる。置換基としてはハロゲン原子又は水酸基等が
挙げられる。一般式（Ｉ）で示される化合物としては、
例えば
されるアルキル基としては直鎖又は分岐状の炭素数１〜
５のものが、好ましくはメチル又はエチル基が、各々挙
げられる。置換基としてはハロゲン原子又は水酸基等が
挙げられる。一般式（Ｉ）で示される化合物としては、
例えば
【００１７】
【化１２】
【００１８】等が挙げられる。一般式（Ｉ）で示される
化合物は一般にフェノール類、アミン類及びホルマリン
を用いて常法により製造することができる。
化合物は一般にフェノール類、アミン類及びホルマリン
を用いて常法により製造することができる。
【００１９】式（ＩＩ）で示される基を含み、且つフェ
ノール性水酸基を有しない環状化合物としては、例えば
一般式（ＩＩＩ）
ノール性水酸基を有しない環状化合物としては、例えば
一般式（ＩＩＩ）
【００２０】
【化１３】
【００２１】（式中、Ｒ4 〜Ｒ6 は各々独立して水素原
子又は置換されていてもよいアルキル基を表わす。）で
示される化合物又は一般式（ＩＶ）
子又は置換されていてもよいアルキル基を表わす。）で
示される化合物又は一般式（ＩＶ）
【００２２】
【化１４】
【００２３】（式中、Ｒ7 〜Ｒ10は各々独立して水素原
子或いは置換されていてもよいアルキルもしくはアルコ
キシ基又は−ＣＯＯＲ11を表わす。Ｒ11はアルキル基を
表わす。）で示される化合物等が挙げられる。
子或いは置換されていてもよいアルキルもしくはアルコ
キシ基又は−ＣＯＯＲ11を表わす。Ｒ11はアルキル基を
表わす。）で示される化合物等が挙げられる。
【００２４】一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ4 〜Ｒ6 で
表わされるアルキル基としては直鎖又は分岐状の炭素数
１〜10のものが、好ましくは炭素数１〜５のものが、各
々挙げられる。置換基としてはハロゲン原子、−Ｏ
Ｒ12、−ＯＣＯＲ13、−ＣＯＲ14、−ＯＣＯＯＲ15又は
表わされるアルキル基としては直鎖又は分岐状の炭素数
１〜10のものが、好ましくは炭素数１〜５のものが、各
々挙げられる。置換基としてはハロゲン原子、−Ｏ
Ｒ12、−ＯＣＯＲ13、−ＣＯＲ14、−ＯＣＯＯＲ15又は
【００２５】
【化１５】
【００２６】等が挙げられる。Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ
15として好ましくは水素原子又は炭素数１〜５のアルキ
ル基等が、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３の
アルキル基等が、各々挙げられる。一般式（ＩＩＩ）で
示される化合物としては、例えば
15として好ましくは水素原子又は炭素数１〜５のアルキ
ル基等が、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３の
アルキル基等が、各々挙げられる。一般式（ＩＩＩ）で
示される化合物としては、例えば
【００２７】
【化１６】
【００２８】
【化１７】
【００２９】
【化１８】
【００３０】等が挙げられる。一般式（ＩＩＩ）で示さ
れる化合物はトリグリシジルイソシアヌレートを出発原
料として常法により容易に製造することができる。
れる化合物はトリグリシジルイソシアヌレートを出発原
料として常法により容易に製造することができる。
【００３１】一般式（ＩＶ）において、Ｒ7 〜Ｒ10で表
わされるアルキル基としては直鎖又は分岐状の炭素数１
〜10のものが、好ましくは炭素数１〜３のものが、各々
挙げられる。同じくアルコキシ基としては例えば−ＯＣ
Ｈ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 又は−ＯＣ3 Ｈ7(iso)等が挙げられ
る。これらの置換基としては例えばハロゲン原子又は水
酸基等が挙げられる。一般式（ＩＶ）で示される化合物
としては例えば
わされるアルキル基としては直鎖又は分岐状の炭素数１
〜10のものが、好ましくは炭素数１〜３のものが、各々
挙げられる。同じくアルコキシ基としては例えば−ＯＣ
Ｈ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 又は−ＯＣ3 Ｈ7(iso)等が挙げられ
る。これらの置換基としては例えばハロゲン原子又は水
