JPH0237445U - - Google Patents

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JPH0237445U
JPH0237445U JP11666088U JP11666088U JPH0237445U JP H0237445 U JPH0237445 U JP H0237445U JP 11666088 U JP11666088 U JP 11666088U JP 11666088 U JP11666088 U JP 11666088U JP H0237445 U JPH0237445 U JP H0237445U
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JP
Japan
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supplied
flow rate
mixing section
fluid mixing
inductively coupled
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JP11666088U
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案実施例の構成説明図、第2図は
本考案他の実施例の構成説明図、第3図は従来例
の構成説明図である。 1……プラズマトーチ、2,22,24……流
量制御部、3……アルゴンガス供給源、4……試
料槽、4′……試料ガス導入口、5……ネブライ
ザ、6……高周波誘導コイル、7……高周波誘導
結合プラズマ、8……ノズル、9……スキマー、
11……フオアチヤンバー、13……センターチ
ヤンバー、16……マスフイルタ、17……リア
チヤンバー、20……信号処理部、21……還元
性ガス供給源、23……稀釈用アルゴンガス供給
源、25……流体混合部。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励
    起し生じたイオンを真空中に導入しイオン光学系
    を通して質量分析計検出器に導いて検出すること
    により気体試料中の被測定元素を分析する分析計
    において、 アルゴンガス供給源からのアルゴンガスが第1
    流量調節装置を介して流体混合部に供給されると
    共に、還元性ガス供給源からの還元性ガスが第2
    流量制御装置で一定流量に制御されて前記流体混
    合部に供給され、前記流体混合部で前記試料と還
    元性ガスが混合されて前記高周波誘導結合プラズ
    マを生じさせる三重管構造のプラズマトーチの最
    外室に供給されるように構成したことを特徴とす
    る高周波誘導結合プラズマ質量分析計。 (2) 高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励
    起し生じたイオンを真空中に導入しイオン光学系
    を通して質量分析計検出器に導いて検出すること
    により液体試料中の被測定元素を分析する分析計
    において、 アルゴンガス供給源からのアルゴンガスが第1
    流量調節装置を介して流体混合部に供給されると
    共に、還元性ガス供給源からの還元性ガスが第2
    流量制御装置で一定流量に制御されて前記流体混
    合部に供給され、該流体混合部で混合されたガス
    がネブライザに供給されて液体試料を霧化して前
    記高周波誘導結合プラズマを生じさせる三重管構
    造のプラズマトーチの最外室に供給するように構
    成したことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ
    質量分析計。
JP11666088U 1988-09-05 1988-09-05 Pending JPH0237445U (ja)

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