JPH0779017B2 - 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ質量分析計Info
- Publication number
- JPH0779017B2 JPH0779017B2 JP62293411A JP29341187A JPH0779017B2 JP H0779017 B2 JPH0779017 B2 JP H0779017B2 JP 62293411 A JP62293411 A JP 62293411A JP 29341187 A JP29341187 A JP 29341187A JP H0779017 B2 JPH0779017 B2 JP H0779017B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- torch
- inductively coupled
- plasma
- mass spectrometer
- high frequency
- Prior art date
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、プラズマトーチ，ネブライザ，およびスプレ
ーチャンバー等でなるサンプル導入系の交換が容易な高
周波誘導結合プラズマ質量分析計に関する。
ーチャンバー等でなるサンプル導入系の交換が容易な高
周波誘導結合プラズマ質量分析計に関する。
〈従来の技術〉 高周波誘導結合プラズマ質量分析計は、高周波誘導結合
プラズマを用いて試料を励起させ、生じたイオンをノズ
ルとスキマーからなるインターフェイスを介して質量分
析計に導いて電気的に検出し該イオン量を精密に測定す
ることにより、試料中の被測定元素を高精度に分析する
ように構成されている。第２図は、このような高周波誘
導結合プラズマ質量分析計の従来例構成説明図である。
この図において、トーチボックス1-内に設けられたプラ
ズマトーチ１の外側管1bと最外側管1cにはガス調節器２
を介してアルゴンガス供給源３からアルゴンガスが供給
され、内側管1aには試料槽４内の試料がネブライザ５で
霧化されてのちアルゴンガスによって搬入されるように
なっている。また、プラズマトーチ１に巻回された高周
波誘導コイル６には高周波電源10によって高周波電流が
流され、該コイル６の周囲に高周波磁界（図示せず）が
形成されている。一方、ノズル８とスキマー９に挟まれ
たフォアチャンバー11内は、真空ポンプ12によって例え
ば1Torr.に吸引されている。また、センターチャンバー
13内にはイオンレンズ14a,14bが設けられると共に、該
センターチャンバー13の内部は第１油拡散ポンプ15によ
って例えば10-4Torr.に吸引され、マスフィルタ（例え
ば四重極マスフィルタ）16を収容しているリアチャンバ
ー17内は第２油拡散ポンプ18によって例えば10-5Torr.
に吸引されている。この状態で上記高周波磁界の近傍で
アルゴンガス中に電子かイオンが植え付けられると、該
高周波磁界の作用によって瞬時に高周波誘導プラズマ７
が生ずる。該プラズマ７内のイオンは、ノズル８やスキ
マー９を経由してのち小円板14aとイオンレンズ14b,14c
の間を通って収束されてのちマスフィルタ16を通り二次
電子増倍管19に導かれて検出され、該検出信号が信号処
理部20に送出されて演算・処理されることにって前記試
料中の被測定元素分析値が求められるようになってい
る。また、第３図は従来の高周波誘導プラズマ質量分析
計の要部を一部裁断して示した従来例要部裁断構成斜視
図であり、図中、第２図と同一記号な同一意味をもたせ
て使用しここでの重複説明は省略する。また、21はネブ
ライザ５から送られてきた霧状の試料から液滴を除去す
るスプレーチャンバー、22aはプラズマトーチ１が取り
付けられて固定されているトーチ取付用ブラケット、22
bはスプレーチャンバー21が取り付けられて固定されて
いるチャンバー取付用ブラケットである。このような構
成からなる従来の高周波誘導プラズマ質量分析計の要部
において、プラズマトーチ１はトーチ取付用ブラケット
22aによってトーチボックス1-に強固に固定されスプレ
ーチャンバー21はチャンバー取付用ブラケット22bによ
ってトーチボックス1-に強固に固定されている。
プラズマを用いて試料を励起させ、生じたイオンをノズ
ルとスキマーからなるインターフェイスを介して質量分
析計に導いて電気的に検出し該イオン量を精密に測定す
ることにより、試料中の被測定元素を高精度に分析する
ように構成されている。第２図は、このような高周波誘
導結合プラズマ質量分析計の従来例構成説明図である。
この図において、トーチボックス1-内に設けられたプラ
ズマトーチ１の外側管1bと最外側管1cにはガス調節器２
を介してアルゴンガス供給源３からアルゴンガスが供給
され、内側管1aには試料槽４内の試料がネブライザ５で
霧化されてのちアルゴンガスによって搬入されるように
なっている。また、プラズマトーチ１に巻回された高周
波誘導コイル６には高周波電源10によって高周波電流が
流され、該コイル６の周囲に高周波磁界（図示せず）が
形成されている。一方、ノズル８とスキマー９に挟まれ
たフォアチャンバー11内は、真空ポンプ12によって例え
ば1Torr.に吸引されている。また、センターチャンバー
13内にはイオンレンズ14a,14bが設けられると共に、該
センターチャンバー13の内部は第１油拡散ポンプ15によ
って例えば10-4Torr.に吸引され、マスフィルタ（例え
ば四重極マスフィルタ）16を収容しているリアチャンバ
ー17内は第２油拡散ポンプ18によって例えば10-5Torr.
