JPH07147152A - 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置Info
- Publication number
- JPH07147152A JPH07147152A JP5295181A JP29518193A JPH07147152A JP H07147152 A JPH07147152 A JP H07147152A JP 5295181 A JP5295181 A JP 5295181A JP 29518193 A JP29518193 A JP 29518193A JP H07147152 A JPH07147152 A JP H07147152A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measured
- sample
- solution
- nebulizer
- mass spectrometer
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プラズマで励起する被測定試料の量を安定し
て豊富に供給し、高感度に被測定試料を測定する。 【構成】 プラズマによって励起した被測定試料を質量
分析器に導いて元素分析を行う高周波誘導結合プラズマ
・質量分析装置において、被測定試料が溶解した被測定
溶液を霧化するネブライザと、ネブライザが霧化した被
測定溶液より被測定試料を溶解している溶液を除去する
水分除去器とを設けたことを特徴としている。
て豊富に供給し、高感度に被測定試料を測定する。 【構成】 プラズマによって励起した被測定試料を質量
分析器に導いて元素分析を行う高周波誘導結合プラズマ
・質量分析装置において、被測定試料が溶解した被測定
溶液を霧化するネブライザと、ネブライザが霧化した被
測定溶液より被測定試料を溶解している溶液を除去する
水分除去器とを設けたことを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波誘導結合プラズ
マと質量分析計を結合させてなる高周波誘導結合プラズ
マ・質量分析装置に関し、更に詳しくは、高感度に被測
定溶液中の被測定試料を測定できる高周波誘導結合プラ
ズマ・質量分析装置（IndDuctively Coupledly Plasma-
Mass Spectrometer、以下「ＩＣＰ−ＭＳ」と省略）に
関する。
マと質量分析計を結合させてなる高周波誘導結合プラズ
マ・質量分析装置に関し、更に詳しくは、高感度に被測
定溶液中の被測定試料を測定できる高周波誘導結合プラ
ズマ・質量分析装置（IndDuctively Coupledly Plasma-
Mass Spectrometer、以下「ＩＣＰ−ＭＳ」と省略）に
関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は、従来のＩＣＰ−ＭＳの構成ブロ
ック図である。図中、１ａは被測定溶液を貯留している
試料槽、１ｂは例えば純水のような溶媒を貯留している
槽、２ａ、２ｂは被測定溶液と溶媒を送液するポンプ、
３はポンプ２ａ、２ｂの送液量を制御するコントロー
ラ、４はコントローラに指令信号を送るコンピュータ、
５はポンプ２ａ、２ｂから供給される試料をエアロゾル
化するネブライザ、６は最外室６ａ、外室６ｂ、及び内
室６ｃを有する例えば三重管構造のプラズマトーチ、７
ａはアルゴンガス供給源、７ｂはアルゴンガスの圧力を
調節する圧力調節器、８は高周波誘導プラズマ、９は高
周波誘導コイル、１０は高周波誘導コイル９に高周波エ
ネルギーを供給する高周波電源、１１はノズル、１２は
スキマー、１３はフォアチャンバー、１４はフォアチャ
ンバー１３内を例えば１ｔｏｒｒまで吸引する真空ポン
プ、１５はセンターチャンバ、１６はセンターチャンバ
１５内を例えば１０-2ｔｏｒｒまで吸引する真空ポン
プ、１７は例えば四重極マスフィルタのような極子、１
８はリアチャンバー、１９はリアチャンバ１８ー内を例
えば１０-4ｔｏｒｒまで吸引する真空ポンプ、２０は二
次電子倍増管、２１は例えばマイクロコンピュータのよ
うな信号処理部である。
ック図である。図中、１ａは被測定溶液を貯留している
試料槽、１ｂは例えば純水のような溶媒を貯留している
槽、２ａ、２ｂは被測定溶液と溶媒を送液するポンプ、
３はポンプ２ａ、２ｂの送液量を制御するコントロー
ラ、４はコントローラに指令信号を送るコンピュータ、
５はポンプ２ａ、２ｂから供給される試料をエアロゾル
化するネブライザ、６は最外室６ａ、外室６ｂ、及び内
室６ｃを有する例えば三重管構造のプラズマトーチ、７
ａはアルゴンガス供給源、７ｂはアルゴンガスの圧力を
調節する圧力調節器、８は高周波誘導プラズマ、９は高
周波誘導コイル、１０は高周波誘導コイル９に高周波エ
ネルギーを供給する高周波電源、１１はノズル、１２は
スキマー、１３はフォアチャンバー、１４はフォアチャ
ンバー１３内を例えば１ｔｏｒｒまで吸引する真空ポン
プ、１５はセンターチャンバ、１６はセンターチャンバ
１５内を例えば１０-2ｔｏｒｒまで吸引する真空ポン
プ、１７は例えば四重極マスフィルタのような極子、１
８はリアチャンバー、１９はリアチャンバ１８ー内を例
