JPH0521250Y2 - - Google Patents
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- JPH0521250Y2 JPH0521250Y2 JP2862087U JP2862087U JPH0521250Y2 JP H0521250 Y2 JPH0521250 Y2 JP H0521250Y2 JP 2862087 U JP2862087 U JP 2862087U JP 2862087 U JP2862087 U JP 2862087U JP H0521250 Y2 JPH0521250 Y2 JP H0521250Y2
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- Japan
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- inductively coupled
- coupled plasma
- high frequency
- frequency inductively
- casing
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 20
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
<産業上の利用分野>
本考案は、高周波誘導結合プラズマの発生装置
周辺にノイズ防止対策が施された高周波誘導結合
プラズマ質量分析計に関する。
周辺にノイズ防止対策が施された高周波誘導結合
プラズマ質量分析計に関する。
<従来の技術>
高周波誘導結合プラズマ質量分析計は、高周波
誘導結合プラズマを用いて試料を励起させ、生じ
たイオンをノズルとスキマーからなるインターフ
エイスを介して質量分析計に導いて電気的に検出
し該イオン量を精密に測定することにより、試料
中の被測定元素を高精度に分析するように構成さ
れている。第2図は、このような高周波誘導結合
プラズマ質量分析計の全体的な構成説明図であ
る。この図において、プラズマトーチ1の外側管
1bと最外側管1cにはガス調節器2を介してガ
ス供給源3からアルゴンガスが供給され、内側管
1aには試料槽4内の試料がネブライザ5で霧化
されてのちアルゴンガスによつて搬入されるよう
になつている。また、プラズマトーチ1に巻回さ
れた高周波誘導コイル6(通常、銅製の中空パイ
プでなり内部に冷却水が流れている。)には高周
波電源7によつて高周波電流が流され、該コイル
6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。一方、ノズル8とスキマー9に挟まれたフ
オアチヤンバー10内は、真空ポンプ11によつ
て例えば10-1torr.に吸引されている。、また、セ
ンターチヤンバー12内は第1油拡散ポンプ1
2′によつて例えば10-4torr.に吸引され、マスフ
イルタ(例えば四重極マスフイルタ)14を収容
しているリアチヤンバー13内は第2油拡散ポン
プ15によつて例えば10-5torr.に吸引されてい
る。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴン
ガス中に電子かイオンが植え付けられると、該高
周波磁界の作用によつて瞬時に高周波誘導プラズ
マが生ずる。該プラズマ内のイオンは、ノズル8
やスキマー9を経由してマスフイルタ14を通り
二次電子増倍管11に導かれて検出されてのち、
信号処理部17に送出されて演算されることによ
つて前記試料中の被測定元素分析値を与えるよう
にする。
誘導結合プラズマを用いて試料を励起させ、生じ
たイオンをノズルとスキマーからなるインターフ
エイスを介して質量分析計に導いて電気的に検出
し該イオン量を精密に測定することにより、試料
中の被測定元素を高精度に分析するように構成さ
れている。第2図は、このような高周波誘導結合
プラズマ質量分析計の全体的な構成説明図であ
る。この図において、プラズマトーチ1の外側管
1bと最外側管1cにはガス調節器2を介してガ
ス供給源3からアルゴンガスが供給され、内側管
1aには試料槽4内の試料がネブライザ5で霧化
されてのちアルゴンガスによつて搬入されるよう
になつている。また、プラズマトーチ1に巻回さ
れた高周波誘導コイル6(通常、銅製の中空パイ
プでなり内部に冷却水が流れている。)には高周
波電源7によつて高周波電流が流され、該コイル
6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。一方、ノズル8とスキマー9に挟まれたフ
オアチヤンバー10内は、真空ポンプ11によつ
て例えば10-1torr.に吸引されている。、また、セ
ンターチヤンバー12内は第1油拡散ポンプ1
2′によつて例えば10-4torr.に吸引され、マスフ
イルタ(例えば四重極マスフイルタ)14を収容
しているリアチヤンバー13内は第2油拡散ポン
プ15によつて例えば10-5torr.に吸引されてい
