JPH0638372Y2 - 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ質量分析装置Info
- Publication number
- JPH0638372Y2 JPH0638372Y2 JP10248389U JP10248389U JPH0638372Y2 JP H0638372 Y2 JPH0638372 Y2 JP H0638372Y2 JP 10248389 U JP10248389 U JP 10248389U JP 10248389 U JP10248389 U JP 10248389U JP H0638372 Y2 JPH0638372 Y2 JP H0638372Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass spectrometer
- high frequency
- plasma
- sample
- frequency induction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供給
し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じ
させ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生じ
させ、該イオンをノズルとスキマーからなるインターフ
ェイスを介して質量分析計に導いて検出することによ
り、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導プラ
ズマ質量分析装置に関する。
し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じ
させ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生じ
させ、該イオンをノズルとスキマーからなるインターフ
ェイスを介して質量分析計に導いて検出することによ
り、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導プラ
ズマ質量分析装置に関する。
〈従来の技術〉 第２図は、高周波誘導結合プラズマを用いた分析計の一
般的な構成説明図である。この図において、プラズマト
ーチ１の外室1bと最外室1cにはガス調節器２を介してア
ルゴンガス供給源３からアルゴンガスが供給され、内室
1aには試料導入装置４内の固体試料がレーザ光源５から
照射されたレーザ光によって気化されてのちキャリアガ
スであるアルゴンガスによって搬入されるようになって
いる。尚、試料が液体の場合には、試料セル４とレーザ
光源５に代えてネブライザが用いられ、このネブライザ
で霧化した試料がキャリアガスによってプラズマトーチ
１の内室1aに導かれるようになっている。
般的な構成説明図である。この図において、プラズマト
ーチ１の外室1bと最外室1cにはガス調節器２を介してア
ルゴンガス供給源３からアルゴンガスが供給され、内室
1aには試料導入装置４内の固体試料がレーザ光源５から
照射されたレーザ光によって気化されてのちキャリアガ
スであるアルゴンガスによって搬入されるようになって
いる。尚、試料が液体の場合には、試料セル４とレーザ
光源５に代えてネブライザが用いられ、このネブライザ
で霧化した試料がキャリアガスによってプラズマトーチ
１の内室1aに導かれるようになっている。
一方、プラズマトーチ１に巻回された高周波誘導コイル
６には高周波電源10によって高周波電流が流され、該コ
イル６の周囲に高周波磁界（図示せず）が形成されてい
る。この高周波磁界の近傍でアルゴンガス中に電子かイ
オンが植え付けられると、該高周波磁界の作用によって
瞬時に高周波誘導プラズマ７が生ずる。また、ノズル８
とスキマー９に挟まれたフォアチャンバー本体11内は、
真空ポンプ12によって例えば1Torr.に吸引されている。
更に、センターチャンバー13内にはイオンレンズ14a,14
bが設けられると共に、該センターチャンバー13の内部
は第１油拡散ポンプ15によって例えば10-4Torr.に吸引
され、マスフィルタ（例えば四重極マスフィルタ）16を
収容しているリアチャンバー17内は第２油拡散ポンプ18
によって例えば10-5Torr.に吸引されている。この状態
で高周波誘導プラズマ７中に上述のようにして気化（若
しくは霧化）された試料が導入され、イオン化や発光が
行われる。該プラズマ７内のイオンは、ノズル８やスキ
マー９を経由してのちイオンレンズ14a,14b（若しくは
ダブレット四重極レンズ）の間を通って収束され、その
後、マスフィルタ16を通り二次電子増倍管19に導かれて
検出される。これらの検出信号が信号処理部20に送出さ