えば１０-4ｔｏｒｒまで吸引する真空ポンプ、２０は二
次電子倍増管、２１は例えばマイクロコンピュータのよ
うな信号処理部である。
【０００３】被測定溶液中の被測定試料は、ネブライザ
５は介してプラズマトーチ６に供給されて励起され、高
周波誘導プラズマ８の作用でイオン化される。イオン化
された被測定試料は、ノズル１１とスキマー１２を介し
て質量分析計に導かれ、ここで定性および定量分析が行
われる。
５は介してプラズマトーチ６に供給されて励起され、高
周波誘導プラズマ８の作用でイオン化される。イオン化
された被測定試料は、ノズル１１とスキマー１２を介し
て質量分析計に導かれ、ここで定性および定量分析が行
われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のＩＣ
Ｐ−ＭＳは、ネブライザの気化効率が数パーセントしか
なく、被測定溶液の大部分はドレインとして排出されて
しまうため、プラズマで励起する被測定試料の量が少な
く高感度に分析を行うことができないという欠点があっ
た。また、ネブライザのよる気化の再現性が悪いため測
定の再現性も得られないという問題があった。本発明
は、このような点に鑑みてなされたもので、プラズマで
励起する被測定試料の量を安定且つ豊富に供給するた
め、被測定溶液の溶媒を水分除去器で除去するようにし
たもので、高感度に被測定試料を測定することのできる
ＩＣＰ−ＭＳを提供することを目的としている。
Ｐ−ＭＳは、ネブライザの気化効率が数パーセントしか
なく、被測定溶液の大部分はドレインとして排出されて
しまうため、プラズマで励起する被測定試料の量が少な
く高感度に分析を行うことができないという欠点があっ
た。また、ネブライザのよる気化の再現性が悪いため測
定の再現性も得られないという問題があった。本発明
は、このような点に鑑みてなされたもので、プラズマで
励起する被測定試料の量を安定且つ豊富に供給するた
め、被測定溶液の溶媒を水分除去器で除去するようにし
たもので、高感度に被測定試料を測定することのできる
ＩＣＰ−ＭＳを提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、プラズマによって励起した被測定
試料を質量分析器に導いて元素分析を行う高周波誘導結
合プラズマ・質量分析装置において、前記被測定試料が
溶解した被測定溶液を霧化するネブライザと、このネブ
ライザが霧化した被測定溶液より被測定試料を溶解して
いる溶液を除去する水分除去器と、を設けたことを特徴
としている。
るために、本発明は、プラズマによって励起した被測定
試料を質量分析器に導いて元素分析を行う高周波誘導結
合プラズマ・質量分析装置において、前記被測定試料が
溶解した被測定溶液を霧化するネブライザと、このネブ
ライザが霧化した被測定溶液より被測定試料を溶解して
いる溶液を除去する水分除去器と、を設けたことを特徴
としている。
【０００６】
【作用】ネブライザで霧化された被測定溶液は、水分除
去器に供給され、半透膜を透過した溶媒が外部にアルゴ
ンガスで搬出される。
去器に供給され、半透膜を透過した溶媒が外部にアルゴ
ンガスで搬出される。
【０００７】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の一実施例を詳細
に説明する。図１は、本発明のＩＣＰ−ＭＳの一実施例
を示した構成ブロック図である。図中、図３と同一作用
をするものは同一符号を付けて説明する。
に説明する。図１は、本発明のＩＣＰ−ＭＳの一実施例
を示した構成ブロック図である。図中、図３と同一作用
をするものは同一符号を付けて説明する。
【０００８】３０はネブライザ５で気化された被測定溶
液から溶媒成分を除去する水分除去器である。３１、３
２はガス供給源７ａのアルゴンガスの流量を調整する流
量計で、水分除去器３０とネブライザ５に調整したアル
ゴンガスを供給する。３３、３４は流量計３１、３２の
前段に設けられた開閉弁である。
液から溶媒成分を除去する水分除去器である。３１、３
２はガス供給源７ａのアルゴンガスの流量を調整する流
量計で、水分除去器３０とネブライザ５に調整したアル
ゴンガスを供給する。３３、３４は流量計３１、３２の
前段に設けられた開閉弁である。
【０００９】被測定溶液は、流量計３２から供給される
アルゴンによってネブライザ５に吸引され、霧化され
る。ネブライザ５で霧化された被測定溶液は、水分除去
器３０に供給され、半透膜３０Ａを透過した溶媒がアル
ゴンガスで外部に搬出される。尚、水分除去器３０は、
ネブライザ５の前段側に設け、気化する被測定溶液を前
もって濃縮するようにしてもよい。
アルゴンによってネブライザ５に吸引され、霧化され
る。ネブライザ５で霧化された被測定溶液は、水分除去
器３０に供給され、半透膜３０Ａを透過した溶媒がアル
ゴンガスで外部に搬出される。尚、水分除去器３０は、
ネブライザ５の前段側に設け、気化する被測定溶液を前
もって濃縮するようにしてもよい。
【００１０】図２は、水分除去器の具体的な実施例を示
す構成断面図である。図中、３０Ａは溶媒を選択的に透
過させる半透膜、３０Ｂは内室、３０Ｃは外室、３０Ｄ
はネブライザ５で霧化された被測定溶液が導入される流
体導入口、３０Ｅは内室３０Ｂを通過した被測定溶液が
