JPH03114130A - 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ質量分析計Info
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- JPH03114130A JPH03114130A JP1253508A JP25350889A JPH03114130A JP H03114130 A JPH03114130 A JP H03114130A JP 1253508 A JP1253508 A JP 1253508A JP 25350889 A JP25350889 A JP 25350889A JP H03114130 A JPH03114130 A JP H03114130A
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- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 42
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Landscapes
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供給
し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じ
させ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生じ
させ、該イオンをノズルとスキマーからなるインターフ
ェイスを介して質量分析計に導いて検出することにより
、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プ
ラズマ質量分析計に関する。
し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じ
させ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生じ
させ、該イオンをノズルとスキマーからなるインターフ
ェイスを介して質量分析計に導いて検出することにより
、前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プ
ラズマ質量分析計に関する。
〈従来の技術〉
第3図は、高周波誘導結合プラズマを用いた分析計の一
般的な構成説明図である。この図において、プラズマト
ーチ1の外室1bと最外室ICにはガス調節器2を介し
てアルゴンガス供給源3からアルゴンガスが供給され、
内室1aには試料導入装置4内の固体試料がレーザ光源
5から照射されたレーザ光によって気化されてのちキャ
リアカスであるアルゴンガスによって搬入されるように
なっている。尚、試料が液体の場合は、第3図の試料導
入装置4とレーザ光源5が除去され、導入される液体試
料を霧化してプラズマトーチ1の内室1aに供給するネ
プライザが装着される。また、試料は固体であることよ
りも液体であることが多い。
般的な構成説明図である。この図において、プラズマト
ーチ1の外室1bと最外室ICにはガス調節器2を介し
てアルゴンガス供給源3からアルゴンガスが供給され、
内室1aには試料導入装置4内の固体試料がレーザ光源
5から照射されたレーザ光によって気化されてのちキャ
リアカスであるアルゴンガスによって搬入されるように
なっている。尚、試料が液体の場合は、第3図の試料導
入装置4とレーザ光源5が除去され、導入される液体試
料を霧化してプラズマトーチ1の内室1aに供給するネ
プライザが装着される。また、試料は固体であることよ
りも液体であることが多い。
一方、プラズマトーチ1に巻回された高周波誘導コイル
6には高周波電源10によって高周波電流が流され、該
コイル6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の
作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生ずる
。
6には高周波電源10によって高周波電流が流され、該
コイル6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の
作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生ずる
。
また、ノズル8とスキマー9に挟まれたフォアチャンバ
ー本体11内は、真空ポンプ12によって例えばI T
o r r 、に吸引されている。更に、センターチ
ャンバー13内にはイオンレンズ14a、14bが設け
られると共に、該センターチャンバー13の内部は第1
油拡散ポンプ15によって例えば10−’Torr、に
吸引され、マスフィルタ(例えば四重極マスフィルタ)
16を収容しているリアチャンバー17内は第2油拡散
ポンプ18によって例えば1O−5Torr、に吸引さ
れている。
ー本体11内は、真空ポンプ12によって例えばI T
o r r 、に吸引されている。更に、センターチ
ャンバー13内にはイオンレンズ14a、14bが設け
られると共に、該センターチャンバー13の内部は第1
油拡散ポンプ15によって例えば10−’Torr、に
吸引され、マスフィルタ(例えば四重極マスフィルタ)
16を収容しているリアチャンバー17内は第2油拡散
ポンプ18によって例えば1O−5Torr、に吸引さ
れている。
この状態で高周波誘導結合プラズマ中に上述のようにし
て気化された試料が導入され、イオン化や発光が行われ
る。該プラズマ7内のイオンは、ノズル8.スキマー9
.および引出し電極9−を経由してのちイオンレンズ1
4a、14b (若しくはダブレット四重後レンズ)の
間を通って収束され、その後、マスフィルタ16を通り
二次電子増倍管19に導かれて検出される。この検出信
号が信号処理部20に送出されて演算・処理されること
によって、前記試料中の被測定元素分析値が求められる
ようになっている。
て気化された試料が導入され、イオン化や発光が行われ
る。該プラズマ7内のイオンは、ノズル8.スキマー9
.および引出し電極9−を経由してのちイオンレンズ1
4a、14b (若しくはダブレット四重後レンズ)の
間を通って収束され、その後、マスフィルタ16を通り
二次電子増倍管19に導かれて検出される。この検出信
号が信号処理部20に送出されて演算・処理されること
によって、前記試料中の被測定元素分析値が求められる
ようになっている。
〈発明が解決しようとする問題点〉
ところで、上記従来例においては、イオンレンズ14a
、14b (若しくはダブレット四重後レンズ)を用い