る。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴン
ガス中に電子かイオンが植え付けられると、該高
周波磁界の作用によつて瞬時に高周波誘導プラズ
マが生ずる。該プラズマ内のイオンは、ノズル8
やスキマー9を経由してマスフイルタ14を通り
二次電子増倍管11に導かれて検出されてのち、
信号処理部17に送出されて演算されることによ
つて前記試料中の被測定元素分析値を与えるよう
にする。
<考案が解決しようとする問題点>
然しながら、上記従来例においては、高周波誘
導結合プラズマの発生装置周辺にノイズ防止対策
が施されておらず、高周波誘導結合プラズマの周
辺で発生するノイズによつて最終的な被測定元素
分析値に誤差が生じ易いという大きな欠点があつ
た。
導結合プラズマの発生装置周辺にノイズ防止対策
が施されておらず、高周波誘導結合プラズマの周
辺で発生するノイズによつて最終的な被測定元素
分析値に誤差が生じ易いという大きな欠点があつ
た。
本考案は、かかる状況に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、高周波誘導結合プラズマの周
辺で発生するノイズを防止することによつて最終
的な被測定元素分析値に誤差を生じるのを回避し
た高周波誘導結合プラズマ質量分析計を提供する
ことにある。
あり、その目的は、高周波誘導結合プラズマの周
辺で発生するノイズを防止することによつて最終
的な被測定元素分析値に誤差を生じるのを回避し
た高周波誘導結合プラズマ質量分析計を提供する
ことにある。
<問題点を解決するための手段>
上述のような問題点を解決する本考案の特徴
は、高周波誘導結合プラズマ質量分析計におい
て、高周波誘導結合プラズマを生じさせるプラズ
マトーチを収納し該トーチのシールドをおこなう
第1筐体と、該第1筐体と電気的な接触を保ちな
がら前後にスライドして該第1筐体を覆う第2筐
体とを設け、高周波誘導結合プラズマの周辺で発
生するノイズが上記第1及び第2筐体から外部に
出るのが阻止されるように構成したことにある。
は、高周波誘導結合プラズマ質量分析計におい
て、高周波誘導結合プラズマを生じさせるプラズ
マトーチを収納し該トーチのシールドをおこなう
第1筐体と、該第1筐体と電気的な接触を保ちな
がら前後にスライドして該第1筐体を覆う第2筐
体とを設け、高周波誘導結合プラズマの周辺で発
生するノイズが上記第1及び第2筐体から外部に
出るのが阻止されるように構成したことにある。
<実施例>
以下、本考案について図を用いて詳細に説明す
る。第1図は本考案実施例の要部構成斜視図であ
り、図中、第2図と同一記号は同一意味をもたせ
て使用しここでの重複説明は省略する。また、1
9は高周波電流の入力部、20aは高周波誘導コ
イル6の内部に冷却水を供給する流入口、20b
は高周波誘導コイル6の内部から冷却水が排出さ
れる流出口、21は高周波誘導コイル6に高周波
電流入力部19からの高周波電流を伝達する例え
ば銅製の第1ブロツク、22はプラズマトーチ1
を収納し該当トーチ1のシールドをおこなつてい
る例えばアルミ材料でなる第1筐体、23は第1
筐体22と電気的な接触を保ちながら前後にスラ
イドして該筐体22を覆う例えばアルミ材料でな
る第2筐体、24は高周波誘導コイル6が貫通す
ると共に一面が第1筐体22に固着され高周波誘
導コイル6をアース電位にする例えば銅製の第2
ブロツク、25a〜25dは第1及び第2の筐体
22,23に装着されプラズマトーチ1で発生す
る高周波誘導プラズマの熱等を放熱する金網であ
る。このような要部構成からなる本考案の実施例
において、第2筐体23は第1筐体22と電気的
な接触を保ちながら前後にスライドして第1筐体
22を覆うようになつているため、プラズマトー
チ1で発生する高周波誘導プラズマも第1及び第
2筐体22,23で覆われることになる。このた
め、高周波誘導結合プラズマの周辺で発生するノ
イズが第1及び第2筐体22,23から外部に出
るのが阻止され最終的な被測定元素分析値に誤差
を生じるのを回避できるようになる。尚、本考案
は上述の実施例に限定されることなく種々の変形
が可能であり、第2筐体23が第1筐体22と電
気的な接触を保ちながら前後にスライドする部分
にワイヤブラシを装着したり弾性金属板を装着し
たりしても良いものとする。
る。第1図は本考案実施例の要部構成斜視図であ
り、図中、第2図と同一記号は同一意味をもたせ
て使用しここでの重複説明は省略する。また、1
9は高周波電流の入力部、20aは高周波誘導コ
イル6の内部に冷却水を供給する流入口、20b
は高周波誘導コイル6の内部から冷却水が排出さ
れる流出口、21は高周波誘導コイル6に高周波
電流入力部19からの高周波電流を伝達する例え
ば銅製の第1ブロツク、22はプラズマトーチ1
を収納し該当トーチ1のシールドをおこなつてい
る例えばアルミ材料でなる第1筐体、23は第1
筐体22と電気的な接触を保ちながら前後にスラ