酸基等が挙げられる。一般式（ＩＶ）で示される化合物
としては例えば
【００３２】
【化１９】
【００３３】等が挙げられる。一般式（ＩＶ）で示され
る化合物はシアノヒドリン類と炭酸アンモニウムとを用
いて常法により容易に製造することができる。
る化合物はシアノヒドリン類と炭酸アンモニウムとを用
いて常法により容易に製造することができる。
【００３４】ポリグリシジルメタクリレート類として
は、グリシジルメタクリレートの単独重合体或いはグリ
シジルメタクリレートとメタクリル酸アルキルエステル
もしくはアクリロニトリル等との共重合体が挙げられ
る。これらの重合体はいずれも通常のラジカル重合反応
により容易に製造できる。ポリグリシジルメタクリレー
ト類の重量平均分子量は通常5000〜1000000 、好ましく
は10000 〜600000、さらに好ましくは50000 〜500000で
ある。グリシジルメタクリレートと共重合させる他のモ
ノマー（例えばメタクリル酸アルキルエステルもしくは
アクリロニトリル等）とのモル比は、塗布性及び硬化時
間等を考慮して適切な範囲が定められるが、通常１：９
〜９：１、好ましくは４：６〜６：４である。
は、グリシジルメタクリレートの単独重合体或いはグリ
シジルメタクリレートとメタクリル酸アルキルエステル
もしくはアクリロニトリル等との共重合体が挙げられ
る。これらの重合体はいずれも通常のラジカル重合反応
により容易に製造できる。ポリグリシジルメタクリレー
ト類の重量平均分子量は通常5000〜1000000 、好ましく
は10000 〜600000、さらに好ましくは50000 〜500000で
ある。グリシジルメタクリレートと共重合させる他のモ
ノマー（例えばメタクリル酸アルキルエステルもしくは
アクリロニトリル等）とのモル比は、塗布性及び硬化時
間等を考慮して適切な範囲が定められるが、通常１：９
〜９：１、好ましくは４：６〜６：４である。
【００３５】好ましい本発明の硬化性樹脂組成物は、一
般式（Ｉ）で示される化合物、式（ＩＩ）で示される基
を含み、且つフェノール性水酸基を有しない環状化合物
及びポリグリシジルメタクリレート類に加えて、さらに
カルボン酸無水物を含有するものである。カルボン酸無
水物としては、例えば
般式（Ｉ）で示される化合物、式（ＩＩ）で示される基
を含み、且つフェノール性水酸基を有しない環状化合物
及びポリグリシジルメタクリレート類に加えて、さらに
カルボン酸無水物を含有するものである。カルボン酸無
水物としては、例えば
【００３６】
【化２０】
【００３７】等が挙げられる。これらの化合物は「新実
験化学講座 14(II)」、（丸善）p.1124に記載の方法に
準じて製造することができる。
験化学講座 14(II)」、（丸善）p.1124に記載の方法に
準じて製造することができる。
【００３８】本発明の硬化性樹脂組成物において、一般
式（Ｉ）で示される化合物の量は通常、ポリグリシジル
メタクリレート類100 重量部に対して0.001 〜10重量
部、好ましくは0.05〜１重量部である。式（ＩＩ）で示
される基を含み、且つフェノール性水酸基を有しない環
状化合物の量は通常、ポリグリシジルメタクリレート類
100 重量部に対して0.01〜20重量部、好ましくは0.1 〜
10重量部である。又、カルボン酸無水物を加える場合に
は、該カルボン酸無水物量はポリグリシジルメタクリレ
ート類100 重量部に対して0.01〜10重量部、好ましくは
0.1 〜１重量部である。さらには、必要に応じて、前記
一般式（Ｉ）で示される化合物、環状化合物及びカルボ
ン酸無水物以外の硬化剤を併用することもできる。この
場合の硬化剤としては、熱硬化剤が好ましく用いられ、
具体的には、トリフェニルホスフィン、低級アルキルア
ミン（例えばヘキサメチレンジアミン又はトリエチレン
テトラミン等）、芳香族アミン（例えばジフェニルアミ
ン又はアミノフェノール等）およびそのビス体、又はフ
ェノール類（例えばクレゾール類またはビスフェノール
Ａ等）およびそのビス体等が挙げられる。
式（Ｉ）で示される化合物の量は通常、ポリグリシジル
メタクリレート類100 重量部に対して0.001 〜10重量
部、好ましくは0.05〜１重量部である。式（ＩＩ）で示
される基を含み、且つフェノール性水酸基を有しない環
状化合物の量は通常、ポリグリシジルメタクリレート類