れて演算・処理されることによって、前記試料中の被測
定元素分析値が求められるようになっている。
６には高周波電源10によって高周波電流が流され、該コ
イル６の周囲に高周波磁界（図示せず）が形成されてい
る。この高周波磁界の近傍でアルゴンガス中に電子かイ
オンが植え付けられると、該高周波磁界の作用によって
瞬時に高周波誘導プラズマ７が生ずる。また、ノズル８
とスキマー９に挟まれたフォアチャンバー本体11内は、
真空ポンプ12によって例えば1Torr.に吸引されている。
更に、センターチャンバー13内にはイオンレンズ14a,14
bが設けられると共に、該センターチャンバー13の内部
は第１油拡散ポンプ15によって例えば10-4Torr.に吸引
され、マスフィルタ（例えば四重極マスフィルタ）16を
収容しているリアチャンバー17内は第２油拡散ポンプ18
によって例えば10-5Torr.に吸引されている。この状態
で高周波誘導プラズマ７中に上述のようにして気化（若
しくは霧化）された試料が導入され、イオン化や発光が
行われる。該プラズマ７内のイオンは、ノズル８やスキ
マー９を経由してのちイオンレンズ14a,14b（若しくは
ダブレット四重極レンズ）の間を通って収束され、その
後、マスフィルタ16を通り二次電子増倍管19に導かれて
検出される。これらの検出信号が信号処理部20に送出さ
れて演算・処理されることによって、前記試料中の被測
定元素分析値が求められるようになっている。
〈考案が解決しようとする問題点〉 然しながら、上記従来例においては、スキマー９に接続
されノズル８とスキマー９を介して高周波誘導プラズマ
７からイオンを引き出す引出し電極がステンレスなどの
金属でできている。このため、スキマー９から入射する
高周波誘導プラズマ７の紫外光が、引出し電極の内壁面
で反射して迷光となり、高周波誘導プラズマと検出器が
同軸上にないにも拘らず、検出器が光のノイズをカウン
トし、その結果、分析値に大きな誤差を与えるという欠
点があった。
されノズル８とスキマー９を介して高周波誘導プラズマ
７からイオンを引き出す引出し電極がステンレスなどの
金属でできている。このため、スキマー９から入射する
高周波誘導プラズマ７の紫外光が、引出し電極の内壁面
で反射して迷光となり、高周波誘導プラズマと検出器が
同軸上にないにも拘らず、検出器が光のノイズをカウン
トし、その結果、分析値に大きな誤差を与えるという欠
点があった。
本考案は、かかる従来例の欠点に鑑みてなされものであ
り、その課題は、検出信号の強度などに悪影響を及ぼす
ことなく引出し電極での迷光を押さえ検出信号へのノイ
ズを低減させた高周波誘導プラズマ質量分析装置を提供
することにある。
り、その課題は、検出信号の強度などに悪影響を及ぼす
ことなく引出し電極での迷光を押さえ検出信号へのノイ
ズを低減させた高周波誘導プラズマ質量分析装置を提供
することにある。
〈課題を解決するための手段〉 本考案は、高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供給
し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じ
させ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生じ
させ、該イオンをノズルとスキマーからなるインターフ
ェイスを介して質量分析計に導いて検出することによ
り、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導プラ
ズマ質量分析装置において、前記スキマーの後方に設け
られた円筒形の引出し電極の内壁面に黒色のクロームメ
ッキを施すことによって前記課題を解決したものであ
る。
し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じ
させ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生じ
させ、該イオンをノズルとスキマーからなるインターフ
ェイスを介して質量分析計に導いて検出することによ
り、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導プラ
ズマ質量分析装置において、前記スキマーの後方に設け
られた円筒形の引出し電極の内壁面に黒色のクロームメ
ッキを施すことによって前記課題を解決したものであ
る。
〈作用〉 本考案は次のように作用する。即ち、気化された試料が
高周波誘導プラズマの中に導入されてイオン化や発光が
行われると、該プラズマ内のイオンは、ノズルとスキマ
ーを通過して引出し電極内に導かれる。該引出し電極の
内壁面は黒色のクロームメッキが施されているため、高