イドして該筐体22を覆う例えばアルミ材料でな
る第2筐体、24は高周波誘導コイル6が貫通す
ると共に一面が第1筐体22に固着され高周波誘
導コイル6をアース電位にする例えば銅製の第2
ブロツク、25a〜25dは第1及び第2の筐体
22,23に装着されプラズマトーチ1で発生す
る高周波誘導プラズマの熱等を放熱する金網であ
る。このような要部構成からなる本考案の実施例
において、第2筐体23は第1筐体22と電気的
な接触を保ちながら前後にスライドして第1筐体
22を覆うようになつているため、プラズマトー
チ1で発生する高周波誘導プラズマも第1及び第
2筐体22,23で覆われることになる。このた
め、高周波誘導結合プラズマの周辺で発生するノ
イズが第1及び第2筐体22,23から外部に出
るのが阻止され最終的な被測定元素分析値に誤差
を生じるのを回避できるようになる。尚、本考案
は上述の実施例に限定されることなく種々の変形
が可能であり、第2筐体23が第1筐体22と電
気的な接触を保ちながら前後にスライドする部分
にワイヤブラシを装着したり弾性金属板を装着し
たりしても良いものとする。
<考案の効果>
以上詳しく説明したような本考案の実施例によ
れば、高周波誘導結合プラズマの周辺で発生する
ノイズが第1及び第2筐体22,23から外部に
出るのが阻止されるような構成であるため、高周
波誘導結合プラズマの周辺で発生するノイズを防
止し最終的な被測定元素分析値に誤差を生じるの
を回避できるようになる。
れば、高周波誘導結合プラズマの周辺で発生する
ノイズが第1及び第2筐体22,23から外部に
出るのが阻止されるような構成であるため、高周
波誘導結合プラズマの周辺で発生するノイズを防
止し最終的な被測定元素分析値に誤差を生じるの
を回避できるようになる。
第1図は本考案実施例の要部構成斜視図、第2
図は高周波誘導結合プラズマ質量分析計の全体的
な構成説明図である。 1……プラズマトーチ、6……高周波誘導コイ
ル、7……高周波電源、19……高周波電流の入
力部、20a……冷却水の流入口、20b……冷
却水の流出口、21……第1ブロツク、22……
第1筐体、23……第2筐体、24……第2ブロ
ツク、25a〜25d……金網。
図は高周波誘導結合プラズマ質量分析計の全体的
な構成説明図である。 1……プラズマトーチ、6……高周波誘導コイ
ル、7……高周波電源、19……高周波電流の入
力部、20a……冷却水の流入口、20b……冷
却水の流出口、21……第1ブロツク、22……
第1筐体、23……第2筐体、24……第2ブロ
ツク、25a〜25d……金網。
Claims (1)
- 高周波誘導結合プラズマと質量分析計とを結合
させてなる分析計において、前記高周波誘導結合
プラズマを生じさせるプラズマトーチを収納し該
トーチのシールドをおこなう第1筐体と、該第1
筐体と電気的な接触を保ちながら前後にスライド
して該第1筐体を覆う第2筐体とを具備し、前記
高周波誘導結合プラズマの周辺で発生するノイズ
が前記第1及び第2筐体から外部に出るのを阻止
されるように構成したことを特徴とする高周波誘
導結合プラズマ質量分析計
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2862087U JPH0521250Y2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2862087U JPH0521250Y2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63135758U JPS63135758U (ja) | 1988-09-06 |
JPH0521250Y2 true JPH0521250Y2 (ja) | 1993-05-31 |
Family
ID=30831754
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2862087U Expired - Lifetime JPH0521250Y2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0521250Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4915854A (en) * | 1986-11-14 | 1990-04-10 | The Procter & Gamble Company | Ion-pair complex conditioning agent and compositions containing same |
-
1987
- 1987-02-27 JP JP2862087U patent/JPH0521250Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63135758U (ja) | 1988-09-06 |
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