JPH05210049A - 投影レンズ倍率補正方法およびその装置 - Google Patents
投影レンズ倍率補正方法およびその装置Info
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- JPH05210049A JPH05210049A JP4016457A JP1645792A JPH05210049A JP H05210049 A JPH05210049 A JP H05210049A JP 4016457 A JP4016457 A JP 4016457A JP 1645792 A JP1645792 A JP 1645792A JP H05210049 A JPH05210049 A JP H05210049A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
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- G03F7/70891—Temperature
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レチクル上のパターンを投影光学系を介して
ウェハ上に投影露光するための投影レンズの倍率を環境
が変化しても一定に保つこと。 【構成】 投影レンズ１に対して２種類以上の屈折率の
異なる例えば窒素ガスとヘリウムガスを投影レンズ１の
レンズ間に供給して、圧力センサ１９、温度センサ２０
および環境センサ２１からの検出値を投影レンズ倍率補
正制御器２３に取り込み、計算した結果からバルブ１
６，１７を制御して投影レンズ１内のガスの混合率およ
び圧力を変えることにより、投影レンズ１の屈折率を変
化させてその倍率を補正する。
ウェハ上に投影露光するための投影レンズの倍率を環境
が変化しても一定に保つこと。 【構成】 投影レンズ１に対して２種類以上の屈折率の
異なる例えば窒素ガスとヘリウムガスを投影レンズ１の
レンズ間に供給して、圧力センサ１９、温度センサ２０
および環境センサ２１からの検出値を投影レンズ倍率補
正制御器２３に取り込み、計算した結果からバルブ１
６，１７を制御して投影レンズ１内のガスの混合率およ
び圧力を変えることにより、投影レンズ１の屈折率を変
化させてその倍率を補正する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路等の製
造に要する微細レジストパターンを形成するための投影
露光装置の投影レンズ倍率補正方法およびその装置に関
するものである。
造に要する微細レジストパターンを形成するための投影
露光装置の投影レンズ倍率補正方法およびその装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、投影露光装置は、半導体集積回路
の高集積化に伴い、ますます微細なパターンの作成が必
要になってきている。特に、６４Ｍビットメモリーやそ
れ以上の微細なパターンを形成する際には、露光を行な
うための投影レンズの開口数が解像するパターンに関係
するため、投影レンズの口径が次第に大きくなってきて
おり、これに伴って焦点深度が浅くなり、レンズ内外の
圧力変動や温度変化によって焦点面がずれてしまい、微
細なパターンが作成できなくなってきた。これに対処す
るため、圧力や温度等の環境変化があっても投影レンズ
の倍率を一定に保つための投影レンズ倍率補正装置が、
例えば特開昭６０−７９３５７号公報等に開示されてい
る。
の高集積化に伴い、ますます微細なパターンの作成が必
要になってきている。特に、６４Ｍビットメモリーやそ
れ以上の微細なパターンを形成する際には、露光を行な
うための投影レンズの開口数が解像するパターンに関係
するため、投影レンズの口径が次第に大きくなってきて
おり、これに伴って焦点深度が浅くなり、レンズ内外の
圧力変動や温度変化によって焦点面がずれてしまい、微
細なパターンが作成できなくなってきた。これに対処す
るため、圧力や温度等の環境変化があっても投影レンズ
の倍率を一定に保つための投影レンズ倍率補正装置が、
例えば特開昭６０−７９３５７号公報等に開示されてい
る。
【０００３】図２はこのような従来の投影レンズ倍率補
正装置の構成を示すものである。図２において、１０１