100 重量部に対して0.01〜20重量部、好ましくは0.1 〜
10重量部である。又、カルボン酸無水物を加える場合に
は、該カルボン酸無水物量はポリグリシジルメタクリレ
ート類100 重量部に対して0.01〜10重量部、好ましくは
0.1 〜１重量部である。さらには、必要に応じて、前記
一般式（Ｉ）で示される化合物、環状化合物及びカルボ
ン酸無水物以外の硬化剤を併用することもできる。この
場合の硬化剤としては、熱硬化剤が好ましく用いられ、
具体的には、トリフェニルホスフィン、低級アルキルア
ミン（例えばヘキサメチレンジアミン又はトリエチレン
テトラミン等）、芳香族アミン（例えばジフェニルアミ
ン又はアミノフェノール等）およびそのビス体、又はフ
ェノール類（例えばクレゾール類またはビスフェノール
Ａ等）およびそのビス体等が挙げられる。
【００３９】本発明の硬化剤樹脂組成物をレジスト等に
用いる際に使用できる溶剤は、適当な乾燥速度を有し、
均一で平滑な塗膜を与えるものがよい。このような溶媒
としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソ
ルブアセテート等のセロソルブエステル類、酢酸ブチ
ル、酢酸イソアミル等の酢酸エステル類、キシレン等の
芳香族炭化水素類、メチルイソブチルケトン、ヘプタノ
ン等のケトン類等が挙げられる。溶剤量はウエハー上に
均質で、ピンホールおよび塗りむらのない塗膜ができる
塗布が可能で有れば特に制限はないが、例えばエチルセ
ロソルブアセテートを用いた場合に、好ましくはレジス
ト組成物の全重量に対して50〜95重量％である。
用いる際に使用できる溶剤は、適当な乾燥速度を有し、
均一で平滑な塗膜を与えるものがよい。このような溶媒
としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソ
ルブアセテート等のセロソルブエステル類、酢酸ブチ
ル、酢酸イソアミル等の酢酸エステル類、キシレン等の
芳香族炭化水素類、メチルイソブチルケトン、ヘプタノ
ン等のケトン類等が挙げられる。溶剤量はウエハー上に
均質で、ピンホールおよび塗りむらのない塗膜ができる
塗布が可能で有れば特に制限はないが、例えばエチルセ
ロソルブアセテートを用いた場合に、好ましくはレジス
ト組成物の全重量に対して50〜95重量％である。
【００４０】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限
定されるものではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限
定されるものではない。
【００４１】実施例および比較例 ポリグリシジルメタクリレート（ポリスチレン換算重量
平均分子量156000）と前記一般式（Ｉ）で示される化合
物、環状化合物及びカルボン酸無水物等とを、下表に示
すような組成でエチルセロソルブアセテート900 重量部
に溶解し、この溶液をシリコン基板上に回転塗布して厚
さ1.0 μｍの樹脂膜を得た。次にホットプレート上、20
0 ℃で５分間の熱処理を行って硬化させた。次いで500
Ｗのキセノン水銀ランプ（ウシオ電機製、UXM-501MD ）
によりマスク露光を行い、メチルイソブチルケトンで現
像して線状パターンを形成した。
平均分子量156000）と前記一般式（Ｉ）で示される化合
物、環状化合物及びカルボン酸無水物等とを、下表に示
すような組成でエチルセロソルブアセテート900 重量部
に溶解し、この溶液をシリコン基板上に回転塗布して厚
さ1.0 μｍの樹脂膜を得た。次にホットプレート上、20
0 ℃で５分間の熱処理を行って硬化させた。次いで500
Ｗのキセノン水銀ランプ（ウシオ電機製、UXM-501MD ）
によりマスク露光を行い、メチルイソブチルケトンで現
像して線状パターンを形成した。
【００４２】熱硬化性については幅2.0 μｍのスリット
パターンを形成し、200 ℃で１時間放置後のスリット幅
のシフト量を光学顕微鏡で測定した。スリット幅の変化
量が10％未満のものを○、10％以上であるものを×とし
た。
パターンを形成し、200 ℃で１時間放置後のスリット幅
のシフト量を光学顕微鏡で測定した。スリット幅の変化
量が10％未満のものを○、10％以上であるものを×とし
た。
【００４３】耐熱性については、50μｍの線状パターン
