JPH0237445U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0237445U JPH0237445U JP11666088U JP11666088U JPH0237445U JP H0237445 U JPH0237445 U JP H0237445U JP 11666088 U JP11666088 U JP 11666088U JP 11666088 U JP11666088 U JP 11666088U JP H0237445 U JPH0237445 U JP H0237445U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- supplied
- flow rate
- mixing section
- fluid mixing
- inductively coupled
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 9
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
第1図は本考案実施例の構成説明図、第2図は
本考案他の実施例の構成説明図、第3図は従来例
の構成説明図である。 1……プラズマトーチ、2,22,24……流
量制御部、3……アルゴンガス供給源、4……試
料槽、4′……試料ガス導入口、5……ネブライ
ザ、6……高周波誘導コイル、7……高周波誘導
結合プラズマ、8……ノズル、9……スキマー、
11……フオアチヤンバー、13……センターチ
ヤンバー、16……マスフイルタ、17……リア
チヤンバー、20……信号処理部、21……還元
性ガス供給源、23……稀釈用アルゴンガス供給
源、25……流体混合部。
本考案他の実施例の構成説明図、第3図は従来例
の構成説明図である。 1……プラズマトーチ、2,22,24……流
量制御部、3……アルゴンガス供給源、4……試
料槽、4′……試料ガス導入口、5……ネブライ
ザ、6……高周波誘導コイル、7……高周波誘導
結合プラズマ、8……ノズル、9……スキマー、
11……フオアチヤンバー、13……センターチ
ヤンバー、16……マスフイルタ、17……リア
チヤンバー、20……信号処理部、21……還元
性ガス供給源、23……稀釈用アルゴンガス供給
源、25……流体混合部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励
起し生じたイオンを真空中に導入しイオン光学系
を通して質量分析計検出器に導いて検出すること
により気体試料中の被測定元素を分析する分析計
において、 アルゴンガス供給源からのアルゴンガスが第1
流量調節装置を介して流体混合部に供給されると
共に、還元性ガス供給源からの還元性ガスが第2
流量制御装置で一定流量に制御されて前記流体混
合部に供給され、前記流体混合部で前記試料と還
元性ガスが混合されて前記高周波誘導結合プラズ
マを生じさせる三重管構造のプラズマトーチの最
外室に供給されるように構成したことを特徴とす
る高周波誘導結合プラズマ質量分析計。 (2) 高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励
起し生じたイオンを真空中に導入しイオン光学系
を通して質量分析計検出器に導いて検出すること
により液体試料中の被測定元素を分析する分析計
において、 アルゴンガス供給源からのアルゴンガスが第1
流量調節装置を介して流体混合部に供給されると
共に、還元性ガス供給源からの還元性ガスが第2
流量制御装置で一定流量に制御されて前記流体混
合部に供給され、該流体混合部で混合されたガス
がネブライザに供給されて液体試料を霧化して前
記高周波誘導結合プラズマを生じさせる三重管構
造のプラズマトーチの最外室に供給するように構
成したことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ
質量分析計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11666088U JPH0237445U (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11666088U JPH0237445U (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0237445U true JPH0237445U (ja) | 1990-03-12 |
Family
ID=31359396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11666088U Pending JPH0237445U (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0237445U (ja) |
-
1988
- 1988-09-05 JP JP11666088U patent/JPH0237445U/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0792091B1 (en) | Elemental analysis method | |
JPH0237445U (ja) | ||
US4220413A (en) | Automatic gas flow control apparatus for an atomic absorption spectrometer burner | |
US5045196A (en) | Apparatus for pre-concentration of a sample for spectroscopical reasons | |
JPH06203790A (ja) | 質量分析装置 | |
US5130537A (en) | Plasma analyzer for trace element analysis | |
JP2916541B2 (ja) | 原子吸収分光計による濃度決定方法 | |
GB1588478A (en) | Gas flow control apparatus | |
CN103604940A (zh) | 一种icp-aes/ms免切换式有机进样装置 | |
JPH01124951A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 | |
JPH09159610A (ja) | 試料導入安定化機構を備えたプラズマ分析装置 | |
JPH0366147U (ja) | ||
JP2836190B2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 | |
JPH0615392Y2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPS6423866U (ja) | ||
JPS6423868U (ja) | ||
JPH09199076A (ja) | 誘導結合プラズマ質量分析装置及びその方法 | |
JPH02227653A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPH05121041A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPH0340748U (ja) | ||
JPH09166545A (ja) | 原子吸光分析装置 | |
JPH09318542A (ja) | 元素分析方法および元素分析装置 | |
JPH0619084Y2 (ja) | 誘導結合プラズマ発光分光分析装置 | |
JPH02148649A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPS6436962U (ja) |