周波誘導プラズマの光が引出し電極の内壁面で反射する
現象が押さえられ、その結果、引出し電極から送られる
迷光が減少する。このようにして検出信号の強度などに
悪影響を及ぼすことなく引出し電極での迷光を押さえ検
出信号へのノイズを低減させた高周波誘導プラズマ質量
分析装置が実現する。
高周波誘導プラズマの中に導入されてイオン化や発光が
行われると、該プラズマ内のイオンは、ノズルとスキマ
ーを通過して引出し電極内に導かれる。該引出し電極の
内壁面は黒色のクロームメッキが施されているため、高
周波誘導プラズマの光が引出し電極の内壁面で反射する
現象が押さえられ、その結果、引出し電極から送られる
迷光が減少する。このようにして検出信号の強度などに
悪影響を及ぼすことなく引出し電極での迷光を押さえ検
出信号へのノイズを低減させた高周波誘導プラズマ質量
分析装置が実現する。
〈実施例〉 以下、本考案について図を用いて詳細に説明する。第１
図は本考案実施例の要部構成断面図であり、図中、21は
スキマー、22はスキマー21が図示しないネジなどによっ
て直接接続されている共用ボディ、23は絶縁物24を介し
て共用ボディに締結された円筒形の引出し電極、25は引
出し電極23の内壁面に施こされた黒色のクロームメッキ
である。尚、高周波誘導プラズラズマ質量分析装置の全
体的な構成は前記従来例の場合と同様第２図のようにな
っているため、ここでの重複説明は省略する。このよう
な構成からなる本考案の実施例において、気化された試
料が第２図の高周波誘導プラズマ７の中に導入されてイ
オン化や発光が行われると、該プラズマ７内のイオン
は、第２図のノズル８とスキマー９（第１図のスキマー
21）を通過して第１図の引出し電極23内に導かれる。こ
こで、引出し電極23の内壁面は上述のように黒色のクロ
ームメッキが施されているため、高周波誘導プラズマの
光が引出し電極23の内壁面で反射する現象が押さえら
れ、その結果、引出し電極23から送られる迷光が減少す
る。
図は本考案実施例の要部構成断面図であり、図中、21は
スキマー、22はスキマー21が図示しないネジなどによっ
て直接接続されている共用ボディ、23は絶縁物24を介し
て共用ボディに締結された円筒形の引出し電極、25は引
出し電極23の内壁面に施こされた黒色のクロームメッキ
である。尚、高周波誘導プラズラズマ質量分析装置の全
体的な構成は前記従来例の場合と同様第２図のようにな
っているため、ここでの重複説明は省略する。このよう
な構成からなる本考案の実施例において、気化された試
料が第２図の高周波誘導プラズマ７の中に導入されてイ
オン化や発光が行われると、該プラズマ７内のイオン
は、第２図のノズル８とスキマー９（第１図のスキマー
21）を通過して第１図の引出し電極23内に導かれる。こ
こで、引出し電極23の内壁面は上述のように黒色のクロ
ームメッキが施されているため、高周波誘導プラズマの
光が引出し電極23の内壁面で反射する現象が押さえら
れ、その結果、引出し電極23から送られる迷光が減少す
る。
一方、第２図のノズル８やスキマー９（第１図のスキマ
ー21や引出し電極23）を経由したイオンは、イオンレン
ズ14a,14b（若しくはダブレット四重極レンズ）の間を
通って収束され、その後、マスフィルタ16を通り二次電
子増倍管19に導かれて検出される。また、この検出信号
が信号処理部20に送出されて演算・処理されることによ
って、前記試料中の被測定元素分析値が求められる。
ー21や引出し電極23）を経由したイオンは、イオンレン
ズ14a,14b（若しくはダブレット四重極レンズ）の間を
通って収束され、その後、マスフィルタ16を通り二次電
子増倍管19に導かれて検出される。また、この検出信号
が信号処理部20に送出されて演算・処理されることによ
って、前記試料中の被測定元素分析値が求められる。
尚、本考案は上述の実施例に限定されることなく種々の
変形が可能であり、例えば第１図における黒色のクロー
ムメッキに代えて黒色の亜鉛メッキなどを施しても良い
ものとする。
変形が可能であり、例えば第１図における黒色のクロー
ムメッキに代えて黒色の亜鉛メッキなどを施しても良い
ものとする。
〈考案の効果〉 以上詳しく説明したような本考案によれば、高周波誘導
コイルに高周波エネルギーを供給し高周波磁界を形成し
て高周波誘導結合プラズマを生じさせ、該プラズマを用
いて試料を励起してイオンを生じさせ、該イオンをノズ
ルとスキマーからなるインターフェイスを介して質量分
析計に導いて検出することにより、前記試料中の被測定
元素を分析する高周波誘導プラズマ質量分析装置におい
て、前記スキマーの後方に設けられている円筒形の引出
し電極の内壁面に黒色のクロームメッキが施されている
ため、高周波誘導プラズマの光が引出し電極の内壁面で
反射する現象が押さえられ、引出し電極から送られる迷