に吸引されている。この状態で上記高周波磁界の近傍で
アルゴンガス中に電子かイオンが植え付けられると、該
高周波磁界の作用によって瞬時に高周波誘導プラズマ７
が生ずる。該プラズマ７内のイオンは、ノズル８やスキ
マー９を経由してのち小円板14aとイオンレンズ14b,14c
の間を通って収束されてのちマスフィルタ16を通り二次
電子増倍管19に導かれて検出され、該検出信号が信号処
理部20に送出されて演算・処理されることにって前記試
料中の被測定元素分析値が求められるようになってい
る。また、第３図は従来の高周波誘導プラズマ質量分析
計の要部を一部裁断して示した従来例要部裁断構成斜視
図であり、図中、第２図と同一記号な同一意味をもたせ
て使用しここでの重複説明は省略する。また、21はネブ
ライザ５から送られてきた霧状の試料から液滴を除去す
るスプレーチャンバー、22aはプラズマトーチ１が取り
付けられて固定されているトーチ取付用ブラケット、22
bはスプレーチャンバー21が取り付けられて固定されて
いるチャンバー取付用ブラケットである。このような構
成からなる従来の高周波誘導プラズマ質量分析計の要部
において、プラズマトーチ１はトーチ取付用ブラケット
22aによってトーチボックス1-に強固に固定されスプレ
ーチャンバー21はチャンバー取付用ブラケット22bによ
ってトーチボックス1-に強固に固定されている。
〈発明が解決しようとする問題点〉 然しながら、上記従来例においては、上記スプレーチャ
ンバー21やプラズマトーチ１がトーチボックス1-にブラ
ケット22a,22bによって強固に固定されており、該スプ
レーチャンバー21やプラズマトーチ１の着脱は狭いトー
チボックス1-内で行わなければならず、非常に作業性が
悪いという欠点があった。また、プラズマトーチ１を例
えばフッ酸用のプラズマトーチや有機溶媒用のプラズマ
トーチと交換したり、上記スプレーチャンバー21を水冷
機構をもったスプレーチャンバーと交換したりするに
は、上記ブラケット22a,22bを改造したりしなければな
らず非常に多くの工数と労力がかかるという欠点があっ
た。
ンバー21やプラズマトーチ１がトーチボックス1-にブラ
ケット22a,22bによって強固に固定されており、該スプ
レーチャンバー21やプラズマトーチ１の着脱は狭いトー
チボックス1-内で行わなければならず、非常に作業性が
悪いという欠点があった。また、プラズマトーチ１を例
えばフッ酸用のプラズマトーチや有機溶媒用のプラズマ
トーチと交換したり、上記スプレーチャンバー21を水冷
機構をもったスプレーチャンバーと交換したりするに
は、上記ブラケット22a,22bを改造したりしなければな
らず非常に多くの工数と労力がかかるという欠点があっ
た。
本発明は、かかる従来例の欠点に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、上記スプレーチャンバーやプラズマ
トーチの着脱が容易に行えるような高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析計を提供することにある。
あり、その目的は、上記スプレーチャンバーやプラズマ
トーチの着脱が容易に行えるような高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析計を提供することにある。
〈問題点を解決するための手段〉 上述のような問題点を解決する本発明の特徴は、高周波
誘導結合プラズマ質量分析計において、高周波誘導結合
プラズマを生じさせるプラズマトーチを支えるトーチホ
ルダと、試料を霧化するネブライザから送られてきた霧
状の試料から液滴を除去するスプレーチャンバーを支え
るチャンバーホルダと、前記トーチホルダと前記チャン
バホルダが固定されている共用プレートと、該共用プレ
ートをトーチボックスに取り付ける取付ネジとを具備
し、該取付ネジをはずして前記共用プレートを着脱する
ことにより、前記プラズマトーチ，前記ネブライザ，お
よび前記スプレーチャンバーを１つのユニットとして着
脱するように構成したことにある。
誘導結合プラズマ質量分析計において、高周波誘導結合
プラズマを生じさせるプラズマトーチを支えるトーチホ
ルダと、試料を霧化するネブライザから送られてきた霧
状の試料から液滴を除去するスプレーチャンバーを支え
るチャンバーホルダと、前記トーチホルダと前記チャン
バホルダが固定されている共用プレートと、該共用プレ
ートをトーチボックスに取り付ける取付ネジとを具備
し、該取付ネジをはずして前記共用プレートを着脱する
ことにより、前記プラズマトーチ，前記ネブライザ，お
よび前記スプレーチャンバーを１つのユニットとして着
脱するように構成したことにある。
〈実施例〉 以下、本発明について図を用いて詳細に説明する。第１
図は本発明実施例の要部を一部裁断して示した要部裁断
構成斜視図であり、図中、第３図と同一記号は同一意味
をもたせて使用しここでの重複説明は省略する。また、
23aはプラズマトーチ１を支えるトーチホルダ、23bはス
プレーチャンバー21を支えるチャンバーホルダ、24はト