てイオンだけの方向を変えると共に、該イオンをイオン
レンズ14a、14b (若しくはダブレット四重後レ
ンズ)の軸線上から外れる位置に設けられている検出器
によって検出することにより、高周波誘導結合プラズマ
の紫外光に起因するノイズの影響を防いでいる。
、14b (若しくはダブレット四重後レンズ)を用い
てイオンだけの方向を変えると共に、該イオンをイオン
レンズ14a、14b (若しくはダブレット四重後レ
ンズ)の軸線上から外れる位置に設けられている検出器
によって検出することにより、高周波誘導結合プラズマ
の紫外光に起因するノイズの影響を防いでいる。
然しながら、上記従来例においては、イオンレンズ14
a、14b (若しくはダブレット四重後レンズ)が例
えばステンレスのような金属でできているため、高周波
誘導結合プラズマの紫外光が反射する現象が起きやすか
った。このため、イオンレンズ14a、14b(若しく
はダブレット四重後レンズ)の軸線上に検出器が存在し
ないにも拘わらず高周波誘導結合プラズマの紫外光等の
光が検出器に達してノイズになるという欠点があった。
a、14b (若しくはダブレット四重後レンズ)が例
えばステンレスのような金属でできているため、高周波
誘導結合プラズマの紫外光が反射する現象が起きやすか
った。このため、イオンレンズ14a、14b(若しく
はダブレット四重後レンズ)の軸線上に検出器が存在し
ないにも拘わらず高周波誘導結合プラズマの紫外光等の
光が検出器に達してノイズになるという欠点があった。
本発明は、かかる状況に鑑みてなされものであり、その
課題は、検出信号の強度に影響を及ぼすことなく光によ
るノイズを低減した高周波誘導結合プラズマ質量分析計
を提供することにある。
課題は、検出信号の強度に影響を及ぼすことなく光によ
るノイズを低減した高周波誘導結合プラズマ質量分析計
を提供することにある。
く課題を解決するための手段〉
本発明は、高周波誘導コイルに高周波エネルギを供給し
高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさ
せ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生じさ
せ、該イオンをノズルとスキマーからなるインターフェ
イスを介して質量分析計に導いて検出することにより、
前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析計において、スキマーの後方に設けられた
イオンレンズ、ダブレット四重後レンズ、及びシールド
板に黒色のメッキを施こすことにより前記課題を解決し
たものである。
高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさ
せ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生じさ
せ、該イオンをノズルとスキマーからなるインターフェ
イスを介して質量分析計に導いて検出することにより、
前記試料中の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析計において、スキマーの後方に設けられた
イオンレンズ、ダブレット四重後レンズ、及びシールド
板に黒色のメッキを施こすことにより前記課題を解決し
たものである。
く作用〉
本発明は次のように作用する。即ち、試料が高周波誘導
結合プラズマの中に導入されてイオン化や発光が行われ
ると、該プラズマ内のイオンは、ノズル、スキマー、及
び引出し電極を経由してのちイオンレンズ(若しくはダ
ブレット四重後レンズ)の間を通って収束される。この
とき、イオンが通る通路上で散乱された光は、イオンレ
ンズ、ダブレット四重後レンズ、及びシールド板に施さ
れている黒色のメッキによって吸収されるため、散乱光
がイオンの通る通路に再び戻るようなことはない、この
ようにして光散乱が防止されながら引出し電極やイオン
レンズ(若しくはダブレット四重後レンズ)の間を通っ
たイオンは、その後、マスフィルタを通り二次電子増倍
管に導かれて検出される。この検出信号が信号処理部に
送出されて演算・処理されることによって、試料中の被
測定元素分析値が算出される。
結合プラズマの中に導入されてイオン化や発光が行われ
ると、該プラズマ内のイオンは、ノズル、スキマー、及
び引出し電極を経由してのちイオンレンズ(若しくはダ
ブレット四重後レンズ)の間を通って収束される。この
とき、イオンが通る通路上で散乱された光は、イオンレ
ンズ、ダブレット四重後レンズ、及びシールド板に施さ
れている黒色のメッキによって吸収されるため、散乱光
がイオンの通る通路に再び戻るようなことはない、この
ようにして光散乱が防止されながら引出し電極やイオン
レンズ(若しくはダブレット四重後レンズ)の間を通っ
たイオンは、その後、マスフィルタを通り二次電子増倍
管に導かれて検出される。この検出信号が信号処理部に
送出されて演算・処理されることによって、試料中の被
測定元素分析値が算出される。
く実方拒例〉
以下、本発明について図を用いて詳細に説明する。第1
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、21
は中央部に穴が設けられた円板状のイオンレンズ、22
は8個の円柱からなるダブレッ1−四重極レンズ、23
.24は光をシールドするシールド板である。また、イ
オンレンズ21、ダブレット四重様レンズ22、シール
ド板23には黒色のクロームメッキが施されている。
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、21
は中央部に穴が設けられた円板状のイオンレンズ、22
は8個の円柱からなるダブレッ1−四重極レンズ、23
.24は光をシールドするシールド板である。また、イ
オンレンズ21、ダブレット四重様レンズ22、シール
ド板23には黒色のクロームメッキが施されている。
このような構成からなる本発明の実施例において、気化
された試料が第2図の高周波誘導結合プラズマ7の中に
導入されてイオン化や発光が行われると、該プラズマ7
内のイオンは、ノズル8゜スキマー9.及び引出し電極
9−を経由してのちイオンレンズ21(若しくはダブレ
ット四重様レンズ22)の間を通って収束される。この
とき、イオンが通る通路上で散乱された光は、イオンレ
ンズ21、ダブレット四重様レンズ22、及びシールド
板23に施されている黒色のクロームメッキによって吸
収されるため、散乱光がイオンの通る通路に再び戻るよ
うなことはない。
された試料が第2図の高周波誘導結合プラズマ7の中に
