JPH10321182A - 誘導結合プラズマ質量及び分光分析装置 - Google Patents

誘導結合プラズマ質量及び分光分析装置

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JPH10321182A
JPH10321182A JP9127597A JP12759797A JPH10321182A JP H10321182 A JPH10321182 A JP H10321182A JP 9127597 A JP9127597 A JP 9127597A JP 12759797 A JP12759797 A JP 12759797A JP H10321182 A JPH10321182 A JP H10321182A
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torch
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plasma
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哲雅 伊藤
Yoshitomo Nakagawa
良知 中川
Osamu Matsuzawa
修 松澤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 分析試料が有機物の場合、カーボン(炭素)
がトーチの先端または、イオンを質量分析装置に取り入
れるサンプリングコーンの孔に析出し、目詰まりやその
結果の感度不良を起こしていた。 【解決手段】 プラズマトーチの試料用管に、流量を制
御された酸素を導入する枝管を設け、カーボンを酸化さ
せ、気化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、誘導結合プラズマ
質量及び分光分析装置、特に有機溶媒試料導入装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来の誘導結合プラズマ質量分析装置
は、図2に示すようにプラズマ2発生用のトーチ4に試料
導入部となるチャンバ9が接続されている。チャンバ9
は、その一端に試料18を霧化する噴霧器13を装着した保
持体12をOリング11を介して備えている。試料容器17に
貯えられた試料18は、試料供給管16を通って噴霧器13に
供給される。ここで、噴霧器13にはネブライザーガス供
給部15に貯えられたネブライザーガスがネブライザーガ
ス供給管14を介して供給される。そして、この噴霧器13
で試料18は霧化された後、チャンバ9を経由し、霧化さ
れた試料18は、トーチ4に導入される。チャンバ9の最
下部には、廃液を排出する排液孔10が設けられている。
【0003】トーチ4は同軸の三重の管より構成され、
チャンバ9から導入された試料18は三重の管の最内管5を
経由したうえでプラズマ2に導入される。試料18はプラ
ズマ2中でイオン化され、誘導結合プラズマ分析装置分
析部を構成するサンプリングコーン1の穴を通った後、
質量分析計(図示せず)によって分析される。トーチ4
の最内管5の外側に補助ガス供給孔8を介して補助ガス
を通す中間管8aが設けられている。その外側にプラズ
マガス供給孔7を介してプラズマガスをトーチ4先端に
供給する最外管24が設けられている。
【0004】チャンバ9には細かく霧化された試料を最
内管5に導入するための排出管23が設けられ、最内管5
の端部と排出管23の端部とは、クランプ6にて流体的に
接続されている。導入される試料18が有機溶媒の場合、
プラズマ2に導入された試料中の炭素Cがトーチ4の先端
部やサンプリングコーン1の穴に付着し、目詰まりや感
度低下を引き起こす。その場合には、保持体12にガスの
導入口21を設け、この導入口21から酸素ガスを供給し、
チャンバ9内で試料18と混合してプラズマ2中に導入する
ことによって前記問題を解決していた。すなわち酸素ガ
スと混合された試料18中の炭素Cはプラズマ2中で燃焼し
て二酸化炭素CO2や一酸化炭素COとなる。二酸化炭素CO2
や一酸化炭素COはコーンの穴を通り抜けたり、大気中に
発散するのでトーチ4先端やサンプリングコーン1の穴に
付着することはない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、保持体12に設けたガスの導入口21から導入された酸
素ガスと、保持体12に装着した噴霧器13から噴霧された
有機溶媒は、チャンバ9内で混合される。このとき静電
気や逆火や高周波などの原因でチャンバ9内の有機溶媒
と酸素ガスに引火するとチャンバ9が破裂する恐れがあ
るため、酸素ガスの導入量を少なく抑えなければならな
い。導入された酸素ガスの量が試料中の炭素Cを十分に
燃焼させるために必要な酸素ガスの量よりも少ない場
合、炭素Cが十分に二酸化炭素CO2や一酸化炭素COになら
ずにトーチ4先端やコーン1の穴の目詰まりを起こし、感
度の低下をもたらす。
【0006】本発明は、上記問題を解決し、試料中の炭
素Cによるトーチ4先端やサンプリングコーン1の目詰ま
りや感度の低下を抑えるのに必要な量の酸素ガスを流し
てもチャンバ9が破裂する恐れが無く、目詰まりを防止
し、高感度の測定ができる誘導結合プラズマ質量分析装
置を得ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明が採用した誘導結合プラズマ質量分析装置用有
機溶媒試料導入装置は、トーチの最内管に枝管を有し、
前記枝管から流量を制御できる酸素ガスを導入すること
を特徴とする。本発明の誘導結合プラズマ質量分析装置
用有機溶媒試料導入装置は、トーチの最内管に枝管を有
し、その枝管から酸素ガスを導入している。噴霧器から
噴出するネブライザーガスの流量は枝管から供給される
酸素ガスに比べて十分に多く、かつネブライザーガスの
流れは気密を保持しているチャンバから出口であるトー
チの先端方向へ流れているため、酸素ガスは枝管からト
ーチの方向へ流れ、チャンバへは流れない。よってチャ