ーチホルダ23aとチャンバホルダ23bが固定されている共
用プレート、25a,25bは共用プレート24をトーチボック
ス1-に取り付ける取付ネジである。このような構成から
なる本発明の実施例において、プラズマトーチ１を例え
ば耐フッ酸トーチ（図示せず）と交換するには次のよう
にして行われる。即ち、最初、第１図の取付ネジ25a,25
bをはずす。次に、共用プレート24をプラズマトーチ1-
から取り外す。その後、上記耐フッ酸トーチが固定され
ている別の共用プレート（図示せず）を第１図の共用プ
レート24の位置に取り付ける。最後に、取付ネジ25a,25
bを螺合させ、耐フッ酸トーチが固定されている上記共
用プレートをプラズマトーチボックス1-に固定する。
図は本発明実施例の要部を一部裁断して示した要部裁断
構成斜視図であり、図中、第３図と同一記号は同一意味
をもたせて使用しここでの重複説明は省略する。また、
23aはプラズマトーチ１を支えるトーチホルダ、23bはス
プレーチャンバー21を支えるチャンバーホルダ、24はト
ーチホルダ23aとチャンバホルダ23bが固定されている共
用プレート、25a,25bは共用プレート24をトーチボック
ス1-に取り付ける取付ネジである。このような構成から
なる本発明の実施例において、プラズマトーチ１を例え
ば耐フッ酸トーチ（図示せず）と交換するには次のよう
にして行われる。即ち、最初、第１図の取付ネジ25a,25
bをはずす。次に、共用プレート24をプラズマトーチ1-
から取り外す。その後、上記耐フッ酸トーチが固定され
ている別の共用プレート（図示せず）を第１図の共用プ
レート24の位置に取り付ける。最後に、取付ネジ25a,25
bを螺合させ、耐フッ酸トーチが固定されている上記共
用プレートをプラズマトーチボックス1-に固定する。
また、プラズマトーチ１を洗浄するには次のようにして
行われる。即ち、最初、第１図の取付ネジ25a,25bをは
ずす。次に、共用プレート24をプラズマトーチ1-から取
り外す。該共用プレートを洗浄作業のしやすい場所に持
って行く。次に、共用プレート24からプラズマトーチ１
をはずす。該プラズマトーチ１を洗浄して後、共用プレ
ート24にプラズマトーチ１を取り付ける。このようにし
て洗浄後のプラズマトーチ１が取り付けられた共用プレ
ート（図示せず）を第１図の共用プレート24の位置に取
り付ける。最後に、取付ネジ25a,25bを螺合させ、（耐
フッ酸）トーチが固定されている上記共用プレートをプ
ラズマトーチボックス1-に固定する。
行われる。即ち、最初、第１図の取付ネジ25a,25bをは
ずす。次に、共用プレート24をプラズマトーチ1-から取
り外す。該共用プレートを洗浄作業のしやすい場所に持
って行く。次に、共用プレート24からプラズマトーチ１
をはずす。該プラズマトーチ１を洗浄して後、共用プレ
ート24にプラズマトーチ１を取り付ける。このようにし
て洗浄後のプラズマトーチ１が取り付けられた共用プレ
ート（図示せず）を第１図の共用プレート24の位置に取
り付ける。最後に、取付ネジ25a,25bを螺合させ、（耐
フッ酸）トーチが固定されている上記共用プレートをプ
ラズマトーチボックス1-に固定する。
尚、本発明は上述の実施例に限定されることなく種々の
変形が可能であり、例えば上記取付ネジ25a,25bに代え
て、共用プレートなどを正確に位置づけるためのピンを
用いても良いものとする。また、上記共用プレート24を
プラズマトーチ１とスプレーチャンバー21の間に設置し
該共用プレートの両面にトーチホルダ23aとチャンバホ
ルダ23bをそれぞれ装着するようにしても良い。
変形が可能であり、例えば上記取付ネジ25a,25bに代え
て、共用プレートなどを正確に位置づけるためのピンを
用いても良いものとする。また、上記共用プレート24を
プラズマトーチ１とスプレーチャンバー21の間に設置し
該共用プレートの両面にトーチホルダ23aとチャンバホ
ルダ23bをそれぞれ装着するようにしても良い。
〈発明の効果〉 以上詳しく説明したような本発明の実施例によれば、ス
プレーチャンバーやプラズマトーチの着脱が容易に行え
るような高周波は誘導結合プラズマ質量分析計が実現す
る。即ち、プラズマトーチ１を交換したり洗浄したりす
る場合、プラズマトーチ１が１枚の共用プレート24の上
に取り付けられているため、該プレート24ごとはずして
作業しやすい場所でプラズマトーチ１を容易に着脱でき
るという利点がある。また、プラズマトーチ１を形の異
なるプラズマトーチに交換する場合、プラズマトーチ1,
スプレーチャンバー21,および夫々のホルダ23a,23bが１
枚の共用プレート24の上に取り付けられているため、該
プレート24ごとはずしてプラズマトーチ１を容易に交換
できるという利点もある。
プレーチャンバーやプラズマトーチの着脱が容易に行え
るような高周波は誘導結合プラズマ質量分析計が実現す
る。即ち、プラズマトーチ１を交換したり洗浄したりす
る場合、プラズマトーチ１が１枚の共用プレート24の上
に取り付けられているため、該プレート24ごとはずして