は投影レンズ、１０２は照明装置、１０３はウェハステ
ージである。１０４は空気供給源、１０５は空気のダス
トを集塵するフィルター、１０６は供給する空気の流量
を可変するバルブ、１０７は投影レンズ１０１への空気
供給管、１０８，１１０，１１２，１１４は投影レンズ
の各レンズＬ１〜Ｌ５間の間隙、１０９，１１１，１１
３は各レンズＬ１〜Ｌ５間の間隙をつなぐ通気孔、１１
５は投影レンズ１０１内の空気を排出する空気排出管、
１１６は排出する空気の流量を可変するバルブ、１１７
は排気装置、１１８は投影レンズ１０１内の圧力を検出
する圧力センサ、１１９は投影レンズ１０１内の温度を
検出する温度センサ、１２０は投影露光装置内の気圧お
よび温度を検出する環境センサ、１２１はウェハステー
ジ１０３をＸ，Ｙ，Ｚ方向に駆動するステージ駆動装
置、１２２はインタフェース、１２３はキーボード、１
２４はタイマー回路、１２５は装置全体を制御するＣＰ
Ｕ、１２６は投影レンズ１０１と照明装置１０２との間
に配置されたレチクル、１２７はウェハステージ１０３
上に載置されたウェハである。
正装置の構成を示すものである。図２において、１０１
は投影レンズ、１０２は照明装置、１０３はウェハステ
ージである。１０４は空気供給源、１０５は空気のダス
トを集塵するフィルター、１０６は供給する空気の流量
を可変するバルブ、１０７は投影レンズ１０１への空気
供給管、１０８，１１０，１１２，１１４は投影レンズ
の各レンズＬ１〜Ｌ５間の間隙、１０９，１１１，１１
３は各レンズＬ１〜Ｌ５間の間隙をつなぐ通気孔、１１
５は投影レンズ１０１内の空気を排出する空気排出管、
１１６は排出する空気の流量を可変するバルブ、１１７
は排気装置、１１８は投影レンズ１０１内の圧力を検出
する圧力センサ、１１９は投影レンズ１０１内の温度を
検出する温度センサ、１２０は投影露光装置内の気圧お
よび温度を検出する環境センサ、１２１はウェハステー
ジ１０３をＸ，Ｙ，Ｚ方向に駆動するステージ駆動装
置、１２２はインタフェース、１２３はキーボード、１
２４はタイマー回路、１２５は装置全体を制御するＣＰ
Ｕ、１２６は投影レンズ１０１と照明装置１０２との間
に配置されたレチクル、１２７はウェハステージ１０３
上に載置されたウェハである。
【０００４】以上のように構成された投影レンズ倍率補
正装置について、以下その動作について説明する。ま
ず、照明装置１０２によって照明されたレチクル１２６
の原画パターンを、投影レンズ１０１により、ウェハス
テージ１０３上に載置されたウェハ１２７上に縮小して
結像する。そして、ウェハステージ１０３をステージ駆
動装置１２１によりＸ，Ｙの水平方向に２次元に走査す
ることにより、レチクル１２６の原画パターンを多数露
光する。
正装置について、以下その動作について説明する。ま
ず、照明装置１０２によって照明されたレチクル１２６
の原画パターンを、投影レンズ１０１により、ウェハス
テージ１０３上に載置されたウェハ１２７上に縮小して
結像する。そして、ウェハステージ１０３をステージ駆
動装置１２１によりＸ，Ｙの水平方向に２次元に走査す
ることにより、レチクル１２６の原画パターンを多数露
光する。
【０００５】投影レンズ１０１の焦点距離は、概略１μ
ｍ以下のため、ウェハステージ１０３は、ステージ駆動
装置１２１によりＺの上下方向にも動作可能であり、ウ
ェハ１２７に焦点が合うように制御される。一般的に
は、ウェハステージ１０３を上下方向に少しずつ変えて
露光し、一番焦点が合ったところに固定して、以降続け
て露光していく。
ｍ以下のため、ウェハステージ１０３は、ステージ駆動
装置１２１によりＺの上下方向にも動作可能であり、ウ
ェハ１２７に焦点が合うように制御される。一般的に
は、ウェハステージ１０３を上下方向に少しずつ変えて
露光し、一番焦点が合ったところに固定して、以降続け
て露光していく。
【０００６】ところが、実際に露光を続けていくと、徐
々に作業環境が変化していく。すなわち、外部の気圧や
温度によって空気の屈折率が変化し、投影レンズ１０１
の倍率と焦点位置が微妙にずれてくる。実験的には倍率
ａ、焦点距離ｓは、屈折率ｎと温度ｔの関数、 ａ＝ｆ（ｎ，ｔ） ｓ＝ｇ（ｎ，ｔ） の関係式が成立つ。また空気の屈折率ｎ（ｎ＝１．００