ンバ内の酸素ガス濃度は極めて低い。
【0008】チャンバ内の酸素ガス濃度を下げることが
できるため、チャンバ内に向かって逆火が起きた場合で
もチャンバ内では燃焼が起きず、破裂することはない。
したがって炭素Cによるトーチ先端やコーンの目詰まり
や感度の低下を抑えるのに必要な量の酸素ガスを流すこ
とができ、目詰まりを防止し、高感度の測定ができる。
【0009】
【実施例】本願発明を図1に基づいて詳細に説明する。
なお、図1において、図2に書かれている部品で、ほぼ
同一の機能を有するものは、ここでは説明を省略するこ
ともある。チャンバ9の上面に誘導結合プラズマ2を発生
するトーチ4が設けてあり、チャンバ9の端部に円筒形状
の保持体12が設けてあり、保持体12には噴霧器13が装着
してある。トーチ4とチャンバ9との接合面は、クランプ
6によって洩れが生じないように接続してあり、チャン
バ9と保持体12との結合部にはOリング11を介在させ、チ
ャンバ9内のガスが外部に洩れないようにしてあり、気
密を保持してある。なお、廃液孔10の図示されていな
い先の部分は、サイホン状に成っており、液体にて気密
に保たれている。
【0010】噴霧器13には、ネブライザーガス供給管14
と試料供給管16がそれぞれ接続されており、試料供給管
16の端部は試料容器17内の試料18に浸されている。い
ま、ネブライザーガス供給部15からガスを供給すると、
ネブライザーガス供給管14をガスが通って噴霧器13の先
端からガスが噴出する。それによって噴霧器13の内部圧
力が下がり、その負圧吸引によって試料容器17内の試料
18が吸い込まれ、試料供給管16を通って噴霧器13へ達す
る。そして噴霧器13よりチャンバ9の内部へ試料18が噴
射され、霧状の試料となる。
【0011】この細かく霧化された試料18は、チャンバ
9から排出管23経てトーチ4に達するが、それ以外の大き
い粒子状の試料はチャンバ9の廃液孔10から排出され
る。チャンバ9では霧化された試料は分級されることに
なる。一方、トーチ4は三重構造の石英管からなってお
り、プラズマガス供給孔7からガス(例えばアルゴンガ
ス)が最外管24を介してトーチ4先端に供給され、誘導
コイル3に高周波電力(例えば、周波数27.12MHz、電力
1.6kW)を印加することにより、プラズマ2が形成され
る。8は補助ガス供給孔であり中間管8aを介して補助
ガスがトーチ4先端に供給される。
【0012】チャンバ9を経てトーチ4に達した試料18は
トーチ4の三重管のうち、最内管5を通る。いま、酸素ガ
ス供給部20から酸素ガスを供給すると、酸素ガス供給管
19を通ってトーチ4の最内管5に設けた枝管22から酸素ガ
スが供給され、最内管5にて試料18と混合される。ここ
で噴霧器13から噴出するネブライザーガスの流量は枝管
22から供給される酸素ガスに比べて十分に多く、かつネ
ブライザーガスの流れは気密を保持しているチャンバ9
から出口であるトーチ4の先端方向へ流れているため、
酸素ガスは枝管22からトーチ4の方向へ流れ、チャンバ9
へは流れない。よってチャンバ9内の酸素ガス濃度は極
めて低い。チャンバ9内の酸素ガス濃度を下げることが
できるため、チャンバ9内に向かって逆火が起きた場合
でもチャンバ9内では燃焼が起きず、破裂することはな
い。
【0013】十分な量の酸素ガスと混合された試料18は
最内管5を通ってトーチ4の上面に達してプラズマ2によ
って燃焼し、試料中の炭素Cは二酸化炭素CO2や一酸化炭
素COとなってサンプリングコーン1の穴を通り抜けた
り、大気中に発散する。その他の試料はプラズマ2によ
ってイオン化される。イオン化された試料18はコーン1
の穴を通り、質量分析計によって分析される。
【0014】つまり、本願発明は、液状の試料を霧化す
る噴霧器と、霧化された試料を分級するチャンバと、分
級された試料とプラズマガスとをそれぞれ流体的に分断
された管にて導入・輸送し、前記分級された試料を導入
・輸送する管(実施例では、試料は最内管5でプラズマ
ガスは最外管24に流れる)に、その先端部で周囲に配置
された誘導コイルに流れる高周波電力によりプラズマを
形成するトーチと、前記トーチの前記分級された試料を
導入・輸送する管に流量を制御できる酸素ガスを導入す
る枝管と、前記プラズマにてイオン化された試料を通す
サンプリングコーンと、前記サンプリングコーンを通過
したイオンを質量分析する質量分析装置より成ることを
特徴とする誘導結合プラズマ質量分析装置である。な
お、サンプリングコーン1と質量分析装置の代わりに、
プラズマの光を分光する分光分析装置を設けて、誘導結
合プラズマ分光分析装置に採用することもできることは
明らかである。
【0015】
【発明の効果】本発明は、誘導結合プラズマ分析装置用
有機溶媒試料導入装置において、トーチの最内管に枝管
を有し、その枝管から流量を制御できる酸素ガスを導入
できる構造としたので、下記の効果を有する。 (1)チャンバ内に酸素ガスが混入するのを極力避ける
ことができる。 (2)チャンバ内の酸素ガス濃度を下げることができる
ため、チャンバの破裂を恐れることなく炭素Cによるト
ーチ先端やコーンの目詰まりや感度の低下を抑えるのに
必要な量の酸素ガスを流すことができる。 (3)炭素Cが十分に二酸化炭素CO2や一酸化炭素COにな
り、目詰まりを防止し、高感度の測定ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の誘導結合プラズマ質量分析装
置用試料導入装置の概略断面である。
【図2】従来例の誘導結合プラズマ質量分析装置用試料
導入装置の概略断面である。
【符号の説明】
1 サンプリングコーン 2 誘導結合プラズマ 3 誘導コイル 4 トーチ 5 最内管 6 クランプ 7 プラズマガス供給孔 8 補助ガス供給孔 9 チャンバ 10 廃液孔 11 Oリング 12 保持体 13 噴霧器 14 ネブライザーガス供給管 15 ネブライザーガス供給部 16 試料供給管 17 試料容器 18 試料制御装置 19 酸素ガス供給管 20 酸素ガス供給部 21 導入口 22 枝管

