JPS62208535A - 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置Info
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- JPS62208535A JPS62208535A JP61051678A JP5167886A JPS62208535A JP S62208535 A JPS62208535 A JP S62208535A JP 61051678 A JP61051678 A JP 61051678A JP 5167886 A JP5167886 A JP 5167886A JP S62208535 A JPS62208535 A JP S62208535A
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- ions
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- sampling nozzle
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Landscapes
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、高周波誘導結合プラズマとＭ量分析計とを結
合させてなる高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置？
ｔ （Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓ
ｍａ ＭａｓｓＳｐｅｃｔｏｍｅｔｅｒ以下、単にｒＩ
ｃＰ−ＭＳＪと略す）に関する。
合させてなる高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置？
ｔ （Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓ
ｍａ ＭａｓｓＳｐｅｃｔｏｍｅｔｅｒ以下、単にｒＩ
ｃＰ−ＭＳＪと略す）に関する。
〈従来の技術〉
ＩＣＰ−ＭＳは、高周波誘導結合プラズマを用いて試料
を励起させ、生じたイオンをノズルやスキマーからなる
インターフェイスを介して質量分析計に導びき、特定質
量のイオンのみを電気的に検出することにより試料中の
被測定元素等を分析するように構成されている。第３図
はこのようなＴＣＰ−ＭＳの従来例要部構成説明図であ
り、図中、Ｉａ、 ＩｂおよびＩＣは夫々例えば石英管
からなるプラズマトーチｌの最外室、外室、および内室
。
を励起させ、生じたイオンをノズルやスキマーからなる
インターフェイスを介して質量分析計に導びき、特定質
量のイオンのみを電気的に検出することにより試料中の
被測定元素等を分析するように構成されている。第３図
はこのようなＴＣＰ−ＭＳの従来例要部構成説明図であ
り、図中、Ｉａ、 ＩｂおよびＩＣは夫々例えば石英管
からなるプラズマトーチｌの最外室、外室、および内室
。
２ａ、 ２ｂ、および２ｃは夫々最外室ｌａ内、外室１
ｂ内、および内室１ｃ内へ例えばアルゴンガスのような
ｒＥｍガスを導入する第１〜第３の導入口、３は高周波
誘導コイル、４は高周波誘導結合プラズマ７５はサンプ
リングノズル、７はｆｆＩｇガス（例えば圧縮アルゴン
ガス）を流量調節する流量調節器、９は試料を霧化する
ネプライザ、１０は上記コイル３に高周波電圧を印加す
る高周波電源、１１はプラズマトーチｌを収容するプラ
ズマ発生部、１２はスキマー、ミ に） １０から上記コイル３に高周波電源が印加され、該コイ
ルの周囲に形成される高周波磁界（図示せず）の作用に
よって上記プラズマ４が発生するようになっている。こ
のプラズマ４内のイオンは、サンプリングノズル５を介
してスキマー１２内に引き出され、その後、質量分析計
検出部（後述の極子１７）で検出され、該検出信号・に
基いて試料中の被測定元素等が分析されるようになって
いる。
ｂ内、および内室１ｃ内へ例えばアルゴンガスのような
ｒＥｍガスを導入する第１〜第３の導入口、３は高周波
誘導コイル、４は高周波誘導結合プラズマ７５はサンプ
リングノズル、７はｆｆＩｇガス（例えば圧縮アルゴン
ガス）を流量調節する流量調節器、９は試料を霧化する
ネプライザ、１０は上記コイル３に高周波電圧を印加す
る高周波電源、１１はプラズマトーチｌを収容するプラ
ズマ発生部、１２はスキマー、ミ に） １０から上記コイル３に高周波電源が印加され、該コイ
ルの周囲に形成される高周波磁界（図示せず）の作用に
よって上記プラズマ４が発生するようになっている。こ
のプラズマ４内のイオンは、サンプリングノズル５を介
してスキマー１２内に引き出され、その後、質量分析計
検出部（後述の極子１７）で検出され、該検出信号・に
基いて試料中の被測定元素等が分析されるようになって
いる。
然し乍ら、上述のような本発明実施例においては、上記
プラズマトーチ１とサンプリングノズル５の先端部が離
れているため、上記プラズマ４内のイオンは上記プラズ
マ４の先端部分からサンプリングノズル５を介してスキ
マー１２内に引き出されるようになっていた。このため
、上記プラズマ４の中心部に存在するイオンはスキマー