０２９２）は気圧ｐとの関係式、 ｎ＝ｑ（ｐ） が成立つので、 ａ＝ｆ（ｑ（ｐ），ｔ）、 ｓ＝ｆ
（ｑ（ｐ），ｔ）となる。
々に作業環境が変化していく。すなわち、外部の気圧や
温度によって空気の屈折率が変化し、投影レンズ１０１
の倍率と焦点位置が微妙にずれてくる。実験的には倍率
ａ、焦点距離ｓは、屈折率ｎと温度ｔの関数、 ａ＝ｆ（ｎ，ｔ） ｓ＝ｇ（ｎ，ｔ） の関係式が成立つ。また空気の屈折率ｎ（ｎ＝１．００
０２９２）は気圧ｐとの関係式、 ｎ＝ｑ（ｐ） が成立つので、 ａ＝ｆ（ｑ（ｐ），ｔ）、 ｓ＝ｆ
（ｑ（ｐ），ｔ）となる。
【０００７】ここで、圧力センサ１１８、温度センサ１
１９および環境センサ１２０をＣＰＵ１２４に取込ん
で、倍率ａが変化しないようにバルブ１０６、１１６を
制御して供給する空気の量をコントロールする。バルブ
１０６を開けた場合、空気は空気供給管１０７を通って
投影レンズ１０１のレンズ間の間隙１０８に流入する。
そこから、通気孔１０９、間隙１１０、通気孔１１１、
間隙１１２、通気孔１１３、間隙１１４と通過して空気
排出管１１５から排出される。空気排出管１１５の先に
はバルブ１１６があり、排気装置１１７への排気量をコ
ントロールする。これにより、投影レンズ１０１の内部
は、指定する圧力に保つことができるため、倍率の移動
を最小限に保つことが可能となる。また焦点移動につい
ては、あらかじめシュミレーションした結果をもとにウ
ェハステージ１０３を制御する。
１９および環境センサ１２０をＣＰＵ１２４に取込ん
で、倍率ａが変化しないようにバルブ１０６、１１６を
制御して供給する空気の量をコントロールする。バルブ
１０６を開けた場合、空気は空気供給管１０７を通って
投影レンズ１０１のレンズ間の間隙１０８に流入する。
そこから、通気孔１０９、間隙１１０、通気孔１１１、
間隙１１２、通気孔１１３、間隙１１４と通過して空気
排出管１１５から排出される。空気排出管１１５の先に
はバルブ１１６があり、排気装置１１７への排気量をコ
ントロールする。これにより、投影レンズ１０１の内部
は、指定する圧力に保つことができるため、倍率の移動
を最小限に保つことが可能となる。また焦点移動につい
ては、あらかじめシュミレーションした結果をもとにウ
ェハステージ１０３を制御する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の構成では、投影レンズ１０１内の圧力を可変制御
することによって、投影レンズ１０１の投影倍率を一定
に保つ方式であるため、例えば外部の気圧が大きく低下
した場合に投影レンズ１０１の圧力を高める制御を行な
ったとき、その圧力によってレンズＬ１〜Ｌ５が微視的
に撓む場合があり、その結果、ウェハ上に結像するはず
の焦点位置にずれが生じたり、結像した像に歪が生じて
しまうという問題があった。
従来の構成では、投影レンズ１０１内の圧力を可変制御
することによって、投影レンズ１０１の投影倍率を一定
に保つ方式であるため、例えば外部の気圧が大きく低下
した場合に投影レンズ１０１の圧力を高める制御を行な
ったとき、その圧力によってレンズＬ１〜Ｌ５が微視的
に撓む場合があり、その結果、ウェハ上に結像するはず
の焦点位置にずれが生じたり、結像した像に歪が生じて
しまうという問題があった。
【０００９】本発明は、このような従来の問題を解決す
るものであり、焦点の位置ずれや結像の歪なしに、投影
レンズの像倍率を一定に保つことができる投影レンズ倍
率補正方法およびその装置を提供することを目的とす
る。
るものであり、焦点の位置ずれや結像の歪なしに、投影
レンズの像倍率を一定に保つことができる投影レンズ倍
率補正方法およびその装置を提供することを目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による投影レンズ倍率補正方法は、レチクル
上のパターンを投影光学系を介してウェハ上に投影露光
するための投影レンズのレンズ間に屈折率の異なる２種
類以上のガスを供給し、その混合率を変えることにより
投影レンズの屈折率を変化させてその倍率を補正するよ
うにしたものである。
に、本発明による投影レンズ倍率補正方法は、レチクル
上のパターンを投影光学系を介してウェハ上に投影露光
するための投影レンズのレンズ間に屈折率の異なる２種
類以上のガスを供給し、その混合率を変えることにより
