JPH0431759A - 高周波誘導結合プラズマ分析装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ分析装置Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさ
せ該プラズマを利用して前記試料中の被測定元素を分析
する高周波誘導結合プラズマ質量分析装置を用いて試料
中の被測定成分を分析する分析方法に関する。
ICP−MSJという)の−船釣な構成説明図である。
Cにはガス調節器2を介してアルゴンガス供給源3から
アルゴンカスが供給され、内室1aには試料導入装置4
内の固体試料がレーザ光源5から照射されたレーザ光に
よって気化されてのちキャリアガスであるアルゴンガス
によって搬入されるようになっている。尚、試料が液体
の場合は、第2図の試料導入装置4とレーザ光源5が除
去され、導入される液体試料を霧化してプラズマトーチ
1の内室1aに供給するネプライザが装着される。また
、試料は固体であることよりも液体であることが多い。
6には高周波電源10によって高周波電流が流され、該
コイル6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の
作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生ずる
。
ー本体11内は、真空ポンプ12によって例えばI T
o r r 、に吸引されている。更に、センターチ
ャンバー13内にはイオンレンズ14a、14bが設け
られると共に、該センターチャンバー13の内部は第1
油拡散ポンプ15によって例えば10−’Torr、に
吸引され、マスフィルタ(例えば四重極マスフィルタ)
16を収容しているリアチャンバー17内は第2油拡散
ポンプ18によって例えば10−’Torr、に吸引さ
れている。この状態で高周波誘導結合プラズマ中に上述
のようにして気化された試料が導入され、イオン化や発
光が行われる。該プラズマ7内のイオンは、ノズル8や
スキマー9を経由してのちイオンレンズ14a、14b
(若しくはダブレット四重径レンズ)の間を通って収
束され、その後、マスフィルタ16を通り二次電子増倍
管19に導かれて検出される。この検出信号が信号処理
部20に送出されて演算・処理されることによって、前
記試料中の被測定元素分析値が求められるようになって
いる。
分析するのに従来は、原子吸光分析装置や高周波誘導プ
ラズマ発光分光分析装置が用いられていた。
光分析装置はいずれも干渉成分の影響を回避できず再現
性や検出感度が低いという欠点があった。また、第2図
で詳述したようなICP−MSを用いて試料中の金属不
純物を分析することも試みられていたが、試料としては
粘度の低いものに限定されるうえ試料である有機溶媒の
種類によっては高周波誘導プラズマを維持できなくなる
という欠点があった。
しても該試料に含まれている有機溶媒の組成元素である
炭素が高周波誘導プラズマ周辺の質量分析計インターフ
ェイスの一部である細孔に析出し、最悪の場合、該細孔
を閉塞するとt)う欠点があった0、tな、試料が有機
溶媒たけである場合には、キャリアガス(Arガス)の
中に酸素ガスを約5%混入させることにより、通常のネ
プライザを用いた試料導入方法でもICP−MSで試料
を分析できることが知られている。しかし、この場合に
は、有機溶媒に起因する大量の炭素の混入によってIC
P−MSの感度が大幅に低下するという欠点があった。
課題は、ICP−MSに通常のネプライザ導入方法では
導入できないような物質の中に含まれているような金属
不純物をも効率良く分析できるような分析方法を提供す
ることにある。
分析する分析方法において、前記試料を加熱して気化す
る加熱気化導入装置と前記ICPMSを結ぶキャリアカ
スラインに、混入ガス導入口から導入された混入カスを
、マスフローコントローラで流量調節して供給すること
によって、前記試料に含まれている有機溶媒の組成元素
である炭素が高周波誘導プラズマ周辺の質量分析計イン
ターフェイスの一部である細孔に析出し該インターフェ
イス部細孔が閉塞されるのを防止するようにしたことに
ある。
、Heガス)が、開閉弁→マスフローコントローラー開
閉弁を通って、加熱気化導入装置とICP−MSの間に
設けられているキャリアガスラインに供給される。この
ため、ICP−MSに混入ガス導入口から導入された他
のガスが供給され、その結果、ICP−MSインターフ
ェイス部細孔の閉塞を防止できるようになる。
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、第2
図と同一記号は同一意味を持たせて使用しここでの重複
説明は省略する。また、21は第2図を用いて詳述した
ICP−MS、22は加熱気化導入装置、23はマスフ
ローコントロラ、24a、24bは開閉弁、25aはキ
ャリアガス導入口、25bは混入ガス導入口である。
となる試料が有機溶媒(例えば、オイルやレジストなど
)である場合には、酸素とAr(アルゴン)の混合ガス
が用いられ、試料がシリコン系溶液である場合には、酸
素と四フッ化炭素の混合ガス、三フッ化窒化ガス、酸素
と四フッ化炭素とArの混合ガス、又は三フッ化窒化ガ
スとArの混合ガスが用いられる。
対象である試料が25〜200μ!だけ加熱気化導入装
置22の炉に導入され、その後、徐々に炉の温度が上昇
させられると、試料中の溶液成分や金属不純物は蒸発さ
せられる。このようにして蒸発してきた溶液成分や金属
不純物は、キャリアガスで運ばれてICP−MS21に
導入され、第2図を用いて前述したようにして分析され
る。このとき、第2図の高周波誘導プラズマ7の中で分
解された溶液主成分は、ICP−MSのインターフェイ
ス部細孔で析出して該細孔を塞ぐことがある。
め、第1図の加熱気化導入装置22とICP−MS21
の間に設けられているキャリアガスラインに他のガスが
加えらる。即ち、第1図の混入ガス導入口25bから導
入された他のガス(例えば、Heガス)が、開閉弁24
b→マス70−コントローラ23→開閉弁24aを週っ
て、加熱気化導入装!22とICP−MS21の間に設
けられているキャリアガスラインに供給される。