を形成したシリコン基板を所定の温度に設定したホット
プレート上に30分間放置して熱処理を行った。熱処理の
前後で、タリステップにより膜厚を測定し、同時に光学
顕微鏡によりパターン表面の観察を行った。熱分解が起
こると表面に亀裂が入ると共に膜減りを起こした。膜分
解が起こり始める温度を耐熱性の指標とした。膜抜け感
度については露光時間を変化させて50μｍの線状パター
ンのマスク露光と現像を行い、露光部の膜厚をタリステ
ップで測定した。露光時間の増加と共に膜の光分解によ
る膜減りが進む。100 ％膜が抜けた時間を膜抜け感度と
した。耐溶剤性については、50μｍの線状パターンを形
成したシリコン基板を室温下（20〜25℃）、メチルエチ
ルケトン中に５分間浸漬した。浸漬前後でタリステップ
により膜厚を測定し、同時に光学顕微鏡によりパターン
表面の観察を行った。膜減り量が３％未満を◎、３％以
上５％未満を○、５％以上10％未満を×、10％以上を×
×とした。
を形成したシリコン基板を所定の温度に設定したホット
プレート上に30分間放置して熱処理を行った。熱処理の
前後で、タリステップにより膜厚を測定し、同時に光学
顕微鏡によりパターン表面の観察を行った。熱分解が起
こると表面に亀裂が入ると共に膜減りを起こした。膜分
解が起こり始める温度を耐熱性の指標とした。膜抜け感
度については露光時間を変化させて50μｍの線状パター
ンのマスク露光と現像を行い、露光部の膜厚をタリステ
ップで測定した。露光時間の増加と共に膜の光分解によ
る膜減りが進む。100 ％膜が抜けた時間を膜抜け感度と
した。耐溶剤性については、50μｍの線状パターンを形
成したシリコン基板を室温下（20〜25℃）、メチルエチ
ルケトン中に５分間浸漬した。浸漬前後でタリステップ
により膜厚を測定し、同時に光学顕微鏡によりパターン
表面の観察を行った。膜減り量が３％未満を◎、３％以
上５％未満を○、５％以上10％未満を×、10％以上を×
×とした。
【００４４】
【表１】
【００４５】
【表２】
【００４６】
【表３】
【００４７】*1 グリシジルメタクリレート：メチルメ
タクリレート＝４：６（反応モル比） *2 化合物の添加量の単位は重量部 上表中の化合物Ａ〜Ｊは次のとおりである。
タクリレート＝４：６（反応モル比） *2 化合物の添加量の単位は重量部 上表中の化合物Ａ〜Ｊは次のとおりである。
【００４８】
【化２１】
【００４９】
【化２２】
【００５０】
【化２３】
【００５１】
【発明の効果】本発明の硬化性樹脂組成物は耐熱性、耐
溶剤性、熱硬化性及びリソグラフィー時における感度等
の諸性能のバランスに優れており、レジスト、特にカラ
ーフィルター用の平坦化膜、保護膜等として有用であ
る。
溶剤性、熱硬化性及びリソグラフィー時における感度等
の諸性能のバランスに優れており、レジスト、特にカラ
ーフィルター用の平坦化膜、保護膜等として有用であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０３ 7/38 ５０１ 7124−2Ｈ
Claims (7)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子又は置換されていてもよいアル
キル基を、Ｒ2 は水素原子、置換されていてもよいアル
キル基又は−ＣＨ2 Ｎ（Ｒ3 ）2 を各々表わし、Ｒ3 は
水素原子又は置換されていてもよいアルキル基を表わ
す。〕で示される化合物、式（ＩＩ） 【化２】 で示される基を含み、且つフェノール性水酸基を有しな
い環状化合物、及びポリグリシジルメタクリレート類を
含有してなる硬化性樹脂組成物。 - 【請求項２】一般式（Ｉ）で示される化合物が 【化３】 である請求項１に記載の硬化性樹脂組成物。
- 【請求項３】環状化合物が一般式（ＩＩＩ） 【化４】 （式中、Ｒ4 〜Ｒ6 は各々独立して水素原子又は置換さ
れていてもよいアルキル基を表わす。）で示される化合
物である請求項１又は２に記載の硬化性樹脂組成物。 - 【請求項４】環状化合物が一般式（ＩＶ） 【化５】 （式中、Ｒ7 〜Ｒ10は各々独立して水素原子或いは置換
されていてもよいアルキルもしくはアルコキシ基又は−
ＣＯＯＲ11を表わす。Ｒ11はアルキル基を表わす。）で
示される化合物である請求項１又は２に記載の硬化性樹
脂組成物。 - 【請求項５】カルボン酸無水物を含有する請求項１〜４
のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。 - 【請求項６】カルボン酸無水物が 【化６】 である請求項５に記載の硬化性樹脂組成物。
- 【請求項７】カルボン酸無水物が 【化７】 である請求項５に記載の硬化性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1912992A JPH05216231A (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 硬化性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1912992A JPH05216231A (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 硬化性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05216231A true JPH05216231A (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=11990858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1912992A Pending JPH05216231A (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 硬化性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05216231A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5614594A (en) * | 1994-06-01 | 1997-03-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Curable resin composition for overcoat film of color filter and color filter |
| JP2013101287A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-23 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ |
| CN111825627A (zh) * | 2020-07-28 | 2020-10-27 | 清远高新华园科技协同创新研究院有限公司 | 一种高固体份羟基树脂的制备方法 |
-
1992
- 1992-02-04 JP JP1912992A patent/JPH05216231A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5614594A (en) * | 1994-06-01 | 1997-03-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Curable resin composition for overcoat film of color filter and color filter |
| KR100367315B1 (ko) * | 1994-06-01 | 2003-03-26 | 스미또모 가가꾸 고오교오 가부시끼가이샤 | 칼라필터의오버코트용경화성수지조성물 |
| JP2013101287A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-23 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ |
| CN111825627A (zh) * | 2020-07-28 | 2020-10-27 | 清远高新华园科技协同创新研究院有限公司 | 一种高固体份羟基树脂的制备方法 |
| CN111825627B (zh) * | 2020-07-28 | 2023-04-25 | 清远高新华园科技协同创新研究院有限公司 | 一种高固体份羟基树脂的制备方法 |
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