作業しやすい場所でプラズマトーチ１を容易に着脱でき
るという利点がある。また、プラズマトーチ１を形の異
なるプラズマトーチに交換する場合、プラズマトーチ1,
スプレーチャンバー21,および夫々のホルダ23a,23bが１
枚の共用プレート24の上に取り付けられているため、該
プレート24ごとはずしてプラズマトーチ１を容易に交換
できるという利点もある。
第１図は本発明実施例の要部裁断構成斜視図、第２図は
高周波誘導結合プラズマ質量分析計の全体的な構成説明
図，第３図は従来例の要部裁断構成斜視図である。 １……プラズマトーチ、1-……トーチボックス、３……
アルゴンガス供給源、７……高周波誘導結合プラズマ、
８……ノズル、９……スキマー、11……フォアチャンバ
ー、13……センターチャンバー、16……マスフィルタ、
17……リアチャンバー、20……信号処理部、21……スプ
レーチャンバー、22……ブラケット、23a,23b……ホル
ダ、24……共用プレート、25a,25b……取付ネジ
高周波誘導結合プラズマ質量分析計の全体的な構成説明
図，第３図は従来例の要部裁断構成斜視図である。 １……プラズマトーチ、1-……トーチボックス、３……
アルゴンガス供給源、７……高周波誘導結合プラズマ、
８……ノズル、９……スキマー、11……フォアチャンバ
ー、13……センターチャンバー、16……マスフィルタ、
17……リアチャンバー、20……信号処理部、21……スプ
レーチャンバー、22……ブラケット、23a,23b……ホル
ダ、24……共用プレート、25a,25b……取付ネジ
Claims (1)
- 【請求項１】高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励
起させ生じたイオンをノズルとスキマーからなるインタ
ーフェイスを介して質量分析計検出器に導いて検出する
ことにより前記試料中の被測定元素を分析する分析計に
おいて、前記高周波誘導結合プラズマを生じさせるプラ
ズマトーチを支えるトーチホルダと、前記試料を霧化す
るネブライザから送られてきた霧状の試料から液滴を除
去するスプレーチャンバーを支えるチャンバーホルダ
と、前記トーチホルダと前記チャンバホルダが固定され
ている共用プレートと、該共用プレートを前記トーチボ
ックスに取り付ける取付ネジとを具備し、該取付ネジを
はずして前記共用プレートを着脱することにより、前記
プラズマトーチ，前記ネブライザ，および前記スプレー
チャンバーを１つのユニットとして着脱するように構成
したことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ質量分析
計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62293411A JPH0779017B2 (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62293411A JPH0779017B2 (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01134847A JPH01134847A (ja) | 1989-05-26 |
| JPH0779017B2 true JPH0779017B2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=17794424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62293411A Expired - Lifetime JPH0779017B2 (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0779017B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3494553B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2004-02-09 | 株式会社日立製作所 | 質量分析装置 |
| KR102659974B1 (ko) * | 2015-07-06 | 2024-04-22 | 엘리멘탈 사이언티픽, 인코포레이티드 | 유도 결합 플라즈마 시스템을 위한 교체가능한, 시각적으로 마킹된 샘플 도입 시스템의 마운팅 구조 및 구성요소 |
| CN115736376A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-03-07 | 思摩尔国际控股有限公司 | 发热元件、电子雾化装置和雾化方法 |
-
1987
- 1987-11-20 JP JP62293411A patent/JPH0779017B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01134847A (ja) | 1989-05-26 |
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