導出される流体導出口、３０Ｆは半透膜３０Ａを透過し
た溶媒を搬出するアルゴンガスが導入される導入口、３
０Ｇは溶媒を搬送するアルゴンガスが導出される導出口
である。
す構成断面図である。図中、３０Ａは溶媒を選択的に透
過させる半透膜、３０Ｂは内室、３０Ｃは外室、３０Ｄ
はネブライザ５で霧化された被測定溶液が導入される流
体導入口、３０Ｅは内室３０Ｂを通過した被測定溶液が
導出される流体導出口、３０Ｆは半透膜３０Ａを透過し
た溶媒を搬出するアルゴンガスが導入される導入口、３
０Ｇは溶媒を搬送するアルゴンガスが導出される導出口
である。
【００１１】ネブライザ５で気化された被測定溶液は、
溶媒分が半透膜３０Ａを透過して外室に移行し、アルゴ
ンガスによって導出口３０Ｇから外部に搬出される。
尚、半透膜３０Ａに代えて、溶媒を選択的に透過する多
孔性物質やナフィオン膜等を用いてもよい。
溶媒分が半透膜３０Ａを透過して外室に移行し、アルゴ
ンガスによって導出口３０Ｇから外部に搬出される。
尚、半透膜３０Ａに代えて、溶媒を選択的に透過する多
孔性物質やナフィオン膜等を用いてもよい。
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明の高
周波誘導結合プラズマ・質量分析装置は、被測定試料を
励起する前に、前もって水分除去器によって被測定溶液
の溶媒を除去するようにしたものである。このため、プ
ラズマで励起する被測定試料の量を安定且つ豊富に供給
できるので、高感度に被測定試料を測定することのでき
る。
周波誘導結合プラズマ・質量分析装置は、被測定試料を
励起する前に、前もって水分除去器によって被測定溶液
の溶媒を除去するようにしたものである。このため、プ
ラズマで励起する被測定試料の量を安定且つ豊富に供給
できるので、高感度に被測定試料を測定することのでき
る。
【図１】本発明のＩＣＰ−ＭＳの一実施例を示した構成
ブロック図である。
ブロック図である。
【図２】水分除去器の具体的な実施例を示す構成断面図
である。
である。
【図３】従来のＩＣＰ−ＭＳの構成ブロック図である。
３０ 水分除去器 ３０Ａ 半透膜膜 ３０Ｂ 内室 ３０Ｃ 外室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 花岡 譲 東京都武蔵野市中町１丁目16番10号 日生 武蔵野ビル 横河アナリティカルシステム ズ株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 プラズマによって励起した被測定試料を
質量分析器に導いて元素分析を行う高周波誘導結合プラ
ズマ・質量分析装置において、 前記被測定試料が溶解した被測定溶液を霧化するネブラ
イザと、 このネブライザの入口側若しは出口側の少なくとも一方
に設けられていて、被測定試料を溶解している溶液を除
去する水分除去器と、 を設けたことを特徴とした高周波誘導結合プラズマ・質
量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5295181A JPH07147152A (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5295181A JPH07147152A (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07147152A true JPH07147152A (ja) | 1995-06-06 |
Family
ID=17817272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5295181A Pending JPH07147152A (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07147152A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005150027A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Toyota Motor Corp | 加湿ガスの成分測定装置 |
| JP2010014465A (ja) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 脱溶媒機能付き誘導結合プラズマトーチ |
-
1993
- 1993-11-25 JP JP5295181A patent/JPH07147152A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005150027A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Toyota Motor Corp | 加湿ガスの成分測定装置 |
| JP2010014465A (ja) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 脱溶媒機能付き誘導結合プラズマトーチ |
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