投影レンズの屈折率を変化させてその倍率を補正するよ
うにしたものである。
【００１１】また、本発明による投影レンズ倍率補正装
置は、レチクル上のパターンを投影光学系を介してウェ
ハ上に投影露光するための投影レンズに対して、屈折率
の異なる２種類以上のガスを投影レンズのレンズ間に供
給するためのガス供給手段と、この混合ガスを投影レン
ズ外に排出するためのガス排出手段と、混合ガスを構成
するそれぞれのガスの流量を制御してその混合率および
圧力を可変するバルブとを備えたものである。
置は、レチクル上のパターンを投影光学系を介してウェ
ハ上に投影露光するための投影レンズに対して、屈折率
の異なる２種類以上のガスを投影レンズのレンズ間に供
給するためのガス供給手段と、この混合ガスを投影レン
ズ外に排出するためのガス排出手段と、混合ガスを構成
するそれぞれのガスの流量を制御してその混合率および
圧力を可変するバルブとを備えたものである。
【００１２】本発明はまた、投影レンズ内のガス圧力を
検出する圧力センサと、投影レンズ外の気圧を検出する
環境センサと、これらのセンサからの検出値を基に投影
レンズ内のガスの混合率およびその圧力を制御する投影
レンズ倍率補正制御器とを備えたものである。
検出する圧力センサと、投影レンズ外の気圧を検出する
環境センサと、これらのセンサからの検出値を基に投影
レンズ内のガスの混合率およびその圧力を制御する投影
レンズ倍率補正制御器とを備えたものである。
【００１３】
【作用】本発明は、上記構成により、圧力センサおよび
環境センサからの検出値を投影レンズ倍率補正制御器に
取り込んで計算し、その結果に基づいてバルブを制御
し、投影レンズ内のガスの混合率を変えることにより、
投影レンズの屈折率を指定の値に制御するようにしたも
のであり、これにより、環境の変化があった場合にも倍
率の移動を最小限に保つことができ、従来のような投影
レンズ内外に圧力差が生じることがないので、レンズに
撓みを生じさせることもなく、歪のない正確な像を結像
させることができる。
環境センサからの検出値を投影レンズ倍率補正制御器に
取り込んで計算し、その結果に基づいてバルブを制御
し、投影レンズ内のガスの混合率を変えることにより、
投影レンズの屈折率を指定の値に制御するようにしたも
のであり、これにより、環境の変化があった場合にも倍
率の移動を最小限に保つことができ、従来のような投影
レンズ内外に圧力差が生じることがないので、レンズに
撓みを生じさせることもなく、歪のない正確な像を結像
させることができる。
【００１４】
（実施例１）以下、本発明の一実施例について、図面を
参照しながら説明する。図１は本発明の一実施例におけ
る投影レンズ倍率補正装置の構成図である。図１におい
て、１は投影レンズ、２は照明装置、３はレチクル、４
はウェハ、５はウェハホルダ、６はウェハステージであ
る。７は図示されないガス供給装置とともにガス供給手
段を構成する投影レンズ１へのガス供給管、８，１０，
１２，１４は投影レンズの各レンズＬ１〜Ｌ５間の間
隙、９，１１，１３は各レンズＬ１〜Ｌ５間の間隙をつ
なぐ通気孔、１５は投影レンズ１内のガスを排出するガ
ス排出管、１６は第１のガスである窒素ガス（屈折率ｎ
ｎは１．０００２９７）の流量を可変するバルブ、１７
は第２のガスであるヘリウムガス（屈折率ｎｈは１．０
０００３５）の流量を可変するバルブ、１８はガス排出
管１５とともにガス排出手段を構成する排気装置、１９
は投影レンズ１内の圧力を検出する圧力センサ、２０は
投影レンズ１内の温度を検出する温度センサ、２１はこ
の装置内の気圧および温度を検出する環境センサ、２２
はウェハステージ６をＸ，Ｙ，Ｚ方向に駆動するステー
ジ駆動装置、２３はこの装置全体を制御する投影レンズ
倍率補正制御器である。
参照しながら説明する。図１は本発明の一実施例におけ
る投影レンズ倍率補正装置の構成図である。図１におい
て、１は投影レンズ、２は照明装置、３はレチクル、４
はウェハ、５はウェハホルダ、６はウェハステージであ
る。７は図示されないガス供給装置とともにガス供給手
段を構成する投影レンズ１へのガス供給管、８，１０，
１２，１４は投影レンズの各レンズＬ１〜Ｌ５間の間
隙、９，１１，１３は各レンズＬ１〜Ｌ５間の間隙をつ
なぐ通気孔、１５は投影レンズ１内のガスを排出するガ