た他のガスが供給され、その結果、インターフェイス部
細孔の閉塞が未然に防止できるようになる。また、加熱
気化導入装置22で気化されて供給される試料の溶液主
成分と金属不純物の温度によって、加熱気化導入装置2
2とICP−MS21の間に設けられているキャリアガ
スラインへのガス供給(混入)が連続的ないし断続的に
行われるようになっている。
変形が可能である。
ルに高周波エネルギーを供給し高周波磁界を形成して高
周波誘導結合プラズマを生じさせ該プラズマを利用して
前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析装置を用いて試料中の被測定成分を分析す
る分析方法において、前記試料を加熱して気化する加熱
気化導入装置と前記高周波誘導結合プラズマ質量分析装
置を結ぶキャリアガスラインに、混入ガス導入口から導
入された混入ガスを、マスフローコントローラで流量調
節して供給するように構成した。
である炭素が高周波誘導プラズマ周辺の質量分析計イン
ターフェイスの一部である細孔に析出し該インターフェ
イス部細孔が閉塞されるのを回避できようになる。従っ
て、ICP−MSに通常のネプライザ導入方法では導入
できないような試料の中に含まれている金属不純物をも
ICP−MSで効率良く分析できるようになる。4、図
面の簡単な説明 第1図は本発明実施例の構成説明図、第2図は高周波誘
導プラズマ質量分析装置のに一般的な構成説明図である
。
御部、3・・・・・・アルゴンガス供給源、4・・・・
・・試料セル、6・・・・・・高周波誘導コイル、 7・・・・・・高周波誘導結合プラズマ、8・・・・・
・ノズル、9・・・・・・スキマー、16・・・・・・
マスフィルタ、17・・・・・・リアチャンバー 20
・・・・・・信号処理部、21・・・ICP−MS、2
2・・・加熱気化導入波!、23・・・マスフローコン
トローラ、 24a、24b−開閉弁、 25a・・・キャリアガス導入口、 25b・・・混入ガス導入口
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供給し高周波
磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさせ該プ
ラズマを利用して前記試料中の被測定元素を分析する高
周波誘導結合プラズマ質量分析装置を用いて試料中の被
測定成分を分析する分析方法において、 前記試料を加熱して気化する加熱気化導入装置と前記高
周波誘導結合プラズマ質量分析装置を結ぶキャリアガス
ラインに、混入ガス導入口から導入された混入ガスを、
マスフローコントローラで流量調節して供給することを
特徴とする 分析方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2135296A JP2836190B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2135296A JP2836190B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0431759A true JPH0431759A (ja) | 1992-02-03 |
JP2836190B2 JP2836190B2 (ja) | 1998-12-14 |
Family
ID=15148387
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---|---|---|---|
JP2135296A Expired - Fee Related JP2836190B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2836190B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007024787A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Ajinomoto Co Inc | 誘導結合プラズマ分析法およびそのための装置 |
JP2008064488A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 誘導結合プラズマ質量分析及び発光分析装置 |
JP2008089576A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-04-17 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ガスクロマトグラフに誘導結合プラズマ質量分析装置を結合させた分析装置 |
CN102395398A (zh) * | 2009-02-23 | 2012-03-28 | 日本烟草产业株式会社 | 非加热型烟草香味吸取器 |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP2135296A patent/JP2836190B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008064488A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 誘導結合プラズマ質量分析及び発光分析装置 |
JP2008089576A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-04-17 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ガスクロマトグラフに誘導結合プラズマ質量分析装置を結合させた分析装置 |
CN102395398A (zh) * | 2009-02-23 | 2012-03-28 | 日本烟草产业株式会社 | 非加热型烟草香味吸取器 |
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---|---|
JP2836190B2 (ja) | 1998-12-14 |
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