１２内に引き出されず、結果的に、ＩＰＣ−ＭＳの検出
感度が低くなるという大きな欠点があった。
プラズマトーチ１とサンプリングノズル５の先端部が離
れているため、上記プラズマ４内のイオンは上記プラズ
マ４の先端部分からサンプリングノズル５を介してスキ
マー１２内に引き出されるようになっていた。このため
、上記プラズマ４の中心部に存在するイオンはスキマー
１２内に引き出されず、結果的に、ＩＰＣ−ＭＳの検出
感度が低くなるという大きな欠点があった。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明は上述のような従来例の欠点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、検出感度の改善されたＩ ＰＣ
−ＭＳを提供することにある。
のであり、その目的は、検出感度の改善されたＩ ＰＣ
−ＭＳを提供することにある。
く問題点を解決するための手段〉
上述のような問題点を解決する本発明の特徴は、ＩＣＰ
−ＭＳにおいて、サンプリングノズルの先端部がプラズ
マトーチの先端部に入り込むような配置構成にしたこと
にある。
−ＭＳにおいて、サンプリングノズルの先端部がプラズ
マトーチの先端部に入り込むような配置構成にしたこと
にある。
〈実施例〉
以下、本発明について図を用いて詳しく説明する。第１
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、第３
図と同一記号は同一意味をもたせて使用しここでの重複
説明は省略する。尚、５′は第３図のサンプリングノズ
ル５と同一のサンプリングノズルであるが、その先端部
がプラズマトーチｌの先端部（ｒｔｌ、密には、最外室
１ａの先端部）に入り込むような位置に配置されている
。更に、第２図は本発明実施例の全体的な構成を示す構
成説明図であり、図中、第１図や第３図と同一記号は同
一意味をもたせて使用しここでの重複説明は省略する。
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、第３
図と同一記号は同一意味をもたせて使用しここでの重複
説明は省略する。尚、５′は第３図のサンプリングノズ
ル５と同一のサンプリングノズルであるが、その先端部
がプラズマトーチｌの先端部（ｒｔｌ、密には、最外室
１ａの先端部）に入り込むような位置に配置されている
。更に、第２図は本発明実施例の全体的な構成を示す構
成説明図であり、図中、第１図や第３図と同一記号は同
一意味をもたせて使用しここでの重複説明は省略する。
また、６は圧縮ガス（例えば圧縮アルゴンガス）供給源
、８は試料を貯留する槽、１４はフォアチャンバー１３
内を例えばＩ ｔｏｒｒ、迄吸引する真空ポンプ、１６
はセンターチャンバー１５内を例えばｔｏ−２ｔｏｒｒ
、まて吸引する真空ポンプ、１７は質量分析計の例えば
四重極のような極子、１９はリアチャンバー１８内を例
えば１０”’ｔｏｒｒ、迄吸引する真空ポンプ、２０は
二次電子増倍管、２１は例えばマイクロコンピュータの
ような信号処理部である。尚、センターチャンバー１５
内にはイオンレンズが配設されることが多い。また極子
１７は、特定１１量のイオンを選別する例えば四重極マ
スフィルターとその選別されたイオンを検出する検出器
とから構成されていることが多い。
、８は試料を貯留する槽、１４はフォアチャンバー１３
内を例えばＩ ｔｏｒｒ、迄吸引する真空ポンプ、１６
はセンターチャンバー１５内を例えばｔｏ−２ｔｏｒｒ
、まて吸引する真空ポンプ、１７は質量分析計の例えば
四重極のような極子、１９はリアチャンバー１８内を例
えば１０”’ｔｏｒｒ、迄吸引する真空ポンプ、２０は
二次電子増倍管、２１は例えばマイクロコンピュータの
ような信号処理部である。尚、センターチャンバー１５
内にはイオンレンズが配設されることが多い。また極子
１７は、特定１１量のイオンを選別する例えば四重極マ
スフィルターとその選別されたイオンを検出する検出器
とから構成されていることが多い。
こａような構成からなる本発明の実施例において、プラ
ズマトーチｌの最外室１ａおよび外室１ｂには、流量調
節器７によって流量調節された圧縮ガスが供給されてい
る。また、プラズマトーチ１の内室１ｃには、ネプライ
ザ９で霧化された試料が、流量調節された圧縮ガスによ
って搬入されている。
ズマトーチｌの最外室１ａおよび外室１ｂには、流量調
節器７によって流量調節された圧縮ガスが供給されてい
る。また、プラズマトーチ１の内室１ｃには、ネプライ
ザ９で霧化された試料が、流量調節された圧縮ガスによ
って搬入されている。
このような状態で、高周波型ｆｆ１ｌＯから高周波誘導
コイル３に高周波エネルギーが供給されると、該コイル
３の周り周波磁界（図示せず）が形成され、該磁界の作
用で高周波誘導結合プラズマ４が生ずる。−力、第１図
で詳述したようにサンプリングノズル５′の先端部がプ
ラズマトーチ１の先端部に入り込むように構成されてい
る。このため、上記プラズマ４の中心部から該プラズマ
内のイオンが上記ノズル５′を介してスキマー１２内に
引き出されるようになる。こうしてスキマー１２内に引
き出されたイオンは極子１７で検出される。該検出信号
は二次電子増倍管２０で増幅されてのち４ａ号処理部２