ス排出管、１６は第１のガスである窒素ガス（屈折率ｎ
ｎは１．０００２９７）の流量を可変するバルブ、１７
は第２のガスであるヘリウムガス（屈折率ｎｈは１．０
０００３５）の流量を可変するバルブ、１８はガス排出
管１５とともにガス排出手段を構成する排気装置、１９
は投影レンズ１内の圧力を検出する圧力センサ、２０は
投影レンズ１内の温度を検出する温度センサ、２１はこ
の装置内の気圧および温度を検出する環境センサ、２２
はウェハステージ６をＸ，Ｙ，Ｚ方向に駆動するステー
ジ駆動装置、２３はこの装置全体を制御する投影レンズ
倍率補正制御器である。
【００１５】以上のように構成された投影レンズ倍率補
正装置について、以下その動作について説明する。ま
ず、照明装置１によって照明されたレチクル３の原画パ
ターンは、投影レンズ１により、ウェハホルダ５に載置
されたウェハ４上に縮小して結像される。そして、ウェ
ハステージ６をステージ駆動装置２２によりＸ，Ｙの水
平方向に２次元に走査することにより、レチクル３の原
画パターンを多数露光する。また、投影レンズ１の焦点
合わせは、ウェハステージ６をステージ駆動装置２２に
よりＺの上下方向に移動させ、ウェハ４に焦点が合うよ
うに制御する。
正装置について、以下その動作について説明する。ま
ず、照明装置１によって照明されたレチクル３の原画パ
ターンは、投影レンズ１により、ウェハホルダ５に載置
されたウェハ４上に縮小して結像される。そして、ウェ
ハステージ６をステージ駆動装置２２によりＸ，Ｙの水
平方向に２次元に走査することにより、レチクル３の原
画パターンを多数露光する。また、投影レンズ１の焦点
合わせは、ウェハステージ６をステージ駆動装置２２に
よりＺの上下方向に移動させ、ウェハ４に焦点が合うよ
うに制御する。
【００１６】窒素ガスとヘリウムガスは、それぞれ投影
レンズ倍率補正制御器２３によりコントロールされた流
量バルブ１６，１７を通ってガス供給管７から投影レン
ズ１内に供給され、レンズＬ１とＬ２との間の間隙８に
流入する。そこから、通気孔９、間隙１０、通気孔１
１、間隙１２、通気孔１３、間隙１４と通過してガス排
出管１５を通って排気装置１８により排出される。
レンズ倍率補正制御器２３によりコントロールされた流
量バルブ１６，１７を通ってガス供給管７から投影レン
ズ１内に供給され、レンズＬ１とＬ２との間の間隙８に
流入する。そこから、通気孔９、間隙１０、通気孔１
１、間隙１２、通気孔１３、間隙１４と通過してガス排
出管１５を通って排気装置１８により排出される。
【００１７】投影レンズ１の屈折率ｎａは、バルブ１
６，１７によって、窒素ガスとヘリウムガスの混合率を
任意に変えることによって調整することができる。すな
わち、実験的には投影レンズ１の倍率ａａおよび焦点距
離ｓａは、屈折率ｎａと温度ｔの関数、 ａａ＝ｆ（ｎ，ｖ（ｎｎ，ｎｈ），ｔ） ｓａ＝ｇ（ｎ，ｖ（ｎｎ，ｎｈ），ｔ） の関係式が成り立つ。ここでｎは空気の屈折率、ｖ（ｎ
ｎ，ｎｈ）は窒素ガスとヘリウムガスの混合率の合成屈
折率（合成屈折率は１．００００３５から１．０００２
９７まで可変可能）の関数である。空気の屈折率ｎは、
レチクル３と投影レンズ１の間と、ウェハ４と投影レン
ズ１の間にある空気に関するものである。また空気の屈
折率ｎ（ｎ＝１．０００２９２）は気圧ｐとの関係式、 ｎ＝ｑ（ｐ） が成り立つので、 ａ＝ｆ（ｑ（ｐ），ｔ） ｓ＝
ｆ（ｑ（ｐ），ｔ）となる。
６，１７によって、窒素ガスとヘリウムガスの混合率を
任意に変えることによって調整することができる。すな
わち、実験的には投影レンズ１の倍率ａａおよび焦点距
離ｓａは、屈折率ｎａと温度ｔの関数、 ａａ＝ｆ（ｎ，ｖ（ｎｎ，ｎｈ），ｔ） ｓａ＝ｇ（ｎ，ｖ（ｎｎ，ｎｈ），ｔ） の関係式が成り立つ。ここでｎは空気の屈折率、ｖ（ｎ
ｎ，ｎｈ）は窒素ガスとヘリウムガスの混合率の合成屈
折率（合成屈折率は１．００００３５から１．０００２
９７まで可変可能）の関数である。空気の屈折率ｎは、
レチクル３と投影レンズ１の間と、ウェハ４と投影レン
ズ１の間にある空気に関するものである。また空気の屈
折率ｎ（ｎ＝１．０００２９２）は気圧ｐとの関係式、 ｎ＝ｑ（ｐ） が成り立つので、 ａ＝ｆ（ｑ（ｐ），ｔ） ｓ＝
ｆ（ｑ（ｐ），ｔ）となる。
【００１８】したがって、圧力センサ１９、温度センサ