光が減少する。従って、検出信号の強度などに悪影響を
及ぼすことなく引出し電極での迷光を押さえ検出信号へ
のノイズを低減させた高周波誘導プラズマ質量分析装置
が実現する。
コイルに高周波エネルギーを供給し高周波磁界を形成し
て高周波誘導結合プラズマを生じさせ、該プラズマを用
いて試料を励起してイオンを生じさせ、該イオンをノズ
ルとスキマーからなるインターフェイスを介して質量分
析計に導いて検出することにより、前記試料中の被測定
元素を分析する高周波誘導プラズマ質量分析装置におい
て、前記スキマーの後方に設けられている円筒形の引出
し電極の内壁面に黒色のクロームメッキが施されている
ため、高周波誘導プラズマの光が引出し電極の内壁面で
反射する現象が押さえられ、引出し電極から送られる迷
光が減少する。従って、検出信号の強度などに悪影響を
及ぼすことなく引出し電極での迷光を押さえ検出信号へ
のノイズを低減させた高周波誘導プラズマ質量分析装置
が実現する。
【図面の簡単な説明】 第１図は本考案実施例の要部構成断面図、第２図は高周
波誘導結合プラズマ質量分析計の全体的な構成説明図で
ある。 １……プラズマトーチ、２……流量制御部、 ３……アルゴンガス供給源、４……試料セル、 ６……高周波誘導コイル、 ７……高周波誘導結合プラズマ、８……ノズル、 9,21……スキマー、16……マスフィルタ、 17……リアチャンバー、20……信号処理部、 22……共用ボディ、23……引出し電極、 24……絶縁物、25……黒色のクロームメッキ、
波誘導結合プラズマ質量分析計の全体的な構成説明図で
ある。 １……プラズマトーチ、２……流量制御部、 ３……アルゴンガス供給源、４……試料セル、 ６……高周波誘導コイル、 ７……高周波誘導結合プラズマ、８……ノズル、 9,21……スキマー、16……マスフィルタ、 17……リアチャンバー、20……信号処理部、 22……共用ボディ、23……引出し電極、 24……絶縁物、25……黒色のクロームメッキ、
Claims (1)
- 【請求項１】高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供
給し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生
じさせ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生
じさせ、該イオンをノズルとスキマーからなるインター
フェイスを介して質量分析計に導いて検出することによ
り、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導プラ
ズマ質量分析装置において、 前記スキマーの後方に設けられた円筒形の引出し電極の
内壁面に黒色のクロームメッキが施されていることを特
徴とする高周波誘導プラズマ質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10248389U JPH0638372Y2 (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10248389U JPH0638372Y2 (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0340749U JPH0340749U (ja) | 1991-04-18 |
| JPH0638372Y2 true JPH0638372Y2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=31651378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10248389U Expired - Lifetime JPH0638372Y2 (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0638372Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR200469616Y1 (ko) * | 2012-05-09 | 2013-10-25 | 이혁 | 롤 테이프 커터기의 테이프 휠 및 이를 적용한 롤 테이프 커터기 |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP10248389U patent/JPH0638372Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0340749U (ja) | 1991-04-18 |
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