１に送出され、究極的に前記試料に含まれる被測定元素
等の分析値等を与えるようになる。
コイル３に高周波エネルギーが供給されると、該コイル
３の周り周波磁界（図示せず）が形成され、該磁界の作
用で高周波誘導結合プラズマ４が生ずる。−力、第１図
で詳述したようにサンプリングノズル５′の先端部がプ
ラズマトーチ１の先端部に入り込むように構成されてい
る。このため、上記プラズマ４の中心部から該プラズマ
内のイオンが上記ノズル５′を介してスキマー１２内に
引き出されるようになる。こうしてスキマー１２内に引
き出されたイオンは極子１７で検出される。該検出信号
は二次電子増倍管２０で増幅されてのち４ａ号処理部２
１に送出され、究極的に前記試料に含まれる被測定元素
等の分析値等を与えるようになる。
〈発明の効果〉
以上詳しく説明したような本発明によれば、サンプリン
グノズル５゛の先端部がプラズマトーチスキマー１２内
に引き出すことができ、前記従来例の場合よりも著しく
検出感度を向上できる利点がある。また、上記プラズマ
４の中心部からイオンを引き出すため、該プラズマ４の
周辺に存在する空気を巻き込んでイオンと一緒に引き出
す現象も回避できる利点がある。更に、上記プラズマ４
を前記従来例の場合より小さくしても湿度の高いプラズ
マを維持できるようになり、該プラズマ発生に使用する
圧縮ガス（アルゴンガス）の消費量を節約できる利点も
ある。
グノズル５゛の先端部がプラズマトーチスキマー１２内
に引き出すことができ、前記従来例の場合よりも著しく
検出感度を向上できる利点がある。また、上記プラズマ
４の中心部からイオンを引き出すため、該プラズマ４の
周辺に存在する空気を巻き込んでイオンと一緒に引き出
す現象も回避できる利点がある。更に、上記プラズマ４
を前記従来例の場合より小さくしても湿度の高いプラズ
マを維持できるようになり、該プラズマ発生に使用する
圧縮ガス（アルゴンガス）の消費量を節約できる利点も
ある。
第１図は本発明実施例の要部構成説明図、第２図は本発
明実施例の全体的な構成説明図、第３図は従来例の要部
構成説明図である。 １・・・プラズマトーチ、１ａ・・・最外室、１ｂ・・
・外室、１ｃ・・・内室、２３〜２Ｃガス導入口、３・
・・高周波誘導コイル、４・・・プラズマ、５．５゛・
・・サンプリングノズル、１２・・・スキマー。
明実施例の全体的な構成説明図、第３図は従来例の要部
構成説明図である。 １・・・プラズマトーチ、１ａ・・・最外室、１ｂ・・
・外室、１ｃ・・・内室、２３〜２Ｃガス導入口、３・
・・高周波誘導コイル、４・・・プラズマ、５．５゛・
・・サンプリングノズル、１２・・・スキマー。
Claims (2)
- （１）流量調節された第１〜第３の圧縮ガスが夫々導び
かれる最外室、外室、および内室を有する三重管構造の
プラズマトーチと、該トーチで形成された高周波誘導プ
ラズマに含まれるイオンを導びくインターフェースと、
該インターフェースを介して導入されるイオンのうち特
定質量のイオンを検出する質量分析計とを具備してなる
高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置において、前記
インターフェースを構成するサンプリングノズルの先端
部が、前記プラズマトーチの先端部に入り込むように配
置されていることを特徴とする高周波誘導結合プラズマ
・質量分析装置。 - （２）前記最外室は耐熱材料で構成されてなる特許請求
範囲第（１）項記載の高周波誘導結合プラズマ質量分析
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61051678A JPS62208535A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61051678A JPS62208535A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62208535A true JPS62208535A (ja) | 1987-09-12 |
Family
ID=12893538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61051678A Pending JPS62208535A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62208535A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0195459A (ja) * | 1987-10-08 | 1989-04-13 | Hitachi Ltd | マイクロ波誘導プラズマ質量分析計 |
-
1986
- 1986-03-10 JP JP61051678A patent/JPS62208535A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0195459A (ja) * | 1987-10-08 | 1989-04-13 | Hitachi Ltd | マイクロ波誘導プラズマ質量分析計 |
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