２０および環境センサ２１からの検出値を投影レンズ倍
率補正制御器２１に取り込み、上記式で計算した結果に
基づいてバルブ１６，１７を制御し、投影レンズ１内の
ガスの混合率およびその圧力を変えることにより、投影
レンズ１の屈折率を指定の値に制御する。これにより、
環境の変化があった場合にも、倍率の移動を最小限に保
つことができる。また焦点移動については、あらかじめ
シュミレーションした結果をもとにステージ駆動装置２
２によりウェハステージ６を制御する。この結果、投影
レンズ１内の圧力は外部の圧力に近い圧力に保つことが
できるため、従来のように投影レンズ１内の圧力が外気
圧に対して変動することがなく、その圧力差によって投
影レンズ１内のレンズが歪んでしまうこともなく、投影
レンズ１の倍率を一定に保つことができる。
２０および環境センサ２１からの検出値を投影レンズ倍
率補正制御器２１に取り込み、上記式で計算した結果に
基づいてバルブ１６，１７を制御し、投影レンズ１内の
ガスの混合率およびその圧力を変えることにより、投影
レンズ１の屈折率を指定の値に制御する。これにより、
環境の変化があった場合にも、倍率の移動を最小限に保
つことができる。また焦点移動については、あらかじめ
シュミレーションした結果をもとにステージ駆動装置２
２によりウェハステージ６を制御する。この結果、投影
レンズ１内の圧力は外部の圧力に近い圧力に保つことが
できるため、従来のように投影レンズ１内の圧力が外気
圧に対して変動することがなく、その圧力差によって投
影レンズ１内のレンズが歪んでしまうこともなく、投影
レンズ１の倍率を一定に保つことができる。
【００１９】なお、上記実施例において、投影レンズ１
内の温度が常に一定に保たれるように投影露光装置自体
が制御されている場合には、本装置に温度センサ２０を
設けることは必ずしも必要なことではない。
内の温度が常に一定に保たれるように投影露光装置自体
が制御されている場合には、本装置に温度センサ２０を
設けることは必ずしも必要なことではない。
【００２０】
【発明の効果】以上のように、本発明による投影レンズ
倍率補正方法によれば、レチクル上のパターンを投影光
学系を介してウェハ上に投影露光するための投影レンズ
のレンズ間に屈折率の異なる２種類以上のガスを供給
し、その混合率を変えることにより投影レンズの屈折率
を変化させてその倍率を補正するようにしたので、従来
のような投影レンズ内外の圧力差によって投影レンズ内
のレンズが撓んだりすることがなく、歪のない正確な像
を結像させることができる。
倍率補正方法によれば、レチクル上のパターンを投影光
学系を介してウェハ上に投影露光するための投影レンズ
のレンズ間に屈折率の異なる２種類以上のガスを供給
し、その混合率を変えることにより投影レンズの屈折率
を変化させてその倍率を補正するようにしたので、従来
のような投影レンズ内外の圧力差によって投影レンズ内
のレンズが撓んだりすることがなく、歪のない正確な像
を結像させることができる。
【００２１】また本発明による投影レンズ倍率補正装置
によれば、レチクル上のパターンを投影光学系を介して
ウェハ上に投影露光するための投影レンズに対して、屈
折率の異なる２種類以上のガスを投影レンズのレンズ間
に供給して、圧力センサおよび環境センサからの検出値
を投影レンズ倍率補正制御器に取り込み、計算した結果
からバルブを制御して投影レンズ内のガスの混合率およ
び圧力を変えるようにしたので、投影レンズの屈折率を
指定の値に制御することができ、環境の変化があった場
合にも投影レンズの倍率の移動を最小限に保つことがで
きる。この結果、投影レンズ内の圧力は外部の圧力に近
い圧力に保つことができるため、従来のような投影レン
ズ内の圧力が外部に対して変動することがなく、したが
ってその圧力差によって投影レンズ内のレンズが撓んで
しまうこともなく、歪のない正確な像を結像させること
ができる。
によれば、レチクル上のパターンを投影光学系を介して
ウェハ上に投影露光するための投影レンズに対して、屈
折率の異なる２種類以上のガスを投影レンズのレンズ間
に供給して、圧力センサおよび環境センサからの検出値
を投影レンズ倍率補正制御器に取り込み、計算した結果
からバルブを制御して投影レンズ内のガスの混合率およ
び圧力を変えるようにしたので、投影レンズの屈折率を