導入されてイオン化や発光が行われると、該プラズマ7
内のイオンは、ノズル8゜スキマー9.及び引出し電極
9−を経由してのちイオンレンズ21(若しくはダブレ
ット四重様レンズ22)の間を通って収束される。この
とき、イオンが通る通路上で散乱された光は、イオンレ
ンズ21、ダブレット四重様レンズ22、及びシールド
板23に施されている黒色のクロームメッキによって吸
収されるため、散乱光がイオンの通る通路に再び戻るよ
うなことはない。
このようにして光散乱が防止されながら引出し電極9−
やイオンレンズ21(若しくはダブレット四重様レンズ
22)の間を通ったイオンは、その後、マスフィルタ1
6を通り二次電子増倍管19に導かれて検出される。こ
の検出信号が信号処理部20に送出されて演算・処理さ
れることによって、前記試料中の被測定元素分析値が求
められる。
やイオンレンズ21(若しくはダブレット四重様レンズ
22)の間を通ったイオンは、その後、マスフィルタ1
6を通り二次電子増倍管19に導かれて検出される。こ
の検出信号が信号処理部20に送出されて演算・処理さ
れることによって、前記試料中の被測定元素分析値が求
められる。
尚、本発明は上述の実施例に限定されることなく種々の
変形が可能であり、比較的影響の強いシールド板23に
だけ黒色のメッキを施すようにしても良い。
変形が可能であり、比較的影響の強いシールド板23に
だけ黒色のメッキを施すようにしても良い。
〈発明の効果〉
以上詳しく説明したような本発明によれば、高周波誘導
結合プラズマ質量分析計において、イオンレンズ、ダブ
レット四重様レンズ、シールド板23に黒色のメッキが
施され、該メッキによって、センターチャンバーの壁等
からの散乱光が吸収されるため、散乱光がイオンの通る
通路に再び戻るようなことはなく、その結果、検出信号
の強度に影響を与えることなく光のノイズを低減した高
周波誘導結合プラズマ質量分析計が実現する。
結合プラズマ質量分析計において、イオンレンズ、ダブ
レット四重様レンズ、シールド板23に黒色のメッキが
施され、該メッキによって、センターチャンバーの壁等
からの散乱光が吸収されるため、散乱光がイオンの通る
通路に再び戻るようなことはなく、その結果、検出信号
の強度に影響を与えることなく光のノイズを低減した高
周波誘導結合プラズマ質量分析計が実現する。
第1図は本発明実施例s例の構成説明図、第2図は本発
明実線例の要部構成斜視図、第3図は従来例の構成説明
図である。 1・・・・・・プラズマトーチ、2・・・・・・流量制
御部、3・・・・・・アルゴンガス供給源、4・・・・
・・試料セル、6・・・・・・高周波誘導コイル、
明実線例の要部構成斜視図、第3図は従来例の構成説明
図である。 1・・・・・・プラズマトーチ、2・・・・・・流量制
御部、3・・・・・・アルゴンガス供給源、4・・・・
・・試料セル、6・・・・・・高周波誘導コイル、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供給し高周波
磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさせ、該
プラズマを用いて試料を励起してイオンを生じさせ、該
イオンをノズルとスキマーからなるインターフェイスを
介して質量分析計に導いて検出することにより、前記試
料中の被測定元素を分析する高周波誘導プラズマ質量分
析計において、 前記スキマーの後方に設けられたイオンレンズ、ダブレ
ット四重極レンズ、及びシールド板に黒色のメッキが施
こされていることを特徴とする高周波誘導結合プラズマ
質量分析計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1253508A JP2792140B2 (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-28 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1253508A JP2792140B2 (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-28 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03114130A true JPH03114130A (ja) | 1991-05-15 |
JP2792140B2 JP2792140B2 (ja) | 1998-08-27 |
Family
ID=17252352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1253508A Expired - Lifetime JP2792140B2 (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-28 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2792140B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1097838A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-04-14 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
JP2006261006A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Fujitsu Ltd | ナノレベル構造組成観察装置 |
-
1989
- 1989-09-28 JP JP1253508A patent/JP2792140B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1097838A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-04-14 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
JP2006261006A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Fujitsu Ltd | ナノレベル構造組成観察装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2792140B2 (ja) | 1998-08-27 |
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