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液状の試料を霧化する噴霧器と、霧化さ
    れた試料を分級するチャンバと、分級された試料とプラ
    ズマガスとをそれぞれ流体的に分断された管にて導入・
    輸送し、前記分級された試料を導入・輸送する管よりな
    り、その先端部で周囲に配置された誘導コイルに流れる
    高周波電力によりプラズマを形成するトーチと、前記ト
    ーチの前記分級された試料を導入・輸送する管に流量を
    制御できる酸素ガスを導入する枝管と、前記プラズマに
    てイオン化された試料を通すサンプリングコーンと、前
    記サンプリングコーンを通過したイオンを質量分析する
    質量分析装置より成ることを特徴とする誘導結合プラズ
    マ質量分析装置。
  2. 【請求項2】 液状の試料を霧化する噴霧器と、霧化さ
    れた試料を分級するチャンバと、分級された試料とプラ
    ズマガスとをそれぞれ流体的に分断された管にて導入・
    輸送し、前記分級された試料を導入・輸送する管よりな
    り、その先端部で周囲に配置された誘導コイルに流れる
    高周波電力によりプラズマを形成するトーチと、前記ト
    ーチの前記分級された試料を導入・輸送する管に流量を
    制御できる酸素ガスを導入する枝管と、前記プラズマの
    光を分光する分光分析装置より成ることを特徴とする誘
    導結合プラズマ分光分析装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007024787A (ja) * 2005-07-20 2007-02-01 Ajinomoto Co Inc 誘導結合プラズマ分析法およびそのための装置
JP2008064488A (ja) * 2006-09-05 2008-03-21 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 誘導結合プラズマ質量分析及び発光分析装置
JP2008089576A (ja) * 2006-09-05 2008-04-17 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ガスクロマトグラフに誘導結合プラズマ質量分析装置を結合させた分析装置
JP2009192475A (ja) * 2008-02-18 2009-08-27 Shimadzu Corp Icp分析装置

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JP2009192475A (ja) * 2008-02-18 2009-08-27 Shimadzu Corp Icp分析装置

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