指定の値に制御することができ、環境の変化があった場
合にも投影レンズの倍率の移動を最小限に保つことがで
きる。この結果、投影レンズ内の圧力は外部の圧力に近
い圧力に保つことができるため、従来のような投影レン
ズ内の圧力が外部に対して変動することがなく、したが
ってその圧力差によって投影レンズ内のレンズが撓んで
しまうこともなく、歪のない正確な像を結像させること
ができる。
【図１】本発明の一実施例における投影レンズ倍率補正
装置の概略構成図
装置の概略構成図
【図２】従来の投影レンズ倍率補正装置の概略構成図
１ 投影レンズ ２ 照明装置 ３ レチクル ４ ウェハ ５ ウェハホルダ ６ ウェハステージ ７ ガス供給管 ８，１０，１２，１４ 間隙 ９，１１，１３ 通気孔 １５ ガス排出管 １６，１７ バルブ １８ 排出装置 １９ 圧力センサ ２０ 温度センサ ２１ 環境センサ ２２ ステージ駆動装置 ２３ 投影レンズ倍率補正制御器 Ｌ１〜Ｌ５ レンズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/20 ５２１ 7818−2Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (4)
- 【請求項１】 レチクル上のパターンを投影光学系を介
してウェハ上に投影露光するための投影レンズのレンズ
間に屈折率の異なる２種類以上のガスを供給し、前記ガ
スの混合率を変えることにより投影レンズの屈折率を変
化させてその倍率を補正する投影レンズ倍率補正方法。 - 【請求項２】 レチクル上のパターンを投影光学系を介
してウェハ上に投影露光するための投影レンズに対し
て、屈折率の異なる２種類以上のガスを投影レンズのレ
ンズ間に供給するためのガス供給手段と、この混合ガス
を投影レンズ外に排出するためのガス排出手段と、混合
ガスを構成するそれぞれのガスの流量を制御してその混
合率および圧力を可変するためのバルブとを備えた投影
レンズ倍率補正装置。 - 【請求項３】 投影レンズ内のガス圧力を検出する圧力
センサと、投影レンズ外の気圧を検出する環境センサ
と、これらのセンサからの検出値を基に投影レンズ内の
ガス混合率およびその圧力を制御する投影レンズ倍率補
正制御器とを備えた請求項２記載の投影レンズ倍率補正
装置。 - 【請求項４】 投影レンズ内の温度を検出する温度セン
サを備え、その検出値を投影レンズ倍率補正制御器にお
ける倍率補正の際の要素とする請求項３記載の投影レン
ズ倍率補正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4016457A JPH05210049A (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | 投影レンズ倍率補正方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4016457A JPH05210049A (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | 投影レンズ倍率補正方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05210049A true JPH05210049A (ja) | 1993-08-20 |
Family
ID=11916783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4016457A Pending JPH05210049A (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | 投影レンズ倍率補正方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05210049A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1992
- 1992-01-31 JP JP4016457A patent/JPH05210049A/ja active Pending
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